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利用装置名 |
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0001]微細光半導体デバイス向けプロセス技術の研究
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0002]複層グラフェン基板への金属原子クラスター作製と透過電子顕微鏡による観察
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F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0003]溶液中AFMによるリポタンパク質の物性評価のためのAu膜の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0004]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0005]マイクロナノパターンの細胞培養への影響
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F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0006]磁性酸化物超薄膜をもちいたスピントロニクス素子の開発
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0007]ALDによるカーボンブラックへのTiO2被覆
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0008]新原理電子デバイスの開拓に向けた機能性無機材料の微細加工プロセス開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0009]ALD MoOxプリカーサー膜を用いた2D材料MoS2膜の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0010]粉体ALDを活用した中空シリカ粒子表面の高機能化
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F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0011]ダイヤモンドデバイスの開発
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0012]燃料電池触媒層の性能向上を目指した，ナフィオン膜形成過程の解析
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0013]水中結晶光合成法を用いたSi太陽電池の性能向上
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F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0014]酸化アルミニウム基板を使った微粒子アセンブル技術
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0015]メタレンズの開発
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0016]歪み印加での変調を可能とする量子ドット発光デバイスの作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0017] Preparation of PDMS microchamber to determine the ATPase activity of the swarming of biomolecular motor system
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-105 レーザー描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0018]Au粒子配列基板上へのTiO2薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0019]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0020]原子層堆積法を用いた赤外光ファイバーセンサーへの機能性ナノ薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0021]Efficient Hot-Electron Generation under Strong Coupling Condition via Interfacial Modulation
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0022]スピン軌道トルク磁化反転を利用したスピン機能素子の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0023]Near-field Distribution under Modal Strong Coupling with Coherent Interaction
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0024]ナノギャップを有する金属ナノ構造二量体の作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0025]赤外プラズモン構造を用いた蛍光やラマン散乱シグナルの制御
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0026]金ナノ微粒子を担持した遷移金属ダイカルコゲナイド層状化合物の合成と評価
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F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0027]金ナノトライマー構造を用いたナノダイヤモンド捕捉と回転運動
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0028]Photocurrent Generation on Gold Nanoparticles Loaded Ga2O3
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0029]結合系プラズモニックナノ構造の寿命と近接場増強効果
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0030]Developing a electrochemical SERS measurement system to investigate the distinct spectral characteristics of water oxidation intermediates
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0031]細胞形態観察用マイクロパターニング
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F-HK-016 真空紫外露光装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0032]粉末のALD成膜
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0033]金属ナノピラーアレイへの酸化チタン・金ナノ粒子の担持とその光学特性評価
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F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0034]Fe3O4ナノ粒子配列体における磁気キャパシタンス効果
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-105 レーザー描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0035]自己組織化法により高密度に担持した金ナノ粒子のプラズモンとナノ共振器とのモード強結合構造の作製とその表面増強ラマン散乱特性
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0036]微細構造を利用した着霜防止材料の開発
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0037]プラズモン光アノードへのコバルト助触媒の位置選択的担持と水酸化反応への利用
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F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0038]リセスゲート構造を有するGaN HFETの作成と評価
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0039]超伝導デバイスの作製
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0040]磁気共鳴のための2 次元電子系ナノ構造デバイス作製
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-105 レーザー描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0041]Study the Plasmonic Corner States using Photoemission Electron Microscopy
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0042]微小球共振器モードを示すマイクロ粒子への金ナノ微粒子担持
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F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0043]原子層堆積膜によるMEMS立体構造製作のための加工特性研究
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0044]フォノニック結晶・フォノニックメタマテリアルの作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0045]多層金ナノ粒子構造を用いたプラズモン－ファブリ・ペローナノ共振器強結合電極における光電気化学特性
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F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0046]光電場の局在とプラズモンの寿命がプラズモン誘起光圧に与える影響
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0047]銀ナノプレートに励起される高次プラズモンと分子の相互作用の解明
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0048]Al蒸着による光共振器の作製
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F-HK-005 真空蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0049]Co基ホイスラー合金Co2MnX (X = Al, Ga)における異常ホール効果の評価
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0050]医用イメージングのための半導体検出器の開発
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0051]異なるプラズモン場によりキラル結晶化の制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0052]マイクロ構造電極の作成
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0053]遷移金属ダイカルコゲナイド層状化合物とプラズモンとの相互作用の解明
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0054]局在光電場によるナノ空間分子反応場の構築
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0055]結合系プラズモニックナノ構造の近接場分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0056]結合条件下におけるプラズモン誘起フォトクロミック反応
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0057]マイクロ加工基板による細胞立体培養
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0058]プラズモン誘起2光子フォトクロミック反応の定量測定
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0059]ボトムゲート型透明酸化物半導体薄膜トランジスタの作製
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F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0060]プラズモン誘起マイクロリアクターシステムの構築
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-105 レーザー描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0061]X線レーザーイメージングのための低バックグラウンド試料ホルダ作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0062]金格子構造体による分子励起子‐プラズモン強結合系の発展
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0063]ナノギャップへの蛍光分子の選択的配置とその蛍光増強特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0064]酸素プラズマを用いたエッチング処理によるナノポーラス材料の簡便合成法
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0065]振動モードと光共振器モードとの相互作用の分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0066]プラズモン－フォトニック結晶結合系の分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0067]MALDI質量分析用ソフトイオン化基板の開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0068]金属/層状化合物ナノ構造体の非線形分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0069] 微細構造がフジツボ付着期幼生の着生挙動に与える影響
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0070]アルミナ層を数層堆積させた金ナノ構造の音響フォノンダイナミクス
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0071]中赤外域にプラズモン共鳴を示すグラフェンナノ構造の創製と分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0072]磁壁に作用する電流誘起有効磁場
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F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0073]半導体向け薄膜の成膜
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F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0074]電子ビーム露光を使ったダブルパターニングによるナノインプリントモールド作成
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-024 ALD製膜装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0001]赤外線連続照射による気液界面での分子内振動の緩和と溶剤乾燥に効果的な吸収帯の解明
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0002]微細光半導体デバイス向けプロセス技術の研究
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-014 ドライエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0003]機能性無機材料の微細加工による新原理電子デバイスの開発
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F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0004]セラミックス粉末の耐水性向上を目的としたALDコーティング
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F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0005]フォノニック結晶・フォノニックメタマテリアルの作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0006]スピン軌道トルク磁化反転を利用したスピン機能素子の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0007]表面弾性波を用いたヤング率に基づく細胞選別技術
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0008]1細胞・多細胞計測用のマイクロ加工基板の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0009]臨床診断用電気化学バイオセンサーの開発
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0010]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0011]マイクロ加工基板による細胞立体培養
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0012]Co基ホイスラー合金を用いた巨大磁気抵抗素子の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0013]強磁性共鳴を利用した磁場計測用カンチレバの作成
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0014]グラフェン基板への金属原子クラスターの作製
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F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0015]高速非線形ラマン散乱イメージングの装置の性能検証
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0016]Fe3O4を用いたトンネル磁気抵抗素子の開発
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0017]Effect of Titanium Film on Plasmon Induced Photocurrent Generation
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0018]hotocurrent Generation on Gold Nanoparticles Loaded Ga2O3 .
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0019]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0020]GaN-based Microdisk Cavity Laser with Plasmonic Enhancement
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0021]CoFe2O4/Pt膜の磁気近接効果
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0022]Study the Plasmonic Topological Photonics using Photoemission Electron Microscopy
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0023]HfSiOxゲート絶縁膜を有するAlGaN/GaN HEMTの作製と評価
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0024]赤外 Purcell効果を用いた蛍光法による振動分光分析システムの開発
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0025]金ナノプレートの近接場二光子発光計測
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0026]プラズモン光アノードへのコバルト助触媒の位置選択的担持と水酸化反応への利用
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0027]金属ナノピラーアレイへの酸化チタン・金ナノ粒子の担持とその光電気化学特性評価
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0028]金属格子構造体を利用した分子励起子‐プラズモン強結合系の構築
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0029]原子層堆積膜のMEMS応用のための特性解析
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F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0030]医用イメージングのための半導体検出器の開発
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0031]Near-Field Engineering for Boosting the Photoelectrochemical Activity to a Modal Strong Coupling Structure
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0032]超伝導デバイスの作製
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0033]Developing a versatile surface-enhanced Raman scattering chips using modal strong coupling
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0034]Self-organized nanogratings on the surface of the SF10 glass induced by femtosecond laser pulses
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0035]ELF電界による赤血球運動解析
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0036]プラズモニクナノ構造を用いたミセルの光トラッピング
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0037]原子層堆積法を用いた赤外光ファイバーセンサーへの機能性ナノ薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0038]電極作製のための表面加工
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0039]モード超強結合電極の構築とそのホットエレクトロン移動挙動の観測
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0040]スメクチック相をテンプレートに用いたAlナノラインパターニングとその可視光ワイヤーグリッド偏光子への応用
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0041]円偏光プラズモン場を用いたキラル結晶化の制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0042]Near-perfect absorption of light by coherent plasmon-exciton states
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0043]Revealing the Chiroptical Response of Plasmonic Nanostructures at the Nano-Femto Scale
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0044]Coherent-interaction-enhanced hot-electron generation under modal strong coupling conditions
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0045]歪み印加での変調を可能とする量子ドット発光デバイスの作製
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F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0046]0046X線レーザーイメージングのための低バックグラウンド試料ホルダ作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0047]ナノ構造体を用いたエクソソームの分離
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0048]強磁性酸化物積層構造における電流誘起有効磁場
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0049]リセスゲート構造を有するAlGaInN/AlGAaN HFETの作製と評価
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0050]微細構造による接触界面と摩擦力の制御
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0051]MALDI用新ソフトイオン化源の開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0052]使用済みセンサー素子の再生・再利用
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0053]プラズマCVDによるBCN膜の成膜と評価
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F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0054]0054ナノ構造物近傍における液体の動的挙動のその場観察
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0055]半導体用薄膜の原子層堆積法
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0056]光学デバイス用回折格子の作製
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0057]増強光電場下における一分子蛍光デフォーカスイメージング
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0058]ナノギャップ金2量体構造に誘起されるプラズモン誘起光圧の解析
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0001]水中結晶光合成による特殊材料開発への精密加工
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0002]THz 用特殊ビームスプリッタの作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0003]固体レーザーの高効率化のための反射防止ナノ周期構造体の形成
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F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0004]Co基ホイスラー合金を用いた巨大磁気抵抗素子の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0005]スピン軌道トルク磁化反転を利用したスピン機能素子の作製
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F-HK-100 ダイシングソー
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0006]X線レーザーイメージングのための試料ホルダ作製
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0007]Si基板へのALD成膜
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0008]サブミクロン1次元半導体スピン輸送チャネルの作製
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F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0009]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0010]機能性無機材料の微細加工による脳型コンピューティング機能の探索
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0011]創薬スクリーニングに向けた腫瘍立体組織構築用96well基板の作製
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0012]リポタンパク質の物性評価のための基板作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0013]生細胞物性計測用のマイクロ加工基板の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0014]SiN/SiO2薄膜の形成
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F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0015]細胞折紙技術と計算折り紙による立体構造の最適化
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0016]現場分析用超小型分析装置に組み込む微小電極の作製
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0017]微細加工技術を用いた溶液TEM観察用試料の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0018]触媒/光捕集機能強化を基盤とした高効率可視光水分解光電極の創出
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0019]Al2O3膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0020]Development of label-free nanoplasmonic biosensing platforms for commercial
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0021]基板上での三角形金ナノ粒子の自己集合化の評価
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0022]Hot Charge Carrier Dynamics on plasmonic WO3/AuNP photoanodes.
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0023]MEMS向けALD保護膜検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0024]Fabrication of Metalens Array for Hyper spectrum
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0025]Al2O3/TiO2積層膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0026]Influence of Particle Density on Modal Strong Coupling between Localized Surface Plasmon and Fabry–Pérot Nanocavity Modes
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0027]酸化物積層構造における電流誘起有効磁場
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0028]Fluorescence of perovskite nanocrystals under modal strong coupling conditions
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0029]原子炉計装の革新に向けた耐放射線・高温動作ダイヤモンド計測システムの開発とダイヤモンドICの要素技術開発
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-024 ALD製膜装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0030]磁性酸化物超薄膜をもちいたスピントロニクス素子の開発
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0031]モード強結合を利用した選択的空中窒素固定による光アンモニア合成
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0032]Observation of Near-Field Enhancement in Topological SSH Model
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0033]半導体試料における微細金属開口部の作製
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0034]Fabrication of plasmonic nanostructures for ultrafast EUV-PEEM experiments
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0035]窒化物半導体トランジスタの作製と評価
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0036]Nanogratings induced by the femtosecond laser pulse in SF10 glass
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0037]リソグラフィーへの応用を目指したブロック共重合体の薄膜構造解析
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F-HK-032 エリプソメータ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0038]プラズモン／ファブリ・ペローナノ共振器モード強結合電極の製造法の探索
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0039]金ナノリングの近接場イメージング
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0040]銅合金材料へのアルミナの成膜
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0041]酸化コバルト薄膜をp型半導体として用いたプラズモン光電変換系の構築
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0042]表面プラズモン振動モードのEELS解析
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F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0043]モード強結合を示す基板上に配置した物質の発光測定
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0044]電極作製のための表面加工
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0045]モード強結合に基づく高光吸収電極を用いた有機還元反応の開拓
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0046]ナノ構造体を用いたエクソソームの分離
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0047]GaN-based Microdisk Cavity Laser with Plasmonic Enhancement
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0048]プラズマCVDによるBCN膜の成膜と評価
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F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0049]Efficient Energetic Electron Transfer in Modal Strong Coupling Regime
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0050]粉体塗工した金属基板へのALD成膜検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0051]Near-field circular dichroism property of rectangular plasmonic structures probed by PEEM
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0052]スメクチック相をテンプレートに用いたドライエッチングによるナノパターニングの研究
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0053]金銀合金ナノ微粒子を用いたモード強結合光電極の作製とその光酸化反応
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0054]リソグラフィーによるSrTiO3/BaCe0.8Y0.2O3基板へのパターン電極形成
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0055]Enhanced plasmonic photocatalysis with molecular co-catalysts
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0056]超伝導デバイスの作製超伝導デバイスの作製
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0057]In-situ Surface Enhanced Raman Scattering Observations of Water Oxidation Reactions Enhanced by the Modal Strong Coupling
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0058]医用イメージングのための半導体検出器の開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0059]突起構造を有する加硫ゴム表面の摩擦特性
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0060]光学デバイス用回折格子の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0061]赤外モード強結合構造の作製と光学特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0062]PZTカンチレバーへのAl2O3薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0063]電子線描画装置による加工技術検証
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0064]繊維芽細胞の初期配向が創傷癒合に与える影響
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0065]円偏光プラズモン場を用いたキラル結晶化の制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0066]蛍光相関分光法によるプラズモンオプティカルトラッピングの評価
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0067]機能性ポリマーへのAl2O3薄膜の形成及び分析
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0068]質量分析用新ソフトイオン化源の開発
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0069]Ni78Fe22/Erq3/Ni78Fe22ナノ接合素子の作製とその電気磁気特性
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F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0070]セラミックス粉末の耐水性向上を目的としたALD コーティング
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F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0071]マイクロフルイディクスデバイスを用いた一次繊毛の力学特性測定
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0001]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0002]金属酸化物を用いた高機能抵抗変化素子の開発
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0003]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0004]環境中の感染性ノロウイルスの即時現場検出を実現する高感度アプタセンサー技術の創出
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0005]現場分析用超小型分析装置に組み込む微小電極の作製
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0006]サブミクロン1次元半導体スピン輸送チャネルの作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0007]Effect of geometric curvature on collective cell migration using tortuous microchannel
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0008]生体鋳型を用いて作製した超伝導マイクロワイヤのためのAu/Cr電極形成
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0010]Tuning capacitance of magnetic granular-insulator composite capacitors
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0011]強誘電体薄膜の作製
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0012]Electron transfer between gold nanoparticles and semiconductors
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0013]Effect of detuning on near-field spectral properties of plasmonic hetero-trimer
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0014]Manipulation of the dephasing time of coupled plasmon modes
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0015]Near-field properties of one-dimensional gold nanochains
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0017]Correlation between Near-Field Enhancement and Dephasing Time in Plasmonic Dimer Nanostructures
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0018]新規ブロック共重合体薄膜の構造解析
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0019]アスペクト比が異なる長方形パターンを有する接着性細胞用マイクロ加工基板の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0020]高密度CNTを用いたCNT-金属複合膜の試作
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0021]貫通孔を有する高吸収プラズモン電極の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0022]光電子顕微鏡を用いた金ナノ構造の近接場円二色性に関する研究
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0023]歪み印加での変調を可能とする量子ドット発光デバイスの作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0024]表面プラズモン振動モードのEELS解析
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0025]金属ナノピラーを集積したプラズモン光アノードの構築
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0026]層状粘土鉱物の配向膜作製に用いるAu 薄膜の作製
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F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0027]Control of plasmon dephasing time using stacked nanogap gold nanostructures
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0028]酸化コバルト助触媒を担持したプラズモン誘起水分解
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0029]ペロブスカイト型マンガン酸化物に基づく酸素還元電極触媒の設計
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F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0030]Fabrication of Metalens Array for Hyper spectrum
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0031]Enhanced Plasmon-induced Photocurrent Generation using a Co-catalyst
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0032]Development of Label-free Nanoplasmonic Biosensing Platforms
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0033]Enhanced Water Splitting under Modal Strong Coupling Conditions
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0034]Plasmon-induced Photocurrent Generation on Ga2O3 Loaded with Gold Nanoparticles
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0035]強磁性酸化物SrRuO3における電流と磁壁の相互作用
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0036]原子炉計装の革新に向けた耐放射線・高温動作ダイヤモンド計測システムの開発とダイヤモンドICの要素技術開発
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0037]X線レーザーイメージングのための試料ホルダ作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0038]光電子顕微鏡を用いた光極限集約系の評価
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0039]電気表面増強ラマン散乱観測によるプラズモン誘起酸化反応過程の観察
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0040]細胞折り畳み技術を用いた3次元立体組織の構築
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0041]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0042]フィッシュネット金属/半導体/金属構造共振器熱ふく射起電力電池の開発
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0043]Co2MnSi 薄膜を用いた電流面直型巨大磁気抵抗素子における双二次層間交換結合の起源
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0044]強磁性体／タンタル接合を有する3端子強磁性トンネル接合の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0045]Co2MnSiを用いたAlGaAs/GaAs 2次元電子ガス系への室温スピン注入
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0046]マイクロナノバイオデバイスによって惹起される腫瘍自己組織化誘導の条件検討
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0047]ハイドロゲル表面凹凸のサイズ依存的変形
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0048]熱ALDによるサファイア基板への反射防止膜の検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0049]粉体へのALD成膜検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0050]超伝導デバイスの作製
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0051]グラフォエピタキシにより配向したスメクチック液晶相をテンプレートに用いた金属ナノワイヤの作製
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0052]プラズモンアシスト水熱合成による酸化亜鉛ナノ発光体の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0053]金ナノトライマー構造の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0054]PZT薄膜上のSiO2薄膜形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0055]LDL選択的配置に用いるナノ構造の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0056]Al2O3膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0057]プラズモニクダイマー構造を用いた蛍光ナノ粒子の光トラッピング
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0058]架橋PVAを用いたマダラシミ鱗片模倣表面の作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0059]ALD 装置での成膜による欠陥レスコートの評価
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0060]ALD利用によるプラスチック成型品への薄膜形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0061]微細加工技術の簡素化へ向けたフォトンシーブホログラムの開発
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0062]THz用特殊ビームスプリッタの作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0063]ナノ加工技術検証
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0064]CaF2基板及びSi基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0065]窒化物半導体に対する低損傷加工プロセスの開発と電子デバイス応用
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F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0066]酸化ニオブ超薄膜の形成
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0067]銅合金材料等へのアルミナの成膜
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0068]LiNbO3のイオンミリングプロセス実験
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F-HK-015 イオンミリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0069]弾性材料の表面加工
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0070]SiO2およびAl2O3薄膜による絶縁層の作製
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F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0071]高分子ゲル表面に作製した金ナノドット間のギャップ距離変化の精密評価
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0072]質量分析用新ソフトイオン化源の開発
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0001]マイクロナノ基板を用いた癌組織形成
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0002]SrTiO3基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0003]巨大誘電率を実現するAl2O3/TiO2積層膜の検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0004]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-025 スパッタ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0005]次世代抵抗変化型メモリの開発
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-100 ダイシングソー
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0006]接着性細胞パターン用のマイクロ加工基板の開発
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-025 スパッタ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0007]ハーフメタルCo2MnSi薄膜とAg中間層を用いたGMRデバイスの製作
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0008]細胞折りたたみ技術を用いた3次元立体組織の構築
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0009]シュウ酸の現場分析に用いる超小型装置に組み込む微小電極の作製
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0010]糖鎖含有ブロック共重合体薄膜のナノ構造解析
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0011]Siウエハ上への厚膜アルミスパッタ
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0012]ALD成膜による保護膜検討
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F-HK-024 ALD製膜装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0013]Layer by layer 法による銀ナノ粒子の表面修飾と細胞への取込み観察
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0014]光電磁界センサに用いる誘電体多層膜高反射ミラーの作製
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F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0015]ナノワイヤを利用したLEDの作製と評価
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F-HK-100 ダイシングソー
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0016]DNA固定化金基板を用いた細菌センサーの開発
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F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0017]血管内皮細胞一次繊毛の力学特性計測技術の開発に関する研究
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0018]コンパクトスパッタ装置によるサファイア基板上へのITO膜及び銅電極の成膜 ・原子層堆積装置によるTiO2の成膜
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0019]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-039 電子線三次元粗さ解析装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0020]熱ALD装置での成膜による光学薄膜の特性調査
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0021]高密度CNT を用いた太陽電池デバイスの試作
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0022]ナノ構造体を用いた無標識検出デバイスの開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0023]半導体単一量子ナノ構造のｇ因子制御によるキャリアスピン操作
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0024]AlGaAs/GaAs 系高移動度2 次元電子系へのスピン注入および検出
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0025]白色光全反射照明による高次プラズモンモード干渉効果の観測
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0026]プラズモンアシスト水熱合成による酸化亜鉛ナノ発光体の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0027]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0028]円偏光プラズモン場を用いたキラル結晶化
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0029]金属ドープカーボン酸素還元電極触媒の調製とX線吸収分光計測
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0030]無脊椎動物の形態の非破壊３次元構造の解析
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0031]微細加工技術を用いたFET素子及び磁気デバイスの作製
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0032]PLD法による酸素還元活性La0.7Sr0.3Mn1-xNixO3薄膜の作製
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F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0033]回折格子構造によるピコ秒音響波の光学的励起・検出
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0034]軟X線測定に向けた常温動作ダイヤモンドドリフトディテクターの要素技術開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-005 真空蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0035]X線レーザーイメージングのための試料ホルダ作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0036]酸化物ハーフメタルにおける電流誘起有効磁場
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0037]添加剤によるＥＵＶレジストの高感度化
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0038]金属酸化膜の光学特性評価
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0039]ペロブスカイト構造金属酸化膜の形成および熱処理
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0040]ナノ共振器－プラズモン強結合を利用した高光吸収太陽電池
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0041]生体鋳型により成型された超伝導マイクロワイヤの電気特性評価
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0042]Aluminum nanostructured plasmonic sensors using capped dielectric layers
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0043]磁性薄膜エッジを利用したナノ接合素子の電気・磁気特性
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F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0044]プラズモン光電極を用いた有機光還元
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0045]超伝導デバイスの作製
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0046]プラズモン誘起オプティカルトラッピングを用いた近接場スペクトル計測
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0047]窒化モリブデンを用いた光子検出器の開発
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0048]プラズモン誘起アンモニア合成の定量的評価
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0049]レーザー誘起水熱合成法による酸化亜鉛ナノロッドアレイ構造の作製と制御
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0050]プラズモン誘起電子移動を用いた光スイッチングデバイス
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0051]ポリアクリル酸ゲル表面に固定化した金ナノドット間のギャップ距離変化の評価
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0052]CoOxプラズモニック太陽電池の作製
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0053]金属ナノ構造体光近接場の空間とスペクトル特性の研究
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0054]光エネルギー変換へ向けた高効率光捕集プラズモン電極の作製
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0055]微細加工技術を用いたナノギャップ電極の作成
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0056]高吸収、高放射樹脂の表面計測
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0057]微細加工技術を用いたナノギャップ電極の作成
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0058]Optically properties of nanoblock dimers from capacitive coupling, charge transfer plasmon to fused dipole mode
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0059]ハニカム状セルロースの形成
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0060]Systematical investigation on near field properties of plasmonic hetero-trimer
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0061]準結晶パターンを用いた位相型計算機ホログラムの実現可能性の検討
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0062]光電子顕微鏡による金ヘプタマー構造の近接場分光特性
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0063]シリコン表面の複合ナノ構造の形成
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0064]Multidimensional characterization of strong coupling between localized and propagating plasmon modes by photoemission electron microscopy
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0065]防食基板へのパターン化電極作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0066]近接場光学顕微鏡によるJ会合体－金ナノディスクハイブリッドシステムの分光特性研究
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0067]らせん構造を持つ棒状高分子が閉じた平面で形成するキラルパターンに関する研究
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0068]アキラル構造における近接場キラリティーに関する研究
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0069]金属材料表面へのパターン形成
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0070]分子振動－微小共振器強結合系の分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0071]チタン窒化物マイクロ構造の耐熱性評価
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0072]逆ピラミッド型テンプレートを用いた酸化チタン逆オパール構造の作製と光学評価
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0073]高効率細胞弾性率測定のためのマイクロフルイディクスデバイスの開発
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0074]ポーラス酸化チタン電極を用いたプラズモン光電変換系の構築
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0075]内皮細胞層の細胞間接着力の推定
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0076]Manipulation of surface plasmon resonance of Al nanodisks through O2 plasma treatment
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0077]生物表面を模倣したPDMS微細構造の観察
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0078]酸化チタンフィルム上に配置した金ナノディスクの過渡吸収分光
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0079]脱硫剤の表面観察
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0080]Strong coupling between Fabry–Pérot nanocavity and localized surface plasmon resonance and its application for efficient water splitting
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0081]多様な基板へのALD成膜
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0082]An ultrabroad terahertz metamaterial filter based on multiplexed metallic bar resonators
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0083]半導体量子ドットによるファイバー結合型単一光子発生源の開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0084]細胞が光照射により受ける影響を調査する表面プラズモン観察チップ作製
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0085]超撥水加流ゴム用微細構造シリコン鋳型の作製
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0086]Fabrication of optical anapole metamaterial
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0088]Plasmon-induced photocurrent generation for exploring the near-field
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-17-HK-0089]CaF2基板及びSi基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0001]電解放射型走査型電子顕微鏡を用いた銀ナノワイヤーの観察
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0002]二ホウ化マグネシウムを用いた超伝導デバイスの開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0003]カルシウム・シリカ法による高性能・低コストな乾式脱硫剤の試作開発
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0004]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0005]新規ブロックコポリマー薄膜の膜厚測定
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0006]次世代電子デバイスの開発に向けた機能性材料のナノ構造作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0007]Fabrication of electrodes using stainless-steel pins for electrochemical detection
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0008]LDL吸着のためのAu膜基板の作製
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F-HK-033 ナノカーボン成長炉
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0009]シュウ酸の現場分析に用いる超小型装置に組み込む微小電極の作製
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0010]細胞力学診断のための細胞パターニング基板の開発
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-025 スパッタ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0011]ALD酸化膜を用いた高純度グラフェンの成長実験
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0012]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-039 電子線三次元粗さ解析装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0013]粒子径の異なる脂肪滴を効率的に吸着させる基盤の開発
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0014]酸化物ハーフメタルにおける電流誘起有効磁場の観測
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0015]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0016]白色光全反射照明による高次プラズモンモード干渉効果の観測
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0017]レーザー誘起水熱合成法による酸化亜鉛ナノロッドアレイ構造の作製と制御
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0018]YBa2Cu3O7-を用いた超伝導体マイクロデバイスの作製と電気特性評価
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0019]高耐熱レジストの剥離プロセス
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0020]円偏光プラズモン場を用いたキラル結晶化
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0021]金属ナノトライマー構造を用いたナノ粒子回転運動操作
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0022]SrTiO3基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0023]Ｘ線レーザーイメージングのための試料セル作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0024]合成石英ガラスへの微細加工
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0025]準結晶パターンを利用した超高分解能計算機ホログラムの開発
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0026]マイクロパターン基板の作成
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0027]細胞折り畳み技術を用いた3次元立体組織の構築
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F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0028]Al被覆Mg合金薄板の引張変形メカニズムの調査
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0029]機能性金属酸化膜の形成
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F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0030]機能性金属酸化膜の結晶化熱処理
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0031]一方向巻きらせん構造を持つ剛直棒状高分子が示すスメクチックC相の研究
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0032]残膜処理
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0033]リフトオフによるCrマスクの作製
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F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0034]ハイドロゲルを利用した金ナノパターンのギャップ制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0035]医用画像診断装置のための放射線半導体検出器の作製
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0036]EUVリソグラフィに向けた化学増幅型レジストの高感度化
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0037]金属ドープカーボン酸素還元電極触媒のin situ XAFS測定
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0038]Al2O3/TiO2積層膜の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0039]KNN薄膜のAl2O3パッシベーション膜に関する検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0040]光電磁界センサに用いる誘電体多層膜高反射ミラーの作製
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F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0041]生体分子モーターの動的挙動を制御するためのフォトマスク作成
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0042]微細構造超撥水加流ゴム用シリコン鋳型の作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0043]Reveling charge transfer plasmon on bridged dimer nanostructures
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0044]Exploring the Near-Field of Strongly Coupled Waveguide-Plasmon Modes by Plasmon-Induced Photocurrent Generation Using a Gold Nanogratings-Loaded Titanium Dioxide Photoelectrode
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0045]酸化チタンフィルム上に配置した金ナノ微粒子の過渡吸収分光
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0046]Emitting efficiency enhancement of organic lighting emitting diode by utilizing the local surface plasmons resonance effect of aluminum nanodisk structure
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0047]Plasmon-induced solar energy conversion using coupling between cavity mode and localized surface plasmon resonance
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0048]The near field image of Archimedes spiral by using the photoemission electron microscopy.
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0049]Broadband terahertz filter based on chirped metamaterial structure
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0050]Near field enhancement effects on stacked nanogap metallic structures pursued by photoemission electron microscopy
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0051]Spatial evolution of the near-field distribution on planar gold nanoparticles with the excitation wavelength across dipole and quadrupole modes
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0052]金ナノスプリットワイヤの近接場顕微分光
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0053]結合プラズモニックナノ構造の近接場分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0054]Optimization of a Compact Layer of TiO2 via Atomic-layer Deposition for High-performance Perovskite Solar Cells
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-016 真空紫外露光装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0055]プラズモン光アノードを備えたアンモニア合成デバイスの構築
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0056]ポーラス酸化チタン電極を用いたプラズモン光電変換系の構築
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0057]プラズモン誘起電荷分離における半導体／金界面の影響の評価
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-016 真空紫外露光装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0058]拡散電位を制御したプラズモン太陽電池の構築
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0059]Construction of microenvironment on microfluidic devices for uncultivated microorganisms
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0060]赤外領域における分子振動モードと光共振器の強結合
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0061]半導体量子ドットによるファイバー結合型単一光子発生源の開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0062]光学フィルター用透明電極薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0063]Plasmonic photoelectric conversion using gold nanoparticles loaded TiO2 photoelectrode with 3D photonic lattices
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0064]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0065]ハーフメタルCo2MnSi 薄膜とAg 中間層を用いたGMR デバイスの製作
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0066]ショットキー接合型トップゲート構造を用いたスピン信号のゲート制御に関する研究
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0067]平坦な金属電極細線の形成
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0068]アキラル構造における近接場キラリティーに関する研究
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0069]局在表面プラズモン共鳴を用いた水の酸化反応の光強度依存性
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0070]プラズモン光電変換デバイスの応答波長依存性
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0071]Interplay of hot electrons from localized and propagating plasmons
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0072]ナノ構造体を用いた無標識検出デバイスの開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0073]電子スピン注入を用いた核スピンのスピンエコー信号の電気的検出
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0074]マイクロ流路基板の開発
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0075]温熱刺激下における腱細胞間ギャップ結合コミュニケーションの経時変化
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F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0076]酸化物および炭素系新材料・デバイス構造評価のための微細加工
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0077]珪藻模倣表面構造による放熱特性の検討
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0078]フレキシブル材料への凸型電極形成
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0079]弾性材料へのマイクロメートルサイズ構造転写
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0080]電気化学測定と光学測定を組み合わせた金ナノ間隙制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0081]単分子補足に向けた光場の創出
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0082]水中でのセルフアライメント基板開発
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0083]ALD成膜による保護膜検討
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F-HK-024 ALD製膜装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0084]リフトオフ方式によるメタルマスク作製
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0085]チタン窒化物ナノ構造による表面増強ラマン散乱特性の検討
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0086]IGZO用スパッタリングターゲット材の開発と評価
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F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0001]酸化アルミニウム原子堆積層の水分透過性に関する検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0002]半導体量子ドットによるファイバー接触型単一光子発生源の開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0003]二重量子井戸スピンフィルタ実現のための半導体微細加工
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0004]表面微細構造による放射エネルギーの波長制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0005]金ナノ構造体を用いたナノ粒子のプラズモニックトラッピング
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0006]テーパファイバを介した金ナノ構造体のプラズモン励起による2光子励起蛍光
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0007]ZnOナノロッドアレイ構造からのランダムレーザー発振の観測
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0008]機能性材料の利用による次世代電子デバイスの開発
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0009]低融点ガラス間に挟まれたNi78Fe22薄膜の構造・磁気特性
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F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0010]Ni78Fe22薄膜エッジ上のAu/Crナノワイヤの形成
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0011]YBa2Cu3O7-を用いた超伝導体マイクロデバイスの作製
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0012]SmFeAsO1-xHyを用いた鉄系超伝導体マイクロデバイスの作製
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0013]超薄膜絶縁体を介したスピン注入
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0014]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0015]ナノギャップ電極の作製と反応活性サイトの検証
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0016]電気化学的手法によるナノギャップ間隙の制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0017]化学増幅型ＥＵＶレジストの高性能化
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0018]酸化物ハーフメタルを用いた磁壁移動素子の開発
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0019]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0020]マイクロ電気化学分析デバイスのための金薄膜微小電極の作製
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0021]ALD酸化膜を用いた高純度グラフェンの成長実験
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0022]ダイヤモンドドリフトディテクターの開発
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-005 真空蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0023]SrTiO3基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0024]リフトオフ方式によるメタルマスク作製
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0025]光学フィルター用透明電極薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0026]ナノ構造体を用いた無標識検出デバイスの構築
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0027]PbS太陽電池の光方向変換層の研究
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F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0028]単細胞の力学特性計測を目指した微小流路デバイスの開発
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0029]新規半導体材料素子の作製と評価
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0030]膵癌細胞における癌細胞集合体の細胞間相互作用への影響
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0031]半導体表面における弾性表面波によるキャリア輸送
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0034]マイクロ流路基板の開発
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0035]マイクロ・ナノパターン上での細胞培養
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0036]和周波発生分光法によりカーボン膜表面における溶媒吸着の研究
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0037]p-i-n接合型バックゲート構造を用いたスピン信号のゲート制御に関する研究
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0038]パルス状コヒーレントX線溶液散乱法用溶液試料ホルダの作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-023 超高真空5源ヘリコンスパッタ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0039]LED高輝度化を目的としたナノインプリントプロセスによるサファイア基板加工
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F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0040]シュリンク剤を用いた、ZEPレジストパターンのシングルナノ達成
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0041]新規高効率光機能デバイスの創成
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0042]DNAブラシ基板に固定化した金ナノロッドの観察
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0043]機能性金属酸化膜の形成
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0044]高効率太陽光利用に関する研究
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0045]Surface sensitivity studies and applications of label-free nanostructure-based biochips
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0046]プラズモン水分解系の助触媒効果
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0047]表面増強テラヘルツ分光によるアミノ酸分子誘導体の分光特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0048]プラズモン誘起アンモニア合成の助触媒効果
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F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0049]金ナノ構造／酸化チタン電極表面のSTEM解析
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0050]プラズモン薄膜太陽電池の構築
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-031 太陽電池評価システム
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0051]Plasmon-enhanced photocurrent generation with a controlled semiconductor thin film for perovskite solar cells.
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-031 太陽電池評価システム
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0052]界面ダイポール制御による高効率プラズモン電荷分離状態の形成
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F-HK-031 太陽電池評価システム
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0053]Spectral properties of nanogap dimer structures showing dipole-dipole interaction and charge transfer plasmon
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0054]Surface-enhanced Raman single molecule spectroscopy using nano-engineered silver particles
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0055]四重極子プラズモンの位相緩和ダイナミクス
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0056]金属サンドイッチを用いたプラズモン誘起ポリスチレンビーズの捕捉
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0057]フーリエ分光法を利用した近接場光学イメージングの高空間分解能化の実現
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0058]Improvement of Plasmon-Enhanced Photocurrent Generation by Femtosecond Laser Surface Modification of TiO2
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0059]Optical properties of MIM dimer nanostructures with nanogaps
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0060]Fabrication of a nanostructured photoelectrode with titania inversed opal photonic crystals
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0061]酸化チタンナノホールアレイ電極を用いたプラズモン光電変換系の構築
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0062]酸化チタンナノチューブ電極を用いたプラズモン光電変換系の構築
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0063]プラズモン―励起子ハイブリッド状態のダイナミクス
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0064]アルミニウムナノロッドの作製とエキシトンポラリトンの光学特性
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0065]Carrier-Envelope Phase Control of Plasmonic Nanostructures using ToF-PEEM
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0066]Tuning Plasmon-Enhanced Photocurrent Generation by the Interference in TiO2 Thin-film
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0067]GaN基板を用いたプラズモン人工光合成系の構築
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0068]Biomolecule-Modified Au Nanoislands Decorated TiO2 Photoelectrode for in situ Measurement of Biotin-Streptavidin Binding Kinetics under Visible Light Irradiation
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0069]引張り負荷下における腱細胞間ギャップ結合コミュニケーションの経時変化
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0070]医療画像診断装置の高度化のためのGaAs放射線検出器のエネルギー分解能の改善
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F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0071]ナノ構造によるラマン散乱増強場の構築
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0072]酸化物コーティングしたカタツムリ殻の濡れ性
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0073]超硬合金によるナノ・マイクロ精密金型作製
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0074]超撥水微細構造のための鋳型作製
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0075]ALDを用いたAl2O3薄膜の製膜
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0076]ALD法による超平滑HfO2皮膜の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0077]ハーフメタルCo2MnSi薄膜とAg中間層を用いたGMRデバイスの製作
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0078]メタサーフェスによる熱輻射制御
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0079]光電磁界センサに用いる結晶への誘電体多層膜の成膜
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F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0080]金薄膜ナノ構造体における伝播型表面プラズモンの動的可視化
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0081]微小管の動的自己組織化における空間的制約効果の影響
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0082]細胞折り畳み技術を用いた3次元立体組織の構築
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0083]MnGa垂直磁化膜からGaAsチャネルへのスピン注入
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0084]概日時計を創る：1細胞計測と操作による細胞ネットワークの再構築
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0085]LDLの吸着に最適な金基板の作製
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F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0086]細胞メカニクス計測のための細胞パターニング基板の開発
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-025 スパッタ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0087]ALD法による高温加熱保護膜の作製の試み
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F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0088]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0089]湾曲ロッドと直線ロッドのハイブリッドアルミニウムナノ構造の作製
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0090]金属成膜手法の違いによるナノ構造の比較
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F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0001]超高圧顕微鏡用環境セルの開発
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F-HK-005 真空蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0002]医療用X 線計測応用を目指したTb ドープGd2Si2O7 の合成と発光特性評価
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0003]炭化ケイ素ドライエッチング
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0004]SiC流路型の作製
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F-HK-014 ドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0005]表面微細構造を用いた放射エネルギーの波長制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0006]酸化物ハーフメタルを用いた磁壁移動素子の開発
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0007]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0008]グラフェンナノディスク作製プロセスの開発と光学評価
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0009]テーパファイバを介した金ナノ構造体のプラズモン励起による2光子励起蛍光
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0010]ZnOナノロッドアレイ構造からのランダムレーザー発振の観測
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0011]細胞メカニクス計測のための細胞パターニング基板の開発
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F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0012]次世代ナノ電子デバイスに関する研究
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F-HK-018 電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0013]酸化金属膜のエリプソメータによる膜厚測定
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F-HK-032 エリプソメータ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0014]次世代人工聴覚器のための神経電極およびポリイミド製ケーブルの開発
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0015]バイオセンサーの開発―固定分子の状態分析
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0016]可視光領域におけるスプリットリング共振器のGHz音響変調
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0017]半導体表面における弾性表面波によるキャリア輸送
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0018]炭化ケイ素（SiC）マイクロ流路金型で成形したガラスマイクロ流路
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0019]炭化ケイ素（SiC）マイクロ流路金型で成形したガラスマイクロレンズ
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0020]ナノ粒子を用いた量子デバイスの構造検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0021]一細胞質量分析を用い細胞内から採取した脂肪滴の解析
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F-HK-025 スパッタ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0022]有機デバイス用の透明電極の微細加工
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0023]超伝導発光素子の開発
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0024]金属埋め込み半導体微小光共振器の開発
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0025]化学増幅型レジストの高感度化
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0026]電子スピン注入を用いた全電気的核磁気共鳴の検出
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0027]GaAsにおける四端子非局所スピンバルブ信号とHanle信号のゲート制御
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0028]細胞力学実験用PDMS製マイクロデバイスの作製
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0029]ナノ構造体を用いた無標識検出デバイスの構築
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0030]イオン照射に伴う金属材損耗評価のための分子シミュレーションコードの開発
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F-HK-015 イオンミリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0031]メタマテリアル構造を用いた放射スペクトルの制御
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0032]ナノ構造体を用いたHottest spot 構造体の作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0033]ALD装置を用いたナノ構造体
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0034]細胞培養用の基材として用いられる三次元パターンの作製
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0035]原子層堆積装置によるAl2O3/TiO2(HfO2)膜の作製
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F-HK-024 ALD製膜装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0036]単一浮遊細胞のハンドリング、固定可能なマイクロ流路デバイスの作製
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F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0037]SrTiO3基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0038]ドライエッチングによる石英基板へのマイクロ溝加工
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F-HK-014 ドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0040]自然免疫のナノ領域での機能解明
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0041]二次元パターンをもつDNAブラシの作製
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0042]緻密な酸化チタン薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0043]化合物半導体を用いた新規の医療画像スキャナー用放射線計測システムの基礎開発
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F-HK-005 真空蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0044]新規高効率光機能デバイスの創成
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0045]高分子型レジスト（ZEP）と化学増幅型レジストの解像性、LWR比較
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0046]多糖類フィルムへの無機薄膜の成膜
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0047]擬似植物細胞モデルにおける微小管の力学応答特性
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0048]FIBによる針状カーボン作製
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F-HK-028 FIB加工装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0049]局在表面プラズモン－色素励起子強結合系の電気化学顕微分光計測
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0050]金ナノ構造担持酸化チタン電極を用いたプラズモニック光電変換電極の構造・特性制御
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0051]結晶表面の形態観察
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0052]パルス状コヒーレントX線溶液散乱法用環境セルアレイの作製
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0053]二重量子井戸スピンフィルタ実現のための半導体微細加工
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0054]耐久性超撥水ゴム材料を作るための鋳型作成
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0055]Li-ion 電池用 正極電極のALD coatingによる改善検討
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0056]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0057]自己集合量子ドットのためのＧａＡｓバッファー層の検討
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F-HK-005 真空蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0058]可視域にストップバンドを持つ3次元フォトニック結晶の作製
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0059]プラズモニック光電気化学触媒を用いた窒素の固定化
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0060]Improvement of Plasmon-Enhanced Water Splitting using Gold Nanostructured SrTiO3 Single Crystal Photoelectrode with TiO2 Thin Film Heterojunction
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0061]制御された金ナノ微粒子とレーザーの相互作用に基づく光熱変換プロセスに関する研究
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0062]Surface-enhanced Raman scattering of a single molecule on silver nanodisk structure with single-nanometer gap
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0063]Single molecule study of DNA/DNA interactions by using controlled gold nanostructures
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0064]Surface-enhanced Raman scattering of crystal violet induced from gold nanocylinder arrays
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0065]金ナノ構造体における局在プラズモンを用いた近赤外領域の蛍光増強
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0066]ナノパターン化した酸化チタン単結晶電極を用いたプラズモン誘起光電変換
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F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0067]金ナノ粒子を担持した酸化チタン／FTO電極の光電変換特性
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0068]Fabrication and optical characterization of optical antennae in THz frequency
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0069]鉄イオンドープ酸化チタン単結晶電極を用いたプラズモン増強光電変換
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F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0070]Surface-plasmon-mediated nanofabrication of oriented silver nanoplates
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0071]Dynamics of exciton-plasmon strong coupling system of J-aggregate and metal hybrid nanostructure
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0072]化学成長金ナノ粒子によるプラズモン共鳴波長及び光電変換応答波長制御
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0073]相補的金属ナノ構造における近接場分光特性
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0074]銀－コバルトナノロッド構造を担持した酸化チタン薄膜の光電変換特性
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F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0075]Spectral properties of single nanogap gold structure
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0076]窒化物ナノ構造によるプラズモンデバイス作
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0078]ALD法による超平滑HfO2皮膜の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0080]生薬分析のためのマイクロカラム作製
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0081]改良した非対称構造によるマイクロパーツ輸送
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F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0082]厚膜フォトレジストSU-8を用いた細胞培養用微小細胞培養ウエルの開発
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0083]LED高輝度化を目的としたナノインプリントプロセスによるサファイア基板加工
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F-HK-020 両面マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0084]光学フィルター用透明電極薄膜の形成
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0001]擬似植物細胞モデルにおける微小管の力学応答特性
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0002]表面プラズモン共鳴を利用した水中病原微生物検出バイオセンサの開発
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0003]原子層堆積装置（SUNALE-R)によるAl2O3/TiO2膜の作製
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0004]パターン化DNAブラシの作製と新規レジスト材への展開
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0005]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0006]プラズモンを用いたナノ粒子トラッピングとポテンシャル解析
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0007]炭素および新規半導体ナノ材料の微細加工
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0008]テーパファイバを介した金ナノ構造体のプラズモン励起による2光子励起蛍光
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0009]メタル薄膜へのナノスリットの作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0010]光応答性ナノスクロール配列化のためのナノパターン加工した基板の作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0011]超薄膜絶縁体を介したスピン注入
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0012]音響センサ基板および神経活動計測に用いる多電極配列基板の開発研究
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0013]パラジウムの水素吸蔵反応その場観察
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F-HK-005 真空蒸着装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0014]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0015]PDMS製マイクロデバイスを用いた血管様微小構造の構築
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0016]シリコンウエハ深堀りエッチング
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-006 プラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0017]化学増幅型レジストの高感度化
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0018]イオンビームスパッタ装置によるアルミ薄膜の作製
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F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0019]電気的スピン注入・検出を用いた歪みInGaAsにおけるスピン輸送特性
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0020]Co2MnSi/CoFe/n-GaAs接合におけるスピン注入特性のCoFe層挿入効果
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0021]単一光子・もつれ合い光子対発生源および金属埋め込み型微細共振器の開発
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-014 ドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0022]パルス状コヒーレントX 線溶液散乱法のための溶液試料ホルダの開発
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0023]新規高効率光機能デバイスの創成
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0024]Selective excitation of surface plasmon resonance modes in gold nanoparticles and probing their dynamics by photoemission electron microscopy
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0025]金ナノ粒子を担持した酸化チタン／FTO 電極の光電変換特性
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0026]Dynamics study of plasmon-exciton strong coupling in a hybrid system of silver nanostructures and cyanine dye
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0027]プラズモニック光電気化学触媒を用いた窒素の固定化
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F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0028]金ナノ粒子を配置した酸化チタン薄膜電極の作製と光電変換特性
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F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0029]金属ナノ構造／酸化チタン電極を用いた全固体太陽電池の作製
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F-HK-031 太陽電池評価システム
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0030]金ナノ粒子配列の光学特性とプラズモンモードの研究
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0031]光電子顕微鏡による積層型ナノギャップ金構造の光学特性評価
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0032]光電子顕微鏡を用いたナノギャップ金構造の近接場イメージング
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0033]銀ナノ構造体における局在プラズモンを用いたSiAlON 薄膜の蛍光増強
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0034]フェムト秒レーザー直接描画と加熱による可視波長域にフォトニックバンドギャップを持つ3次元フォトニック結晶の作製
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0035]遠赤外光によるプラズモン放射圧の誘起
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0036]酸化物半導体基板上での金ナノ粒子の化学成長と光電変換特性
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-016 真空紫外露光装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0037]Surface-enhanced Raman scattering of crystal violet induced from gold nanocylinder arrays
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0038]Plasmonic properties of single Au and Al nanoblock dimers
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0039]Optical properties of metallic optical antennae in terahertz frequency
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0040]Fabrication of metallic photonic crystals by direct laser writing and atomic layer deposition
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F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0041]Plasmonic-photonic hybrid for ultra-fast optical switching application
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0042]Plasmon-induced water splitting under visible light irradiation
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0043]金属／絶縁体／金属ナノ構造の作製とその光学特性評価
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0044]構造規定ナノ材料の創製
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0045]表面微細構造を用いた放射エネルギーの波長制御
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0048]リン酸塩ガラスの化学的耐久性について
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F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0049]海洋生物の付着特性調査のためのシリコン微細構造の作製
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0050]バイオミメティックシリコンナノ構造体の作製
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0051]生体適合性を持つチタン窒化物によるデバイス作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0052]異方性エッチングによる非対称搬送路の製作
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F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0054]表面増強ラマン散乱の定量評価用基板の作製
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F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0055]マイクロ・ナノパターン化バイオマテリアルへの細胞接着
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0056]ナノ構造回折格子の作製と量子ドット光デバイスへの応用
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0057]折り畳み可能なマイクロプレートを用いた細胞の立体的な形状変化における細胞の機能測定と再生医療への応用
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0058]ディウェッティング法を用いたCT錯体の作製
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0059]スパッタ法による樹脂上への金属薄膜形成
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F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0060]ガラス成型法によるマイクロ流路の作製
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F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0061]ガラス成型法によるマイクロレンズアレイの作製
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F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0062]ガラスインプリント用のナノ周期構造金型の作製
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F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0064]局在プラズモンに及ぼす電場効果についての検討
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0065]抗生物質検出のためのバイオセンサーチップ開発
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F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0066]微細パターンと生体分子の融合による新規表面増強ラマン散乱測定基板の作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0067]Photoreaction project in the environmental remediation
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F-HK-031 太陽電池評価システム
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0068]安定に分子修飾をしたバイオセンサーの作製
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置群
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0069]絶縁膜およびエピ層のエッチング
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F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置群
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0070]Electric Field Effects on Intracellular Function
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0071]超解像顕微鏡の分解能評価用ナノ流路の作製
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F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置群
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0072]ナノ・エレクトロスプレーイオン化用針の金属加工によるイオン化安定性の評価
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F-HK-025 スパッタ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0073]結晶表面の形態観察
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F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0076]Al2O3(0001)面へのCu(111)面露出膜スパッタ蒸着
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F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0080]スパッタ法により作成したアモルファス酸化物薄膜におけるメムリスティブ挙動
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F-HK-003 マスクアライナ
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0001]強磁性薄膜エッジを利用した新たなナノスケール接合作製技術
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0002]ガラス成型法によるマイクロ流路の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0003]ガラスナノインプリントにおける離形性の評価
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0004]生細胞動的計測のための支持基板の試作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0005]ReRAMデバイス作製のための微細加工パターンの作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0006]カーボンデバイス作製装置開発のための触媒薄膜の試作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0007]LDLの酸化度評価のための金基板の試作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0008]LDLコレステロールの酸化度評価のためのセンサーデバイスの開発に必要な電極の試作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0009]量子ドットスピンレーザ開発用試験デバイスの作成
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0010]カーボンナノチューブを利用した太陽光発電デバイスの試作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0011]半導体バイオセンサーに利用する反応電極部評価のための反応電極部の試作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0012]フェムト秒レーザー直接描画及び原子層堆積法による3次元金属フォトニック結晶の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0013]2量体型ナノギャップ金構造体の作製と分光特性
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0014]多偏光スペクトル積算方法を用いたSPRセンサーの開発
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0015]原子層堆積装置を用いた金ナノ構造／酸化チタン電極の作製と光電変換特性
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0016]金2量体構造のギャップ幅制御
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0017]制御された金ナノ構造による蛍光増強の検討
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0018]多偏光スペクトル積算方法を用いたSPRセンサーの開発
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0019]金ナノアイランド／酸化チタン電極を用いた光電変換システム
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0020]銀ナノ構造を用いたプラズモン光電変換システムの構築
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0021]対称型プラズモン構造体の光学特性に関する研究
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0022]時間分解多光子光電子顕微鏡による金ナノ構造のプラズモン特性
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0023]金ナノ構造／酸化チタン電極を用いた全固体太陽電池の光電変換特性
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0024]積層型ナノギャップ金構造のプラズモン分光特性と光電場増強効果
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0025]Agプラズモンによる蛍光体分散ガラス薄膜の発光増強
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0026]ナノギャップ金チェイン構造のプラズモン分光特性と赤外光照射に基づく放射圧
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0027]ファイバー微小球共振器システムに結合した金属ナノ構造体からの非線形発光の観測
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0028]ITO基板上の単一量子ドット発光特性の評価
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0029]ナノスケール鋳型を用いた微細構造制御技術の開発
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0030]レーザー描画装置を用いたマイクロ流路ミキサーの製作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0031]コロナ放電によるガラスの表面処理
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0032]高触媒活性カーボン材料の創製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0033]化学増幅型レジストの高感度化
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0034]バイオミメティックシリコンナノ構造体の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0035]Micropillar法による腱細胞細胞骨格張力および機能の調節に関する検討
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0036]マイクロウェルスライドを利用した段階的濃度分布生成デバイスの開発
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0037]マイクロピラーデバイスを用いた流れ負荷内皮細胞の牽引力計測
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0038]ガラスインプリント用のナノ周期構造金型の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0039]カルコゲナイドガラスへのインプリント加工による赤外デバイスの作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0040]金ナノロッド／酸化チタン電極を用いた光電変換システム
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0041]四角形開口周期構造における光透過率の振動
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0042]半導体量子ドットと金属からなる複合ナノ構造の作製と光学特性
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0043]固体高分子形燃料電池性能に及ぼす触媒層構造影響に関する研究
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0044]半導体量子ドットを用いた単一光子源の開発
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0045]超薄膜絶縁体を介したスピン注入
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0046]電子スピン注入による動的核スピン偏極の電気的検出
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0047]CoFe/MgO/SC (SC=Si or Ge)ヘテロ接合におけるスピン輸送特性
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0048]新規高効率光機能デバイスの創成
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0049]細胞機能を制御する三次元培養基材の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0050]金属膜を持つ表面微細構造を用いたラジエータの研究
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0051]シリコン太陽電池パッシベーション用アルミナ膜の検討
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0052]InAlAs量子ドット発光層をもつナノサイズ窓付ショットキーバリアダイオードの作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0053]異方性エッチングによる非対称搬送路の製作
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0054]擬似植物細胞モデルにおける微小管の力学応答特性
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0056]ナノインプリント法による金ナノ構造体の作製と酸化チタン光触媒作用への効果
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0057]スパッタ法による樹脂上への金属薄膜形成
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0058]生体適合性を持つ光学デバイス用チタン窒化物薄膜作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0059]ナノ構造体形成のための高耐圧ガラスマイクロ流路作製の検討
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0060]DNAナノ構造体固定化金基板の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0061]回折格子型プラズモンセンサーデバイスの作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0062]X線回折顕微法用微細サンプルの作製とその評価
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0063]表面増強ラマン散乱を誘起する金ナノ構造による生薬分析
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0064]局在プラズモン増強放射圧のポテンシャル解析
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0065]マイクロピラーアレイによる水輸送基板の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0066]局在プラズモンに及ぼす電場効果についての検討
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0067]熱ナノインプリントによる微細構造制御のための高分子フィルム開発
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0068]生細胞用電極チャンバーの開発
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0069]ハイドロゲルの機能化のためのAu微細構造パターンの転写
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0071]AFM評価用タンパク質吸着基板の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0073]生体計測用微小電極の作製
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(登録なし)
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北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0074]SPRセンサー部への試料導入デバイスの作製
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0002]プラズマクリーナーによるレジスト除去
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F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0003]基板上への微細Al電極作成と基板の評価
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0004]新カット水晶Lamb波レゾネータの開発
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F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0005]ヘテロ接合半導体ダイオードの製作と評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-133 JEOL FE-SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0006]シリコン導波路型光フォトニックバイオセンサの研究
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0007]ウェット酸化による熱酸化膜
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0008]エンドトキシン測定用くし型電極の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0009]触覚デバイスの開発と材料技術の検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-128 XRD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0010]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0011]多段回折光学素子の試作開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0012]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0013]マイクロポンプの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0014]微細構造の試作検討
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0015]MEMSデバイスの加工
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0017]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0018]セラミックス空気1-3コンポジット超音波探触子の開発
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0019]感染症ウイルス検査用マイクロ流路チップの作製
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F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0021]メタマテリアル製作のための微細加工技術
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0022]圧電MEMSデバイスの研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0023]高真空ウェハレベルパッケージング真空度計測リゾネータ
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0024]熱輻射制御用微細構造の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0025]中性子回折格子作製を目的としたGd基金属ガラス微細加工への挑戦
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0026]光ナノインプリント技術による微細構造形成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0027]MEMS/NEMS fabrication
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0028]固体微細構造デバイスの作製
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F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0029]PZT単結晶薄膜を用いた高性能超音波デバイスの研究
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F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-128 XRD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0031]レーザ描画を用いたDOEの製作
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0032]Si表面荒らし加工
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-104 FE-SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0033]シリコン光カプラの開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0034]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0035]太陽電池セル作製プロセスの開発
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F-TU-068 LPCVD
F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0036]超長時間アニールを用いた宇宙用X線全反射鏡の平滑化の研究
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F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0037]表面増強ラマン散乱を利用した超高感度バイオケミカルセンサーチップの開発
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F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0038]微細構造体の作製技術開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0039]いわて半導体アカデミー社会人向けプロセス実習
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0040]ミリ秒X線トモグラフィのための光学素子の作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0041]半導体ナノゲート構造の作成
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0042]炭化珪素基板の新規生産技術開発、デバイス試作とその特性評価
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0043]高真空ウェハレベルパッケージングを適用したMEMSセンサーの研究開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-108 赤外線顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0044]半導体ナノ構造の作成
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0045]感光性接着材料の接合評価
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0046]MEMSガスセルの開発
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0047]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0048]情報環境（インフォスフィア）調和型 自己組織化ヘテロ集積システムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0050]Silicon wafers making
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0051]ナノポーラス構造の作製と評価
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0053]薄膜の元素分析
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0055]マイクロレンズアレイ加工
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0056]超高周波SAWデバイスの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0057]カーボンナノチューブ１本レベルの熱動態計測のためのMEMSヒータ作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0058]高精細発光素子のパターニング技術開発
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0060]MEMSデバイスの作製
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F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-097 EVG ウェハ接合用アライナ
F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0061]サブマイクロ構造光学素子の試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0062]i線ステッパによるAl配線パタン形成
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0065]圧電MEMSデバイスの応用研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-048 膜厚計
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0066]MEMS device technology development
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0067]IoT for Safety and Security
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F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0068]水質モニタリング用センサーに関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0069]Siメタ表面の作製とKerker効果
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0070]光無線給電用の近赤外感度を有する超薄型透明太陽電池の研究開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0071]Pt-ALD成膜
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0072]対称性を制御した光メタマテリアルの作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0073]MEMSデバイス開発試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0074]3次元構造シリコンデバイス・プロセスに関する研究
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0075]FAIS人材育成事業に活用するMEMS フォースセンサ作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0076]3D-IC用高アスペクト比ビアへの絶縁層形成に関する研究
|
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0077]MEMSフィジカルセンサ構造の作製プロセスの構築
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0078]ファンデルワールス材料物理
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0079]低直流電圧で駆動するMEMSアクチュエータに関する研究
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F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0080]LIDAR用MEMSマイクロミラーに関する研究
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F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0082]W-Cu接合界面の健全性評価
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F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0084]ヘテロ整合界面を有するSiCエピタキシャル成長技術開発とそれを用いたインテリジェントパワーICの実証
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0085]イオン照射によるナノ・マイクロ構造創成
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0086]プリンタブルエレクトロニクス技術を活用した放射線センサの開発
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0087]コンクリート3Dプリンタの層間補強に関する研究
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0088]磁歪Fe-Co粒子分散ソフトポリマー複合材料の粒子分散状態の確認
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0089]回折光学素子の作製
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F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-130 コータデベロッパ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0090]酸化ニオブ薄膜におけるO/Nb増加のための研究
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F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0091]加工基板作成
|
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0092]トポロジカル物質微細素子の作製
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F-TU-132 ECRロングスロースパッタ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0093]MEMSプロセスプラットフォーム開発
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0094]ALDを用いた酸化チタンナノチューブ薄膜への貴金属成膜
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0095]低損失微小共振器の作製
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F-TU-129 i線ステッパ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0096]いわて半導体アカデミー大学生向けプロセス実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0097]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0098]重水酸化膜の特性評価
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F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0099]電鋳用グレイスケール露光実験
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0100]Siの垂直深掘り加工（ダメージ抑制）
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-048 膜厚計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0101]フローセンサの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0103]プラズモニックナノ構造を用いた赤外線センサに関する研究
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0104]シリコン基板上での表面プラズモンの制御とその応用に関する研究
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F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
F-TU-133 JEOL FE-SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0105]薄板型熱発電機の作製
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0106]ウェットエッチング用ウェハコーティング剤の開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-106 卓上型エリプソ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0107]メタレンズの作製
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0109]MEMS microphone
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0111]レーザー直接描画を用いたグレイスケールリソグラフィにおける厚膜レジストの塗布方法の確立
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0112]固体酸化物形電解セル（SOEC）を用いた共電解における燃料極
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0113]DLC膜の微細エッチング加工
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F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0114]シリコンエミッタへのイオン注入
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0115]人工細胞による細胞ー細胞間力学環境の探求
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F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0117]MEMSフォースセンサ応用IoTモジュール試作実習
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F-TU-060 シンター炉
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0118]熱リン酸処理
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F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0119]有機電気化学トランジスタ用電極基板の作製
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0001]基板上への微細Al電極作成と基板の評価
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0002]TMAHによるSi貫通エッチ
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0003]エンドトキシン測定用くし型電極の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0004]微細構造への薄膜形成②
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-068 LPCVD
F-TU-069 熱CVD
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0006]MEMS技術の応用による反射防止構造の加工
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-098 UVインプリント装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0007]メタルグリッドの製作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0008]医療用マイクロデバイスの開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0009]対称性を制御した光メタマテリアルの作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0011]微細加工によるトポロジカルジョセフソン接合の作製
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0012]誘電体ナノ構造体を駆使した鏡像体選択的カイラリティ勾配力によるキラル結晶化制御
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0013]ミリ秒X線トモグラフィのための光学素子の作製
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0014]量子ビーム格子の開発と作製
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0016]MEMSデバイスの加工
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0017]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0018]マイクロナノ構造加工技術
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0019]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0020]微細構造の試作検討
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0021]半導体プロセス基礎実験
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0022]マイクロポンプの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0023]微細構造体の作製技術開発
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0024]曲面デバイスの内部観察
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0025]マイクロレンズアレイ加工
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0028]材料開発評価とデバイス評価
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0029]圧電駆動型MEMSデバイスの耐久性の向上および長期安定性の向上
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0030]HDD新高集積化方法による環境負荷低減技術確立
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F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0031]強靭で高性能なPZT単結晶薄膜の研究
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F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-128 XRD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0032]MEMS/NEMSの作製
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0033]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0035]情報環境（インフォスフィア）調和型 自己組織化ヘテロ集積システムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0036]ポジ型化学増幅レジスト･FEP-171のサブミクロンサイズパターンへの応用
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0038]安全とセキュリティのためのIoT
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0039]マイクロウェルの試作
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F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0040]触覚デバイスの開発と材料技術の検討
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-128 XRD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0041]Sapphireウェハ加工
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0042]多段回折光学素子の試作開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0043]シリコン光結合デバイスの開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0044]シリコン光カプラの開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-073 W-CVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0045]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細構造形成
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0046]ファンデルワールス材料物理
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0047]アルカリイオンエレクトレットを用いた振動発電素子の開発
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0048]薄膜の元素分析
|
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0049]薄板型熱発電機の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0050]薄型バイパスダイオード内蔵太陽光発電モジュールに関する研究
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F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0051]MEMSデバイス加工
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0052]太陽電池セル作製プロセスの開発
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F-TU-069 熱CVD
F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0053]MEMSフォースセンサとIoTモジュールの試作実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0054]始原隕石の実験的有機物除去
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F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0055]MEMSフォースセンサとIoTモジュールの試作実習
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F-TU-060 シンター炉
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0056]金属と酸素イオン伝導体(OIC)の固相接合可能な表面粗度の検証
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0057]サブマイクロ構造光学素子の試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0058]高真空ウェハレベルパッケージング
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F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0059]衛星搭載を目指す宇宙用X線望遠鏡の Si 高温アニールと化学機械研磨を複合した新プロセスの確立
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F-TU-066 ランプアニール装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0060]Vapor HF エッチング装置による超伝導量子回路でのSiO2エッチング
|
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0061]パーティクル測定
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F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0062]CGH製作
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0063]微細流路を持つマクロデバイス作成のためのモールド作り
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F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0064]Si基板上GaN系デバイスのプロセス開発
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0065]ナノインプリントに資するマイクロ－ナノ構造体の造形
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0066]PZT単結晶薄膜およびバッファ層のエピタキシャル成長の研究
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F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0067]圧電MEMSデバイスの研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-048 膜厚計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0068]MEMS device technology development
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F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0069]めっき技術を用いた基板上の厚膜金属パターン形成に関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0070]唾液内ストレスマーカーを検出するシリコン導波路型バイオセンサ
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0071]Siの垂直貫通加工
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0072]W-Cu接合界面の健全性評価
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F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0073]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0074]サセプターの洗浄
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F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0076]いわて半導体アカデミー大学生1年次、及び社会人向けプロセス実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0077]3DCP積層体の層間への金属繊維の挿入に起因する空隙の定量的解析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0078]光波センシングのためのフォトニック・ナノ構造の創製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0079]高真空ウェハレベルパッケージングを適用したMEMSセンサーの研究開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0080]三次元微細構造をインプリント加工した金属ガラスのリチウム二次電池集電体への応用
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-058 ダイサ
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0081]マイクロ流体デバイスをベースにした水質モニタリング用センサの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0082]原子力電池用表面電極蒸着用メタルマスクの作製
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F-TU-124 ウォーターレーザ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0083]バクテリア集団の揺らぎと応答の測定
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F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0084]セラミックス空気1-3コンポジット超音波探触子の開発
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0085]2次元シートデバイス開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0086]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0087]MEMSデバイス開発試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0089]カーボンナノチューブ１本レベルの熱動態計測のためのMEMSヒータ作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0091]レーザ描画を用いたDOEの製作
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0093]高信頼性MTJデバイスの開発
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F-TU-073 W-CVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0094]エレクトレットMEMS振動・トライボ発電
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0095]センサ素子の試作
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0096]MEMSデバイスの開発
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F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0097]微細構造を用いた熱輻射のスペクトル制御
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0098]ALDを用いた酸化チタンナノチューブ薄膜への貴金属成膜
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0099]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用
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F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0100]セラミックスのプラズマ耐性評価
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F-TU-049 Tenchor 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0101]メタマテリアルのための金属ナノパターン形成
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0102]感染症ウイルス検査用マイクロ流路チップの作製
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F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0103]微小サイズ薄膜蒸着に向けたCrマスクの作製
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F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0104]ナノ粒子/ポリマーコンポジット薄膜の空間構造制御
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0105]電気化学セル部品の微細加工
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0106]半導体ナノ構造の作成
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0107]PZT 単結晶薄膜を用いた超音波デバイスの研究
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0108]MEMSアレイ触覚デバイス開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0109]新カット水晶Lamb波レゾネータの開発
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F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0110]表面増強ラマン散乱を利用した超高感度バイオケミカルセンサーチップの開発
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F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0111]超薄型光入出力部品の開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0115]固体微細構造デバイスの作製
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F-TU-127 マスクレスアライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0116]メタマテリアル製作のための微細加工技術
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0117]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0118]Deep RIEによるSiの加工評価
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0001]ワイヤボンディング強度不足要因の調査と対策
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F-TU-109 TOF-SIMS
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0002]基板上への微細Al電極作成と基板の評価
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F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0003]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0004]不斉プラズモン近接場デザインに立脚したキラル核形成制御と電磁場パリティの開拓
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0005]フォトニック結晶を用いたフィルタアレイの開発
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0006]紫外線領域オプトデバイスの研究開発
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0007]Deep RIE装置によるSi etch
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0008]医療用マイクロデバイス加工技術開発
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F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0009]対称性を制御した光メタマテリアルの作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0010]MEMSデバイスの加工
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F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0011]シリコン光結合デバイスの開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0012]Metamaterial for THz-wave photonic devices
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0013]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0014]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細構造形成
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0015]微細構造体の作製技術開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0016]マイクロポンプの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0017]Deep RIE加工時のレジストダメージ対策
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F-TU-082 DeepRIE装置#4
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0018]ミリ秒Ｘ線トモグラフィのための光学素子の作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0019]MEMSの試作
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-060 シンター炉
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0020]量子ビーム格子の開発と作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0021]大規模アレイテスト回路を用いた抵抗可変材料の統計的測定に関する研究
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0022]Sapphireウェハ加工
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0023]エピサセプターの酸洗浄
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F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0024]光波センシングのためのフォトニック・ナノ構造の創製
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0025]圧電MEMSデバイスの開発
|
(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0026]準粒子状態観測に向けた微細ジョセフソン接合の作製
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0029]ALDによって成膜したPt膜
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0030]MEMS/NEMS fabrication
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0031]微細構造の形成とその評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0032]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-105 マイクロX線CT
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0033]MEMSデバイス開発試作
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0034]圧電駆動型MEMSデバイスの耐久性の向上および長期安定性の向上
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0035]高真空ウェハレベルパッケージング
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0036]半導体プロセス基礎実験
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0037]多層グラフェン上へのW-CVD成膜評価
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F-TU-073 W-CVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0038]材料開発評価加工とデバイス評価
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0039]医療用MEMSデバイス プロセス開発
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F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0040]IoT for Safety and Security
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0041]Si格子構造の作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0042]次世代電子線レジスト開発のための描画条件（ビーム電流値）の影響調査
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0043] UVフォトディテクタ試作・評価
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-061 UVキュア装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0044]情報環境（インフォスフィア）調和型 自己組織化ヘテロ集積システムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0045]エピタキシャルポリPZTの成膜
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F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0047]MEMS集積加工による小型磁気センサの作製と特性評価
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0048]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0049]集積化MEMSセンサの開発
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F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0050]熱駆動MEMSアクチュエータの開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0051]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0052]水素アニールを用いたスルーシリコンビアのスキャロップ平滑化に関する研究
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0053]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0054]シリコン光カプラの開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0055]MEMSによる固体蓄電池の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0056]Si 基板への微細加工技術に関する基礎研究
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-111 大口径AFM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0057]狭線幅面発光レーザに向けた薄膜光フィルタの試作
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0058]単結晶ニオブ酸リチウム積層探触子の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0059]モータコイルの内部構造解析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0061]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-058 ダイサ
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0062]PZT気相1-3コンポジットの開発
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0063]Siの微細構造加工
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0064]キラル磁性体における量子輸送現象の研究
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0065]ビア穴底へのPE-CVD SiN成膜テスト結果
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0066]SiC基板の低温水素処理
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0067]光センサの構成部品であるIOC（Integrated optical circuit）の研究開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0068]リフトオフ法による金属配線形成
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0069]ワイヤレスMEMSの研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0070]Si 高温アニールと化学機械研磨を用いた宇宙用X線望遠鏡の鏡形状の平坦化の研究
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F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0071]2次元シートデバイス開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0072]CO2超臨界乾燥プロセスの検証
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0073]リソグラフィによる微細光学素子作製手法の開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0074]マイクロレンズアレイ加工
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0075]エレクトレットMEMS振動・トライボ発電
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F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0076]ポリカーボネート基材上への透明導電膜の成膜とパターニング加工条件について
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0077]ワイヤーボンディング
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F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0078]システム機器診断のための超小型ハーネスフリーセンサシステム実現の基盤研究（JAXAイノベーションハブ研究）
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-069 熱CVD
F-TU-077 めっき装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0079]櫛歯アクチュエータの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0081]医療画像診断装置用の放射線検出器の開発
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F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0082]Siウェーハの欠陥解析
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0083]サブマイクロ構造光学素子の試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0084]ウォーターレーザーによるシリコンウェハのくり抜き加工
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F-TU-124 ウォーターレーザ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0085]バクテリア集団の揺らぎと応答の測定
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0086]ファンデルワールス材料物理
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0087]MEMSアレイデバイス開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0088]SiO2ウェハ上の薬品処理残渣パーティクル測定
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F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0090]アルカリイオンエレクトレットを用いた振動発電素子の開発
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0091]摩擦撹拌接合部の健全性評価
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F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0093]SiCパワーデバイスのWプラグ形成
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F-TU-073 W-CVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0095]いわて半導体アカデミー大学生2年次向けMEMS製作実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0096]いわて半導体アカデミー大学生1年次、及び社会人向けプロセス実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0097]金属と酸素イオン伝導体(OIC)の陽極接合を応用した接合開発
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0098]Si基板へのテーパーエッチング
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0099]MEMSグレーティングの試作
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0100]低損失Si導波路の作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0101]フェムト秒レーザ微粒子集積固化法で作製した機能性配線の特性評価
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0102]光半導体用パッケージの開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0103]ナノビームW-RHEEDによるSi基板の表面構造解析
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0104]微細構造への薄膜形成
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F-TU-068 LPCVD
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0106]受動部品の研究開発
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F-TU-067 メタル拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0107]薄膜材料の機械的特性評価技術の開発
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0108]低直流電圧で駆動するMEMSアクチュエータに関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-093 ワイヤボンダ
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0109]Siフォトニック結晶の可視光制御
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0110]Ga2O3薄膜のパターニング
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F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0111]放射線検出器用シンチレータアレー作製技術の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0112]MEMS加速度センサの試作
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F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-060 シンター炉
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-086 アルバック アッシング装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-058 ダイサ
F-TU-093 ワイヤボンダ
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0113]プラズマガス種による耐プラズマ特性調査
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F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0114]透過型電子顕微鏡を用いた液中試料観察用カプセルの作製
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F-TU-068 LPCVD
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0115]Transport in topological magnetic insulator devices
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0116]振動発電素子の耐湿性向上
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0117]MEMSセンサの試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0118]二層構造厚み滑り振動子の基板接合強度に関する研究
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0119]Siの垂直深掘り加工
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-049 Tenchor 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0120]センサ素子の試作
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0121]バイパス回路内蔵太陽光発電モジュールに関する研究
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F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0122]薄膜樹脂接合
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0123]Ir錯体薄膜の成膜法の検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0124]Si酸化による屈折率分布レンズの製作
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F-TU-067 メタル拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0125]PZT resonator
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F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0126]φ8inchウェハー上のレジストパターンの線幅測長
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0127]エンドトキシン測定用くし型電極の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-209 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0128]ナノ粒子/ポリマーコンポジット薄膜の作製
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0001]金属薄膜の高精度ドライエッチング検討
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0002]環境センサー用MEMS新工程開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0003]小型マイクロステージの開発
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0004]TMAHによるSi貫通エッチ
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0007]基板上への微細Al電極作成と基板の評価
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F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0008]MEMSの試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0009]対称性を制御した光メタマテリアルの作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0010]金薄膜の形成
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0011]超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成のためのシリコンデバイスの作製
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0012]量子ビーム格子の開発と作製
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0013]MEMSデバイス加工
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0014]微細構造体の作製技術開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0015]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0016]MEMSデバイスの加工
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0017]微細構造の形成とその評価
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0018]PZT用エピタキシャルバッファ層の成膜法の研究
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F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0019]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0020]医療用マイクロデバイス加工技術開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0021]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0022]触覚デバイスの開発と材料技術の検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0023]圧縮成形に及ぼす充填構造の影響の解析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0024]ファンデルワールス材料物理
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0025]シリコン光結合デバイスの開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0026]Siウェーハの欠陥解析
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0027]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0028]MEMS/NEMS fabrication
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F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0029]差圧センサデバイス構造解析
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0030]繰り抜き加工ウェハ上へのｉ線ステッパによる重ね合わせ露光精度実現
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0031]半導体プロセス基礎実験
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0032]熱電変換素子評価用基板の作製
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0033]スピネル接合基板のSAWデバイス特性評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0034]集積化MEMSセンサの開発
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0035]Micron pattern devices for THz image system
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0036]充填層反応器内の空隙観察
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0038]Fe 基金属ガラスのナノインプリンティングによる磁性制御
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0039]グラフェンナノリボン応用ひずみ計測技術の開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0040]ダイボンディング部の非破壊観察
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F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0041]アルカリイオンエレクトレットを用いた振動発電素子の開発
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0042]三次元LSIの試作研究開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0043]シリコンフォトニクス用スポットサイズコンバータの試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0044]IoT for Safety and Security
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0045]ワイヤレスMEMS の研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0046]X線回折格子干渉計用超高アスペクト比鋳型の開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0047]異方性ウェットエッチング法によるマイクロチャネルアレイチップの高精度・低コスト加工
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-089 Si結晶異方性エッチング装置(KOH)
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0049]磁気-誘電ナノ複相膜による高周波複機能性に関する研究
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0050]紫外線領域オプトデバイスの研究開発
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F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0051]Fabrication technology development
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0052]UVフォトディテクタ試作・評価
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-061 UVキュア装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0053]次世代電子線レジスト開発のためのELS-G125描画条件の影響調査
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0054]LSI中TSVを用いた集積化MEMSの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0055]HALSAWデバイスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0056]ALDによって成膜したPt膜
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0057]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細構造形成
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0058]発光素子用薄膜形成
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0059]窒化物半導体のドライエッチング
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F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0060]電磁環境改善技術の研究開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0061]電磁走査による前方視超音波内視鏡
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0062]超長時間アニールを用いた宇宙用X線全反射鏡の平滑化の研究
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F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0064]ウエハ上へのAlマーク生成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0065]マルチビームレーザー干渉リソグラフィに基づく大面積2軸微細格子製作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0066]ナノ粒子/ポリマーコンポジット薄膜の作製
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0068]微細周期構造Siモールドの試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0069]グラフェン・テラヘルツデバイスの研究開発
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0070]2次元層状酸化物のデバイス化
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F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0071]MEMS薄膜アクチュエータデバイスの形成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0072]薄膜成膜と特性評価
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0073]低直流電圧で駆動するMEMSアクチュエータに関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0074]コンデンサマイクロホンの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0075]圧電駆動型MEMSデバイスの耐久性の向上および長期安定性の向上
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0076]ナノスケール表面平坦化のためのドライ研磨プロセスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0077]透過型電子顕微鏡を用いた液中試料観察用カプセルの作製
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F-TU-068 LPCVD
F-TU-058 ダイサ
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0078]マイクロポンプの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0079]光波センシングのためのフォトニック・ナノ構造の創製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0080]細胞培養用高分子薄膜製造のためのモールド作製
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0081]テラヘルツ量子カスケードレーザー(THz-QCL)の研究
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F-TU-104 FE-SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0084]低温酸化膜成膜
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0085]超低電圧小型拡散センサの開発
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0086]微細周期構造の作成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0087]磁気抵抗素子の配線
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F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0088]シリコンセンサの開発
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F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0089]学生のMEMS試作実習
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0090]PECVD、LPCVDによるSiN、SiO2成膜と評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-106 卓上型エリプソ
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0091]EB描画ならびにレーザー直描装置を用いた微細パターンの作製
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0092]エピサセプターの酸洗浄
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0093]摩擦攪拌接合部の健全性評価
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F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0094]シリコンへのリンの拡散
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F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0095]薄膜材料の機械的特性評価技術の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0096]Fabrication of gold nanorods and ZnO thin film photodetector
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0097]Sapphireウェハ加工
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0098]キラル磁性体における量子輸送現象の研究
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0099]薄板型熱発電機の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0100]ナノインプリント薄膜光フィルタ作製に向けた微細構造形成
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0101]フォトニック結晶を用いたフィルタアレイの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0102]遷移金属ダイカルコゲナイド層状物質を用いた高感度分子センサの研究開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0103]バクテリア集団の揺らぎと応答の測定
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0104]圧電MEMSアクチュエータ
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F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0105]Siの微細構造加工
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-089 Si結晶異方性エッチング装置(KOH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0106]熱駆動MEMSアクチュエータの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0107]エレクトレットMEMS振動・トライボ発電
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0108]グレイスケールリソグラフィ
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0109]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0110]宇宙素粒子実験のための超伝導素子開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0111]MEMS加工品のデモ機作成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-058 ダイサ
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-124 ウォーターレーザ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0112]高真空ウェハレベルパッケージング
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0113]メタマテリアルのパターン形成
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0114]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0115]MEMSデバイス開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0116]櫛歯アクチュエータの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0117]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0118]MEMS音叉の試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0119]三次元レジスト形成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0121]大規模アレイテスト回路を用いた抵抗変化材料の統計的測定に関する研究
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0122]革新的エレクトレット材料の創成
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0123]水素アニールを用いたスルーシリコンビアのスキャロップ平滑化に関する研究
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F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0124]Siナノピラーを用いた熱電変換素子の作製
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0125]金属とセラミクスの陽極接合を応用した接合開発
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0126]MEMSデバイス開発試作
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0127]SiウェハへのEpi-Si成膜検討
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0128]Siモールドの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0129]いわて半導体アカデミー社会人コース実習
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0131]超伝導転移端センサーによるトリウム229アイソマーエネルギーの測定
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F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0132]BN膜を用いたRF-MEMSスイッチの作製
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F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0133]サブマイクロ構造光学素子の試作
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0001]基板上への微細Al電極作成と基板の評価
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0002]粒子充填構造と通気性の関係の解析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0003]量子ビーム格子の開発と作製
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0004]シリコン光結合デバイスの開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0005]MEMSグレーティングの試作
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0006]HALSAWデバイスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0007]微細構造体の作製技術開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0008]半導体プロセス基礎実験
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0009]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0010]SiN膜の成膜
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0011]ボッシュエッチによる貫通エッチ
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0012]音響光学素子フィルタの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-067 メタル拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0013]半導体ナノ構造の作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0014]金属薄膜の高精度ドライエッチング検討
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0015]Micron pattern devices for THz image system
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0016]ワイヤレスMEMSの研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0017]金属ガラスインプリンティングによる高アスペクト比二次元回折格子の作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0018]紫外領域オプトデバイスの研究開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0019]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0021]超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成のためのシリコンデバイスの作製
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0022]MEMSデバイスの加工
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0023]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細構造形成
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0024]Siウェーハの欠陥解析
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0025]MEMSデバイスの作製
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0026]充填層内の空隙の観察
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0027]触覚デバイスの開発と材料技術の検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0028]コンデンサマイクロホンの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0029]MEMSの試作形成
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0030]Siの微細構造加工
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0031]溶着ナイロンフィルムの形状測定
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0032]UVフォトディテクタの試作・評価
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-061 UVキュア装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0033]次世代センサの開発
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0034]IoT for Safety and Security
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0035]MEMS デバイス加工
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0036]長時間アニールを用いた衛星搭載用X 線望遠鏡の平滑化
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0037]グラフェンナノリボン応用ひずみ計測技術の開発
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0038]グリッド状構造体の形成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0039]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0040]繰り抜き加工ウェハ上のパターンにステッパで重ね合わせしたパターンを作製する
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0041]樹脂基板上でのメンブレン作製技術開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0042]微細周期構造の作成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0043]多層膜貫通穴加工方法の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0044]グラフェンを用いた光電子デバイスの開発
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F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0045]シリコン基板上への高性能圧電トランスデューサ薄膜の開発
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F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0046]Fe基金属ガラスのナノインプリンティングによる磁性制御
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0047]磁歪センサ用カンチレバー構造の試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0048]ステンシルマスクの試作など
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0049]MEMS/NEMS fabrication
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-067 メタル拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0050]三次元LSIの試作研究開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0051]20 nmパターン解像と感度150 μC/cm2 （@50kV）を両立するレジストシステムの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0052]微細構造の形成とその評価
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0053]表面修飾ナノ粒子/ポリマーコンポジット薄膜の作製
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F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0054]面発光レーザ特性の特性ばらつき改善に向けたプロセスの確立
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0055]高温超伝導線材の界面抵抗測定
|
F-TU-093 ワイヤボンダ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0056]溝側壁への成膜
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F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0057]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0058]赤外熱輻射制御材料の開発と高効率冷却技術への応用
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0059]金属膜の多層構造形成
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0060]シリコン細線導波路光スイッチの製作
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0061]磁気駆動3Dマイクロアクチュエータ形成
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F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0063]MEMS多機能カンチレバーデバイスの形成
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F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0064]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0066]サブ波長構造マルチスペクトフィターの開発 サブ波長構造マルチスペクトフィターの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0067]パワーデバイスプロセス評価
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0068]対称性を制御した光メタマテリアルの作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0069]Auバンプ切削平坦化を用いた触覚センサの開発
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F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0070]光センサの構成部品であるIOC（Integrated optical circuit）の研究開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0071]ジャイロスコープ用高対称振動子の作製
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0072]ミニマルウエハを用いたサブミクロンCMOS回路の作製
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0073]マルチビームレーザー干渉リソグラフィに基づく大面積2軸微細格子製作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0074]コークスの内部構造が強度に及ぼす影響
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0075]ウェハレベルパッケージング
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F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0076]医療用マイクロデバイス加工技術開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0077]シリコン基板上への薄膜および微細パターン形成
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0078]学生のMEMS試作実習
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0079]SiC溶液成長時の溶媒インクルージョン発生挙動の調査
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0080]フォトニック結晶を用いたフィルタアレイの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0081]シリコンステンシルマスク作製
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F-TU-124 ウォーターレーザ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0082]貫通電極構造太陽電池における不純物ドープと窒化膜形成
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0083]ウォーターレーザを用いた塗装ノズル加工
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F-TU-124 ウォーターレーザ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0084]微細構造の機能研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0085]胃液保持MEMS電池の高性能化
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0086]MEMSデバイスの開発
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0087]ナノスケール表面平坦化のためのドライ研磨プロセスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0088]宇宙素粒子実験のための超伝導素子開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0089]窒化物半導体のドライエッチング
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F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0090]FPCへのICベアチップ実装における不良モードの解析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0091] MEMSデバイスの開発試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0092]単一エアロゾル解析のためのマイクロ光学素子
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0093]調光デバイスの研究開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0094]TEM用液体セル
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0095]2次元フォトニック結晶の可視光制御
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0096]マイクロヒータの試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0098]メタマテリアルの作製と評価
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F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0099]炭素材料へのホウ素クラスターの担持
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0100]MEMS圧力センサの製作
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0103]差圧センサデバイス構造解析
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0104]次世代通信5G用SAWフィルタに向けた圧電単結晶接合基板の作製
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0105]圧電MEMS型超音波トランスデューサの研究開発
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F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0106]アルカリイオンエレクトレットを用いた振動発電素子の開発
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F-TU-068 LPCVD
F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0107]金属同士の直接接合
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F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0108]プラズマ用インジケータの開発
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F-TU-073 W-CVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0110]BN膜のRFMEMSデバイスへの応用
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0111]DLCを用いた電子透過膜の作製
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0112]異方性ウェットエッチング法によるマイクロチャネルアレイチップの高精度・低コスト加工
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F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-089 Si結晶異方性エッチング装置(KOH)
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-17-TU-0113]2次元シートデバイス開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0001]応力センサの特性評価に関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-060 シンター炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0002]紫外領域オプトデバイスの研究開発
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F-TU-111 大口径AFM
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0003]金属薄膜の高精度ドライエッチング検討
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0004]MEMSグレーティングの試作
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0005]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0006]ICP processing
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0007]基板上への微細Al電極作成と基板の評価
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-086 アルバック アッシング装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0008]ITO塗布膜のエッチングおよびパターンニング形成技術の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0009]HAL弾性波デバイスの開発
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0010]Micron pattern devices for THz image system
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0011]Si ウェーハの欠陥解析
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0012]低温動作のための容量型変位センサを集積化した静電駆動XYZマイクロステージ
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0013]Auバンプ切削平坦化を用いた触覚センサの開発
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F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0014]触覚デバイスの開発と材料技術の検討
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0015]次世代のエレクトロニクスデバイスの試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0016]プラズモニックカラーフィルタの製作
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F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-100 エキシマ洗浄装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0017]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0018]MEMSデバイスの開発
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0019]金属ガラスインプリンティングによる高アスペクト比Ｘ線回折格子の開発
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0020]シリコン異方性ウエットエッチングのグリーンプロセス研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0021]半導体プロセス基礎実験
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0022]シリコン基板上への高性能圧電トランスデューサ薄膜の開発
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0023]次世代センサの開発
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0024]先端融合領域イノベーション創出拠点形成プログラム「マイクロシステム融合研究 開発「光マイクロシステムの研究」
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0025]Cr2O3薄膜の微細加工
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F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0026]三次元LSIの試作研究開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0027]Arスパッタリングを用いた有機物(粘着剤やその他高分子材料)の測定
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F-TU-109 TOF-SIMS
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0028]極微細パターン形成のためのEB描画条件（bss値）の最適化
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0029]貫通穴形状を持ったＭＥＭＳ構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0030]電子デバイスの微細加工
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
F-TU-100 エキシマ洗浄装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-109 TOF-SIMS
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0031]コンデンサマイクロホンの作製
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0032]音響光学素子フィルタの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-095 4インチウェハ研磨装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0033]MEME/NEMSによる高感度物理量センシング
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-058 ダイサ
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0034]超並列電子線直接描画 (MPEBDW)
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0035]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0036]ダイアフラム構造の作成
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0037]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0040]ワイヤーアレイ構造のシリコン太陽電池に関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0041]円筒状センサのDRIE形状の確認
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0044]磁歪センサ用カンチレバー構造の試作
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0046]微細周期構造の作成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0047]量子ビーム格子の開発と作製
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0049]遷移金属の新しいエッチング方法の検討
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0050]プラズマCVDを用いた絶縁膜形成
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0051]ウェハレベル真空パッケージに関する研究
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0052]貫通電極構造太陽電池における不純物ドープと窒化膜形成
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0053]マイクロ流路構造の作製検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0054]シリコン細線導波路の開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0055]多層膜貫通穴加工方法の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0056]3-D IC作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0057]微細構造体の作製技術開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0058]非珪素系次世代MEMSプラットフォームの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0060]グラフェンナノリボン応用ひずみ計測技術の開発
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0061]フォトダイオードアレイとプラズモニックナノ周期構造の一体化
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0062]全方位スキャナ
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0063]高塗着効率塗装を実現する超臨界液滴吐出ヘッドの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0064]小型電子部品の電極の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0065]多孔質体を用いたガスセンサの開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0066]MEMS構造体の試作・検討
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0067]ウェハレベルパッケージング
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F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0068]低電圧駆動RF-MEMSスイッチの研究開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-060 シンター炉
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0070]MEMS基礎技術の研究
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F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0071]シリコン細線導波路光スイッチの製作
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F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0072]抵抗値出力均一化を図る為の金属配線形成方法
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0073]MEMSデバイス加工
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0074]MEMS-LSI集積化技術
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-058 ダイサ
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0076]多層エピ成長による新CMOSプロセス
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0077]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0078]胃液保持MEMS電池の高性能化
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0079]永久レジストの剥離プロセスの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0080]Si Nano Wallの異方性エッチングによる形成
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0082]超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成のためのシリコンデバイスの作製
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0084]ワイヤレスMEMSの研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0085]カリウムイオンエレクトレット技術の開発
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0087]結晶異方性エッチングを用いた任意形状加工
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0090]学生のMEMS試作実習
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0091]2次元シートデバイス開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0092]MEMS胃酸電池
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0093]炭素材料へのホウ素クラスターの担持
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0094]耐熱接合技術の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-107 超音波顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0095]MEMSの試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0096]スピン流の検出と制御のためナノメカニカルデバイス
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F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0098]超常磁性自由層を有するトンネル磁気抵抗(TMR)センサの作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0099]IOC(Integrated optical circuit )の研究開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0100]レジスト材料の性能評価
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-082 DeepRIE装置#4
F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0101]調光デバイスの研究開発
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0102]導波モード共鳴格子の製作
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0103]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-106 卓上型エリプソ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0104]医療用マイクロデバイス加工技術開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0107]太陽電池用単結晶Si基板のAl電極Si界面の分析
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F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0108]CZTS系太陽電池材料の金属‐半導体接触の形成とその評価
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0109]New materials for MEMS application
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0110]Alが成膜されたSOIウエハに対するSiO2エッチング
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F-TU-108 赤外線顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0112]半導体ナノ構造の作製
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0113]石英基板の微細加工
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0114]冷凍Cycle用MEMS機能部品開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0116]プリント基板表面濡れ性の改質
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F-TU-042 ブランソン アッシング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0117]ストレスマイグレーションによる微細材料創製の制御
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0118]高耐圧静電誘導サイリスタ試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0119]MEMSデバイスの開発
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0122]微細構造の形成とその評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0123]MEMS多機能カンチレバーデバイスの形成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0125]圧力センサ試作実習
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-060 シンター炉
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0127]充填層内の空隙の観察
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0128]抵抗変化メモリ(ReRAM)用機能性酸化物とハードマスク材料のArミリングレート比のイオンビーム条件依存性
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0129]電極成膜
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F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0130]SiN成膜
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0132]ナノインプリント法を用いた櫛形電極の作製
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F-TU-098 UVインプリント装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0001]超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成のためのシリコンデバイスの作製
|
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0002]ITO塗布膜のエッチングおよびパターンニング形成技術の開発
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0003]ナノインプリントプロセスにおけるダスト管理
|
F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0004]貫通穴形状を持ったＭＥＭＳ構造物の製造方法と高段差ウエハのダイシング方法開発
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-108 赤外線顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0005]微細構造の機能研究
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0006]磁歪薄膜MEMSセンサ開発
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0007]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0008]基板上への0.6 µm L&SのAl電極作成と基板の評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0009]MEMSグレーティングの試作
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0010]微細構造の形成とその評価
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0011]触覚デバイスの開発と材料技術の検討
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F-TU-058 ダイサ
F-TU-067 メタル拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0012]ウェハレベルパッケージング
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0013]ワイヤレスMEMSデバイスの研究
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-086 アルバック アッシング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0014]接触力センサの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0015]窒化膜誘電体によるキャパシタ形成
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0016]粘着剤(ポリアクリル酸エステル)表面の成分分布状態の解析
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F-TU-109 TOF-SIMS
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0017]MEMSデバイスの開発
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0018]紫外オプトデバイス製造プロセスの研究開発
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-110 AFM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0021]コンデンサマイクロホンの作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0022]UVフォトディテクター試作・評価
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F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0024]フォトマスク開発 / 大型マスク製造のためのレーザー描画用レジストの選定
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0025]MEMS技術を利用した超高精度2次元穴アレイの開発
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0026]Ｘ線・中性子回折格子干渉計のためのSi回折格子モールドの作製
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0027]微小角入射小角Ｘ線散乱イメージング法の開発
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0028]MEMSデバイスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-082 DeepRIE装置#4
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0029]ワイヤーアレイ構造のシリコン太陽電池に関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0030]近赤外用ナノフォトニック・デバイスの研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0031]Siウェーハの欠陥解析
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F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-111 大口径AFM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0032]先端融合領域イノベーション創出拠点形成プログラム「マイクロシステム融合研究 開発「光マイクロシステムの研究」
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0033]音響多層膜構造広帯域共振子の開発
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0036]新規LIFTプロセスによるサブミクロン微細構造の形成
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0037]音響光学素子フィルタの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-095 4インチウェハ研磨装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0038]Auバンプ切削平坦化を用いた触覚センサの開発
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F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0039]薄膜の応力制御
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0040]ステンシルマスクの作成など
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0041]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0042]マイクロ流路構造の作製検討
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0043]次世代センサの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0044]磁気共鳴力顕微鏡の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-058 ダイサ
F-TU-059 CO2超臨界乾燥装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0046]中性粒子ビームを用いた微細加工
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0048]三次元LSIの試作研究開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0051]Bit patterned recording media
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0052]メタマテリアルの作製と評価
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0054]センサ試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0055]量子ホール系におけるエッジ状態間の相互作用の測定
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0056]MEMSデバイス加工
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0057]熱輻射スペクトル制御によるサーマルマネジメント技術に関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0058]電子デバイスの微細加工
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
F-TU-100 エキシマ洗浄装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0061]ダメージフリー薄膜を用いたナノデバイスに関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0062]エレクトレット素子の作成
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0063]多層膜貫通穴加工方法の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0064]ウェハレベル低温接合の評価
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F-TU-111 大口径AFM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0066]光通信波長帯に適した光導波路用の窒化シリコン薄膜形成
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-106 卓上型エリプソ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0067]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0068]2次元シートデバイス開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0069]金属薄膜の高精度ドライエッチング工法検討
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0070]ウェハレベル真空パッケージに関する研究
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0072]フォトダイオード上のカラーフィルタ製作
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0073]全方向スキャナ
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0074]Si Nano Wall の異方性エッチングによる形成
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F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0075]素粒子実験用素材の表面汚染の測定
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0077]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析
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F-TU-105 マイクロX線CT
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0079]MEMS デバイスの作製
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F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0081]圧電薄膜物性の材料依存性評価
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F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0082]微細周期構造の作成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0083]波長選択エミッタを用いた化学反応促進効果における反応機構解析
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0084]IOC(Integrated optical circuit )の研究開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0085]Si 深堀エッチ加工
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0086]銀ナノワイヤメッシュの溶断現象の解明
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0087]電気化学発光のスペクトル制御
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F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0088]高効率-裏面電極型結晶シリコン太陽電池作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0089]機能性材料の微細加工
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0090]差圧センサデバイス試作
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F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0091]MEMS-LSI集積化技術
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0092]貫通電極構造太陽電池における不純物ドープと窒化膜形成
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0093]TFT層間膜と各種メタル、無機膜との密着性評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0095]AFMによる生分解ポリマー構造解析
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F-TU-111 大口径AFM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0097]学生のMEMS試作実習
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F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0099]Micron pattern devices for THz image system
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0100]ナノスケール表面平坦化のためのドライ研磨プロセスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0103]量子ビーム格子の開発と作製
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0104]絶縁膜の形成
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0105]ウェットエッチングによるAFM用基板の作製
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0106]水素が及ぼすシリコンの機械特性への影響
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F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0108]MEMS構造体の試作
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0110]MEMSカンチレバーデバイスの形成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0111]胃液保持MEMS電池の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-058 ダイサ
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0112]THzメタマテリアルに関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0113]a-Siを用いた発電可能な構造色利用カラーフィルタ
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0114]マイクロ構造体の形成
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0116]高屈折材料を用いた熱放射促進技術の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0117]シングルナノを実現するナノインプリント用モールドの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0118]次世代のエレクトロニクスデバイスの試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0120]Agナノ粒子を用いたガラス基板の接着
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0121]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-106 卓上型エリプソ
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0122]RF-MEMSスイッチの作製及び評価
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F-TU-077 めっき装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0125]SON熱処理実験
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0126]ピエゾ抵抗デバイスのプロセス条件の検討
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0127]応力センサの特性評価に関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0129]MEMS構造体の試作
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0130]片持ちはりの深堀Siエッチング
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0135]太陽光発電セルの貫通穴加工技術に関する研究
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-082 DeepRIE装置#4
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0001]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0004]機能性薄膜を用いたセンサーおよびアクチュエーターの研究
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F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0005]シリコンウェハ上の微細流路作製
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0006]基板上への1 µm L&SのAl電極作成
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0007]磁歪薄膜MEMS センサー開発
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F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0009]中性粒子ビームを用いた微細加工
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0010]Vapor-HF エッチング技術を用いた3D 構造形成
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F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0011]金属薄膜の高精度ドライエッチング工法検討－２
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F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0012]コンデンサマイクロホンの作製
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0013]ステンシルマスク作成ほか
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0015]光電子制御プラズマを用いた超精密ドライ研磨プロセスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0016]ダイアフラム構造の作製
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0017]機能性材料の微細加工
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0019]MEMS デバイスの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-106 卓上型エリプソ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0020]皮膚添付型生体成分センサの開発
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0021]MEMS 素子の加工
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F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0022]コンデンサマイクロホンの作製
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0023]触覚デバイスと材料技術の検討
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0024]熱酸化膜成膜
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0025]波長選択エミッタを用いた化学反応促進効果における反応機構解析
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0026]2 次元シートデバイス開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0027]グラフェンテラヘルツレーザーの創出
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F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0028]グラフェントランジスタの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0029]MEMS 構造体における薄膜制御
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0030]MEMS とメタマテリアルの融合による動的発光制御の実現
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0031]マイクロシステム融合のための低温金属封止接合の研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0032]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0033]TFT 層間膜と各種メタル、無機膜との密着性評価
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0034]熱放射制御技術を用いた電子デバイス冷却に関する研究
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0035]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0038]シリコン基板上への高性能圧電トランスデューサ薄膜の開発
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0039]音響光学フィルタの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-067 メタル拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0040]チューナブルフィルタの開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0041]ウェハレベルパッケージング
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0042]MEMS を利用した超高精度2 次元穴アレイの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-097 EVG ウェハ接合用アライナ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0043]超並列電子線直接描画 (MPEBDW)
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0044]機能性材料を用いたMEMS/NEMS
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0045]三次元LSI の試作研究開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0046]Bit patterned recording media
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0047]電子デバイスの微細加工
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-069 熱CVD
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0048]樹脂モスアイパターンへの金属膜の成膜加工
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0049]接触力センサの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0050]高屈折率差光導波路の開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0051]MRFM 用Si ナノワイヤープロブ
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0052]ウェハレベル真空パッケージに関する研究
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-068 LPCVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0054]3-D IC 作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0055]高機能炭素材料を応用した医療介護用超高感度小型ひずみセンサの開発
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F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0056]MEMS センサ用配線検討
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0057]生体試料の高感度熱計測
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0059]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0060]メタマテリアルの作製と評価
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0061]貫通穴形状を持ったMEMS 構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0062]ナノインプリント用微細金型の開発
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F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0063]超小型光学式エンコーダ用複合光学素子の開発
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0064]共振振動を用いた焦点可変ミラー
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0066]ウェハへの狭ピッチ穴加工
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0068]MEMSを用いた光デバイス用アクチュエータの開発
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0069]Si ウェハへの窒化膜形成
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F-TU-068 LPCVD
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0070]撥水評価用Si モールドの試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0071]UV フォトディテクター試作・評価
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0072]RF-MEMS スイッチの作製及び評価
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0073]新規LIFT プロセスによるサブミクロン微細構造の形成
|
(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0074]グラフェンの微細パターニング
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F-TU-053 EB描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0075]紫外線発光素子の光取出し効率の改善
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0076]表面弾性波を用いたナノパーティクル形成の研究
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0077]赤外線－可視光変換デバイスの開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0078]環境振動発電の研究
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0079]低ダメージ成膜および微細加工プロセス技術に関する研究
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0080]MEMS 可変光メタマテリアルの製作
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0081]ナノインプリントプロセスにおけるダスト管理
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F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0082]光学デバイス製作の為のメンブレン構造試作
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0083]Ｘ線回折格子干渉計のためのSi 位相格子の作製
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0084]マイクロ流体デバイスに関する検討
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0086]極薄酸化膜の形成とその評価
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0087]微小金属錯体結晶の電気測定用電極の作製
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0088]極限量子ビーム微細加工プロセスの創成
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F-TU-073 W-CVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0089]シリコン基板へのEB リソグラフィー
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F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0090]光電気効果により発生する誘電泳動効果を用いた、ナノ流体デバイス内における微小粒
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F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0091]学生のMEMS 試作実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0092]n 型拡散層の不純物密度及び深さの測定
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F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0093]電極構造の異なるMOS キャパシタの信頼性評価
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F-TU-055 エッチングチャンバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0094]平面微小電極アレイチップの作製と構造解析
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0095]ワイヤーアレイ構造のシリコン太陽電池に関する研究
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0096]中性子回折格子干計のためのSi回折格子モールドの作成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0097]ウエハ平坦化用TEOS-CVD 開発
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0098]TSV 加工方法開発
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F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0099]走査型透過電子顕微鏡用位相板の高度化
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0100]サブ波長構造をもつカラーフィルタ製作
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F-TU-066 ランプアニール装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0101]Si ウェーハの欠陥解析
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0103]成膜条件がSn 薄膜構造に与える影響の解明
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F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0104]全方向スキャナの開発
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F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0105]金属薄膜サンプルパターン作成
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F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0106]電気化学発光のスペクトル制御
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F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0107]MEMS カンチレバーデバイスの形成
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F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0108]熱音響効果の研究
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F-TU-078 MOCVD装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0109]イオン液体を用いてゲートされたNdNiO3 薄膜のその場顕微ラマン観察
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F-TU-093 ワイヤボンダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0110]次世代センサの開発
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F-TU-068 LPCVD
F-TU-069 熱CVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0111]多層膜貫通穴加工方法の開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0112]MEMS 構造体の試作
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0113]粘着剤(ポリアクリル酸エステル)表面の成分分布状態の解析
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F-TU-109 TOF-SIMS
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0114]MEMS グレーティングの試作
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F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0115]MEMS デバイス開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0116]容量検出型 MEMSフォースセンサの作成実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0119]薄型太陽光セルに関する加工技術の検討
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F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0001]Deep-RIE によるSi 基板のホールパターン加工
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F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0002]SiNパッシベーション膜の評価
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F-TU-035 PECVD群
F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0004]三次元集積システム用Si貫通配線(TSV)のためのエッチング技術に関する研究
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F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0005]3-D IC作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究
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F-TU-035 PECVD群
F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0006]生体試料の高感度熱計測
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F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-051 ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0007]LEDとフォトダイオードを集積したマイクロ蛍光分析デバイスの製作
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F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0008]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0010]高出力紫外発光デバイスの開発
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0011]触覚デバイスと材料技術の検討
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0012]レーザ剥離転写プロセス
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-051 ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0013]先端融合領域イノベーション創出拠点の形成
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-051 ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0014]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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F-TU-041 RIE装置群
F-TU-054 LPCVD群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0015]近赤外ベクトルビーム生成用光導波路の形成技術の開発
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F-TU-035 PECVD群
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-041 RIE装置群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0016]超高Δガラス膜の成膜および微細加工
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0017]コンデンサマイクロホンの作製
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F-TU-054 LPCVD群
F-TU-051 ウェハ接合装置
F-TU-056 Si結晶異方性（アルカリ）エッチング装置群一式（KOH、TMAH）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0018]波長選択性熱ふく射の狭帯域化に関する研究
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0019]表面周期微細構造を用いた波長選択性熱放射によるメタン改質反応の促進
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0021]ラッチ機構を備えたシリコン細線導波路光スイッチの製作
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F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0022]Si上GaNLED基板を用いたモノリシック集積型マイクロ光エンコーダ
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F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0023]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0024]ヘテロ集積化初期試作
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-051 ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0025]ワイヤレスMEMSデバイスの研究
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0026]銅結晶塑性に起因するCu/SiN 界面じん性値の異方性
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F-TU-035 PECVD群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0028]MEMSピアース型面電子源アレイの開発
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F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0029]MEMSデバイス加工
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F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0030]陽極接合技術を用いたマイクロSOFC用パッケージの性能向上
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F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-051 ウェハ接合装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0031]MEMS可変光メタマテリアルの製作
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0033]皮膚添付型生体成分センサの開発
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0034]磁気共鳴力顕微鏡の開発
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F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0035]ナノインプリント用微細金型の開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0036]光電子制御プラズマを用いた超精密ドライ研磨プロセスの開発
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0037]微細構造加工方法の検討
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F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0040]ステンシルマスク作成など
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F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0041]超低損傷成膜および微細加工プロセス技術に関する研究
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F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0042]接触力センサの開発
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0043]樹脂モスアイパターンへの金属膜の成膜加工
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0046]感温塗料を用いた低コスト赤外線イメージャーの開発
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-041 RIE装置群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0047]半導体素子特性変動を軽減させる金属配線構成の調査
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F-TU-041 RIE装置群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0049]マイクロ化フーリエ変換赤外分光計の開発
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F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-043 サンドブラスト
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0051]高性能・低電力三次元集積回路の開発
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0052]薄膜赤外線ｾﾝｻの開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0055]微細構造電極・誘電体薄膜の作製法
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0056]基板上への1µm L&SのAl電極作成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-042 アッシング装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0057]MEMSデバイス開発
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F-TU-035 PECVD群
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-056 Si結晶異方性（アルカリ）エッチング装置群一式（KOH、TMAH）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0059]プラズマCVD成長グラフェンの精密キャリア輸送特性評価
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0060]グラフェントランジスタの開発
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0061]熱ふく射の波動性制御による電子デバイスの冷却効果の数値化
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0062]単層カーボンナノチューブ太陽電池の開発
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0067]高屈折率差光導波路の開発
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0068]特殊マスクの作製
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F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0069]微細周期構造の作成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0071]微細構造による高効率光取出しの検討
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F-TU-035 PECVD群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0073]フォトリソグラフィ法による金厚膜回路形成
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0074]光学デバイス製作の為のメンブレン構造試作
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0075]MEMSセンサ用配線検討
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F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0076]精密研磨加工の評価技術開発
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0078]エミッター開発
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F-TU-047 電子顕微鏡群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-BA-092 スパッタリング装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0079]シリコン異方性ウエットエッチング加工の低コスト，高精度化
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0080]原子内包フラーレンを用いたデバイスの作成
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0081]バイオテンプレート極限加工を用いたグラフェン量子ドットの作製
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0086]マイクロ構造のナノ制御デバイス開発
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F-TU-041 RIE装置群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0087]中性粒子ビームを用いた微細加工
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F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0088]電子デバイスの微細加工
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-049 段差計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0089]電子線誘起電流イメージングを用いたシリコンの機械的疲労損傷の観察
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0090]UV硬化型エッチングマスク用レジストの開発
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F-TU-041 RIE装置群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0092]共振振動を用いた焦点可変ミラーに関する研究
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F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0096]サファイア基板の加工
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F-TU-050 デジタル顕微鏡
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0097]N型シリコン基板へのリン拡散
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F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0098]MEMSとメタマテリアルの融合による動的発光制御の実現
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0099]MEMS構造体の試作
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F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0100]ウェハレベル真空パッケージに関する研究
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F-TU-036 スパッタ装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0101]高感度センサーの開発
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F-TU-035 PECVD群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0103]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたMEMSデバイスの試作・研究
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F-TU-055 エッチングチャンバー一式
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0104]SON化熱処理実験
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F-TU-055 エッチングチャンバー一式
F-TU-047 電子顕微鏡群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0105]機能性薄膜を用いたセンサーおよびアクチュエーターの研究
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F-TU-053 EB描画装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0106]イオン注入による酸化物ガラスの高機能化
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F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0108]CARE法による車載用SiC及びGaN基板の洗浄技術の開発
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F-TU-055 エッチングチャンバー一式
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0109]音響光学波長可変フィルタの開発
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
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[F-13-TU-0110]Siピエゾ素子の試作
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0111]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0112]石英ガラスの微細加工
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0113]カーボンナノチューブの電気伝導特性ひずみ依存性
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F-TU-044 酸化拡散炉
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0115]MEMSカンチレバーデバイスの形成
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F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0116]磁歪薄膜MEMSセンサー開発
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F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0117]大面積高速電子線描画用アジャスタ基板の短ＴＡＴ試作
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F-TU-040 DeepRIE装置
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0118]MEMSデバイスの開発
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F-TU-035 PECVD群
F-TU-048 膜厚計
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0119]加速度センサの作製
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F-TU-035 PECVD群
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0120]複数のタンパク質モーターによる協同的なビーズ輸送
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F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0121]MEMSを用いた光デバイスの開発
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F-TU-055 エッチングチャンバー一式
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[F-13-TU-0122]MEMS実習
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F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
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[F-13-TU-0123]金属薄膜の高精度ドライエッチング工法検討
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F-TU-041 RIE装置群
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0124]波長選択性熱放射を用いた共鳴励起による化学反応促進に関する研究
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F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
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[F-12-TU-0001]電子デバイスの構造解析と加工
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0002]シリコン微細構造体加工検討
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0003]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製
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[F-12-TU-0004]コンデンサマイクロホンの作製
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[F-12-TU-0005]電気化学LSI へのダイヤモンド電極の集積化プロセスの開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0006]MEMS デバイスの試作
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[F-12-TU-0007]ワイヤレスMEMS デバイスの研究
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[F-12-TU-0008]超臨界流体を用いた製膜プロセス
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[F-12-TU-0009]超並列電子源のアクティブマトリックス化
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[F-12-TU-0010]グラフォアセンブリーによる三次元積層型光電子集積システム・オン・チップ
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[F-12-TU-0011]マイクロ化フーリエ変換赤外分光計の開発
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[F-12-TU-0012]MEMS センサ用配線検討
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[F-12-TU-0013]磁気共鳴力顕微鏡の開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0014]有機導電性高分子の電気伝導機構の解明へ向けた研究
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0015]シリコンウェハ上の微細流路作製
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[F-12-TU-0016]RF-MEMS のパッケージング
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0017]中性粒子ビームエッチングによるMEMS 特性向上
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[F-12-TU-0018]大開口面積シリコンRIE 加工方法の開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0019]スマートカット法によるSiC カンチレバー
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0020]基板上への1μmL&S のAl 電極作成
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F-TU-038 両面アライナ露光装置群(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 アッシング装置
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[F-12-TU-0021]半導体素子特性変動を軽減させる膜応力構成の調査
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0022]MEMS ピアース型面電子源アレイの開発
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[F-12-TU-0024]薄膜の成膜
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0025]電気光学ポリマーの配向プロセスに関する研究
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[F-12-TU-0026]ヘテロ集積化初期試作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0027]高分解能・高速非接触温度計測技術の開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0028]エミッター開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0029]気密封止技術
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0030]ワイヤボンディングの接着確認
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0031]樹脂モスアイパターンへの金属膜の成膜加工
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[F-12-TU-0032]配線保護膜の形成
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0033]三次元集積システム用Si 貫通配線(TSV)のためのエッチング技術に関する研究
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0034]3-D IC 作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0035]高アスペクト比静電櫛歯構造の作製
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0036]SOI 基板を用いたMEMS 構造体の試作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0037]SOI 基板を用いたMEMS デバイスの試作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0038]近赤外波長ベクトルビーム生成用光導波路デバイスの開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0039]陽極接合技術を用いたマイクロSOFC用パッケージの開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0040]レーザによるBST 剥離転写プロセス
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0041]光学デバイス製作の為のメンブレン構造試作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0042]SOI基板を用いたMEMS構造体の試作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0043]パッシベションSiN膜の高品位化
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0044]集積化マルチバンドフィルタ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0045]カーボンMEMSの試作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0046]超高Δガラス膜の成膜および微細加工
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0047]MEMS可変光メタマテリアルの製作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0048]マイクロ流路の作製
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0049]表面弾性波応用マイクロ流体デバイスの研究
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0050]広帯域・高消光比ワイヤーグリッド偏光子の開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0051]表面周期微細構造を用いた波長選択性熱放射によるメタン改質反応の促進
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0052]ポリマー接合で集積した光通信用波長選択スイッチ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0054]接触力センサの開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0055]シリコンフォトニクスデバイスの研究
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0056]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0057]水素吸蔵合金充填層の充填構造変化の観察
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0058]Si上GaNLED 基板を用いたモノリシック集積型マイクロ光エンコーダ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0059]Thin Film型高出力紫外発光素子の開発
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0060]自己保持機構を用いたシリコン細線導波路光スイッチの製作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0061]材料の微細加工（主にサンドブラスト）の検討
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0062]GaNエピ膜の貼り合せ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0063]圧電MEMSスイッチ
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0064]極細径光ファイバ圧力センサの開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0065]超低損傷成膜・加工プロセス技術に関する研究
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0066]SWCNT電極膜の加工
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0067]PCプレートへのAgスパッタ処理
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0068]先端融合領域イノベーション創出拠点形成プログラム「マイクロシステム融合研究開発」
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0069]広帯域反射防止構造の試作
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0070]絶縁膜の形成
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0071]単結晶Si のピエゾ抵抗効果を用いた応力・ひずみセンサの開発と銅配線周辺に発生する残留応力の計測・評価
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0072]半導体三次元実装構造製造工程における残留応力計測技術の開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0073]MEMSカンチレバーデバイスの形成
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0074]負誘電率領域のフォノン－プラズモン共鳴を用いたテラヘルツ波発生・検出の研究
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0075]ビットパターンが形成された磁気記録メディアの作成
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0076]CF4プラズマエッチングによる石英の耐腐食性
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0077]ナノインプリント用微細金型の開発
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0078]デバイスの試作
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F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-045 イオン注入装置群（イオン注入装置、ランプアニール炉）
F-TU-038 両面アライナ露光装置群(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-035 PECVD
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0080]シリコンウエハの酸化
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0081]プラ-ズマCVD成長グラフェンの精密キャリア輸送特性評価
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0082]ステンシルマスク作成
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(登録なし)
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0083]大気圧プラズマによるSiN薄膜の創成に関する研究
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0001]赤外線カメラを用いた微細流路内の沸騰熱伝達の非定常測定
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0002]ヘテロ接合半導体ダイオードの製作と評価
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0003]ドット型脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0004]レーザー光電子顕微鏡性能評価用試料
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0005]多元スパッタ装置(i-miller)を用いたSiO2スパッタ膜の酸素分圧と絶縁性の関係
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-101 自動エリプソメータ
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0006]イオン液体供給型物理リザバー素子の微細加工プロセスに対するCuの耐性評価
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F-NM-112 触針式プロファイラ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0007]GaN PNDのVF改善
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0008]高品質酸化ガリウムエピウエハの開発
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0009]高耐圧酸化ガリウムパワーデバイス開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0010]EBリソグラフィを用いた新磁性デバイスの試作
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0011]フォトニック結晶のためのEB・RIEによる石英微細加工および多層膜成膜
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0012]高耐圧デバイスの試作
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0013]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電素子の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0014]熱電素子テスト構造の試作
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0015]赤外線フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-112 触針式プロファイラ
F-NM-092 室温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0016]窒化ガリウム半導体へのフォトニック結晶構造形成
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0017]熱電発電素子への導熱路構造の開発
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-111 水蒸気プラズマ洗浄装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0018]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電集積デバイスの開発
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0019]ポリマー材料加工技術の検討
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0020]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0021]強磁性トンネル接合の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0022]EB描画装置を用いた高周波ダイヤモンドFETのゲート電極用微細パターンの描画
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0023]半導体プロセス用材料の性能評価
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F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0024]ダイヤモンドジョセフソン接合の微細化手法検討
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0025]CF4ガスを用いたMg2Si基板の反応性イオンエッチング特性
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0026]SiN光導波路の作製
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0027]二硫化モリブデン電界効果トランジスタの分子センサー応用
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0028]マイクロ流路付きMoS2-FETセンサーにおける電気特性の溶液依存性観測
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0029]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0030]Nano/Micro機能付加による高性能伝熱面に関する研究
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-112 触針式プロファイラ
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0031]金属-MoS2接合における界面状態の直接的な測定を目的としたデバイスの最適化
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0032]125kV電子ビーム描画装置を利用したナノ構造体の形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0033]半導体プロセス用材料の性能評価
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F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0034]Ni異方性エッチングやFIB、RIEを用いたダイヤモンド基板上の微細加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0035]イットリアコーティングのプラズマ腐食形態SEM観察
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0036]ジョセフソン接合へのエッチングダメージ低減によるダイヤモンドSQUIDの特性向上
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0037]シリコン微細素子，2次元電子材料を用いた新機能デバイス作製とパッケージング
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F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0038]窒化物パワーデバイス
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F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0039]量子コンピューティングのハードウェア研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0040]TiO2 ナノ構造の作製と光学特性
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0041]SOI を用いた Si 光導波路およびリング共振器の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0042]SiCダイオードの耐放射線性研究
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0043]赤外線フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置
F-NM-112 触針式プロファイラ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0044]電子線描画法を用いた微小ジョセフソン接合の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0045]Micro-LED with highly directional emission
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0046]1.03 m波長帯パルス幅可変半導体レーザーの開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0047]シリコン細線導波路の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0048]熱計測システムのためのセンサ膜開発
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-111 水蒸気プラズマ洗浄装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0049]電子線露光を用いたシリコンフォトニクスデバイスの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0050]露光装置やスパッタ装置、蒸着装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0051]電子ビーム描画装置を用いた微細加工
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0052]グラフェン/hBNヘテロ構造を用いた並列2重量子ドットの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0053]量子コンピューティングハードウェアの研究
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0054]AlGaAs/GaAs系発光素子におけるオーミック電極作製プロセスの確立
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F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0055]化合物ドライエッチング装置によるAlGaAsエッチング形状の評価
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F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0056]電子線描画装置を駆使したトポロジカル物質微細素子の作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0057]高温領域を測定可能なクーロンブロッケード温度計の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0058]AZ5214を用いたライン形状の形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0059]AZMiR703を用いたライン形状形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0060]露光装置およびスパッタ装置を用いたMg2Si pn接合フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0061]強誘電体ゲートFET開発のための電子ビーム描画条件の最適化
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0062]シリコン量子ビットの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0063]熱拡散法によるNb3Sn成膜における核生成時の表面観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0064]電子線リソグラフィによって作製されたグラフェン熱電素子のナノスケール測定
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0065]物理リザバー素子開発に向けた触針式プロファイラによるイオン液体中における銅の反応性評価
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F-NM-112 触針式プロファイラ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0066]電子線描画装置を用いた単層カーボンナノチューブ架橋用のライン＆スペースの作成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0067]電子ビームリソグラフィによるNiナノリボン電極の微細加工検証
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0068]超伝導体と二次元半導体との接合作製による界面状態の研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0069]分子認識界面構築における評価用バイオセンサ基盤の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0070]プラズマCVDにおけるSiO2膜厚の均一性
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0071]12 連電子銃型蒸着装置におけるSiO2 膜厚面内分布
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0072]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0073]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0074]フォトリソグラフィーを使用したダイヤモンド表面へのパターン生成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0075]GaN HEMTのP-GaN選択性エッチング
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F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0076]唾液中コルチゾールを検出するEIS型バイオセンサの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0077]バッファードHFを用いたALD-Al2O3膜のエッチングレート評価
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F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0078]ハーフインチSiウェハ上へのTEOS絶縁膜の成膜
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0079]ウェットエッチングによるTi/Al電極の加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0080]電子分光分析用イオン液体物理リザバーデバイスの試作
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0081]p-GaN / AlGaN 選択エッチングの評価
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F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0082]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0083]金属⁻MoTe2接合における研究のためのデバイス作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0084]SiO2のCHF3ガスによるドライエッチングレートに与えるフォトレジスト塗布された基板の影響
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0085]シリコン量子ビットの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0086]シリコントランジスタの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0087]微細シリコン段差パターンの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0088]SiO2膜の形成
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-112 触針式プロファイラ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0089]RTA加工によるプラズモニックアレイの高性能化
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0090]Operando XAFS観察用微細メッシュパターン金属塗布型極薄ポリイミド膜電極の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0091]グラフェンへのひずみ導入による電気伝導制御
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0092]スパッタ装置を用いた距離計測のための光位相変調器の製作
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0093]低損失かつ高耐圧な縦型パワーダイヤモンドMOSFETの作製
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0094]1.03 m波長帯の半導体レーザーのプロセス開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0095]単層カーボンナノチューブの熱電測定
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0096]量子センサによるカーボンナノチューブ熱電計測
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0097]NVセンタの電流計測に向けたナノギャップ作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0098]高速動作半導体レーザーの製作プロセスに関する研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0099]ダイヤモンドデバイスのためのプロセス技術開発
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F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0100]細胞の膜機能を評価するマイクロパターン基板の作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0101]メタレンズの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0102]プロセス条件変更検討
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0103]グラフェンFETの保護膜材料およびプロセス適正化の検討
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0104]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサアレイの開発
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0001]新規材料における微細パターン形成評価
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0002]高速マスクレス露光装置を用いた窒化ガリウム自立基板上電極パターン形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0003]高耐圧酸化ガリウムパワーデバイス開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0004]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電素子の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0005]複合プラズマ法を用いた燃料電池電極触媒の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0006]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0007]電子ビーム描画装置を用いたline-and-spaceパターンの作成
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0008]フォトニック結晶のためのEB・RIEによる石英微細加工および多層膜スパッタリング
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0009]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0010]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサアレイの開発
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0011]半導体シリコン素子，2次元電子材料を用いた新機能デバイス作製とパッケージング
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F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0012]ALDを用いたGaN SBDの理想係数nの改善
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0013]RIE処理によるプラズモニックアレイ加工と転写
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0014]微細デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0015]AFM characterization of small-sized particles generated on the surface of niobium superconducting high-frequency acceleration cavity
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0016]シリコン光導波路及び微小光共振器の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0017]二硫化モリブデン電界効果トランジスタの分子センサー応用
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0018]窒化ガリウム半導体へのフォトニック結晶構造形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0019]SiO2マスクを用いたGaN基板のドライエッチング
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F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0020]20 mm角アドレスマーク付きSiO2/Si基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0021]スピンホールナノオシレーター微細加工試料の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0022]金属膜のドライエッチング検討と評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0023]赤外線フォトダイオードの作製
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F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0024]イットリアの微細組織構造が耐プラズマ性に及ぼす影響
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0025]多目的ドライエッチング装置を用いたMg2Si基板の表面加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0026]ガラス基板上へのスパッタ装置による酸化物膜の成膜
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0027]熱電発電デバイスの熱伝導層材料の研究
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0028]赤外線フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0029]半導体プロセス用レジスト材料の各種性能評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0030]電子線描画装置を駆使したトポロジカル物質微細素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0031]AlInGaP系LED素子のエッチング形成
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0032]半導体微細加工による微小集積光学導波路作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0033]半導体基板のアニール処理
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0034]ポリマー材料加工技術の検討
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0035]熱電発電素子への導熱路構造の開発
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0036]グラフェンFETの保護膜プロセス適正化及びウエハ大口径化の検討
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0037]グラフェン・ナノリボン電子デバイスの研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0038]Development of next generation memory devices
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0039]成膜プロセスを考慮した基板表面のクリーニング
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F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0040]100kV電子ビーム描画装置を用いた金属表面処理
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0041]抵抗測定TEG試作
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0042]熱電素子テスト構造の試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0043]ダイヤモンドSQUIDの特性向上に向けたジョセフソン接合微細化の検討
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0044]電子ビームリソグラフィによるNi電極の微細加工検証
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0045]化合物ドライエッチング装置によるAlGaAsエッチング形状の評価
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F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0046]グラフェンセンサデバイスの試作及びその溶液成分への応答評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0047]露光装置や全自動スパッタリング装置を用いたMg2Si pn接合フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0048]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0049]プラズマCVD装置を用いたTEOS膜形成と膜厚測定
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0050]Si-nanowire microTEG devices development
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0051]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応とその性質
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0052]イオン注入GaN基板におけるドーパント活性化の為のウエハRTA装置利用
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F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0053]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0054]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発に関する研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0055]ドライエッチング装置を用いたAlエッチングおよびSiO2エッチング
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0056]シリコンフォトニクスデバイスの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0057]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0058]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0059]高機能半導体レーザー開発プロセスに関する研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0060]金属二次元半導体接合をもつ電界効果トランジスタ構造の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0061]液体窒素プローバーシステムを用いた元素ドーピング二層グラフェンの電気特性の調査
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0062]プラズマCVD膜のウエットエッチング検討
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0063]分子認識界面構築における評価用金基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0064]ナノシリコンワイア型熱電発電デバイス関する作製と研究
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F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0065]Ni異方性エッチングを用いたダイヤモンド基板上の微細加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0066]フォトリソグラフィーを使用したダイヤモンド表面へのパターン生成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0067]露光装置、全自動スパッタ装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0068]露光装置やスパッタ装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0069]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンドプローブの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0070]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0071]導電性ブリッジメモリ(CBRAM)を用いたニューロモルフィックデバイスの開発
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0072]導電性ブリッジメモリのデバイスプロセス開発
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F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0073]平行平板電極による免疫センサの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0074]原子層堆積装置を用いた金ミラー上への誘電体薄膜の成膜
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0075]金属-MoS2接合界面における界面状態の検証を目的としたデバイスの最適化
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0076]細胞分離診断技術の開発
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0077]集束ヘリウムイオンビーム法によるダイヤモンドジョセフソン接合の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0078]超高速ジョセフソン接合素子の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0079]MoS2-FETの電子物性を用いた流体環境下高感度分子センサの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0080]単層カーボンナノチューブを架橋する際のライン＆スペースの作成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0081]ネガ型電子線レジストを用いた30nmサイズ脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0082]電子線リソグラフィによって作製されたグラフェン熱電素子のナノスケール測定
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0083]Alドライエッチング加工
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0084]カルコゲン系太陽電池における界面修飾法の検討
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0085]金属ナノシリンダーアレイの熱改質
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0086]光-物質強結合実験のための高反射誘電体多層膜の作成
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-101 自動エリプソメータ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0087]リフトオフ電子ビームリソグラフィによるナノ磁性体配列構造の製作
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0088]電子ビームリソグラフィー法を用いたプラズモニック結晶試料の作製
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0089]高品質酸化ガリウムエピウエハの開発
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0090]Si基板へのパターン形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0091]1.03 μm 波長帯の半導体レーザーのプロセス開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0001]フォトニック結晶のためのEB 描画およびRIE による石英加工検討
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0002]微細デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0003]微細パターンの解像度調査
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0004]シリサイド薄膜のエッチング加工およびデバイスの試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0005]シリコン深堀エッチング装置を用いた高速かつ高効率な超伝導転移端センサの作製
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0006]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発に関する研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0007]酸化ガリウムn型MOSFETの試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0008]ダイヤモンド結晶欠陥および無欠陥のデバイス特性に及ぼす影響評価
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0009]シリコン光導波路・ナノ材料ハイブリッドデバイスの作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0010]層状化合物を用いた超伝導素子の開発
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F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0011]125kV電子線ビーム描画装置によるプラズモニック光駆動ナノモーターの開発
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0012]酸化膜エッチング装置を用いた耐プラズマ部材の評価
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0013]ダイヤモンド基板上の貫通転位がデバイス特性に及ぼす影響評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0014]化合物ドライエッチング装置によるCrエッチング
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0015]MoS2-FETの電子物性を用いた流体環境下高感度分子センサの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0016]ダイヤモンド結晶上の転位のデバイスに及ぼす影響評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0017]GaAsウエハの反応性イオンエッチング
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0018]シリコンナノワイヤ構造を導入した熱電発電素子の開発
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F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0019]金属膜のドライエッチング検討と評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0020]金属膜のドライエッチング検討と評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0021]イオン注入GaN基板におけるウエハRTA装置及び12連電子銃型蒸着機の利用
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F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0022]ZrNナノシリンダーアレイの耐熱性の向上
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0023]シリコン光導波路及び微小光共振器の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0024]化合物ドライエッチング装置によるY-O-F系セラミックスの耐プラズマ特性の評価
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F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0025]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0026]二次元レイアウトに於けるリソグラフィ解像性調査
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0027]ドライエッチングによる金属ナノ周期構造の加工と光学特性
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0028]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0029]各種ガラス基板のドライクリーニング
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F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0030](111)超伝導ボロンドープダイヤモンドのみで構成されるジョセフソン接合の検討
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F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0031]アルミニウムナノ構造の作製と光学特性
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0032]全自動スパッタ装置を用いた酸素が欠乏したITO膜作製
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0033]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスに関する開発研究
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0034]架橋ビーム作製における金マスクのドライエッチング耐性評価
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0035]ネガ型電子線レジストを用いた脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0036]シリコンナノワイヤを用いた熱電素子の開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0037]反応性イオンエッチングによる微細トレンチ形成条件の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0038]グラフェンセンサデバイスの試作プロセスにおけるグラフェン表面観察
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0039]単層カーボンナノチューブを架橋する際のライン＆スペースの作成
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F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0040]金属ナノシリンダーアレイのRTA処理による高性能化
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F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0041]Au薄膜を用いた共振器の作成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0042]フィルム基板上のポリイミド絶縁膜パターニング検討
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0043]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0044]センサ応用向け二次元層状物質トランジスタに関する研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0045]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0046]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0047]イットリアコーティングの微細組織とプラズマ腐食挙動
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0048]原子層堆積装置によるHfO2薄膜の作成
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0049]熱電発電デバイスの熱伝導層材料の研究
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0050]新規材料における微細パターン形成評価
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0051]RIE処理によるプラズモニックアレイ加工と転写
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0052]サーモリフレクタンス法を用いた温度計測のための試料微細加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0053]ポリマー材料加工技術の検討
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0054]プラズモニック・メタサーフェスを用いた光電子デバイスの開発
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0055]幹細胞を抽出培養するためのマイクロパターン基材の開発
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0056]125kV電子ビーム描画装置を用いた金属表面処理
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0057]原子層堆積法によるSi-MOSの界面評価
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0058]３次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0059]液体窒素プローバーシステムを用いた真空雰囲気下での金属有機構造体の電気的特性評価
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0060]真空雰囲気下におけるPt/CoO/ITO素子の電気的特性評価
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0061]β型酸化ガリウムのドーピング
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0062]液体窒素プローバーシステムを用いた金属有機構造体の電気特性評価
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0063]半導体用レジスト材料の評価及びプロセス検討
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0064]グラファイト電極の還元雰囲気下における熱処理効果
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-101 自動エリプソメータ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0065]Ga2O3上でのEB露光パターニング
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0066]グラフェン・ナノリボンのデバイス応用の研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0067]シリコン光導波路デバイスの作製
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F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0068]マイクロデバイスを用いた新規ナノ構造材料のナノスケール電気・熱伝導率計測
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0069]スコッチテープ法により劈開したMoS2の層数判別
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0070]微細シリコン段差パターンの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0071]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0072]分子認識界面構築評価用イリジウム基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0073]レーザー光電子顕微鏡用評価試料
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0074]EB描画装置とエッチング装置を使用した構造色加飾のための型製作
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0075]プラズモニックナノ構造による第二高調波の一方向放射制御
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0076]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0077]熱電素子テスト構造の試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0078]平行平板電極による免疫センサの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0079]櫛形電極ミオグロビンバイオセンサの再生技術の探索
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F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0080]半導体微細加工による微小集積光学導波路作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-091 CMP研磨装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0081]スパッタ装置を用いたMg2Siリニアアレイフォトダイオードの作製
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0082]Development of next generation memory devices
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0083]液体窒素プローバーシステムを用いた真空下での金属有機構造体の電気伝導率測定
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0084]遷移金属ダイカルコゲナイド系層状物質と金属との接合に対するアニール効果の研究
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0085]単一段差構造によるダイヤモンドSQUIDの開発
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F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0086]グラフェン・ナノリボンのデバイス応用の研究
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0087]原子層二硫化モリブデンを用いた超伝導接合の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0088]酸化亜鉛チャネルを持つ電気二重層トランジスタ構造の作製
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0089]プラズモニック構造によるアップコンバージョン発光の制御
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0090]液体窒素プローバーシステムを用いたCu/Ta2O5/Pt 素子のインピーダンス測定の大気の影響
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0091]微細ゲート電界効果トランジスタの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0092]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0093]導電性ブリッジメモリのデバイスプロセス開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0094]液体窒素プローバーシステムを用いたReRAMの真空・低温抵抗保持特性の解明
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0095]高速マスクレス装置等を用いたMg2Siフォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0096]ブロードエリア半導体レーザーの作製
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F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-101 自動エリプソメータ
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0097]金属ブリッジ型メモリCBRAMのデバイスプロセス開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0098]MIM容量特性評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0099]微細ゲートトランジスタの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0100]集束イオンビーム法によるボロンドープダイヤモンド超伝導量子干渉計の作製及び最適化
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0101]Multiferroic effects in iPCM
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0102]多孔質シリコン熱音響素子の特性改善と対応する微細構造の観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0103]1.03μm波長帯の半導体レーザーのプロセス開発
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F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0104]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0105]シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスの開発
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F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0106]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応とその性質
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0001]電子ビーム描画装置によるレジスト材料の探索・プロセス評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0002]マスクレス露光機を用いたフィルム基板上の微細パターニング技術開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0003]シリコンバッファフィルムコーティング作業
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0004]４インチＳｉ基板を用いたグラフェンFET 標準フローの構築
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F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0005]ドライエッチング装置を用いたYOF 系セラミックスの耐プラズマ性評価
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0006]糸状菌培養のための微小流体デバイスの作製
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F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0007]エッチングパターンの形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0008]原子層堆積装置を用いたAl2O3 薄膜の形成
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0009]ドライエッチング装置等を用いたウェアラブルマイクロ流路パッチの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0010]プラズマ環境におけるイットリア焼成体の腐食挙動
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0011]電子線描画装置を用いたhp16nm 以下の微細LS パターン形成技術開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0012]シリコンナノワイヤに基づいた熱電発電素子に関する開発研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0013]シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスのチャネル幅依存性
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0014]薄膜応力測定装置を利用した測定アルゴリズム開発
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F-NM-104 薄膜応力測定装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0015]微細デバイスの電気特性および信頼性評価
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0016]マスクレス露光機を用いたフィルム基板上の微細パターニング技術開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0017]GaAsウエハの反応性イオンエッチング
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0018]p型NiO MOSFETの基礎実験
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0019]Ga2O3－N型MOSFETの試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0020]原子層堆積装置を用いた絶縁膜の形成
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0021]半導体デバイスのSEMによる断面観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0022]反応性イオンエッチングによる酸化物半導体へのトレンチ形成条件の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0023]層状物質を用いた分子振動検出デバイスの研究開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0024]シリコンナノワイヤを用いた熱電素子の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0025]CMP装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究
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F-NM-091 CMP研磨装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0026]シリコンナノワイヤプロセスを応用した熱電発電素子の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0027]Au/Ni電極を用いたMg2Siフォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0028]プラズモニック光駆動ナノアクチュエータの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0029]ナノインプリントした金属材料のナノ加工
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0030]高輝度レーザー向け新規光学デバイスの開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0031]電子線描画を利用したφ40 nmハードマスクの形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0032]超電導量子回路におけるマスクレス露光装置によるパターニング
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0033]シリコン光導波路・ナノ材料ハイブリッドデバイスの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0034]金属ブリッジ型メモリCBRAMのデバイスプロセス開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0035]各種描画、エッチング、成膜装置を活用したレジスト材料の評価及び開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-101 自動エリプソメータ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0036]30 nm脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0037]紫外領域で働くプラズモニック構造の作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0038]TiNナノシリンダーアレイの耐熱性の向上
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0039]プラズマ援用AD膜の評価
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0040]浅い段差による超伝導ダイヤモンドジョセフソン接合
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0041]相変化メモリ素子加工するためのリソグラフィおよびドライエッチング技術
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0042]プラズモニックナノ構造による第二高調波の一方向放射制御
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0043]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0044]高選択酸化膜エッチング
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0045]電子ビーム描画装置を用いたトポロジカルプラズモニック結晶構造の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0046]透過型CTR散乱測定試料の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0047]塗膜諸性能に関わる表面形状の把握
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0048]単一内包カーボンナノチューブの電気・熱伝導率計測
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0049]プラズモニックアレイのRTA加工
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0050]劣化に伴う塗膜表面形状の変化
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0051]シリコン光導波路の作製と劈開による端面の形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0052]ドライエッチングプロセスを用いた高密度光ディスク用原盤の検討
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0053]原子層堆積法による Si-MOS の界面評価
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0054]マスクレス露光機を用いた、フィルム基板上の微細パターニング技術開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0055]先端デバイス開発のためのプロセス検討
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F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0056]フォトリソグラフィを用いたMg2Siにおけるオーミック電極の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0057]Si基板へのパターン形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0058]マスクレス加工と反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板の微細加工
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0059]YBCO-Sr2RuO4超伝導接合の作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0060]酸化亜鉛電気二重層トランジスタ構造の形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0061]電子ビーム描画装置を用いた通信用シリコン光回路作製
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0062]Siの深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0063]ダイヤモンドＳＢＤ作製するためのレーザー露光装置と超高真空スパッタ装置の利用
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0064]ナノシートを用いる全酸化物型リチウムイオン二次電池の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0065]1.03 μm波長帯の半導体レーザーのプロセス開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0066]シリサイド薄膜のエッチング加工およびトランジスタ素子の試作
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0067]幹細胞機能を制御するマイクロパターン基材の開発
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0068]トランジスタIV特性の評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0069]電子ビーム描画装置とエッチング装置を使用したシリコン基板微細加工
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0070]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応
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F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0071]プラズマCVD装置を用いたn型Mg2Si基板へのSiO2膜の堆積
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0072]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0073]集束イオンビームによる超伝導ボロンドープダイヤモンドジョセフソン接合の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0074]分子固定化界面評価用金基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0075]バイオセンシングを行う小型Ir/IrOx基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0076]低群速度・低分散GaAsフォトニック結晶導波路による高効率非線形光学現象
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-091 CMP研磨装置
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0077]複数の露光方式を組み合わせた半導体レーザー導波路加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-102 触針式表面段差計
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0078]高速動作半導体レーザーに向けたオーミック特性の研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0079]平行平板電極による免疫センサの開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0080]櫛型電極ミオグロビンバイオセンサの再生技術の探索
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0081]プロトン伝導膜による自己発電型バイオセンサの性能向上
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0082]Multiferroic effects in iPCM
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0083]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製
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F-NM-093 極低温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0084]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-093 極低温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0085]熱刺激脱分極電流測定用酸化物標準試料の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-097 プラズマアッシャー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0086]プラズモニックデバイス用単結晶薄膜の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0087]ガラス基板のドライクリーニング
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F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0088]微細ゲートトランジスタの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0089]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0090]ICP-RIE 装置を用いたアルミナのエッチング
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0091]ALD装置を用いたパリレン薄膜上へのHfO2およびAl2O3の成膜
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0092]層状物質を用いた超伝導接合素子の開発
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0093]電子ビーム描画装置によるEBレジストの新規材料・プロセス開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0094]電子ビーム描画装置を用いた層状超伝導体の加工と電極形成
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0095]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン・ナノリボンのデバイスの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0096]リソグラフィによる原子層二硫化モリブデンを用いた超伝導接合の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0097]Ti/Au薄膜の形成
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0098]低次元物質を用いたナノデバイス開発のための基板作製
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F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0099]3次元パワーSupply on Chip実現に向けてのプロセス技術の開発
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0100]集束イオンビームを用いたダイヤモンド超伝導量子干渉計の作製・評価
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0101]グラフェン電界効果トランジスタチップの試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0102]アミノ基修飾グラフェンバイオセンサへのプローブの化学修飾
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0103]スパッタを使用したメタルパターンの形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0104]化合物ドライエッチングを用いた Al エッチング及び SiO2エッチング
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0105]グラフェンFETセンサの試作およびその特性評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0106]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト材料及びプロセスの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0107]化合物ドライエッチング装置によるCr エッチング
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0108]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスに関する開発研究
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0109]遷移金属ダイカルコゲナイド半導体を用いた分子センサーの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0110]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサと光キャビティの作製
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0111]タングステン金属膜のドライエッチング検討と評価
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0112]ルテニウム金属膜のドライエッチング検討と評価
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0113]強相関電子系層状材料の温度依存電流電圧特性の評価
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F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0001]超低損失Ga2O3トレンチMOS型ショットキーバリアダイオード
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0002]バクテリア培養のためのマイクロデバイスの作製
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F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0003]アンテナの光電界増強効果を利用した中赤外受光素子の実現
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0004]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスにおける短チャネル効果
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0005]p型シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスのチャネル長依存性
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0006]HfO2/酸化ガリウムによる低リーク電流MOSダイオード
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0007]グラフェンのバイオデバイス応用に向けたアミノ基修飾
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0008]Li含有複合酸化物薄膜の微細加工
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0009]透過型CTR散乱測定用試料の作製
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0010]架橋ナノワイヤー共振器作製における電子線描画用レジストレーションマークの改良
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0011]反応性イオンエッチングによるAl ナノシリンダーアレイの作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0012]SrTiO3の絶縁体金属転移を用いたニューロモルフィック素子の作製
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0013]電子ビーム描画装置を用いた微細幅グラフェン配線の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0014]電子ビーム描画装置によるレジスト材料の探索・プロセス評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0015]電子ビーム描画装置によって露光されたEUVレジストの現像液選定評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0016]金属薄膜蒸着装置を利用した超高速光伝導スイッチ駆動型荷電粒子加速器の研究開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0017]配線抵抗測定モジュールの標準フロー構築
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0018]高密度アレイ電気特性評価のためのプロセス開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0019]裏面ゲート型薄膜トランジスタの試作
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0020]メモリ特性評価用モジュールの標準フロー構築
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0021]半導体デバイスのSEM による断面観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0022]リング状電極Mg2Si フォトダイオードの分光感度特性
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0023]プラズマ化学気相成長を用いたSiO2 の堆積
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0024]EBL 及びシリコン深掘エッチング装置を用いたシリコン光導波路の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0025]脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0026]スパッタ装置による半導体と金属とのオーミックコンタクトの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0027]二酸化バナジウム細線の電極作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0028]CMP 装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究
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F-NM-091 CMP研磨装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0029]異なる線幅の超伝導ボロンドープダイヤモンドの特性評価
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0030]酸化膜ドライエッチング装置によるSiO2 ガラスのエッチング
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0031]ナノワイヤ型シリコン熱電デバイスの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0032]シリコン光導波路と共振器の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0033]GaAs 系薄膜の反応性イオンエッチング
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0034]石英ガラスのドライエッチング
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0035]ナノ粒子を用いたナノパターニングに関する基礎的検討
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0036]非コンベンショナルなプラズモニクス材料の選択的ドライエッチング
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0037]微小超伝導体への人工ピン止めの導入と磁束状態
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0038]小口径半導体ウエハへの微細パターン作製と評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0039]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた分子センサデバイスの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0040]フォトリソグラフィを用いたMg2Si-pn 接合ダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0041]メッシュ型電極を持つMg2Si フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0042]シリサイド薄膜のエッチング加工およびトランジスタ素子の試作
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0043]酸化亜鉛電気二重層トランジスタにおける近接効果
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0044]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0045]３次元パワーSupply on Chip のプロセス技術の開発
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F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0046]ポリマー材料の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0047]電子ビーム描画装置を用いた微細パターンの形成
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0048]卓上イオン加速システムの研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0049]SiN 膜深掘ドライエッチング加工の基礎的検討
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0050]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0051]超伝導ボロンドープダイヤモンドを用いたランプエッジ構造ジョセフソン接合
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0052]エキシマー光照射を利用した光硬化挙動の解析
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F-NM-070 ナノインプリント装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0053]相変化材料を微細加工するための電子ビーム描画およびドライエッチング技術
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0054]電子ビーム描画装置を使用したシリコン基板の微細加工
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0055]電子ビーム描画によるEUV レジスト材料の評価及び開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-070 ナノインプリント装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0056]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト及びプロセスの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0057]原子層堆積装置を用いた層間絶縁膜の形成
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0058]熱刺激電流測定用酸化物薄膜標準試料の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0059]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0060]フォトニック結晶導波路を用いた高効率THz 波発生の提案
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0061]Multiferroic effects in iPCM
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-070 ナノインプリント装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0062]光駆動マイクロマシンの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0063]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0064]オスミウムコータによるハイドロゲルビーズの表面処理とSEM によるその観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0065]反応性イオンエッチングによるナノシリンダーアレイの作製
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0066]ゲート特性の評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0067]マスクレス露光および酸化膜ドライエッチングによるSiO2/Si3N4 積層膜のエッチング加工
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0068]ALD 法及びEB 描画法によるAl2O3 薄膜上Au ナノ構造の作製
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F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0069]微細加工技術を用いた高熱拡散有機エレクトロンルミネッセンスの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-070 ナノインプリント装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0070]不均一半導体量子構造を用いた近赤外広帯域光源作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0071]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0072]リチウムイオン電池用電極材料の表面親水化
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0073]機能化界面評価用金基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0074]微細ゲート構造を有するバイオセンサの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0075]バイオセンサを指向したIr/IrOx 基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0076]SAW無線センサの試作
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F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0077]光吸収膜の材料検討
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0078]ボトムアップ・グラフェンナノリボンの電界効果トランジスタ特性
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0079]Si の深掘エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0080]シリコン窒化膜を用いた不揮発性半導体メモリの正孔捕獲特性
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0081]SnOx 薄膜の伝導型制御に向けたスパッタ成膜条件の検討 （試行的利用課題）
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0082]SnOx 薄膜へのキャリア注入制御に向けたショットキーダイオード試作
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0083]ダイヤモンド半導体素子プロセスの開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0084]MONOS 型メモリキャパシタの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0085]近接効果補正シミュレータ（BEAMER）を使用した微細ゲート作製技術の開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0086]配向・位置制御されたダイヤモンド中窒素空孔中心の生成と評価
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0087]電界効果トランジスタの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0088]表面凹凸構造の加工における反射防止効果の検討
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0089]液体He 温度以上の動作を目指した不連続(111)面によるダイヤモンドジョセフソン接合
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0090]中性子反射率測定に基づく接着界面近傍の構造評価
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0091]金属ナノ周期構造を用いた非線形メタマテリアルの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0092]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0093]マイクロ流路式希釈冷凍機の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0094]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0095]ナノ細孔内での物質拡散速度の実験的評価手法の開発
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0096]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製
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F-NM-092 室温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0097]エッチングパターンの形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0098]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0099]電子線リソグラフィーを用いたグラフェンへの周期ひずみの導入
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0100]微細加工プロセスを用いた光励起マルチセクション半導体レーザーの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0101]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0102]Prussian Blue 修飾電極による自己発電型バイオセンサの開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0103]ミオグロビンバイオセンサの選択制向上に関する研究
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0104]原子層二硫化モリブデンを用いた電気二重層トランジスタによる超伝導接合の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0105]電子ビームリソグラフィーを用いたガラス基板上へのナノ構造の形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0106]糸状菌培養のための微小流体デバイスの作製
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F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0107]SiN エアホール型光導波路を用いたアフィニティセンサの構築
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0108]トポロジカル絶縁体-超伝導体接合素子の開発
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0109]二層グラフェンを用いた超伝導スイッチの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0110]酸化物半導体デバイス作製方法の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0111]単結晶銀薄膜を用いたフレキシブルSERS 基板の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-17-NM-0112]グラフェン電界効果トランジスタの試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0001]エッチングプロセス後のパターン形状観察
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0002]ダイヤモンド半導体素子の開発
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0003]低次元物質を用いた単電子トランジスタの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0004]中赤外光アンテナに関する研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0005]グラフェン電界効果トランジスタの作製と評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0006]単一金ナノプリズムによる3 方向光散乱制御
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0007]グラフェンへのひずみ導入による電気伝導制御
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0008]ナノウェル型光導波路と分子鋳型ポリマーの融合による新規バイオセンサの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0009]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスにおける短チャネル効果
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0010]プラズモニック周期アレイによる希土類錯体層の発光制御
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0011]感光性樹脂材料のプラズマエッチング耐性評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0012]シリコン深堀エッチング装置を用いたナノピラーアレイつきマイクロ流路の形成
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0013]Pd 合金の応力最適化検討
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0014]SiC 基板加工
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0015]薄膜トランジスタへの放射線照射
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0016]強磁性Fe4N 細線中の磁壁の電気的検出
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0017]金属ナノ構造体の試作
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0018]6nm パリレン上にALD でHfO2 を積層した二層ゲート絶縁膜FET の作製
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0019]多目的ドライエッチングを利用したSQUID 配列の作製法の改善
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0020]メサ構造Mg2Si フォトダイオードの作製と評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0021]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0022]10nm 級微細幅グラフェン配線の作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0023]相変化材料を微細加工するための電子ビーム描画およびドライエッチング技術
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0024]半導体ドライプロセスによるレーザー素子の作製
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0025]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0026]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製と電気特性評価
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0027]真空パッケージング後紫外線荷電された高性能MEMS エレクトレット振動発電器の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0028]二次元電子ガスと超伝導電極間の接触抵抗の測定
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0029]プラズモニック・メタマテリアル用単結晶薄膜の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0030]Si 貫通電極のための貫通穴の作製
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0031]ヘテロ接合型フォトニック結晶導波路と自己組織化InAs 量子ドットによる超小型近赤外多波長光源開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0032]ICP-RIE によるGaAs2 次元フォトニック結晶の形成
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0033]半導体ドライプロセスによる短パルス光発生レーザー素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0034]単結晶ダイヤモンド超伝導量子干渉計の特性評価
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0035]FIB-SEM ダブルビーム装置を用いた光-SPP 結合構造の製作
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0036]脳型推論アナログ抵抗変化素子用下部電極の作製
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0037]ポリマー材料塗布時の表面性の観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0038]微細幅グラフェンへの上層コンタクトによる抵抗評価構造の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0039]ダイヤモンドショットキーバリアダイオードの電気特性
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0040]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0041]ALD-Al2O3 膜の選択成長
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0042]EB レジストを用いたパターン反転プロセス
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0043]n+Ge/pGe ダイオード構造試料の作製及び評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0044]洗浄プロセスの電気特性に及ぼす影響
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0045]サラウンディングゲートトランジスタの試作
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0046]先端デバイス開発のためのプロセス検討
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0047]電荷拡散のキャパシタ周長依存性測定用のTEG 作成
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0048]シリコン時計部品へのコーティング膜の検討
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0049]卓上荷電粒子加速システムの研究開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0050]架橋カーボンナノチューブを用いた超伝導ナノワイヤー共鳴装置の作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0051]電子ビームリソグラフィによる強誘電トンネル接合素子の微細化
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0052]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜へのマイクロパターニング
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0053]折り畳みによる方向性結合器型バイオセンサの平面集積化
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0054]ドライエッチング装置を用いたセラミックス膜の耐プラズマ性評価
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0055]微細加工による表面弾性波デバイスの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0056]Co/Ni 多層膜のスパッタ成膜と垂直磁気異方性の解析
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0057]Si の深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0058]SOI を用いたSi 光導波路の劈開
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0059]プラズマアッシャー処理を施したSiO2/Si 上グラフェンの界面水の挙動
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0060]電子ビームリソグラフィー法によるAu/Al2O3 層上のAu ナノ構造の作製
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0061]微細加工基板上化学気相成長法で生成されたダイヤモンド中窒素空孔中心
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0062]酸化膜ドライエッチング装置による光学素子集積用溝形成
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0063]電子ビーム描画装置、エッチング装置を用いたレーザー駆動誘電加速構造の試作と検査
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F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0064]スピンバルブ構造を利用したスピン流の検出
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0065]CMP 装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究
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F-NM-091 CMP研磨装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0066]近接場効果を用いたMEMS ラジエータの開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0067]SOI を用いたSi 光導波路の作製
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0068]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた生体物質センシングデバイス作製プロセスの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0069]As2 分子線を用いてMBE 成長したInAs 量子ドットの構造評価
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0070]FIB で製作するナノ光陰極型電子光源の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0071]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0072]ポリマー材料の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0073]ナノスケール磁性体中のスピン波制御
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0074]Multifunctional superlattice materials
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0075]Ir/IrOx 及びAg 集積化薄膜電極の製作
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0076]マスクレス露光装置及び超高真空蒸着装置を用いた超伝導検出器の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0077]電子ビーム描画装置を用いたプラズモニック結晶導波路の作製
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0078]超伝導ボロンドープダイヤモンドを用いたマイクロブリッジ構造ジョセフソン接合
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F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0079]自己発電型バイオセンサのための微細くし形電極の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0080]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0081]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0082]非コンベンショナルなプラズモニック材料の選択的ドライエッチング
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0083]電子線ビーム描画で製作するDLA 装置
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0084]レーザー駆動誘電加速構造の試作と検査
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0085]金属ナノ周期構造を用いた非線形メタマテリアルの作製
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0086]GaAs 系薄膜の反応性イオンエッチング
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0087]電子ビーム描画装置とドライエッチング装置を用いたパターン形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0088]SiN 薄膜のドライエッチング検討
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0089]窒化シリコンウィンドウ上への磁性ドット形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0090]多層グラフェン配線集積化に向けたグラファイト加工検討
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0091]鉛薄膜センサー素子のダイシング
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0092]Al / MoS2 電気二重層トランジスタ構造 / Al 接合における超伝導電流
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F-NM-092 室温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0093]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン-超伝導体接合光学素子作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0094]二硫化モリブデン/超伝導体接合開発
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0095]微細ゲート作製技術の開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0096]微細構造作製の検討
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0097]メモリキャパシタ作製のためのAl 電極形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0098]テンプレート法を用いた金ナノ構造体によるSERS 効果の発現
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0099]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製
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F-NM-093 極低温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0100]Parylene E as a Sensitive Material in Chemicapacitive Gas Sensor
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0101]酸化ガリウム基板の加工変質層評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0102]トレンチMOS 構造を設けたGa2O3 ショットキーバリアダイオード
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0103]プラズマCVD 装置等を利⽤したSiC に対する新規コンタクト技術の開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0104]電子ビームリソグラフィーで作製した細孔中への自己組織化単分子膜の形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0105]NV センター応用に向けたボロンドープダイヤモンドSQUID の開発･特性評価
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0106]酸化物メモリのための微細加工
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0107]MIS（金属/絶縁体/半導体）構造作製によるシリサイド半導体のキャリア密度推定
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0108]半整数磁束渦観測に向けたSQUID とSr2RuO4 から成る磁化測定デバイスの作製
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F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0109]糸状性藻類の細胞分散化マイクロデバイス
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0110]ウェアラブルデバイスのための回転型エレクトレット発電機の開発
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0111]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0112]表面凹凸構造の加工における反射防止効果の検討
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0113]PMMA 系混合レジストを用いたナノギャップの作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0114]熱刺激電流測定用標準試料の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0115]現像方法改善によるZEP のLS パターン品質の向上
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0116]アナログ抵抗変化素子の電極線幅の評価
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0117]TiN とタンタル酸化物のエッチングレートの比較
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0118]ウェットエッチングによるメサ型Mg2Si pn 接合ダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0119]小口径半導体ウェハへの微細パターン作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0120]ZEP-520A による20nmLs 解像を実現するための現像液の検討
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0001]流れ方向に温度勾配を持つ流路における化学的消炎効果に関する研究
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0002]n+Ge/pGe ダイオード構造パターン試料の作製及び評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0003]中赤外光アンテナと有機EL 中のプラズモン散乱に関する研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0004]線維芽細胞を活性化する培養用基材の創製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0005]Fe3O4 ナノ粒子スピントランジスタ用三端子電極形成
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0006]グラフェン-基板間の界面水評価に向けたグラフェンの剥離
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0007]シリコン上のグラフェン素子の形状観察
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0008]サファイアエッチング用ＵＶ硬化レジスト開発のためのエッチング方法の確立
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0009]低次元物質を用いた単電子トランジスタの開発用基板の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0010]層状化合物の電気伝導特性
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0011]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0012]幹細胞を大量に培養する基材の開発
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0013]二次元物質BiS2 のFET 構造の形成
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0014]CNTFET における放射線照射効果
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0015]高アスペクト比微細溝加工
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0016]超高真空スパッタ装置を用いた金属超薄膜の形成
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0017]電子ビーム描画による新規EUV レジストの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0018]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストの評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0019]厚膜SiO2 のディープエッチング
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0020]グラフェン/超伝導体接合に対する光照射効果
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0021]ナノインプリントによる三次元樹脂レンズマスクの作製
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0022]電子ビーム描画装置によるEUV レジストの材料・プロセス開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0023]二波長で機能する回折ビームスプリッタの研究
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F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0024]電子ビーム描画装置によるEUV レジストのPEB 温度最適化評価
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0025]Si 光導波路の作製
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F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0026]EB 描画機を使用した微細パターンの作成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0027]フェムト秒レーザーアブレーション形成されたホウ酸塩ガラス及びアルミノケイ酸塩表面のナノホールのモルフォロジー変化
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0028]樹脂表面の粗度と銅めっきとの密着強度の相関に関する研究
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F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0029]FIB-SEM ダブルビーム装置によるTEM 試料の作製
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0030]レーザー露光装置を用いた高速分極反転特性評価のための微細キャパシタ作製
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0031]ガラス基板撥水処理
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0032]シリコン深堀エッチング装置を用いたナノピラー形成
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0033]高速マスクレス露光装置による3D パターンの描画
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0034]金ナノ構造体を用いたナノ光トラッピング
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0035]リソグラフィーと反応性イオンエッチングによるダイヤモンド表面の微細加工
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0036]バックエンド工程へのALD プロセス適用の検討
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0037]n+Ge/pGe ダイオード構造試料の作製及び評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0038]Ge サラウンディングゲートトランジスタを含む評価素子の立ち上げ
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0039]電気的浮遊構造をもつキャパシタにおける閾値制御技術の評価手法の立ち上げ
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0040]Ge nMOSFET 試作
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0041]上部コンタクトの微細加工
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0042]カルコゲナイド化合物Sb2Te3-Bi2Te3 のメモリー用材料に向けた調査
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0043]エッチング処理後のパターン形状の観察
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0044]電子線描画装置によるナノピラーレジストの創成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0045]パリレン薄膜上における高品質HfO2 絶縁膜の作製
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0046]ＵＶ硬化型樹脂のナノインプリント性とプラズマエッチング特性評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0047]近接場熱輻射を利用した高開口率MEMS ラジエータの高性能化に関する研究
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0048]電気二重層と超伝導Nb との接合
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0049]ダイヤモンド中窒素空孔中心生成制御のためのダイヤモンド微細加工
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0050]含フッ素レジストマスクを用いたサファイアのドライエッチング検討
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0051]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0052]ガラスのRIE における加工直進性の金属ドープ量依存性評価
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0053]FIB アシスト蒸着タングステン超伝導薄膜による超伝導接合のための電極作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0054]微細構造作製の検討
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0055]高感度バイオセンサ開発のための集積化基板の作製
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0056]メサ型Mg2Si pn 接合フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0057]多波長量子ドットおよび分割電極による広帯域SLD 素子作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0058]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0059]強磁性Fe4N 薄膜の細線加工と磁区観察
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0060]リソグラフィ法と蒸着装置を用いたAu マイクロパターンの作成
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0061]微細幅低温成長グラフェン配線の作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0062]原子層堆積を用いたグラフェン上へのAl2O3 絶縁層の形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0063]積層膜形成基板の断面観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0064]微細加工プロセス用非破壊光断層イメージングシステムの開発
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F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0065]ドライエッチングによるメサ型Mg2Si pn 接合フォトダイオードの作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0066]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた生体物質センシングデバイス作製プロセスの開発
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0067]Fabrication of structures for iPCM
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0068]電子線描画装置によって露光されたEUV レジストのCH パターン形成の評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0069]走査電子顕微鏡（FE-SEM）による白金薄膜の観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0070]マスクレス露光装置及び超高真空蒸着装置を用いた超伝導検出器の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0071]微小SQUID 局所磁化測定システムを用いた異方的超伝導中の磁束渦状態の研究
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F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0072]MOS ゲートスタック構造の作製及びMOSFET 評価
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0073]超格子材料の光誘起相転移と光学変調素子への応用
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0074]ダイヤモンド検出器の開発
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0075]MEMS デバイス向けコンタクトホール加工検討
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0076]全自動スパッタ装置を用いたシリサイド半導体への金属薄膜形成
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0077]グラフェン中での交差アンドレーエフ反射検出
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0078]ナノ構造体を用いた反射防止膜の開発
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0079]プロセス条件（ガス種類、流量など）の違いによる基板エッチングレートの比較検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0080]レーザーリソグラフィ装置を用いたマイクロスケールAu パッチパターンの製作
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0081]硬脆材料の微細曲面切削加工に関する研究
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0082]FIB で製作するナノ光陰極型電子光源の開発
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0083]SiO2 薄膜のドライエッチング検討
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0084]アンチドット型超伝導量子渦セルの試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0085]放射線生物実験用卓上誘電体イオン加速システムの研究
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0086]リアクティブイオンエッチングによるSiO2 膜への表面凹凸加工検討
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0087]小口径半導体ウエハへの微細パターン作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0088]超格子型相変化材料に適する評価用デバイスの開発
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0089]シングルナノを実現するナノインプリント用モールドの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0090]微細櫛形電極を利用した自己発電型バイオセンサの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0091]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0092]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0093]ICP-RIE によるGaAs2 次元フォトニック結晶の形成
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0094]熱フィラメントCVD 法で合成した単結晶ダイヤモンド薄膜の微細構造解析
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0095]TES アレイのデバイス作製プロセスの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0096]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製と電気特性評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0097]新規熱硬化性レジストを用いたエッチングレートの評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0098]マイクロSQUID を用いたメゾスコピック超伝導Al-disk の磁化測定
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0099]NV センター量子センシング応用に向けた超伝導ダイヤモンドジョセフソン接合特性評価
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F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0100]パリレンHT ライナーのスルーシリコンビアの検査
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0101]ITO ドライエッチングのための新規レジスト開発
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0102]半導体ドライプロセスによる光短パルス発生レーザー素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0103]シリコン深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0104]HEMT 作製技術の開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0105]電子ビーム描画装置を用いた微細金属パターン形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0106]電子線描画によるインピーダンス制御回路系を含む微小ジョセフソン接合列回路の作製
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0107]SQUID 配列を用いたSr2RuO4 の磁化の空間分布の計測
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0108]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0109]温度特性評価による抵抗変化メモリ(ReRAM)フィラメントの形状評価
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F-NM-093 極低温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0110]自己形成In 量子ドットの輸送特性
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0111]シリコン貫通電極のための貫通穴の作製
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0112]窒化チタン周期ナノ粒子アレイの可視・近赤外光学応答
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0113]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0114]メタルレジストのEB 露光評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0115]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製
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F-NM-093 極低温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0116]反応性イオンエッチングプロセスを用いたTiN パターンの作製
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0117]Cl2/Ar/O2 混合ガスによるIr 薄膜エッチング条件の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0118]熱刺激電流測定用試料の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0119]クロスバー型構造の抵抗変化メモリ素子の開発
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0120]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0121]電子線描画装置を用いたグラデーションパターンによるレジスト材料評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0122]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0123]超伝導トンネル接合Ｘ線検出器のためのシリコンピクセル吸収体の加工法の研究
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0124]TSV 形成用ハードマスク材料の評価
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0125]ナノスケール高感度電圧電流計測のための導電性プローブ顕微鏡システムの構築
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0126]原子層堆積法による有機ポリマー材料上への酸化物精密堆積プロセスの検証
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0127]窒化シリコンウィンドウ上への磁性ドット形成
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0128]スパッタリング成膜したAg 合金の評価
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0129]ポリマー材料の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0130]電子ビームリソグラフィによる強誘電トンネル接合素子の試作
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0131]吸引プラズマエッチング加工されたSi 基板の加工痕形状計測
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F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0132]超高真空スパッタ装置を利用したBaSi2 薄膜の形成
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0001]グラフェン電特評価用試料の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0002]極低温プローバーシステムを使用したグラフェン電気特性評価
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F-NM-093 極低温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0003]微細構造体の複製
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F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0004]中赤外光アンテナの作製と特性評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0005]β-FeSi2 を用いたSi フォトニクス素子の作製
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0006]収束イオンビーム装置(FIB)を用いた磁性フォトニック結晶の作製
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0007]SiO2 基板上へのAu ナノ円柱アレイの作製
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0008]Si 基板上へのAu ナノアレイ素子の作製
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0009]β-FeSi2 を用いたSi フォトニクス素子の表面状態の評価
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0010]An Investigation on the Adhesion of Printed Traces
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0011]分数磁束量子探索用ナノ構造体の作製
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0012]ナノ粒子膜三端子MR 素子用微細電極形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0013]カーボンナノチューブ歪印加素子の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0014]グレーティングカプラを有するシリコン光導波路作製
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0015]スライド型ナノアクチュエータ開発に向けた異方的V 字パターンの作成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0016]アドレス基板の作製
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0017]MEMS ワイヤレス温度センサの開発
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F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0018]レーザーアブレーション及びFIB エッチングによりホウ酸塩ガラスおよび結晶表面に形成されたナノホールのモルフォロジー
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0019]電子線描画を用いた強磁性窒化物薄膜の微細加工
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0020]炭素材料を利用した電界効果型トランジスタの作製と電気特性の制御
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0021]サファイアエッチング用ＵＶ硬化レジスト開発のためのエッチング方法の確立
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0022]難エッチングSiO2 ガラスの成膜・加工
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0023]カーボンナノチューブトランジスタにおける環境効果
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0024]グラフェンの電子状態における環境効果
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0025]塩素ガス反応性イオンエッチングによる強磁性窒化物薄膜の微細加工
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0026]酸化膜ドライエッチング装置によるSiO2 ガラスのエッチング
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0027]n+/p ダイオード構造パターン試料の作製
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0028]マスクレス・リソグラフィを用いた微細構造の形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0029]薄膜形成、リソグラフィ、エッチング等を用いた微細構造の形成
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0030]X-point TEG(Test Element Group)の試作
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0031]ゲート前処理を実施したGe MOS Capacitor の試作
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F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0032]原子層堆積装置を用いた高品質絶縁膜の形成
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0033]極薄High-k 膜を用いたGe MOSFET 試作
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0034]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストおよびフォトレジスト周辺材料開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0035]高誘電率ゲート絶縁膜/メタルゲート電極スタックを有するGe MOSCAP 評価
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0036]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストの評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0037]シリサイド赤外受光素子の開発
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0038]2 次元機能性原子薄膜半導体を用いたデバイス試作
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F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0039]スパッタリングなどを用いた層構造形成
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0040]電子ビーム描画装置によるEUV レジストの材料・プロセス開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0041]金属ピラーにおける上部コンタクトの微細加工
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0042]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製とその光応答性
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-093 極低温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0043]新規レジストの高選択性ドライエッチング条件の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0044]グラフェンナノリボンの電気特性評価
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F-NM-093 極低温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0045]走査プローブ顕微鏡のための多機能プローブの作成
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F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-085 シリコン酸化・熱処理炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0046]DMD 露光装置を用いたマイクロレンズ作製に関する研究
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F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0047]電子線リソグラフィによる超格子相変化薄膜を用いたデバイス作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0048]軟材料の断面加工・観察
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0049]電子ビーム描画装置等を用いたグラフェン／超伝導体接合を持つデバイスの作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0050]光学ガラスのエンドミル切削において切れ刃稜線の粗さが脆性損傷に及ぼす影響
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0051]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト及びプロセスの開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0052]宇宙用太陽電池の局所断面観察
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0053]Ga イオンビームエッチングによる微細構造ミラーの作製検討
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0054]GaN ナノワイヤーの位置調節選択成長と異意系発光ダイオード応用
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0055]加速度センサー要素技術
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F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0056]プラズマドーピングサンプルに対する対薬品耐性の評価
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0057]原子層堆積装置による多糖類フィルムへの酸化アルミニウム膜の成膜
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0058]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0059]ALD 法による酸化膜上への金属薄膜の形成評価
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0060]アルミニウムナノピラー周期アレイ構造の作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0061]ダイヤモンド成長用下地基板のサファイアの加工
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0062]高感度バイオセンサ開発のためのセンサ基板の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0063]走査電子顕微鏡（FE-SEM）によるニッケル薄膜の観察
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0064]トップダウン手法によるプラズモニックアレイの作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0065]シリコンナノワイヤ構造の作製
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0066]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
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F-NM-072 レーザー露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0067]電子線リソグラフィーによる歪Ge 中への量子ドット形成用ゲート電極の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0068]グラフェン用ハードマスク作成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0069]Ge cavity にTi/Au 及び絶縁膜蒸着
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0070]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究
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F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0071]フォーミングガスアニールがSiO2/Si 界面の熱抵抗に与える影響
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0072]シリコン深堀加工を用いたSi 基板を吸収体とする超伝導トンネル接合検出器の開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0073]宇宙機汚染管理を目的としたQCM アレイセンサの作製と評価
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0074]ゲートスタック構造の作製
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F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0075]自己形成量子ナノリングにおける伝導特性調査
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0076]電子ビーム描画装置を用いた微小SQUID 局所磁化測定システムの作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0077]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン-第二種超伝導体接合素子作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0078]電子ビーム描画装置を用いた半導体-超伝導微小接合素子作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0079]電子ビーム描画装置を用いた超伝導体／半導体二次元電子系接合作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0080]III-V 族化合物半導体ナノワイヤのAu 触媒形状観察
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0081]インプリント技術による微細パタン転写プロセスに関する検討
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F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0082]SOI センサデバイスの作製に関するユニットプロセス開発
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F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-073 マスクアライナー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0083]X 線構造解析に適する相変化材料メモリ素子の作製
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F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0084]pn ホモ接合InGaN LED 構造のプロセス技術構築
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0085]半導体ドライプロセスによる平面型LED 素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0086]半導体ドライプロセスによる多セクションダイオード発光素子の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0087]InAs 量子ナノ構造-超電導デバイスの室温測定による評価
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F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-092 室温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0088]EDLFET キャリアドーピング用試料の整形と端子の形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0089]原子間力顕微鏡による中性子ミラーの表面ラフネスの測定
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0090]強誘電体フォトニック結晶作製のためのPLZT/ITO キャパシタの特性評価
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F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0091]パリレン薄膜上におけるALD 高品質酸化物絶縁膜の作製
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0092]グラフェンを用いた交差アンドレーエフ反射検出器の作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0093]ALD 法によるCNT へのアルミナコーティング
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0094]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン超伝導デバイスの作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-087 原子間力顕微鏡
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0095]塩素系ガスを用いたドライエッチングによるITO パターニング条件の検討
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0096]自己発電型Au-Pt 微細くし電極バイオセンサの開発
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-089 ダイシングソー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0097]微細くし形電極バイオセンサにおける自己組織化膜の影響
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0098]ナノインプリントモールドの作製とナノインプリント材料の転写性評価
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0099]ＵＶ硬化型樹脂のプラズマエッチング特性
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0100]CVD グラフェン微細配線の作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0101]微細幅多層グラフェン配線の形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0102]磁束量子渦検出のための反応性イオンエッチングを用いたnano SQUID の開発
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F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0103]モスアイナノ構造光デバイスの研究開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0104]撥水性Nano/Micro 構造体デバイス研究開発
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0105]ITO ドライエッチングのための新規レジスト開発
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F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0106]EDLFET キャリアドーピング用LaNiO3 薄膜試料の整形と端子の形成
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0107]InAs 量子ナノ構造-超伝導体ハイブリットデバイスの作製と評価
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0108]窒化・酸化シリコン複合膜への貫通孔作製
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0109]原子層堆積法による有機材料上への酸化物薄膜成膜プロセスの検証
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F-NM-078 原子層堆積装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0110]トンネル磁気抵抗素子の微細加工プロセスの確立
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0111]電子ビーム描画装置を用いたNb/Ru/Sr2RuO4 接合の作製
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0112]単一微小ジョセフソン接合の輸送特性の電磁環境依存性
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0113]反応性イオンエッチングを用いたSQUID 配列の開発
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0114]超伝導光子検出器と光ファイバの高効率自己結合技術の開発
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0115]Si の深堀エッチングを用いた超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合技術の開発
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0116]低抵抗単一微小ジョセフソン接合の電磁環境の影響
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0117]Si 犠牲層膜を用いたサブミクロンギャップ平行平板デバイスの製作
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F-NM-074 全自動スパッタ装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0118]自己形成InAs ナノリングの低温での電気伝導特性の研究
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F-NM-087 原子間力顕微鏡
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0119]高圧電性ScAlN 薄膜を有するダイヤモンドSAW デバイスの研究
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0120]ディープ反応性イオンエッチング (DRIE) を用いてシリコンテーパ側壁エッチング
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0121]医療用OCT への応用を目指した多波長InAs 量子ドット広帯域近赤外SLD 光源作製
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F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-090 自動スクライバー
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0122]フォトニック結晶導波路と広帯域発光量子ドットを用いた多波長光源の試作
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F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0123]細胞培養用の基材として用いられる三次元パターンの作製
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F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0124]イオン注入を施した酸化物半導体トランジスタ試作のためのプロセス開発
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F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0125]グラファイト層間化合物薄膜上への金属電極形成
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F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-087 原子間力顕微鏡
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0001]電子線描画による金属ナノギャップ電極のための微細構造の作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0002]PEEM 観察のためのFIB によるナノ加工
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0003]Alignment mark and TSV formation on Si
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0004]高性能GaAs HEMT 簡易評価技術の開発
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0005]プラズモン発光素子の発光メカニズムに関する研究
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0006]ＦＩＢによる微細マスク形成と界面活性剤入りアルカリ水溶液を用いたＳｉマイクロ・ナノ構造体の製作
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0007]FIB 加工による磁性フォトニック結晶の作製
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0008]電子線描画を利用したプラズモンナノキャビティの作製
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0009]SnTe/Sb2Te3 超薄膜超格子
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F-NM-059 スパッタ装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0010]バンド間位相差ソリトン回路作製
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F-NM-060 金属蒸着装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0011]化合物ドライエッチング装置を用いた化合物半導体のメサ構造の作成
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0012]カーボンナノ材料歪印加素子の開発
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F-NM-059 スパッタ装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0013]シリサイド赤外受光素子の開発
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0014]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製（１）
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0015]有機EL のプラズモン散乱と光ナノアンテナの特性評価・応用研究
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0016]電子線描画を用いた強磁性薄膜の細線加工
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0017]バイオセンサーへの応用を目指した集積化基板の作製
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F-NM-059 スパッタ装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0018]スパッタリングによるバイオセンサ用金電極パターンの形成
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0019]サブ波長グレーティングの作製
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0020]Si 基板表面への金属触媒蒸着
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F-NM-060 金属蒸着装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0021]MR 素子用微細電極形成
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0022]高い選択比を持つRIE 装置を用いたSiO2/Si 基板への微細孔の加工
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0023]走査電子顕微鏡によるAu-TiO2-Ag ナノ粒子の構造評価
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0024]デバイスプロセスを用いた微細構造の作製
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F-NM-059 スパッタ装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0025]軟材料の断面加工・観察
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0026]インピーダンス変化を用いたワイヤレス温度測定に関する基礎的研究
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0027]三次元実装に向けた放熱流路評価
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0028]塩素プラズマにおける有機ポリマー材料のエッチング特性
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0029]微細パターンモールドを用いた光ナノインプリントにおける転写性改良
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0030]電子ビーム描画装置を用いた金属ナノ構造の作製
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0031]宇宙用MEMS の試作
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F-NM-060 金属蒸着装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0032]パルスアーク放電で生成したOH のPLIF 計測を用いた金属表面上の化学的消炎機構の検討
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0033]液滴エピタキシー法によるInAs 量子ドットの作製とその光学特性評価
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0034]レーザーアブレーション及びFIB エッチングによる酸化物へのナノホールの作製とその形態
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0035]リチウムイオン電池用微細加工シリコン負極の作製
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0036]FIB を用いたTlBa2CaCu3Oz(Tl-1223)の微小リングの作製
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0037]高分子強誘電体薄膜特性評価のための微細キャパシタの作製
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0038]電子線リソグラフィによる新規超格子相変化薄膜を用いたデバイスの作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0039]GaAs:N を用いたマイクロピラー光共振器の作製
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0040]シリコン深堀加工を用いたSi 基板を吸収体とする超伝導検出器の開発
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0041]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0042]真空プローバを用いたグラフェントランジスタの電気伝導特性評価
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F-NM-066 電気計測装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0043]気相中の汚染物質検出用温度補償型QCM 素子の作製
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0044]アミロイドをテンプレートとしたグラフェンナノリボンの電気特性評価
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F-NM-065 切削・研磨装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0045]高感度CAFM のためのシールド付き導電性AFM プローブの作成
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0046]集束イオンビーム照射によるグラフェンへの欠陥・歪導入と電気特性評価
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F-NM-066 電気計測装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0047]InGaN 材料未踏デバイス製作のためのプロセス技術構築
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0048]リソグラフィ装置を用いた量子ナノ構造の超伝導輸送特性
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0049]β-FeSi2 からなるフォトニック結晶の作製検討
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0050]量子ドットデバイス作製のためのSiおよびSiO2基板上Au円孔パターンの作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0051]表面プラズモン効果を用いた素子のためのSi 基板上Au 薄膜の微細加工
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0052]表面修飾ナノグラフェン薄膜を用いた電界効果型トランジスタ（FET）の作成
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F-NM-066 電気計測装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0053]β-FeSi2 からなる二次元スラブ構造フォトニック結晶の設計とプロセス検討
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0054]自己形成量子ナノリングの伝導測定
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0055]ＩｎＡｓ量子ドット及び量子リングを用いたデバイスの作製
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F-NM-060 金属蒸着装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0056]極低温プローバーシステムを使用したグラフェン電気特性評価
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F-NM-066 電気計測装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0057]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン超伝導デバイスの作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0058]EB 描画装置等を用いたグラフェン／超伝導体接合を持つデバイスの作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0059]電子ビーム描画装置とRIE 装置を用いたグラフェン-超伝導素子作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0060]電子ビーム描画装置を用いた半導体微小構造形成と超伝導素子応用
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0061]電子デバイス温度測定に向けた4 端子金属構造の作製
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0062]発光波長制御されたInAs 量子ドットによる広帯域光源
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0063]OCT 光源への応用を目指したQD ベース近赤外SLD 光源の作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0064]ナノパーティクルデポジション法で形成した微細円錐バンプの検査
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0065]ALD を利用したパリレン薄膜上への高品質HfO2 およびAl2O3 絶縁膜作製
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0066]局所磁場観測のためのアルミSIS によるnano-SQUID の作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0067]単一微小ジョセフソン接合に対する浮遊容量の影響
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0068]自己形成InAs 量子ドット中に光励起されたキャリアへのシュタルク効果
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0069]電子線描画装置と12 連電子銃蒸着装置を用いた微小SQUID の作成とその性能評価
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F-NM-066 電気計測装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0070]Si 深堀エッチングを用いたスキャニングSQUID プローブの加工
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0071]SAB 接合界面TEM 観察用試料作製
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0072]レーザー露光装置・RIE 装置を利用した3 次元構造のSQUID の作製
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0073]高品質ゲルマニウム極薄酸化膜の形成
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F-NM-066 電気計測装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0074]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0075]ドライエッチング耐性と現像性を両立したITO パターニング用フォトレジストの開発
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0076]塩素ガスによる高選択比ITO ドライエッチング条件の検討
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0077]FIB 加工における保護膜としてのSIS-SQUID 上へのSiO2 膜作製
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F-NM-059 スパッタ装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0078]半導体微細加工技術を用いたグラフェン / NbN の素子の作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0079]アモルファスSi とβ-FeSi2 からなるSi 積層素子の評価
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0080]２次元機能性原子薄膜をチャネルとするトランジスタ形成プロセスの検討
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0081]FIB-SEM ダブルビーム装置を用いた光電子融合ナノエレクトロニックデバイス の作製
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F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0082]ALD 装置を利用したHfO2 薄膜の作成
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0083]Silicon photonic devices for application
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0084]インプリント技術による微細パタン転写プロセスに関する検討
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0085]電子線描画装置とそれによる重ね合わせを利用した三次元光学異方試料の作製
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F-NM-059 スパッタ装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0086]La2O3 / hetero-InAs-on-insulator nMISFET 試作
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0087]1550nm での電界吸収型Ge 光変調器の研究開発
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0088]サファイア用ドライエッチングレジストに関する研究
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0089]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製（2）
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F-NM-062 ドライエッチング装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0090]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究
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F-NM-059 スパッタ装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0091]超伝導—強磁性体接合(YBCO-LSMO)における輸送現象
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0092]Au-Pt くし型 バイオセンサ電極の開発
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0093]AlGaN / GaN HEMT のパワーデバイス応用を目指した研究開発
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0094]流れ方向に温度勾配を持つマイクロチャネルを用いた化学的消炎効果のLIF 計測
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0095]EB リソグラフィによる高感度バイオセンシング用ポリマー導波路構造の作製
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F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0096]走査電子顕微鏡（FE-SEM）を用いた薄膜構造の観察と組成分析
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0097]X 線測定に適する相変化材料スイッチング素子の作製
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F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0098]シリコン酸化膜形成
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0099]ALD 法による絶縁膜上への金属薄膜の形成評価
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0100]SEM 観察による金属薄膜の膜厚評価
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F-NM-064 観察・評価装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0101]酸化物半導体へのイオン注入のための下地・保護層となるALD アルミナ酸化膜の 堆積
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0102]ALD による有機無機ハイリッド構造作製に向けての基礎データ取得
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0103]ALD による有機薄膜上への酸化物薄膜堆積
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F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0001]電子線描画装置を用いた自己形成InAs 量子リングJosephson 接合の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0002]アルミナ及びハフニア絶縁膜を用いたサブミクロンゲートダイヤモンド電界効果トランジスタ
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0003]電子ビーム描画を用いたグラフェン超伝導量子干渉計の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0004]MoS2 トランジスタの試作
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0005]インプリントリソグラフィ装置を用いたナノ構造の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0006]自己形成InAs 量子ドットジョセフソン接合の伝導特性
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0007]窒化シリコン膜のドライエッチング加工の検討
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0008]MEMSラインを利用した新規試作プロセスの構築
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0009]RIE 装置、EB 描画装置、レーザーリソグラフィ装置を用いたグラフェン/NbN の素子の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0010]電子ビーム描画装置を用いた超伝導体-半導体-超伝導体接合の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0011]バイオセンサー応用のためのエッチング法を利用したホールアレイの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0012]超伝導—強磁性体接合(YBCO-LSMO)における輸送現象
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0013]架橋型グラフェン量子ナノデバイスの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0014]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン／超伝導金属接合の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0015]電子線描画およびドライエッチングによる光波メタマテリアル表面の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0016]電子線描画およびドライエッチングによる光波メタマテリアル表面の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0017]マスクレス露光装置、原子層堆積装置等を用いたリチウムイオン電池用電極材料評価のためのミニセル作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0018]描画・蒸着・エッチング技術を用いて作製したMIS 型Schottky フォトダイオードによる自己形成InAs 量子ドットへの電界効果の研究
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0019]超低電力動作SnXTe100-X/Sb2Te3 希釈系超格子相変化メモリ
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0020]塩素系ガスを用いたドライエッチングによる酸化物半導体の微細加工
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0021]多色量子ドットによる近赤外広帯域光源に向けた微細加工
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0022]リッジペアで構成されるグレーティングによる光制御
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0023]新奇光学現象の探索のための3 次元のナノ構造体作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0024]ホールアレイを用いた透過位相制御
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0025]AlGaN/GaN HEMT パワーデバイスの試作
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0026]平面型超格子相変化材料メモリの試作と測定
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0027]電子線描画装置とドライエッチング技術を用いた近赤外メタマテリアルの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0028]電子ビーム描画を利用したプラズモンナノキャビティの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0029]PSS のためのサファイア基板ドライエッチング処理
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0030]Pt-Au 櫛型電極を用いた過酸化水素センサの開発
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0031]ナノアンテナによる多波長遠赤外線受信
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0032]Ta2O5／SiO2 誘電体多層膜のTEM 観察
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0033]カーボンナノチューブ歪印加素子の開発
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0034]アモルファスSi を用いたナノ光デバイスの研究
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0035]超低電力動作GeXTe100-X/Sb2Te3 希釈系超格子相変化メモリ
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0036]櫛型金電極を用いた非標識免疫センサの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0037]中赤外光アンテナの作製と特性評価
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0038]中赤外光アンテナの作製と特性評価
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0039]環境半導体ベータ鉄シリサイドを用いたナノ光デバイスの研究
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0040]赤外線受信素子のMIM ダイオード部分の酸化膜観察
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0041]原子間力顕微鏡を用いたグラフェン上金属薄膜形態の観察
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0042]電子線描画装置を用いた微細メサ構造、および超伝導接合の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0043]樹脂基材上に原子層堆積法で形成したアルミナ膜の特性確認
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0044]GaAs フォトニック結晶導波路のアップコンバージョン素子の開発
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0045]FIBを用いた二次元フォトニック結晶の作成
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0046]発光波長制御されたIn-flushed 量子ドットサンプルのTEM 観察
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0047]STM-SQUID顕微鏡の磁場校正用試料の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0048]選択成長ナノグラフェン薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作成
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0049]微細加工技術による共振器構造の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0050]ICP装置を用いたサファイアエッチングの検討
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0051]細胞機能を制御する三次元培養基材の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0052]超微小アルミトンネル型接合によるμSQUIDの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0053]赤外線受信素子の高感度構造の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0054]超高速伝送に向けたマイクロＡｕバンプによるインターコネクト技術に関する基礎検討
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0055]金属的導電性ラングミュア・ブロジェット膜を用いた分子接合素子の開発
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0056]水平配向カーボンナノチューブの合成
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0057]走査電子顕微鏡を用いたAu/TiO2 新規ナノ粒子の構造の観察
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0058]基板上への金薄膜の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0059]紫外線照射による光学部品劣化の分析
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0060]Ag薄膜を用いたバイオ電極アレイの製作
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(登録なし)
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[F-12-NM-0061]ナノインプリント法による光学素子の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0062]micro-SQUIDによる微小Sr2RuO4 片まわりの局所的磁場観測
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0063]スパッタ装置を用いた銀蒸着シリコン基板の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0064]描画装置および成膜装置を用いた超伝導リングの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0065]新規ゲート構造が適用可能なGaAs トランジスタの試作
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0066]ナノパターニング技術による高分子強誘電体ゲートFET の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0067]レーザー露光装置を用いたパターン付伝導性光学素子の製作
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0068]フェムト秒レーザーアブレーションならびにEB リソグラフィーによるホウ酸塩結晶およびガラスにおけるナノホールの形態観察
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0069]Si深堀エッチングを用いたスキャニングSQUID プローブの加工
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0070]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0071]原子層堆積装置を用いた絶縁酸化物の合金および磁性半導体上への成膜
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0072]三次元実装に向けた放熱流路評価
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0073]GaAsへのノーマル電極の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0074]電極活物質評価のためのマイクロセル作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0075]電子ビーム描画装置を用いた短チャネルグラフェントランジスタの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0076]走査電子顕微鏡を用いたAu/TiO2 新規ナノ粒子の構造評価
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0077]露光用ユニバーサルキャリア技術の検証
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0078]原子層堆積装置を用いた高誘電率・高耐電圧絶縁酸化物層の磁性半導体上への成膜
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0079]急速アニーリングによる選択的量子構造領域の作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0080]パルスアーク放電で生成したOH のPLIF 計測を用いた金属表面上の化学的消炎機構の検討
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0081]MEMS シャッターの宇宙用電子部品放射線試験への応用にむけた試作
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0082]GNR 合成用サファイヤ基板のカット
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0083]フォトリソグラフィー技術による高分子強誘電体微細キャパシタの作製
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0084]インピーダンス変化を用いたワイヤレス温度測定に関する基礎的研究
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0085]原子堆積法による歪みゲルマニウムへのアルミニウム酸化膜の堆積
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(登録なし)
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0086]高移動度チャネル材料の研究
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0001]強誘電体膜（KNbO3）の誘電圧電特性の評価
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0002]Pd合金の水素吸蔵特性
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0003]微細構造観察のためのNiCo2O4薄膜の加工
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0004]GaNへのOイオン注入により形成したn型領域のDLTS評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0005]サムコ製ALD装置(AD-100LP)を使った成膜時のパーティクルの低減検討
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-144 原子層堆積装置〔AD-100LP〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0006]窒化ガリウムN極性面の電極コンタクト検討
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0007]界面遷移層厚の成膜手法依存性
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F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0008]ダスト除去機能を有する放熱面の試作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0009]ダスト除去機能を有する放熱面の試作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0010]ナノプローバによるCu-Cuハイブリッド接合界面の電気特性の計測
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0011]偏光素子開発
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0012]YIG薄膜の成膜と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0013]窒化ガリウム縦型PN構造を用いたα粒子検出器
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0014]P-CVD TEOS-SiO2の段差被覆性
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0015]Si基板上p-GaNゲートHEMTの試作
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0016]Si基板上p-GaNゲートHEMTエピウエハのSIMS評価
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0017]光学式膜厚計によるp-GaN / AlGaN選択エッチングの評価
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0018]感光性樹脂材料のパターニング評価
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0020]半導体デバイスの特性調査
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F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0021]電子線描画を用いて作製したジョセフソン接合の寸法評価
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0022]表面弾性波共振器を用いた極低温環境における水晶基板の欠陥評価
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0023]微小部蛍光X線分析装置によるCu膜の膜厚測定
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0024]高純度オゾンを用いたALD SiO2膜のI-V特性
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0025]高純度オゾンガスを用いたALDにて成膜したTiO2表面粗さ
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0026]分光エリプメータによるSi基板上SiO2膜の膜厚測定
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0027]PAMBE成長α-(AlxGa1-x)2O3薄膜の結晶構造評価
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0028]微細磁気デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0029]光触媒表面特性解析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0030]ポジトロニウム生成のための極微細キャビティ反応器の作製
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F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0031]窒化シリコンスパッタ膜の成膜レート
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0032]SOGおよびSiO2膜厚の光学式膜厚計(K-MAC)による計測
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0033]新磁性素子試作
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0034]窒化シリコンスパッタ膜の成膜レート
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F-AT-102 触針式段差計
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0035]厚膜レジストを用いたパターン形成
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0036]Ta2O5膜熱処理評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0037]p-GaPとITOのコンタクト抵抗評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0038]プラズマCVD薄膜堆積装置のBHF LAL 200ウェットエッチレート
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0039]評価用素子構造の特性への影響
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0040]金属有機構造体における陽極反応の評価
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F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0041]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0042]XPSによるルテニウム薄膜の分析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0043]InPへのオーミックコンタクト電極の形成
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F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0044]CNT赤外線センサーの電極作製
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F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0045]印刷したはんだペーストのリフロー後の表面観察
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F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0046]高抵抗TEGの不良解析
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0047]WOW積層メモリ向けプローブ痕対策
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0048]導電性高分子の磁場下での電気伝導度測定
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F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0049]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0050]製品層内に付着した汚れ・異物の分析
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F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0051]ミリングレート安定性評価
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0052]PAD法により形成した酸化物膜の電子状態の観察
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0053]ガス電子増幅用ガラス基板の開発2
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F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0054]ICPドライエッチングを用いたAl電極の加工
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0055]PECVDと蒸着を用いて成膜したSiO2の被覆性の違い
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0056]ダイシング時の保護膜の有用性
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0057]超電導量子回路に向けた高Q超電導共振器の開発
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0058]アルミ薄膜の微細加工
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0059]原子層堆積装置を用いたSnO2薄膜の形成、およびその光学特性評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0060]櫛歯型レジストパターンをマスクとしたSi基板の垂直加工
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0061]カーボン高精度パタン加工のためのSiO2-Siハードマスクの検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0062]原子層堆積法による微細加工シリコン基板上への酸化物薄膜形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0063]Si基板上のAl2O3膜の評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0064]スチレン系熱可塑性エラストマー超薄膜中のスチレン成分の深さ方向分布解析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0065]ナノチャネル電界効果トランジスタ構造によるPt/Ni薄膜の磁気特性制御
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F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0066]共振子のウェハレベル高真空封止技術
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0067]高密度・高速応答熱電対アレイの試作
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0068]ガラス基板上の Alワイヤーグリッド偏光子の形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0069]金埋め込み電極作製に向けた高アスペクト比トレンチ内における薄膜成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0070]PEDOT：PSSの断面解析
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0071]基板上への微細Al電極作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0072]MOCVDで成膜されたAlN膜のドライエッチング
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0073]ペロブスカイト太陽電池に用いるペロブスカイト半導体結晶層の価電子帯準位とフェルミ準位の測定
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0074]原子状酸素照射高分子フィルムの FE-SEM 観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0075]原子状酸素照射高分子フィルムの SPM 観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0076]ALD技術を利用したケミカルドライエッチング評価用TEGの作製
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0077]油中での摩擦によって露出させた銅母材への潤滑添加剤の吸着と摩擦／摩耗挙動
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0078]エステル基を持つ潤滑添加剤のナノトライボロジー特性評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0079]歯冠修復材料としてPEEK材を応用するための研磨方法の評価
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0080]太陽電池中のドーパント濃度の定量分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0082]HIプラズマを用いたGe表面のXPS分析
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0083]GaNのホール移動度測定
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F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0084]酸化アルミニウム薄膜の形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0085]リフトオフ加工によるシリコン基板上のプラチナ微細構造の成膜
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0086]FinSET素子の作製
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0087]アンモニア火炎が固体壁に与える影響のモデル化
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0088]YIGエピタキシャル薄膜の成膜と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0089]磁性酸化物薄膜のイオンミリング加工
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0090]共役高分子ブレンド膜における膜組成の深さ方向評価手法の検討
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0091]回折光学素子の作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0092]ダイヤモンド上の金属積層膜の作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0093]ダイヤモンド上のAl2O3薄膜のエッチング
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0094]検証用Waferの製作
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0095]原子層堆積法を用いた金属成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0096]AlGaAs膜のドライエッチング加工
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0097]ALD膜の吸収評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0098]高圧ジェットリフトオフ装置を用いたMEMS微細加工
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F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0099]大気圧プラズマによる表面改質
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0100]DLC薄膜分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0101]カーボンナノチューブバンドルの電気抵抗評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0102]i線ステッパーによる2インチウエハ上へのレジストパターン作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0103]TiO2/CaF2薄膜の表面形状観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0104]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜による多層MIMダイオードを用いたレクテナの開発及びウェットエッチングで混酸アルミがAl2O3に与える影響について
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0105]i線ステッパーによる回折光学素子のレジストパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0106]i線ステッパーによるマイクロ流体デバイスへのレジストパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0107]マスクレス露光装置によるライン＆スペースの形成
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0108]リフトオフ加工によるニオブ酸リチウム基板上の櫛形電極の成膜
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0109]GGG結晶上へのYIG膜のスパッタ成膜
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0110]高純度オゾンを用いたALD SiO2膜の比誘電率
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-110 デバイス容量評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0111]高アスペクトトレンチSiへの高純度オゾンガスを用いたALD
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0112]SiN膜イオンミリング
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0114]XPSによる金属ステントの表面評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0115]純V水素透過膜へのPdの成膜
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0116]アルミニウムナノシリンダーアレイへの誘電体層の被覆による耐熱性の向上
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0119]GaN薄膜の原子層堆積
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0001]Au電極上へのSU-8パターニングの検討
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F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0003]酸化ガリウムを用いた共鳴トンネルダイオードの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0004]熱処理温度による電極/n型窒化アルミニウムへの電気抵抗への影響
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0005]酸化アルミニウムのドライエッチング
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0006]α-Al2O3ホモエピタキシャル薄膜の結晶構造評価
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0007]食品添加物コハク酸のX線回折分析
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0008]XPSによるルテニウム薄膜の分析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0009]塗布型半導体カーボンナノチューブの移動度向上とICタグへの応用
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0011]Pd系アモルファス合金の構造安定性評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0012]炭化鉄ナノ粒子のキュリー点測定
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0013]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0014]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0015]基板上への微細Al電極作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0016]偏光素子開発
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0017]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0018]超電導パラメトロン素子上に配置したエアブリッジの作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0019]GaNへのドライエッチングダメージ除去手法の検討
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0020]ALD-AｌN膜中酸素の抑制検討
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0021]p型GaN-金属コンタクト特性の電極形成前表面処理条件依存性
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0022]p型GaN-金属コンタクト特性の熱処理条件依存性
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0023]硫化スズのエピタキシャル成長における成長初期過程の検討
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0024]AlGaNのCV評価におけるコンタクト抵抗の温度依存性
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0025]ガス電子増幅用ガラス基板の開発
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F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0026]原子層堆積法を用いた金属成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0027]レーザーラマン分光法を用いた毛髪タンパクの構造解析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0028]フォトリソグラフィ特性評価
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0029]Y2O3を用いたGe系デバイス試作
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0030]Si基板上のTEOS-SiO2の絶縁耐圧評価
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F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0031](K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成
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F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0032]加工用レジスト材料の分析評価
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F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0033]Si基板上の薄膜a-Siの膜厚測定
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0034]薄膜の膜厚測定
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F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0035]Pt合金膜の開発
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0036]イオンミリングによる断面解析
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0037]アルミを成膜したウエハ上でのリソグラフィの合わせ検査
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0038]Ta2O5膜評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0039]磁性薄膜試料作製および特性評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0040]ドライエッチングを用いたシリコン深堀り加工
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0041]シリコン表面のパターン形成
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0042]原子層堆積装置を用いたSi基板上への酸化膜の形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0043]MIM構造試作と強誘電性の熱処理依存
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
F-AT-141 単波長エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0044]サーモリフレクタンス測定のための金属薄膜作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0045]Si基板上のSiO2膜の膜厚評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0046]GaN薄膜の原子層堆積
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0047]バッファードフッ酸を用いたSiO2のウェットエッチング
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0048]サファイア基板の切削
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F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0049]N面GaNにおけるオーミック接触形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-138 マニュアルウェハープローバー(2F)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0050]p-GaNのホール測定のための電極形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0051]p-GaN/AlGaN/GaN ダイオードの特性評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0052]GaN HEMTのAuフリーオーミック電極の形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0053]グラフェンをチャネルとしたFETデバイスの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0055]高精度Ptパタン加工のためのハードマスクプロセス検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0056]Mix&Match法にてEB露光した際の位置精度の評価について
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0057]ALD法を用いた微細L/Sパターンへの均一なSiO2成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0058]製品層内に付着した汚れ・異物の分析
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F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0059]原子層堆積法による石英基板上への酸化物薄膜形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0060]レジストパターンのマスクでの真円性を考慮したSi基板の垂直加工
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0061]電子線蒸着法によるAu薄膜の形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0063]半導体デバイスの特性調査
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0064]高密度・高速応答熱電対アレイの試作
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0065]可視光LEDの微小発光素子形成プロセス開発
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0066]電子部材へのポリイミド応用
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F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0067]有機半導体デバイス型バイオセンサの開発
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0068]ダスト除去機能を有する放熱面の試作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0069]IC解析
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0070]IC解析
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0072]GaAs基板への高アスペクト比のスルービアの形成
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0073]GaAs基板への高アスペクト比のスルービアの形成
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0074]無電解Niめっき上の微細構造形成
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0075]高純度オゾンを用いたALD Al2O3膜のI-V特性
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0076]高アスペクト比トレンチ溝への高純度オゾンALD Al2O3膜の被覆特性
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0077]デジタルマイクロスコープを用いたフィルムの表面状態観察
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0078]誘電体DBRリフトオフプロセスの確立
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0079]水溶性基板上のPt, Au, Ni薄膜のナノパターン形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0080]マグネタイト薄膜の結晶性評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0081]2端子セレクター素子向け導電性酸化物薄膜の成膜条件最適化
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0082]グレイスケール露光を利用したDOE用電鋳モールド作製技術の開発
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0083]窒化物半導体デバイスの開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0084]クロスセクションポリッシャによるサンプル加工検討
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0085]積層DRAM向けTSVの不良解析
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0086]医療用MEMSデバイス プロセス開発
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0087]Cr/NiPめっきのビット断面観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0088]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0089]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0090]フッ素エラストマーの耐プラズマ性向上を志向したシリカフィラーの効果検証
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0091]印刷サンプルの表面分析
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0092]グラフェンバイオセンサーのiv特性測定
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F-AT-138 マニュアルウェハープローバー(2F)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0093]回路基板上へのアライメントマークの作製
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0094]FIB を用いた銀蒸着テフロンフィルムへの微細構造形成
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0095]HfNナノ構造の作製
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0096]太陽電池中ドーパント濃度の定量分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0097]リフトオフプロセスによる金属パターン形成
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0098]GaN基板表面付近の深さ方向不純物分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0099]平面型グラフェン電子源の作製
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-141 単波長エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0100]PE-ALDのコンフォーマル特性調査
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0101]鉄系酸化物とマグネシウムシリケートのラマンスペクトル測定
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0102]金埋め込み電極作製に向けた高アスペクト比トレンチ内における薄膜成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0103]グラフェンを歪みセンサーとした自己検出型カンチレバーの作製
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0104]高速X線トモグラフィのための単焦点距離マルチビーム光学素子の開発
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0105]酸化物半導体ナノ粒子間界面と熱輸送制御
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0106]単結晶試料のFIBの加工表面の観測
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0107]ZnO - SiO2 - Al2O3薄膜による多層MIMダイオードの電極の形状を変化させたときの評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0108]遷移金属カルコゲナイド原子細線の電気伝導特性の測定
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0109]ダイヤモンドへの電極形成技術
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0110]ダイヤモンドへの電極形成技術
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0111]ウェハレベル高真空封止技術のためのサブミクロンホールリソグラフィ
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0112]超電導表面弾性波共振器を用いた回路量子電磁気学の研究
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0113]SBS薄膜中のスチレン成分の深さ方向分布解析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0114]コポリマーの作製及び性能評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0115]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスとマイクロ粒子の作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0116]金属酸化物の電荷捕獲特性の最適化とメモリ応用
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0117]高密度垂直深堀形状を備えた新規デバイスの開発
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0118]シリコン量子ドットデバイス作製のための電子線露光シミュレーション
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F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0119]超伝導デバイスの作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0120]SiC Trench Dry Etching 評価用パターン作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0121]GaN成長を可能にするGaAs基板の処理検討
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0122]シリコン窒化膜中のトラップ評価と水素による特性変調に関する研究
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0123]真空蒸着によるAu電極膜のトレンチ埋め込みパターニング
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0124]SiNパッシベーション膜およびAu電極膜の成膜分布
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0125]エッチバックによるコンタクトホール形成プロセス開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0126]ナノカーボンの抵抗測定
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0127]InPへのオーミックコンタクト電極の形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0128]ナノカーボンランダムネットワーク評価用電極パターンの形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0129]熱式ALD成膜したTiO2とZrO2の膜厚評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0130]Mgイオン注入GaNにおける活性化アニール用保護膜の検討
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0131]SiO2、SiN極薄膜のESR測定による欠陥評価の可能性確認
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0132]分光エリプメーターによるSi基板上SiO2膜の膜厚測定
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0133]高純度オゾンを用いたALD Al2O3膜の屈折率
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0134]SPMによるPDMS基板上のナノ粒子測定
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0136]ナノインプリントを使用した樹脂へのナノピラー構造形成
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0137]プラズマ照射による溶液中凝集物の観察
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0138]プラズマを用いた物質の接着に関する研究
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0139]マグネシウムシリサイド/金属接合界面の微小領域電気伝導評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0140]ブロードエリア構造の半導体量子ドットレーザの作製
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0141]ポリマー光導波路の作製
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F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0142]次世代MRAMにおける微細な加工マスクの検討
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0143]pMOSデバイスのゲート酸化物としての酸化ケイ素
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F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0144]室温大気中におけるカシミール力のSiO2膜厚依存性測定
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0145]水素生成セル用アナターゼ型TiO2膜上へのRh担持
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0146]農業環境及び農作物におけるPFASsの影響評価
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F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0147]微小部蛍光X線分析装置によるCu膜の膜厚測定
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0148]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0149]ダイヤモンドデバイスの開発
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0150]CNT赤外線センサーのレジストパターン作製
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F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0151]特殊樹脂膜のドライエッチングによる微細パターン形状の加工
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-143 自動塗布現像装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0152]スイッチング層におけるReRAM特性の膜依存
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0153]β-Ga2O3 MOSダイオードの容量-電圧特性評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0154]トレンチパターン幅の調整
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0155]AlNスパッタ成膜
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0156]SiO2ガラスの変形挙動研究のためのマイクロピラー作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0158]ポジトロニウム生成のための極微細キャビティ反応器の作製
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0159]WS2上の酸化亜鉛薄膜の原子層堆積成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0160]Nb表面酸化層の観察
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0161]感光性樹脂の解像性評価
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0162]MOCVDで成膜されたAlN膜のドライエッチング
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0163]導電性高分子の電気抵抗測定
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F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0164]電子ビーム露光による微細パターンの形成・電子線描画実習
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0001]ナノプローバを用いたナノ構造カーボンの電気特性評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0002]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0003]Au薄膜を用いた共振器の作成
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0004]FIBによるルテニウム薄膜の加工観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0005]FE-SEMによるルテニウム薄膜の観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0006]金属薄膜ドライエッチングによる微細構造体の形成および射出成形による微細構造体の転写
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0007]マスクレス描画による石英パタン形成
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0008]ウエットエッチングを使用したガラスの貫通孔加工
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F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0009]フォトリソグラフィを用いた、薄膜材料の微細加工検証
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0010]SiO2基板上への窒化シリコン薄膜の形成
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0011]紫外光電子分光を用いたペロブスカイト多結晶層の仕事関数の決定
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0012]リフトオフプロセス用レジストパターンの作製とリフトオフ性の評価
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0013]Si基板上のSiO2膜の膜厚と組成の評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0014]医療用MEMSデバイス プロセス開発
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0015]医療用MEMSデバイス開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0016]医療用MEMSデバイス プロセス開発
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0017]SiC基板上に成膜したAl2O3膜の膜厚と屈折率
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0018]FeSiB磁性薄膜と各種絶縁薄膜との多層構造の作製および評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0020]Si、SiN膜に対するSiO2高選択比エッチング
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0021]Si、SiN膜に対するSiO2高選択比エッチング
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0022]プラズマCVD法によるフィルム上への酸化シリコン成膜
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0023]超伝導バンプに用いられるPb-In合金膜の表面粗さに関する研究
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F-AT-107 ウェハー酸化炉
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0024]サファイア基板上GaNへの周期エアホール構造の作製
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0025]コンタクトプラグ間の電気特性評価
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F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0026]積層デバイス向けTSV用レジストの断面観察
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F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0027]高純度オゾンを用いた室温CVDによるSiO2膜の絶縁性評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0028]高純度オゾンとエチレンガスを用いた室温ドライプロセスによるアッシングプロセス
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F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0029]高純度オゾンを用いた室温CVDによるSiO2膜の成膜速度
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0030]高純度オゾンを用いた室温ALD Al2O3膜のトレンチ溝被覆
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0031]Al成膜ボイド確認結果
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0032]GaAs基板の深ビア加工
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0033]サブミクロン構造形成
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0034]プラズモニック・メタ表面による放射冷却素子の作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0035]原子層堆積装置を用いたSi(111)表面へのAlN膜形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0036]有機・無機ハイブリッド膜上への薄膜形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0037]レーザーラマン分光法を用いた毛髪タンパクの構造解析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0038]フォトリソ条件最適化およびFe合金のスパッタ成膜
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0039]i線露光条件によるイオンミリング加工時間の制御
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0040]GaNへのナノスケールNdイオン注入パターン形成
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0041]Auめっき膜の斜入射X線回折
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-113 メッキ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0042]金属電極パターンの加工
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0043]プラズマCVDでのTEOS- SiO₂成膜
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0044]層間膜を有しない2層電極形成
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0045]ベンジルアルコールでエステル化されたグラフェン量子ドットのXPS分析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0046]高密度・高速応答熱電対アレイの試作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0047]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の大電流化
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0048]磁気力顕微鏡法による絶縁体に埋もれた金属の検出
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0049]平面型グラフェン電子源の作製
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0050]化学的処理によるセルロースナノファイバーの形態観察
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0051]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0052]ステッパーを利用したフォトリソグラフィー工程の実験
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0053]SiO2中のCuパターンの段差測定
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0054]金属膜への他元素添加評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0055]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0056]酸化ガリウムを用いたメサ型ショットキーバリアダイオードの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0057]金属/AlN界面のショットキー障壁高さの解析
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0058]M面窒化ガリウムを用いたMOSFETの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0060]Si基板上のTEOS-SiO2膜の応力
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0061]Pt電極膜とTEOS-SiO2層の間に挿入するALD-Al2O3層の密着性に関する調査
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0062]X線光電子分光分析を用いたメタロ超分子ポリマーの解析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0063]ナノインプリント後の残渣処理
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0064]薄膜のX線反射率、回折測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0065]電子ビーム蒸着によるカーボン膜への金属コーティング
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0066]カーボン薄膜へのALD成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0067]ポリマーマイクロミラーの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0068]回路基板上へのミラーの作製
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0069]再配線形成
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0070]GaN薄膜の原子層堆積
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0071]加工用レジスト材料の分析評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0072]微細バンプ形成プロセスの開発
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0073]プラズマCVDによるSiN成膜時の面精度変化
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F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0074]SiN膜のドライエッチングにおける反応生成物の抑制
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0075]反応性スパッタによる金属薄膜の形成
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0076]金埋め込み電極作製に向けた酸化膜・バリアメタルの成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0077]浮遊触媒CVD法によるカーボンナノチューブ成長における触媒担持層の影響
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0078]H2SまたはNO2被毒されたPd合金表面の熱処理による回復評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0079]フォトリソグラフィーによる微細金属配線作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0080]SPMによる基板上のナノ粒子測定
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0081]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜による多層MIMダイオードの開発
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0082]食品製造プロセス安定化における結晶化有無の影響
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0083]分光エリプソメータによる薄膜a-Si膜の膜厚測定
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0084]Nano/Micro構造を付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0085]シリコン太陽電池表面へのサブミクロンパターン形成
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0086]光導波路の三次元通信に必要な集光レンズの観察
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0087]Allイオン注入プロセスを用いた縦型GaNプレーナMOSFET
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0088]イオン注入により形成したGaN MOSFETのチャネル特性のMgドーズ量依存性
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0089]SiO2厚膜の成膜検討
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0090]Pt微細配線のバリ取りプロセスの検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0091]近赤外域における酸化物半導体ナノ粒子薄膜の光学制御
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0092]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0093]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0094]感光性樹脂組成物の微細パターニング評価
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0095]MEMSのフォトリソ工程最適化
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0096]窒化物半導体デバイスの開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0098]三次元積層型集積回路に関する研究
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0099]窒化物半導体デバイスの開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0100]製品層内に付着した汚れ・異物の分析
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F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0103]光触媒担持フィルム作製
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0104]ナノプローバによるTSVの電気特性の計測
|
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0105]Ge系デバイス試作
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0106]グラフェンをチャネルとしたFETデバイスの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0107]高速X線トモグラフィのための単焦点距離マルチビーム光学素子の開発
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0108]ICPドライエッチングを用いた厚膜SiO2の加工
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0109]他社製マスクアライナとの露光解像度比較
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0110]原子層堆積法を用いた金属成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0111]フォトニック結晶型フィルタアレイのためのRIE検討
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0112]II-VI族磁性半導体(Zn,Fe)Te中の窒素濃度の定量分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0113]TiO2/AZO/Cu2O多層光電極の作製
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0114]グラフェンバイオセンサーのIV特性測定
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0115]石英ガラス上への真空紫外光を透過する高抵抗薄膜の開発
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0116]AR-XPSによるダイヤモンド半導体のICPエッチング表面の評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0117]電子デバイスで使用する絶縁膜検討
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0118]サーモリフレクタンス測定のための金属薄膜パターン作製
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0119]Niリフトオフ
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F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0120]Niリフトオフ
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F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0121]エッチングによるカーボン電極表面の構造化と燃料電池触媒用電極への応用
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0122]カーボンナノチューブの分散
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F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0123]蛍石上へのALDによるSiO2成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0124]Design and Fabrication of Photomask for Microneedle Pad Production
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0125]Design and Fabrication of Photomask for Microneedle Pad Production
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0126]窒化チタンナノシリンダーアレイへの誘電体層の被覆による耐熱性の向上
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0127]シリコン加工に向けたi線スッテパによるナノパターン形成
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0128]MEMSセンサの試作
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0129]ダイヤモンド半導体デバイスにおけるRu電極の形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0130]ダイヤモンドFETの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0131]基板上への微細Al電極作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0132]回折光学素子開発
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0133]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0134]プラズマエッチング後AlGaN/GaN表面のデバイス性能に与える影響評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0135]FIB加工装置のナノプローブを用いた金属材料片のマイクロ引張試験
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0136]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0137]高純度オゾンとエチレンガスを用いたドライプロセスによるポリエチレンフィルムの表面改質
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F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0138]EB露光パターンの形成
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0139]半導体デバイスの特性評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0140]AFMによるGaNテンプレート基板上エッチピットの計測
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F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0141]鉄系超伝導体薄膜の微細加工
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0142]MIM構造の試作
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0143]光学素子用途の単結晶シリコン微細加工
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0144]ガラス管へのコーティング
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0145]超伝導デバイスの作製
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F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-107 ウェハー酸化炉
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0146]2層構成のマスクパターンによる、RIEでのSiO2厚膜の垂直加工
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0147]酸化ニッケルのエピタキシャル成長における成長初期過程の検討
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0148]LaB6光電面の成膜
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0149]プラズマエッチング後AlGaN/GaN表面のデバイス性能に与える影響評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0150]原子層堆積装置を用いたSi基板上へのAl2O3薄膜の形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0151]リフトオフに依るサブミクロン電極の形成
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0152]多層膜フィルター作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0153]アルミ金属のナノスパイク構造の作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0154]アニールによるドーパントのシリコン中の拡散評価
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0155]FIBを用いた磁性デバイス加工
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0156]石英基板製マイクロ流体デバイスでの抵抗加熱用途に向けた、TaN薄膜形成と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0158]Ga2O3-SBD開発用ALD装置利用
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0159]原子層堆積法を用いた金属成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0160]ALD法を用いた微細L/Sパターンへの均一なSiO2成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0161]超臨界流体薄膜堆積された銅薄膜を種層とした電解めっきによる高アスペクト比ビアの埋め込みの実現
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0162]マスクレス露光装置における露光量条件出し
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0163]プリンテッドエレクトロニクス用EL印刷装置開発
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F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0164]トンネルトランジスタの試作・評価
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0165]基板表面上に付着した鉄粒子の形状・分布の分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0166]MIM構造作製プロセスの検討と試作
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0167]ITOのエッチングレート
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0168]ITO薄膜のシート抵抗評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0169]細線状の遷移金属カルコゲナイドの電気伝導特性の評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0170]フッ素エラストマーに対するプラズマ耐性評価のための加速試験
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0171]Feナノ粒子の磁気測定
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0172]SrTiO3キャパシタの作製及び評価
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0173]強誘電体薄膜の電気特性評価（薄膜技術実践セミナーV）
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0175]誘電体DBRリフトオフプロセスの確立
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0179]Y安定化ジルコニア薄膜のX線反射率測定
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0182]電子線蒸着法によるAu薄膜の形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0001]アルミナ担持層の成膜方法がカーボンナノチューブ成長に与える影響
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0002]ガラスの貫通孔加工とその表面へのスパッタ成膜
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0003]マスクレス露光機でのパターン形成
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0004]SAM(自己組織化単分子膜: Self-Assembled Monolayer)上へのリフトオフによる電極形成
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0005]MOSデバイスの解析
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F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0006]IC解析
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0007]IC解析
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0008]グラファイトに含まれる不純物の分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0009]金電極上に固定化されたProtein G’のAFM観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0010]Cuワイヤボンディング接続技術の基礎評価
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F-AT-107 ウェハー酸化炉
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0011]ALD装置での成膜による欠陥レスコートの評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0012]単層カーボンナノチューブを利用した熱流スイッチング
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-116 研磨機
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0013]XPSによるルテニウム薄膜の組成分析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0014]FE-SEMによるルテニウム薄膜の観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0015]FIBによるAl2O3ウエハーの加工と観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0016]微細パターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0017]Pd合金の膜応力評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0018]高屈折率酸化物基板からの裏面反射防止層の形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0019]紙面上の粒子の観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0020]ALD-Al2O3成膜評価結果
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0021]FeSiB磁性薄膜とAl2O3絶縁薄膜との多層構造の作製および評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0022]テラヘルツ光によるITO薄膜の研究
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0023]セラミックフィルター、ゼオライトビーズ上への酸化物薄層成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0024]金属薄膜ドライエッチングによる射出成形金型への微細構造体形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0025]二次元材料の合成とデバイス応用
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0026]保護膜生成プロセス
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0027]熱処理前後におけるプラズマALD積層絶縁膜の膜質評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0028]熱水性鉱石表面のZnおよびPbのスペシエーション
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0029]貴金属触媒を用いた湿式シリコン選択エッチングのためのレジストパターン作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0030]バイオテンプレート作成のためのフェリチン粒子塗布条件の確立
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0031]金属ナノ構造体の試作
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0032]フォトリソグラフィーによるフレキシブル基板上への金属配線作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0033]高移動度デバイスの研究
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0034]i線ステッパによるパターン作製とアライメント精度評価
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0035]薄膜導電材料の開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0036]電子線リソグラフィによる300 mmウエハ上プログラム欠陥付き微細パターンの形成
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0037]サブミクロン構造形成
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0038]金属膜への他元素添加評価
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0039]表面プラズモンポラリトン導波路アレイの評価
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F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0040]デバイス応用を目指した鉄薄膜のドライエッチング
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0041]背面入射中性子反射率測定による厚膜の構造評価2
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0042]フォトレジストのサブミクロンパターニング検討
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0043]運動後タンパク質摂取ラットの骨に含まれる成分比や結晶構造の分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0044]レーザーラマン分光法を用いた毛髪ケラチンの構造解析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0045]GaNショットキーバリア特性の評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0046]プラズマCVD装置によるSiO2膜の形成
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F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0047]リフトオフによるNi微細パターニング
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0048]コンタクトプラグの電気特性評価
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F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0049]接合不良の生じた表面の分析
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F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0050]SAW無線センサの試作
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0051]電池構成部材の分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0052]テーパー形状(K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成
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F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0053](K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0054]MEMSを用いたEHDマイクロポンプの製作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0055]薄膜のX線反射率、回折測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0056]トンネルトランジスタの試作・評価
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0057]電池構成部材の分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0058]シリコンフォトニクスデバイスの開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0059]窒化シリコン薄膜上における相変化材料被膜サブミクロンポアの作製
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0060]有機/金属ハイブリッドポリマーの電子状態の測定
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0061]GaNへのPrイオン注入パターン形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0062]集束イオンビーム微細加工が層状超伝導体NbSe2劈開膜の超伝導特性に与える影響の評価
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0063]サブミクロンレベルのパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0064]サブミクロンレベルのパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0065]i線露光によるサブミクロンパターンの形成
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0066]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の高効率化
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0067]SEMへの搭載に向けたグラフェン平面電子源の評価
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0068]ナノインプリント後の残渣処理
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0069]ナノインプリント後の残渣処理
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0070]高純度オゾンを用いた室温CVD-SiO2の曲げ試験前後の表面観察
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0071]高純度オゾンを用いた室温CVD-SiO2の膜厚測定
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0072]カーボン薄膜へのALD成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0073]電子ビーム蒸着によるカーボン膜への金属コーティング
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0074]人工ピットを用いた局部腐食評価の精密化
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0075]窒化アルミニウムのドライエッチング条件の最適化
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0076]n型窒化アルミニウムガリウムの接触抵抗低減
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0077]酸化物半導体へのパッシベーション膜形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0078]Si基板上へのALD-Al2O3の成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0079]GaNの選択成長による高品質化
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0080]感光性ポリイミドの光学特性評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0081]45°ミラーを集積したポリマー光導波路
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0082]回路基板上へのアライメントマークの作製
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0083]ポリマー光導波路における3次元構造の作製
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0084]原子層堆積法による窒化チタンナノシリンダーアレイへの耐熱性誘電体被覆と熱酸化抑制
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0085]CNTバンドルの電気抵抗測定
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0086]CNTバンドルの電気抵抗測定
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0087]II-VI族半導体に添加した遷移元素の微量分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0088]グラファイト薄膜のSTM/AFM 評価用断面の作製、および評価
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F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
F-AT-116 研磨機
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0089]GaNエピ基板上へのナノドット加工の検討
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0090]電子ビームリソグラフィを用いた、薄膜材料の微細加工検証
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0091]レーザ加工装置を用いた金属蒸着用メタルマスクの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0092]AR-XPSによるダイヤモンド半導体表面のsoft-ICPエッチングダメージの評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0093]Siナノピラー加工用レジストドットパターンの形成
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-107 ウェハー酸化炉
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0094]Niリフトオフ
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0095]マスクレス露光装置による周期微細構造の作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0096]SiN膜の密着性改善
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0097]原子層堆積装置による絶縁性ガラス細管への窒化チタン(TiN)成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0098]Cuパターンの段差測定
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0099]GaAs基板の深ビア加工
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0100]機械的解繊によるセルロースナノファイバーの形態観察
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0101]原子層体積TiNを用いた超臨界流体によるCu薄膜の均一成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0102]ポリカーボネートフィルムへのレーザー加工
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0103]Nano/Micro機能付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0104]エッチングによるカーボン電極表面の構造化と燃料電池触媒用電極への応用
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0105]Si基板上のSiO2膜の膜厚評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0106]Ge系ゲートスタックの作製と評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0107]紫外光電子分光を用いた酸化チタンの仕事関数の解析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0108]プラズマ処理した化合物半導体表面の観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0109]窒化物半導体デバイスの開発
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0110]窒化物半導体デバイスの開発
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0111]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0112]Geデバイスの発熱による性能への影響を考慮したデバイス構造の研究
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0113]カルゴゲナイド超格子の中赤外領域における透過率・反射率測定
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F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0114]ポリマー光導波路の研究開発
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F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0115]SPMによる基板上のナノ粒子測定
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0116]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0117]プラズモニックCuアレイ構造上の表面組成解析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0118]金埋め込み電極作製に向けた酸化膜・バリアメタルの成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0119]粉体CVD成膜装置で成膜したDLC膜のRaman分光分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0120]Design and Fabrication of Microneedle Pad
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0121]Design and Fabrication of Microneedle Pad
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0122]半導体デバイスの特性評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0123]シリコン太陽電池表面へのサブミクロンパターン形成
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0124]金ナノ粒子埋め込みカーボン薄膜への選択的金メッキ法の開発およびSe(IV)の電気化学検出への応用
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0125]ガラス基板加工の研究
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0126]赤外ナノオプティクス材料の創生
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0127]ALDによって成膜したHfO2膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0128]分光エリプソメータによる薄膜a-Si膜の膜厚測定
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0129]有機・無機ハイブリッド膜上への薄膜形成
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0130]原子層堆積装置を用いたメタル薄膜および膜中の微量不純物の解析
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0131]RBaFe4O7 (R = Ho, Tm)のMPMS測定
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0132]原子層堆積による極薄金属層を用いた低熱伝導率バルクスケールナノ構造材料の作製
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0133]高速X線トモグラフィのためのマルチビーム光学素子の開発
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0134]ステッパーを利用したフォトリソグラフィー工程の実験
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0135]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0136]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜の形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0137]MEMSのフォトリソ工程最適化
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0138]高密度・高速応答熱電対アレイの試作
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F-AT-113 メッキ装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0139]ナノ細孔チップを使ったFIB加工装置によるTEM薄片試料の作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0140]センサ表面への機能膜の成膜およびパターニング
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0141]抵抗変化型メモリを用いたアナログメモリ素子の試作
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F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0142]単原子層MoSe2/WSe2面内ヘテロデバイスの作製と測定
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0143]ALDによるAl基材上への金属酸化物の形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0144]MEMSを用いたEHDマイクロポンプの製作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0145]コラーゲンのAFM観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0146]SiC膜中の異物評価のための断面観察試料作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0147]電子デバイスで使用する絶縁膜検討
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0148]医療用MEMSデバイス開発
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0149]ガラス基板への金属電極の形成
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0150]LED半導体チップのボンディング状態の観察
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0151]M面窒化ガリウムを用いたMOSFETの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0152]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0153]i線露光によるサブミクロンホールのパターン作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0154]液相堆積法による金属酸化膜堆積
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0155]金属酸化物薄膜の形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0156]鉄系超伝導体薄膜の微細加工
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0157]原子状酸素照射ポリエチレンフィルムの FE-SEM 観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0158]HSQマスクを用いたhp30～12 nmLSのSiエッチング加工
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F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0159]金属電極パターンの加工
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0160]薄膜実践セミナー受講報告
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0161]SrTiO3の成膜および分析評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0162]SrTiO3薄膜の成膜温度依存性
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0001]X線、中性子反射率評価用の試料の作製と評価
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0002]有機ポラリトン用キャビティの製作
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0003]電子ビーム露光におけるドーズ / フォーカスマージン評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0004]TMAHエッチングによるピラミッド状の凸パターン形成
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0005]TSVの異常部の断面観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0006]プラズマCVD装置によるTEOS-SiO2膜の評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0007]半導体材料の表面状態変化の測定及び評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0008]半導体材料の表面状態変化の測定及び評価
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0009]背面入射中性子反射率測定による厚膜の構造評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0010]ALD法による成膜実験
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0011]微細パターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0012]新規有機エレクトロニクス材料の開発
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0013]スパッタカーボン薄膜電極の表面修飾による機能化
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0014]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0015]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0016]D-SIMSによるイリジウムめっき膜中のニッケルの定量分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0017]液晶シリコンフォトニクスに関する研究
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0018]半導体材料の評価
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0019]サブミクロンホールパターン形成
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0020]蛍光X線によるTa-Al-O薄膜の組成評価
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0021]ルテニウム薄膜のXRD測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0022]多層薄膜評価用デバイス作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0023]磁性薄膜試料作製および特性評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0024]次世代LSI向け成膜評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0025]減圧環境下における微小液滴の加熱面衝突時局所熱伝達特性に関する研究
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F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-113 メッキ装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0026]血液から血球と血漿とを分離するマイクロ流路チップの開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0027]IC 解析
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0028]IC解析
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0029]p-GaNエピ基板上における横型MOSFETデバイス作製
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F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0030]ショットキーバリアダイオードによるn-GaNエピ層の評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0031]GaNを用いたpnダイオードの作製
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F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0032]タングステン薄膜の形成
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-107 ウェハー酸化炉
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0033]グラフェン上脂質のAFM観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0034]光学多層膜の物性解析
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0035]無電解ニッケルめっきを使用したガラス上へのメタライズ
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0036]SEMへの搭載に向けたグラフェン平面電子源の評価
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0037]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の高効率化
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0038]ポリマー光導波路に関する検討
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0039]ポリマー光導波路用光学ミラーに関する検討
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0040]光エレクトロニクス実装技術開発
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0041]薄膜導電材料の開発
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0042]ガスセンサの開発
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F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0043]高移動度デバイスの研究
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0044]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0045]二次元材料の合成とデバイス応用
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0046]透明導電膜の塗布
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0047]金属ナノ構造体の試作
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0048]ALD-Al2O3成膜におけるステップカバレッジ評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0049]超伝導薄膜の性能向上に関する研究
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0050]保護膜生成プロセス
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0051]Al スパッタ
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0052]TEOS膜による基板保護膜プロセス
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0053]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0054]ITOスパッタ成膜による透明電極構造の研究
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0055]超伝導光検出器の開発
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0056]ルテニウム薄膜の成膜と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0057]新しいex vivo微小血管モデルにおける白血球活性化の指標の検討
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0058]シリコンフォトニクスデバイスの開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0059]金属ナノ粒子アレイへの誘電体層コーティング
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0060]微細配線の露光・現像
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0061]GaN基板表面付近の成分分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0062]半導体ダイヤモンドの結晶評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0063]Pd合金ターゲットによるスパッタ条件の最適化
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0064]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0065]FE-SEMによる薄膜の断面観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0066]SOIデバイスの放射線耐性低下に関する研究
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0067]HfO2薄膜の形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0068]ITOスパッタ成膜の境界電場イメージングの研究
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0069]テーパー形状(K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0070]プルシアンブルーを使用したデバイスの評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0071]ネオジム磁石：焼結合金の構造観察
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F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0072]近赤外熱線遮断技術の高機能化
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0073]誘電体多層膜干渉フィルターの断面観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0074]プラズマALD装置での成膜による光学薄膜の特性調査
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0075]単層カーボンナノチューブ成長用基板への白金電極成膜
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-116 研磨機
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0076]プラズマCVDによるSiO2膜の成膜
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0077]薄膜のX線反射率、回折測定
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0078]熱水性鉱石表面のZnおよびPbのスペシエーション
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0079]層状超伝導体薄膜のFIBによる微細加工
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0080]赤外干渉フィルタ搭載イメージセンサ
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0081]耐疲労試験後における試験片の表面観察
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0082]Geデバイスの発熱による性能への影響を考慮したデバイス構造の研究
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0083]局所加熱技術の実証
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0084]センサ基板表面の有機物剥離
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F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0085]NiO半導体膜の堆積
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0086]有機薄膜の膜厚測定
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0087]ガラス基板上におけるIV族半導体の金属触媒誘起成長
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0088]カーボン基板エッチングによる燃料電池用電極触媒への応用
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0089]金属薄膜ドライエッチングによる微細構造体の生成
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0090]ナノインプリント用モールドの作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0091]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0092]層状半導体ゲルマナンを使ったトランジスタ開発
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0093]層状半導体ゲルマナンを使ったトランジスタ開発
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0094]ポリマー薄膜の膜厚測定
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F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0095]レジストAR-87でのステップ露光確認
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0096]新規高速光パターンフローサイトメトリー開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0097]ゲート絶縁膜導入によるプラズモニックTHzディテクタの検出感度向上
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0098]ナノカーボンを用いた電子デバイスの作製と観察
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0099]ダイヤモンド表面の原子間力顕微鏡による観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0100]有機/金属ハイブリッドポリマーの磁気特性の測定
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0101]i線ステッパによるパターン作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0102]GaAs基板の裏面エッチング
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F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0103]GaNのガスエッチングレート調査
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0104]EUV光源のための赤外線遮断フィルタの作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0105]SAW無線センサの試作
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0106]骨に含まれる成分比や結晶構造の分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0107]CNTバンドルの電気抵抗測定
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0108]炭素材料薄膜の微細構造観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0109]誘電体膜成膜
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0110]SiO2薄膜の形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0111]無電解Niめっき上の微細構造生成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0112]電子デバイス配線のエレクトロマイグレーション評価用の金属薄膜成膜
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0113]エレクトロマイグレーション評価模擬構造加工用ホトマスク作製
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0114]局部腐食評価技術の研究
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0115]バイオトランジスタ試作
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F-AT-107 ウェハー酸化炉
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0116]紙キャリア台紙に対するポケット成形性の評価
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0117]Cuワイヤボンディング接続技術の基礎評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-107 ウェハー酸化炉
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0118]高出力半導体レーザの開発
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F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0119]ナノインプリント後の残渣処理
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0120]ナノインプリント後の残渣処理
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0121]高容量キャパシターの開発
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0122]カーボンナノチューブの分散
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0123]GaNへの希土類イオン注入パターン形成
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0124]原子層堆積法を用いた金属成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0125]貴金属触媒を用いた湿式シリコン選択エッチングのためのレジストパターン作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0126]ガスバリア性向上のための新規プラスチックフィルムへの被膜材料およびその成膜方法の検討
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0127]e-STJ用フリップチップ接続に関する研究
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0128]フォトリソ・ステッパー等の利用に関して
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0129]Design and Fabrication of Microneedle Pad
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0130]Nano/Micro機能付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0131]塗膜外観不良フィルムの表面観察
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0132]窒化シリコン薄膜上における相変化材料被膜サブミクロンポアの作製
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0133]FIBによるHfO2ウエハーの加工と観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0134]FIBによるウエハーの加工と観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0135]原子層堆積法により成膜した酸化アルミニウム薄膜の表面粗さ評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0136] IV-VI族半導体中の微量分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0137]ダイヤモンド半導体素子の開発
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0138]鉄基材料の放射線誘起表面活性効果による濡れ性改善に関する研究
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0139]ポリイミド付のSi基板、CNT基板の研磨
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F-AT-116 研磨機
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0140]マスクレス露光装置を用いた試作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0141]電池構成部材の分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0142]新規光学デバイスの原理確認
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0143]ALD成膜による極薄積層膜の膜特性及び界面評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0144]フォトレジストのサブミクロンパターニング検討
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0145]3次元透明物体の作製
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0146]スパッタリングによるPd/Ti成膜及びフォトリソグラフィー
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0147]半導体全固体電池の容量改善検討
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F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0148]原子層堆積装置を用いた薄膜形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0149]酸化膜の成膜条件と表面物性への影響調査
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0150]紙面上の粒子の観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0151]エッチング実践セミナー 実習コース
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0152]エッチング実習セミナー
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-17-AT-0153]薄膜実践セミナー実習 / STO膜成膜評価
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0001]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0002]局在表面プラズモンの応用実験
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0003]電界放出源の高出力化の研究
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0004]スパッタ成膜プロセスの面内膜厚分布評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0005]AuのCMP研磨
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0006]電子デバイス用金電極の作製と評価
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0007]追加エッチング加工のためのレジストパターンの作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0008]TMAHウエットエッチングによるシリコン窒化膜メンブレンの作製
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0009]微細配線の露光・現像
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0010]グラフェン薄片の導電率測定
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0011]高アスペクトCu配線形成
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0012]光学多層膜の物性解析
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0013]シリコン微細構造光学素子
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0014]グラフェン形成評価
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0015]プラズマCVDを用いたグラフェン合成におけるガス残渣の影響
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0016]ルテニウム薄膜のFE-SEM観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0017]微粒子の顕微ラマン分光分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0018]微細グラフェン配線の研究開発 (微細構造試作)
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0019]中性粒子ビームエッチング技術を用いた量子ドット太陽電池の開発
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0020]AlOx薄膜の表面粗さの評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0021]シリコン酸化膜の AFM による評価
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0022]マイクロチャンネルの作製とメンブレンの取り付け
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F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0023]電子線描画を用いた微細電極の作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0024]プラズモニックデバイスの作製プロセスの検討
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0025]金属ナノ構造体の試作
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0026]ゲルマニウム基板へのPイオン注入
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0027]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0028]シリコンフォトニクスデバイスの開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0029]液晶シリコンフォトニクスに関する研究
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0030]量子回路の開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0031]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0032]光導波路基板上ミラー構造用の金属薄膜の作製と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0033]光エレクトロニクス実装技術開発
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-105 スクライバー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0034]微細パターンの作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0035]ダイヤモンド半導体デバイスの研究開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0036]超伝導光検出器の開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0037]真空蒸着を用いた電極の作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0038]デバイスの欠陥解析
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0039]二次元材料の合成とデバイス応用
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0040]中性粒子ビームエッチング技術を用いた熱電変換素子開発
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0041]超低抵抗ナノカーボン配線の開発
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0042]薄膜の分析
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0043]カーボンナノチューブのSEM観察およびEDX分析
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0044]ナノパーティクルの観察
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F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0045]ペンタセンを用いたFET素子の作製と評価
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0046]新規有機エレクトロニクス材料の開発
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0047]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0048]金属ナノ構造体の試作
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0049]ITOスパッタ成膜による透明電極構造の研究
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0050]有機超薄膜を用いたバイオ・分子素子基板の開発
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0051]CNT複合材料の評価
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0052]Si基板上へのPCVDによるSiO2膜の成膜
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-092 プラズマアッシャー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0053]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0054]GaN基板を用いたデバイス作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0055]GaN基板を用いたデバイス作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0056]シリコン酸化膜のミリングレートの検討
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0057]ミリングしたシリコン酸化膜の非接触計測の検討
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0058]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0059]ミニマルファブ技術の研究開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0060]ハーフインチウェハ端部の形状観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0061]ミニマルファブ装置の開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0062]カーボンナノチューブのAFM観察
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0063]多層薄膜評価用デバイス作製
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0064]ハーフインチウエハ対応深堀エッチングの評価
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0065]ポリマーゲート絶縁層の開発
|
F-AT-086 分光エリプソメータ
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0066]3 μm厚レジストのサブミクロンパターニング
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0067]近赤外表面プラズモン波の高性能化
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0068]ポリマー光導波路の断面加工
|
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0069]ダイヤモンド半導体素子の開発
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0070]高容量キャパシターの開発
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0072]樹脂複合材料の組成分析
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0073]ip5700のステップ露光確認
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0075]原子層堆積装置を用いた半導体表面への薄膜形成
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0076]ポリマー光導波路コアの観察
|
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0077]トランジスタ試作
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0078]潤滑性試験前後の試験片の表面粗さの測定
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F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0079]耐疲労試験前後の金属試験片の表面形状測定
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0080]FIB加工微小試験片によるセラミックス材料の機械的特性評価
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0081]多結晶III-V族化合物半導体デバイスの開発
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0082]イオンミリングによるMoxFe3-xO4薄膜のホールバー加工
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0083]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0084]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0085]カカオマスのファットブルームの微小構造の観察
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F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0086]微細パターニング
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0087]炭素材料薄膜の微細構造観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0088]減圧環境下における微小液滴の加熱面衝突時局所熱伝達特性に関する研究
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0089]新規高速蛍光イメージング開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0090]高感度バイオセンサーの実用化に向けた簡易操作型光センシング技術の開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0091]半導体材料の表面状態変化の測定及び評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0092]メタル薄膜の微細パターンへの埋込みプロセス
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0093]カーボンペースト表面の観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0094]シリコン基板の表面粗さ測定
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0095]シリコン貫通ビアの湿式エッチング加工
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0096]4,6インチ基板のi線露光
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0097]酸化マグネシウムを触媒担持層としたカーボンナノチューブフォレスト成長
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0098]Ptオーミック接合の形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0099]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0100]高精度微小電流測定に向けた単一電子素子の開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0101]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0102]レーザーパターン集光型回折光学素子の試作と評価
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0103]絶縁体上金属膜の熱処理挙動の研究
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0104]疎水化ゼラチンとシリコンナノワイヤーを利用した生体組織接着性表面の設計
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0105]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0106]スパッタナノカーボン薄膜電極の表面修飾によるによる機能化
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0107]磁性体および絶縁体の薄膜試料作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0108]透過型マスクの作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0109]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0110]薄膜状のマイクロナノスケール構造体による動作検証
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0111]SiC上ナノカーボンの電気伝導
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0112]ポリマー光導波路作製方法の検討
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0113]有機ポラリトン用キャビティの製作
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0114]超低抵抗ナノカーボン配線の開発
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F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0115]液相堆積法による誘電体薄膜の生成
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0116]SiC-MOSFET中の単一光子源の観察
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0117]細胞培養用ナノファイバーの開発
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0118]デンドリマー挙動解析DMEM溶液中SPM観察
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0120]透明酸化物表面にフェムト秒レーザーアブレーションにより形成されたナノホールの観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0122]GaN基板表面付近の成分分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0124]保護膜生成プロセス
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0125]半導体材料の評価
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0126]亜鉛系はんだの表層構造解明
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0127]亜鉛系はんだ表面のフラットミリング
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0128]サブミクロン構造形成
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0129]シリコン基板への回折光学素子の試作と評価
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F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0130]MacEtch法による貫通孔形成の検討
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0131]血液から血球と血漿とを分離するマイクロ流路チップの開発
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0132]蒸着プロセス
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0133]Development of thermoelectric device based on hybrid material
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0134]ALD法による成膜実験
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0135]インプリントモールドの作製
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0137]カーボンナノチューブ成長における触媒担持層の微細構造評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0138]ジルコニアセラミックスのレーザープロセス
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0139]Alバンプ状への金属コーティング
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0140]超短パルスレーザーにより微細加工したセラミック表面の観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0141]薄膜実践セミナー実習、スパッタリング成膜技術及び薄膜評価技術の習得
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0142]薄膜実践セミナー STO成膜実験
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0001]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ2,3）
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0002]干渉露光で作製したパターンの評価
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0003]磁気特性測定システム (MPMS) を用いたホール効果測定
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0004]Micro-holes and metal marks for EB lithography
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0005]半導体材料の評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0006]薄膜の分析
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0007]絶縁層上シリコン(SOI)基板の反応性イオンエッチングによるトレンチ形成
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0008]原子層堆積装置による成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0009]電極構造の作製(4)
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0010]紡糸したカーボンナノチューブの断面形状観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0012]自己検知型AFMカンチレバーの金属コート
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0013]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
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F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0014]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0015]カルコゲナイド超格子薄膜のプロセス開発
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0016]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0017]微細パターンの作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0018]微粒子の顕微ラマン分光分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0019]極薄ガラス基板への高精度フォトリソグラフィー
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0020]金属酸化物の研究 2
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0021]次世代エレクトロニクスデバイ スの試作・評価（PJ1）
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0022]電子線用光学素子の開発
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0023]イオンミリングによる、側壁デポの除去
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0024]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0025]矩形ガラス管へのITO膜スパッタリング
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0026]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0027]二次元材料のデバイス応用
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0028]有機超薄膜を用いたバイオ・分子素子基板の開発
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0029]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0030]シリコンカーバイドパワー半導体デバイスの研究
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F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0031]インプリントモールド作製
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0032]薄膜の分析
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0033]グラフェン薄片の導電率測定
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0034]真空蒸着を用いた電極の作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0035]ストライプ状グラフェン形成
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0036]近赤外酸化物表面プラズモン励起構造の作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0037]4インチサファイヤ基板のステッパー露光
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0038]超伝導転移端センサの試作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0039]立体マイクロ光学素子の集積化技術
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0040]FIB加工微小試験片によるセラミックス材料の機械的特性評価
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0041]薄膜の膜厚・結晶性等の評価
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0042]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0043]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0044]Au膜のエッチング方法
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0045]アルミナ基板へのチタニア膜形成
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0046]固体型色素増感太陽電池の作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0047]冷陰極アレイデバイスの開発
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0048]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0049]ハイブリッド対向スパッタによるリフトオフプロセスITO成膜
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F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0050]液晶シリコンフォトニクスに関する研究
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0051]ミニマルファブ装置の開発
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0052]GaN基板を用いたデバイス作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0053]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0054]低温成長グラフェン用金属触媒層の形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0055]ミニマルファブ技術に関する研究開発
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0056]酸化物ドット集積構造の原子制御
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0057]ピエゾ抵抗型ひずみセンサ開発
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0058]CNT/SOG基板の研磨及び観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0059]炭素薄膜の開発について
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0060]高品質ScAlN薄膜の実現
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0061]フェロセン導入分子インプリント電極の表面元素分析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0062]窒化物系光導波路の加工技術
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0063]GaN基板のキャリア濃度の測定
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0064]高アスペクトCu配線形成
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0065]マイクロチャンネルの作製とメンブレンの取り付け
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0066]原子層堆積装置を用いたTiNゲート電極の成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0067]インプリントモールドの作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0068]エネルギー関連材料
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0069]SiO2基板上に分散させたSWCNTバンドルの電気抵抗特性の評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0070]グラフェンの電気特性評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0071]カーボンナノチューブ分散
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0072]トランジスタ試作
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0073]金属ナノ構造体の試作
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0074]ECRスパッタによるAlN膜の耐圧評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0075]ポリイミド塗布Siチップ表面の精密研磨
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F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0076]ドライエッチングによるSiO2加工形状制御
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0077]レーザー表面修飾を行ったセラミックの機械強度試験後の表面観察
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0078]レーザーにより微細加工したセラミック表面の観察
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F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0079]すずはんだ材料の有機樹脂中拡散特性
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0080]新しいex vivo微小血管モデルにおける白血球活性化の指標の検討
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0081]中性粒子用STJ検出器用NbN膜の成膜温度依存性
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0082]顕微ラマン分光法によるシリコンの応力評価
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0083]超伝導ナノデバイス応用に向けた単結晶YBCO薄膜の作製と評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0084]深堀構造を持ったSi基板への金属蒸着
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0085]ルテニウム薄膜のX線反射率測定
|
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0086]炭素系材料の構造評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0087]生物試料微細加工の最適条件検討および加工断面の微細構造の観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0088]微生物培養マイクロアレイ
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0089]自己検知型AFMカンチレバーのFIB-SEMによる断面観察
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0090](K,Na)NbO3薄膜上へのP-CVDによるSiO2薄膜形成
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0091]ナノインプリントとALD法によるSub-20nmナノ造形
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0092]シリコン貫通ビアの湿式エッチング加工
|
F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0093]Au-Ge代替ダイアタッチ技術の構築
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0094]多層薄膜評価用デバイス作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0095]SiC上グラフェンの電気特性評価
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0096]Bi1-xSbx薄膜構造・組成解析
|
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0097](Fe,Co)SiのFIB加工
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0098]Ga-FIBを用いた有機膜の断面観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0099]シリコンへのイオン注入によるオーミック電極形成
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0101]超低抵抗ナノカーボン配線の開発
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0102]ポリマー積層体の断面分析
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0103]樹脂材料加工表面の平滑化
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0104]カーボンナノチューブ観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0105]高アスペクトCu配線形成（Arミリングによるシード層除去）
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0106]GaN基板を用いたデバイス作製
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0107]ポリイミド付Si基板の研磨
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0108]ゲルマニウム基板へのPイオン注入
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0109]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3）
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0110]エピタキシャル薄膜の結晶方位分布測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0111]電極構造の作製(４)
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0112]トポロジカル絶縁体メモリの試作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0113]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0114]カーボンナノチューブ複合材料の評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0115]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0116]微細流路をもつ伝熱実験のテストベンチの製作
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0117]PLD法による酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0118]プラズモニック量子回路の作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0119]ナノプローブによる微細幅グラフェン配線の抵抗測定
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0120]グラフェンの電気特性評価
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0121]CNTの磁化特性の分散処理による影響
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0122]Ru-Mn二元金属薄膜のXPS測定
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0123]電子線描画を用いたレジストパターニング
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0124]生体分子の観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0125]すずはんだ添加元素の有機樹脂中拡散特性
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0126]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ7）
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0127]厚い電極形成に向けた厚膜レジストを用いたパターニング
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F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0128]超低抵抗ナノカーボン配線の開発
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0129]次世代エレクトロニクスデバイ スの試作・評価（PJ3）
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0130]3d遷移金属添加Ⅲ族窒化物の基礎物性研究
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0131]グラフェンへのひずみの印加と電気伝導測定
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0132]デバイスの欠陥解析
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0133]シリコンウェーハ中のホウ素の定量分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0134]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価PJ003
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0135]InSb系チャネル材料の研究
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0136]水素センサーの断面観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0137]薄膜実践セミナー 実習コース
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0138]中性粒子用STJ検出器用NbN膜の超伝導転移温度の膜厚依存性
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0139]Nanopore Patterning using Electron Beam Lithography
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0140]Nanopore fabrication
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F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0141]中性粒子ビームを用いたエッチング技術開発
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0142]厚膜レジストにおけるハードベーク条件及び確認方法の検討
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0001]Ge系チャネル材料の研究
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0002]ラマン測定によるカーボンのキャラクタリゼーション
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0003]触媒作用を有する電極の開発と生体分子検出への応用
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0004]Al上TiN薄膜除去について
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0005]電流標準実現に向けた単電子素子の作製
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0006]電流標準実現に向けた並列化単電子素子の作製
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0007]新規磁石材料の磁気特性評価
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0008]カーボンナノチューブ観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0009]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0010]シリコン微細加工チップを利用した血液流動性の研究
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0011]Alワイヤーの粒径観察
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0012]ナノイオニクス材料の分析
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0013]ミニマルファブ技術開発における分析及び評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0014]Fe/Si 2層膜の作製と評価 (2)
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0015]イオン注入技術を応用した3次元光導波路の作製
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0016]3d遷移金属添加Ⅲ族窒化物のバンド構造解明
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0017]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0018]バブル型ナノロボットを利用したバイオセンシングシステムの構築
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0019]誘電体多層膜ミラーの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0020]自己検知型カンチレバー
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0021]GaN基板の窒素抜け
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0022]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0023]Curie温度向上に向けたチタン酸バリウムへのメソ細孔導入
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0024]アルミニウム・窒素コドーピング技術を用いた昇華法によるp型4H-SiC成長
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0025]XRDによるエピタキシャル膜の面内方位分布測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0026]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0027]金属アルミ成膜
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0028]電子線用光学素子の開発
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0029]FIB断面解析利用による解析技術力向上
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0030]エレクトレット膜の荷電寿命評価
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0031]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0032]半導体の新規ICチップ開発に伴う、FIB断面調査
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0033]顕微レーザーラマン分光装置を用いた、微少有機化合物の分析方法の確立
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0034]透明薄膜の膜厚測定
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F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0035]電極構造の作製
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0036]顕微ラマン分光法によるシリコン半導体の応力評価
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0037]均一組成シリコンゲルマニウム合金製造
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0038]金属酸化物薄膜の研究
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0039]生体分子の電気化学検出のためのナノカーボン電極の開発
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0040]液面計素材の検討
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F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0041]固相線温度を制御可能な金系はんだの高信頼化方法
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0042]単層カーボンナノチューブ複合材料の評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0043]PLD法で作製した酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0044]近接二重層超伝導素子の開発に向けたマスクレス露光装置の露光量条件だし
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0045]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0046]微粒子の顕微ラマン分光分析
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0047]単原子膜ヘテロ接合における機能性一次元界面のエレクトロニクス応用
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0048]ゲルマニウム基板上へのSiO2成膜
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F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0049]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価PJ001
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0050]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ2）
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0051]ゲルマニウム膜の形成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0052]配線付き光デバイスの電極パッド形成
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0053]ALD法によるsub-20 nm径のナノインプリントモールドの作製
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0054]ケミカルループ法における高活性粒子開発
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0055]グラフェンナノディスクの定量的形状評価手法の確立
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0056]EB描画装置校正用マーク作製
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0057]マイクロ加工の基準
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0058]微細パターンの作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0059]シリコン薄膜の結晶性評価
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0060]異なる温度で形成したGe-Te合金/Sb-Te合金積層薄膜のXRD観察
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0061]相変化デバイスにおけるICP処理の効果の検討
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0062]半導体レーザ端面保護膜のXPS分析
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F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0063]半導体レーザ端面のARコーティング
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0064]磁性半導体における強磁性発現機構の解明と制御I
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0065]磁性半導体における強磁性発現機構の解明と制御II
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0066]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0067]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0068]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0069]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0070]XRDによるGaN基板の結晶性改善
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0071]FE-SEMによるサファイア・GaN界面の断面歪観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0072]SPMを使ったGaN基板研磨表面の観察
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0073]多層グラフェンのエッチング
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0074]CVDグラフェンの加工
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0075]CVDグラフェン配線の作製
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0076]グラフェン転写プロセスの開発（1）
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0077]グラフェン転写プロセスの開発（2）
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F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0078]電気特性取得のための、リフトオフプロセスの開発
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0079]MIMピラーの2ステップ物理エッチング法
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0080]金属ピラーにおける上部コンタクトの微細加工
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0081]Investigation of the Adhesion of Metal Particles onto a PTFE-based Substrate
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0082]The Adhesion of Ceramic Particles onto a Glass Substrate
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0083]高温対応半導体パッケージの検討
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0084]近接場顕微鏡プローブの作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0085]FIB加工微小試験片による機械的特性評価
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0086]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0087]ウェットエッチングによるAuリフトオフプロセスの最適化
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0088]EBリソによるL&S構造の作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0089]FIBによるTEM試料作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0090]グラフェン電特評価用試料の作製
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F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0091]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0092]カーボンナノチューブ複合材料評価手法の開発
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0093]グラフェン電特評価用試料の作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0094]高分子材料中の化合物の質量分布測定（2）
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0095]次世代電池材料
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0096]熱電変換薄膜の作製
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0097]加速度センサーの試作（評価用素子の作製）
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0098]高分子薄膜の断面観察
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0099]薄膜特性の評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0100]片面電極有機薄膜太陽電池のための電極作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0101]Au-Pt くし形電極による自己発電型バイオセンサの表面洗浄に関する影響
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F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0102]フィラーの分散評価
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0103]カーボンナノチューブ複合材料評価手法の開発
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F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0104]加速度センサーの試作（プロセスの改善）
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0105]Au-Pt くし形電極による自己発電型バイオセンサのXPS/UPSによる評価
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0106]Si SIMS分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0107]InP系超格子構造のSIMS分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0108]シリコン光集積回路の電極パッド開口プロセス
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0109]フィラーの分散評価
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0110]Ti薄膜の不純物分析
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0111]片面電極有機薄膜太陽電池のための酸化チタン層を備えた電極作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0112]Tiの不純物分析
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0113]グラフェン膜を用いたvan der Pauw素子の作製
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0114]真空蒸着を用いた電極の作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0115]超伝導光子検出器の開発のためのAu薄膜の加工
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0116]超伝導光子検出器の開発のためのTES素子の製作
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0117]超伝導光子検出器の開発のための光キャビティ用ミラーの製作
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0118]2層レジストを用いたAuリフトオフの最適化
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0119]グラフェン薄片の導電率測定
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0120]高圧電性ScAlN薄膜を有するダイヤモンドSAWデバイスの研究
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0121]ニッケル薄膜のX線反射率測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0122]EB蒸着によるインジウムの成膜
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0123]グラフェン用ハードマスクパターン作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0124]FIBによるTEMサンプル作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0125]二次元材料のデバイス応用
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0126]超格子スピントロニクス材料の開発
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0127]カルコゲナイド超格子を用いた不揮発メモリの開発
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0128]カルコゲナイド超格子を用いた不揮発メモリのプロセス最適化
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0129]グラフェンデバイス電極用W薄膜堆積
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0130]グラフェンの電気特性評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0131]ニッケルシリサイド薄膜のXPS測定
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F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0132]ラマン分光分析を用いた基板内応力分布測定
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0133]Pt電極膜を含む積層膜の観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0134]XPS分析装置を用いたTa及びWのエッチングレートチェック
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0135]薄膜の評価
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0136]ミニマルファブ技術開発における分析及び評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0137]強磁性酸化物薄膜の磁化測定
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F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0138]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0139]コンパウンドチョコレートのファットブルームの観察
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0140]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0141]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3）
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0142]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0143]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3）
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0144]機能性酸化膜中の酸素分布に関するSIMS分析
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F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0145]ペロブスカイト太陽電池用バッファー層の開発
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0146]PE-ALD成膜
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0147]光電変換用酸化物薄膜の成膜
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0148]埋め込み型電極構造による有機トランジスタの特性制御
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0149]フィルム基材を用いたフレキシブル色素増感太陽電池デバイスを安定的に作製するための断面解析
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0150]酸化物ドット集積構造の原子制御
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F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0151]二光束干渉露光で作製した百数十nm周期ラインアンドスペースパターンの評価
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0152]次世代電池材料
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0153]二次元材料のデバイス応用
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0154]中性粒子用STJ検出器の開発
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F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0155]次世代LSI向け成膜プロセス評価用キャパシタ試作
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0001]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0002]光電子集積試作用反射防止膜層の作製
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0003]相変化材料の膜質評価とデバイス作製
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0004]デバイス構造確認のためのTEM試料作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0005]SnTe/Sb2Te3超格子の低電力動作メカニズム
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0006]PCMメモリセルの素子分離形成
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0007]Sb-Te合金薄膜の膜評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0008]FIBによるTEM/STEMサンプル作成①
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0009]カーボンナノチューブ配線の評価と低抵抗化
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0010]メソポーラスシリカ細孔内の移動現象に関する研究
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0011]グラフェンの電気特性評価
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0012]インターカレーション前後のCVD多層グラフェン配線の分析（1）
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0013]CVD成長多層グラフェンの微細加工による細線化
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0014]金属材料のエッチングの研究
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0015]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0016]フッ素ポリマーアロイ材製品の相観察
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0017]グラフェンリソグラフィプロセスにおけるレジスト残渣の検証
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0018]グラフェンの電子デバイス応用
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0019]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0020]CNT/グラフェンの排熱応用のための評価サンプル作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0021]Active Metal Brazed Copper-Si3N4基板上のCu/Ni(P)/Au配線の加工と観察
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0022]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0023]超格子相変化メモリの研究・開発
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0024]FIBによるSTEM-EDXサンプル作成
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0025]高分子材料中の化合物の質量分布測定
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0026]高移動度チャネル材料の研究
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0027]CNT/グラフェンの排熱応用のための真空蒸着プロセスの最適化
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0028]AFMによる相変化膜の電気特性測定用微細電極作成プロセスの検討（1）
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F-AT-078 ワイヤーボンダー
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0029]III-V nMISFET試作
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0030]TEM観察試料の作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0031]近接場顕微鏡プローブの作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0032]Ge-Sb-Te合金の膜評価
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0033]CNTの分散状態観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0034]グラフェン試料加工・評価（グラフェン剥離転写プロセス）
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0035]ナノカーボンの電子デバイス応用
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0036]高分子グラフト電極の水中でのAFM分析
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0037]弊社積層基板のFIB断面加工・観察
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0038]カーボンナノチューブ配線の評価と低抵抗化
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0039]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0040]多層ナノチューブ配線の評価
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0041]薄膜の斜入射X線回折測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0042]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0043]FIBによるTEM/STEMサンプル作成②
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0044]相変化材料の膜質評価とデバイス作製
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0045]二次元Si層を用いた素子の試作
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0046]電子ビーム描画装置を用いたCVDグラフェントランジスタの作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0047]CNT/グラフェンの排熱応用のためのCNT密度に依存した膜形成状況評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0048]分子ドーピングされた二層グラフェントランジスタの作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0049]グラフェンデバイスに対するボンディング
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-078 ワイヤーボンダー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0050]ガラスのドライエッチングとエッチングマスクの検討
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0051]SnTe/Sb2Te3超薄膜超格子の研究開発
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0052]水素アニールが窒化ケイ素基板に与える影響の分析と, ナノクリスタルダイヤモンド薄膜の構造及び基板との界面観察（窒化ケイ素基板及び, 水素アニール処理後にNCD薄膜を合成した窒化ケイ素基板について）
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0053]ガラス板への数十μmオーダーのライン＆スペースパターニング
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0054]Ar MillingによるMTJ素子形成（1）
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0055]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0056]GaN on Sapphireの断面及び表面のSEM観察
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0057]CVD成膜多層グラフェン配線への4端子測定用電極作製
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0058]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発 その2
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0059]中空ビーズの表面観察と内部構造分析
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0060]ミニマルファブ技術の研究開発における深さ方向分析
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0061]宇宙用MEMSデバイスの試作
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0062]多層グラフェンの断面TEM観察のための試料作製
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0063]分子インプリント高分子電極の表面形状分析(1)
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0064]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0065]CVD成膜多層グラフェン配線の電気特性評価
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0066]アルミナの厚さ計測
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0067]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0068]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0069]高移動度チャネル材料の研究
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0070]カーボンナノチューブ表面観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0071]大面積CVDグラフェンの抵抗評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0072]FIB による TEM 試料作製
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0073]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0074]はんだの最表面分析
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0075]誘電多層膜ミラーの作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0076]ホール測定用グラフェンデバイスの作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0077]金属型・半導体型分離 CNT のデバイス特性評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0078]D-SIMSによる深さ方向に対する金属成分の拡散定量分析
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0079]ガラス基板上における金属触媒成長SiGe層の表面平坦化
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0080]XRD によるエピタキシャル膜の面内結晶方位分布測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0081]機能性酸化物を用いたメモリの開発
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0082]ドライエッチングによるガラスへの穴あけ
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0083]リフトオフによる金属配線形成
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0084]ニッケルシリサイド化薄膜のXPS測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0085]AFM を用いた MoS2フレークの厚さ評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0086]材料Aへの微細加工の初期検討
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F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0087]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0088]グラフェン試料加工・評価(配線パターン形成プロセス)
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0089]ミニマルファブ技術の研究開発におけるX線回折分析
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0090]逆層交換型アルミニウム誘起シリコン結晶化プロセスにおける不純物効果の研究
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0091]高耐熱パワーモジュール化
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0092]メソ多孔体チタン酸バリウム薄膜における骨格結晶化の確認
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0093]グラフェン合成と評価 －Cuホイルを用いたグラフェン合成－
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0094]IPS液晶によるシリコン細線方向性結合器光スイッチ
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0095]RF MEMSスイッチ試作
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0096]CNT/グラフェンの排熱応用のための熱抵抗サンプル作製と評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0097]ガラス板への微細ライン＆スペースのパターニング
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0098]蒸着されたF4TCNQ層の表面観察
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0099]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0100]ダイヤモンドSAWの研究
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0101]グラフェンの電子デバイス応用
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0102]AFMによる相変化膜の電気特性測定用試料作成プロセスの検討（2）
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-078 ワイヤーボンダー
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0103]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0104]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0105]ミニマルファブ技術の研究開発におけるSEM観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0106]メタルリフトオフプロセス
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0107]CNT/グラフェンの排熱応用のためのサーモフレクタンス測定用試料作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0108]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0109]多層カーボンナノチューブの微構造観察
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0110]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成のための触媒堆積
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0111]CNT/グラフェンの排熱応用のためのアルゴンイオンエッチング時間依存検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0112]超格子型相変化膜のXRDによる測定
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0113]Sn10Te90/Sb2Te3希釈系超格子の超省電力動作メカニズム
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0114]トランジスタ素子の特性改良
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0115]PCMメモリセルの上部電極形成
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0116]遷移金属添加半導体のバンド構造解明
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F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0117]CNT/グラフェンの排熱応用のためのCNT接合と断面評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0118]Ar MillingによるMTJ素子形成（2）
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0119]2層レジストを使ったリフトオフによる金属配線形成
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0120]D-SIMSによる深さ方向の成分定量分析
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0121]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0122]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0123]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0124]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0125]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0126]メタルマスクを用いて作製した電極を有するグラフェンデバイスの評価
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0127]FIBによるTEM/STEMサンプル作成③
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0128]2つのゲートを持つ二層グラフェントランジスタの作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0129]EBリソによるライン＆スペースパターン作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0130]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0131]トランジスタ応用に向けた単層グラフェン合成
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0132]グラフェンの電気特性評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0133]電子ビーム描画装置を用いたHOPGグラフェントランジスタの作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0134]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0136]グラフェン合成と評価 －Cuホイルの成分分析－
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0137]高耐熱部品統合パワーモジュール化技術開発
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F-AT-072 アルゴンミリング装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0138]RF MEMSスイッチ試作
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0139]分子インプリント高分子電極の表面形状分析(2)
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0140]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認
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F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0141]CNT/グラフェンの排熱応用
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F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0142]EB露光を用いたMTJ素子形成
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0143]宇宙用MEMSデバイスの試作
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0144]スパッタカーボンアニール法による多層グラフェン配線の作製
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F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0145]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0146]AFMを用いたグラフェン表面のレジスト残渣の検証
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F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0147]水素アニールが窒化ケイ素基板に与える影響の分析と, ナノクリスタルダイヤモンド薄膜の構造及び基板との界面観察（水素アニールを施した窒化ケイ素基板について）
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0148]有機分子蒸着用Au/mica基板の作製
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0149]Ar MillingによるMTJ素子形成（3）
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0150]プローブカード開発（プローブ痕観察、深さ測定）
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0151]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0152]CNT/グラフェンの排熱応用のための反射膜表面のラフネス評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0153]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0154]III-V nMISFET試作
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0155]NiシリサイドナノワイヤFIB加工
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F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0156]EBリソによるInP基板上ライン＆スペースパターン作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0157]大気圧CVD法によるグラフェン合成
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0158]遷移金属内包シリコンクラスターを接合に利用したトランジスタの実証
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F-AT-067 i線露光装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0159]III-V MOS技術
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0160]グラフェンとカーボンナノチューブによる三次元カーボン配線の作成
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0161]ミニマルファブ技術の研究開発における分析及び評価
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0162]インプラント法によるカーボンナノチューブプラグの作製
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0163]AFMによる相変化膜の電気特性測定用試料作成プロセスの検討（3）
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-078 ワイヤーボンダー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0164]Hf窒化膜の研究
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0165]有機半導体の応用技術開発
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F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0166]CNT/グラフェンの排熱応用のためのArミリングによるCNT先端部の開口実験
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0167]CNT/グラフェンの排熱応用のためのIn溶融状態評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0168]多結晶ゲルマニウムチャネル技術
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0169]RF MEMSスイッチ試作
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0170]インターカレーション前後のCVD多層グラフェン配線の分析（2）
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0171]グラフェン試料加工・評価
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0172]逆層交換型アルミニウム誘起シリコン結晶化プロセスにおける結晶方位形成の研究
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0173]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0174]III-V MOS技術
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F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0175]バブル型ナノロボットを利用したバイオセンシングシステムの開発
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F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0176]Fe/Si 2層膜の作成と評価
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F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0177]EBリソによるSi基板上ライン＆スペースパターン作製
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F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0178]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0179]高移動度チャネル材料の研究
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F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0001]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成用触媒薄膜の堆積
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0002]4インチシリコンウェハ上へのナンバリング用パターンの形成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0003]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の評価
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0004]新材料超格子による低消費電力化
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0005]DMEM溶液中Alexa488標識PAMAM-NH2デンドリマーのSPMによる挙動解析
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0006]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0007]酸化物保護膜を用いたCVDグラフェン転写技術の開発
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0008]GaN剥離層の成長条件の最適化
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0009]先鋭化金属プローブの作製
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0010]グラフェンの合成とトランジスタ応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0011]Cu foil表面におけるグラフェン合成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0012]深堀反応性イオンエッチングプロセスで作製されたシリコン流路パターンの断面観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0013]成長条件によるカーボンナノチューブの抵抗評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0014]AFM測定用試料加工プロセスの検討（１）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0015]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0016]ナノラマンイメージング用先鋭化金属プローブ形成
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0017]金属触媒を用いた多結晶Si結晶成長法の太陽電池への応用研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0018]メモリ技術用酸化物薄膜への酸素拡散に関する評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0019]ナノカーボンの電子デバイス応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0020]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0021]新材料超格子による低消費電力化
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0022]深堀エッチングプロセスで作製されたシリコン流路パターン表面の平滑化プロセスの開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0023]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0024]酸化物保護膜/CVDグラフェンのRaman分光分析
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0025]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0026]CNT/グラフェンの排熱応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0027]多層グラフェン配線へのインターカレーション
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0028]薄膜材料中への酸素拡散評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0029]CNT/グラフェンの排熱応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0030]CNT/グラフェンの排熱応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0031]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成とそのSEM観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0032]酸化物薄膜の作製と電気特性の評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0033]酸化膜貫通イオン注入後のノックオン成分のプロファイル調査
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0034]CNT/グラフェンの排熱応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0035]電極／酸化物薄膜積層構造の平坦性に与える熱処理工程の影響
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0036]4インチシリコンウェハ上に深堀エッチングプロセスで作製したシリコン流路構造深さのウェハ内分布
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0037]III-V MOS技術
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0038]III-V MOS技術
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0039]グラフェンの電子デバイス応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0040]相変化デバイスの加工
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0041]III-V MOS技術
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0042]電子ビーム描画装置を用いたグラフェントランジスタの作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0043]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0044]ナノデバイス試作
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0045]III-Vトンネルトランジスタのデバイス試作
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0046]量子ビット用積層型微小ジョセフソン接合の作製プロセス開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0047]シリコン細線導波路の開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0048]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0049]近接場顕微鏡プローブの作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0050]AFM測定用試料作成プロセスの検討（2）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0051]DMEM溶液中PAMAM-PEGデンドリマーのSPMによる挙動解析
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0052]プラズマTEOS CVDプロセスでシリコン流路構造へ成膜したSiO2薄膜の断面FE-SEMによる観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0053]ミニマルファブ技術の研究開発における分析及び評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0054]真空封止技術を利用したモジュール型連動電子ペーパーの検討
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0055]カルコゲナイド材料を用いた相変化メモリ開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0056]遷移金属添加半導体のバンド構造解明
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0057]Al2O3を用いた抵抗変化型メモリの開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0058]ウエハ加工
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0059]スパッタリング法により製膜されたSiON膜の特性評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0060]機能性酸化物を用いたメモリの開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0061]ナノカーボンの電子デバイス応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0062]積層膜及びグラニュラー膜の構造解析
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0063]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成のための触媒堆積
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0064]有機半導体結晶の構造評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0065]光電子集積試作用金属配線層の作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0066]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0067]i線露光装置を用いたグラフェントランジスタの作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0068]光電子集積試作用金属配線層の作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0069]化学的エネルギーの直接変換により自律運動するナノロボットの開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0070]円形櫛形電極の作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0071]Characterization of p- type pyrolyzed parylene C via Raman spectral mapping
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0072]FIBによるTEM用試料加工
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0073]DMEM溶液中PAMAM-NH2デンドリマーのSPMによる挙動解析
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0074]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0075]ドライエッチングによるシリコン貫通孔形成のための厚膜レジストマスクの開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0076]光酸発生剤を導入した分子性レジスト
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0077]錯体ナノ粒子の研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0078]EO結晶の薄膜形成
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0079]Characterization of n-type pyrolyzed parylene C via Raman spectral mapping
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0080]プローブカード開発（プローブ痕観察、深さ測定）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0081]高移動度チャネル材料の研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0082]プローブカード開発（プローブ痕観察、深さ測定）
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0083]超格子相変化膜のXRD測定
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0084]光学顕微鏡-AFM混合システムを用いた記録材料評価用素子加工形状の測定
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0085]CNTの分散状態観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0086]分光エリプソメータの利用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0087]XRDによるエピタキシャル膜の面内結晶方位分布測定
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0088]多層グラフェンを用いた半導体配線の作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0089]微小部蛍光X線分析装置(XRF)の利用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0090]SEMによるグラフェントランジスタの観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0091]酸化膜貫通イオン注入後のボロンプロファイル調査
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0092]使用前後の針先端の表面観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0093]ドライエッチングガス種に依存したシリコン流路底面平坦性のFE-SEM観察による評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0094]グラフェンをチャネルに用いたトランジスタの評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0095]SIMS測定による化合物半導体の不純物濃度測定
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0096]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0097]電極材料への酸素拡散に関する評価
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0098]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0099]III-Vトンネルトランジスタにおけるゲート加工
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0100]ダイヤモンドプローブの先鋭化と評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0101]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたＭＥＭＳデバイスの試作・研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0102]FIBによるTEM/STEMサンプル作成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0103]ナノ構造制御された新型ポリマー太陽電池の創製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0104]III-V MOS 技術
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0105]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0106]スクリーン印刷用銅ペーストの開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0107]FIBによるTEM/STEMサンプル作成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0108]酸化物薄膜の作製と結晶性評価
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0109]水酸化カリウム溶液を用いたスキャロプ構造の除去によるシリコン流路の側壁平坦性の改善
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0110]SiGe薄膜の結晶評価
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0111]有機トランジスタにおけるコンタクト電極構造の最適化
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0112]電子線描画用レジストの開発
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0113]メタルリフトオフプロセス
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0114]i線ステッパーを用いたシリコン流路微細加工用レジストパターン形成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0115]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0116]カーボンナノチューブを用いたプラグ配線の作製
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0117]金属触媒を用いた多結晶SiGe結晶成長法の太陽電池への応用研究
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0118]CVD成膜多層グラフェン配線へのインターカレーション
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0119]シリコンウエハ中のB拡散プロファイル評価
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0120]Cu薄膜表面におけるグラフェン合成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0121]カーボンナノチューブを用いたプラグ配線の作製
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0122]CVD-SiO2薄膜パターンをハードマスクとしたドライエッチングプロセスにより加工したSi流路の断面
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0123]酸化物保護膜/CVDグラフェンの電気伝導特性
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0124]新材料超格子による低消費電力化
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0125]メモリ技術用機能性酸化物薄膜のXPS およびSPMによる評価
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0126]CVD成膜多層グラフェンを用いた半導体配線の作製
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0127]CNT/グラフェンの排熱応用
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0128]超格子膜のXRD測定
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0129]GaNのコアレッセンス条件の最適化
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F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0130]グラフェンをチャネルに用いたトランジスタの作製
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0131]シリコンウエハ中のAs拡散プロファイル評価
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F-AT-076 小型真空蒸着装置
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0132]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェンの異種分子導入前後の観察
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0133]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の作製
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0134]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0135]CNT/グラフェンの排熱応用
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0136]低負荷太陽電池材料・デバイスの深さ方向元素分布の観察
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0137]ナノラマンイメージング用先鋭化金属プローブ形成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0138]液相レーザー法を利用したリン酸カルシウム膜の合成と結晶構造解析
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0139]NiシリサイドナノワイヤFIB加工
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0140]ボッシュプロセスを用いた深堀反応性イオンエッチングにおける保護膜モードの 条件とエッチングされたシリコン表面の平坦性の関係
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0141]PAMAMデンドリマーの液中観察
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0142]相変化メモリの微細ポア形成
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0143]FIB&SEMによるTEM用の試料作製に関する技術相談
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0144]ガラス上におけるBaSi2薄膜の作成に関する技術相談
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0145]プローブカード開発
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0146]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0147]電子線描画用レジストの開発
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0148]酸化膜貫通イオン注入後の元素プロファイル調査
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0149]Metal Gate/High-k MOSFETおよびMOS-Capacitor試作
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0150]円形櫛形微小電極の作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0151]電気特性測定用の電極形成
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0152]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたMEMSデバイスの試作・研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0153]NiシリサイドナノワイヤFIB加工
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(登録なし)
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0154]ハイドロゲルの機能化のためのAu微細構造パターンの転写
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0001]Dimension Icon装置を利用した分解能、フォースカーブなどの測定 機器特性の確認
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0002]FIB 装置を利用した電気抵抗測定用微細サンプルの作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0004]Tiターゲットを用いたDCスパッタリング装置によるサファイア基板上でのTiN薄膜の作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-105 触針式表面形状測定器
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0005]銀ナノワイヤーの新規合成手法の開発
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0006]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0007]ヘリウムプラズマータングステン共堆積を施したタングステン試料の表面・断面観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0008]ダイシングマシンを利用した半導体デバイスの作製
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0009]パターン投影リソグラフィシステムを利用した金属酸化物へのナノギャップ電極対の作製
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F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0012]デバイスシミュレータを利用したMg2Siショットキーダイオードの評価
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0014]Auディスク形成に向けた電子線露光実習（実践セミナー）
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F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
F-BA-096 電子線蒸着装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0015]MIMダイオードを用いたレクテナの開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0016]SEM装置による環境触媒の観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0017]紙及びバイオマスプラスチックの形態の観察と物性の測定
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0018]各種液剤の微細塗布の検証
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F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0001]Dimension Icon装置を利用した分解能、フォースカーブなどの測定 機器特性の確認
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0002]セルロースナノクリスタルを用いた紙基板導電配線技術の開発
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0003]シリサイド半導体接合界面の状態観察
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F-BA-094 FIB-SEM
F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0004]デバイスシミュレータを利用した赤外受光センサ開発
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0005]FIB装置を利用した電気抵抗測定用微細サンプルの作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0006]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0007]MIMダイオードの開発と無線電力伝送への応用
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0008]各種液剤の微細塗布の検証
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F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0009]パターン投影リソグラフィーシステムを利用した強磁性材料の単一ドメイン評価
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F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0010]Tiターゲットを用いたDCスパッタリング装置によるTiN薄膜の作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-105 触針式表面形状測定器
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0011]Heプラズマに曝されたW表面及び断面観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0012]銀ナノワイヤーの新規合成手法の開発
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0013]AFM測定によるPFAチューブ内表面の観察
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0014]ナノスケール加工に向けた電子線露光実習（実践セミナー）
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F-BA-097 電子線描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0015]ダイシングマシンを利用した半導体デバイスの作製
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0001]FIB SEM による Al 2 O 3 ウエハーの 加工と観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0002]走査型プローブ顕微鏡を用いた樹脂材料の表面機械特性評価
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0003]原子間力顕微鏡による毛髪キューティクル微細構造の観察
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0004]FIB装置を利用したトポロジカル絶縁体電気伝導特性評価用試料の作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0005]窒化物半導体デバイスの開発
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F-BA-104 半導体特性評価システム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0006]甲虫の微細構造の観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0007]FIB装置を利用したTEM観察用試料の作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0008]EB描画装置を利用した光集積デバイスの作製
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F-BA-097 電子線描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0009]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0011]電界放出型走査電子顕微鏡によるナノロースの薄膜及び紙の表面構造観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0012]MEMS技術を用いたミリ波レクテナ回路の製作
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-105 触針式表面形状測定器
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0013]電気化学センサを用いた潜在性乳房炎の検査システムの開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0014]Dimension Icon装置による糸状菌の弾性測定
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0015]Dimension Iconを利用した樹脂フィルム断面のナノ構造の観察
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0016]Heプラズマ照射されたW試料の表面構造観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0017]人工光合成用InGaN光半導体セルの作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0018]FIB-SEM装置を利用した断面TEM観察用試料作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0019]各種液剤の微細塗布の検証
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F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0020]パターン投影リソグラフィシステムを利用した機能性材料の単一ドメイン評価
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F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0001]走査型プローブ顕微鏡を用いた樹脂材料の表面機械特性評価
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0002]FIB装置を利用した電気抵抗測定用微細サンプルの作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0003]形状を特徴とする金属ナノ粒子の無電解めっき触媒特性の検証
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0004]FIB-SEM装置を利用したTEM観察用試料加工におけるダメージ層の低減
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0005]MEMS技術を用いたミリ波レクテナ回路の製作
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-105 触針式表面形状測定器
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
F-BA-107 反応性エッチング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0006]電界放出型走査電子顕微鏡によるナノロースの薄膜及び多孔体の表面構造観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0007]パターン投影リソグラフィーシステムを利用した微細ギャップ電極対アレイの作製
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F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0008]電子線誘起堆積法を利用したナノカーボン電界放出エミッタの作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0009]窒化物半導体デバイスの開発
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F-BA-104 半導体特性評価システム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0010]原子間力顕微鏡による毛髪キューティクルの観察
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0013]超高効率グラフェン平面電子源の開発
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0014]FIB装置を利用したTEM観察用試料作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0015]ダイシングソー装置を利用した微小ガラスプレートの作製
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0016]Si基板上に作製したSi系ナノシート束構造の断面TEM試料作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0017]FIB装置を利用したTEM観察用試料の作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0018]FIB-SEMによるAl2O3ウエハーの加工と観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0019]AD-MOD on copper substrate for electrical insulation improvement
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0001]FIB-SEM装置を利用した磁性針状試料の作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0002]高純度めっきプロセスにより作製したCu 配線の微細構造解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0003]金属ペースト硬化膜中のフィラー分散状態の観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0004]三次元細胞組織の再生医療実現に向けた血管構造作製技術の確立
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0005]金属ナノ粒子吸着のための基板の表面処理の評価
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0006]原子薄膜材料の電気特性評価試料の作製
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0007]耐火性高エントロピー合金の酸化物解析用TEM試料のFIB加工による作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0008]デジタル画像相関法によるひずみ測定のための微小パターン形成
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F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0009]電子機能材料のデバイス作製とパッケージング
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0010]金属蒸気触媒CVDで合成したグラフェンの特性評価
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0011]グラフェン電極を用いた高効率平面型電子放出デバイスの試作
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0012]FIB-SEM装置を利用したTEM観察用試料加工におけるダメージ層の低減
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0013]ダイヤモンド単結晶デバイスの微細構造解析：FIB 加工によるTEM 用試料作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0014]金属半球面へのレーザーリソグラフィー
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0015]リソグラフィ技術を用いたミリ波レクテナ回路の製作
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0016]電気化学センサを用いた潜在性乳房炎の検査システムの開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0017]FIB-SEM装置を利用した微小カンチレバー上ひずみセンサーの作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0018]ポリイミドフィルム（Upilex-S）基材上に成膜したインジウム皮膜の表面観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0019]電子線描画装置を利用した新規グラフェンデバイスの作製
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F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0021]CoNiCrAlY合金表面の微細凹凸加工
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0024]FIB装置を利用した転位伝導測定用マイクロサンプルの作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0025]FIB装置を利用した非鉄軽量金属材料の微細ケガキ加工材の作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0026]スパッタ装置を利用した電気化学マイクロポンプの作製およびヤヌス型ナノモーターの作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0027]薄膜上への電極形成
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0028]ナノロースの薄膜及び多孔体の表面構造観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0029]ホイスラー型熱電材料の組織微細化による高性能化
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0031]FIB-SEM装置を利用したナノ構造熱電材料への電極形成
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0032]走査型プローブ顕微鏡を用いたコーティング膜の表面物性評価
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0033]破骨細胞の象牙質上の骨吸収跡の測定
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0034]Siドーパント濃度ステップサンプル評価
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0035]FIB/SEM装置を用いたダイヤモンド基板上への微細加工およびマニピュレート
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0037]ウェーハダイシングマシンによる2インチSi(111)基板 のカット
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-17-BA-0038]電界放出源の高出力化の研究
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0002]電界放出源の高出力化の研究
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0003]カーボン材料の分析
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0010]三次元細胞組織の再生医療実現に向けた血管構造作製技術の確立
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0011]低次元物質を用いたナノデバイスの開発
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0013]電子機能ナノ材料の微細加工と特性評価
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0014]バブル駆動する積層型マイクロモーターの燃料濃度勾配による駆動制御
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-105 触針式表面形状測定器
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0015]金属ナノ粒子の基材への選択吸着性の評価
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0016]デバイスシミュレーターの操作法の習得及びその有用性の確認
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0020]GOS型電子放出デバイスの作製
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0021]金属蒸気触媒を用いたグラフェンの化学気相成長
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0024]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0030]FIBで製作するナノ光陰極型電子光源の開発
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0039]パターン投影リソグラフィシステムで制作されたクロスパターンの形状測定
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0047]As2分子線を用いてMBE成長したInAs量子ドットの構造評価
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0049]金属半球面へのレーザーリソグラフィー
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0051]透明磁性誘電体の収束イオンビーム装置(FIB)による周期的微細穴加工
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0053]MEMS技術を用いたFin-lineの製作
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0055]ナノ相分離触媒材料のAPT（アトムプローブトモグラフィ）観察試料作製
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0056]Gaイオンビームエッチングによる微細光導波路型ミラーの作製検討
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0058]FIB操作実習 (CUPAL NIP： FIB実践技術コース)
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0060]二硫化モリブデンを用いた超伝導接合試料の作製
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0063]ワイドギャップ半導体MOS型電界効果トランジスタの特殊な分光評価のための試料作製
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0064]レーザーパターン集光型回折光学素子の試作と評価
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0069]透過型マスクの作製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0070]パターン投影リソグラフィシステムの操作トレーニング
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0071]金属ペースト硬化膜中のフィラー分散状態の観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0072]ゾウムシが持つフォトニック結晶構造の観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0074]紙に塗布されたセルロースナノクリスタル層の微細構造
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0077]走査型プローブ顕微鏡を利用した表面改質フィルムの観察
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0079]デジタル画像相関法によるひずみ測定のための微小パターン形成
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F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0080]TiO2の成膜、評価
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
F-BA-105 触針式表面形状測定器
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0081]電気化学センサを用いた潜在性乳房炎の検査システムの開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0083]微細な土壌団粒内部顕微分析のための試料加工
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0084]原子薄膜材料の電気特性評価試料の作製
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0003]三次元細胞組織の再生医療実現に向けた血管構造作製技術の確立
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0004]Nd-Fe-B系磁石材料の構造解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0005]半導体ナノデバイスの降伏（スナップバック）領域における電流・電圧の挙動の解析と最適デバイス動作条件および構造の検討
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0006]冷陰極アレイデバイスの開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0007]グラフェンの電気伝導の研究
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F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0008]Fabrication of nanostructures for plasmonic devices
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0009]グラフェンの合成と電気特性評価
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0010]超伝導ナノコンタクトおよびＣＶＤグラフェンの極低温電気伝導特性の研究
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F-BA-097 電子線描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0011]多孔質MIPを用いた微小・集積化バイオセンシングデバイスの構築
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0012]高温超伝導体Bi2Sr2CaCu2O8+δを用いたテラヘルツ波発振素子の開発
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F-BA-093 レーザー描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0013]全反射減衰計測のための金属蒸着プリズムの製作
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0014]ポリマー球体の作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0015]二次元電子系試料ホールバーの作製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0016]バルク水の異常ポッケルス効果の電極依存性の評価
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0017]マイクロメートルスケールのNi製マスク
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0018]スピネル型酸化物薄膜の電気伝導特性評価
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0019]1.55um帯フェムト秒表面プラズモンの時間分解イメージング
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0021]金属誘起成長IV族半導体薄膜の結晶性評価
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0022]走査型プローブ顕微鏡による剥離グラフェンの層数分布評価確立
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0023]バブル型マイクロモーターの構築
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0024]集積回路用金属薄膜の特性評価
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0025]PLAによる窒化ガリウム(GaN)基板の転位低減効果
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0027]量子ビームによる超高張力鋼(ハイテン)の水素脆性研究
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0028]スパッタ銀薄膜の特異低温内部摩擦
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0029]金属誘起成長IV族半導体薄膜の結晶性評価
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0030]カルコゲン超格子多層膜構造を用いた表面プラズモン素子の製作
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0031]P型4H-SiCの固有欠陥のESR測定
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0032]CUPAL FIB実践技術トレーニングにおける金属多層膜の解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0033]3次元微細構造を用いたテラヘルツ導波路の作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0034]遷移金属ダイカルコゲナイド系層状物質の観察
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0035]ブリッジ成長法により合成したカーボンナノファイバーの特性評価
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0036]低次元物質を用いたナノデバイスの開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0037]酸化マグネシウム鋳型多孔質炭素の細孔構造解析
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0038]FIB-SEMを用いたPt細線のパターニング
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0039]Bio＆計測実践セミナーの一環としてのマイクロバイオセンシングデバイス作製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0040]コバルト錯体を用いた水の酸化反応
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0043]FIB実践セミナーの一環としての操作実習
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0044]FIB-SEMによるSiO2薄膜の断面加工観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0045]Bio＆計測実践セミナーの一環として、マイクロバイオセンシングデバイス作製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0046]炭化ケイ素（SiC）中の結晶欠陥を利用した単一光子源用の試料作製
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0047]甲虫の微細構造の観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0048]準結晶パターンによるX線集光素子の開発
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0049]シリコン薄膜トランジスタの欠陥解析
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0050]全内部反射VSFG分光にむけた金属薄膜の製作
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0051]生物試料微細加工の最適条件検討および加工断面の微細構造の観察
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0001]電気化学分析用電極の形成
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0002]デンプン顆粒の構造解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0003]酸化薄膜成長制御のための基板裏面被覆
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0004]結晶欠陥を含むシリコンウェハのESR評価用ダイシング加工
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0005]バルク水の異常ポッケルス効果のメカニズムの解明
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0006]Cellular biomechanical responses
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0007]冷陰極アレイデバイスの開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0008]ピーム誘起堆積法による可干渉電子源の作製とその電子放出特性の研究
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0009]超伝導ナノコンタクトにおける電流輸送および熱輸送の研究
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0010]超格子材料の光誘起相転移と光学変調素子への応用
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0011]フォトニクス・プラズモニック素子を用いたバイオセンシングデバイスの構築
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0012]グラフェンFETの作製
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F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-097 電子線描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0013]電子ビーム露光による電極形成とFET電気特性評価
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0014]グラフェンの合成と電気特性評価
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F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0015]半導体ナノデバイスの降伏（スナップバック）領域における電流・電圧の挙動の解析と最適デバイス動作条件および構造の検討
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0016]グラフェンの電気伝導の研究
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F-BA-097 電子線描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0017]超伝導量子渦ビットの試作
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0018]表面の親水疎水微細パターン形成
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F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0019]超薄膜型単結晶CVDダイヤモンドデバイスの開発
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0020]マイクロスケールAu二次元パターン試料の製作依頼
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0021]電極チップのダイシング
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0022]電流検出ESR（EDMR）に関する新技術の開発
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0023]ポリマーアロイの機械物性向上の原理追及
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0024]側壁観察用顕微鏡の解像度テストチャートの開発
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F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0025]圧電効果直接駆動によるFET型高感度・広帯域超音波トランスデューサーの検討
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0026]セルロースの分解反応の経時変化の可視化
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0027]バブル型マイクロモーターの構築
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0028]Nd-Fe-B系磁石材料の構造解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0029]ナノスケールの配線パターン形成
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0030]走査型SQUID顕微鏡を用いた局所磁束観察のための被測定試料作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-095 ワイヤーボンダー
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0031]半導体二次元電子系への THzパルス照射を行うためのGaAs/AIGaAsホールバー作製
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F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0032]電気化学的細胞脱離のための電極作製
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0033]マイクロ波シングルターンコイルの作製
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F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0034]遷移金属ダイカルコゲナイド中のスピン－バレー相互作用の解明
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
F-BA-095 ワイヤーボンダー
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0035]微細配線用金属箔の組織評価
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0036]高温超伝導体を用いたTHz波発振素子の開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0037]BaSi2薄膜表面の局所的な電流特性評価
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0038]ボウタイ型アンテナを用いたテラヘルツ波の電場増強
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0039]異方性構造をもつ高強度ハイドロゲルの創製
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F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0040]シクロデキストリンマイクロキューブとその炭素化物の解析
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0041]高絶縁性セラミックス薄膜の電気特性計測用電極形成
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0042]強磁性窒化物の磁区観察
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0043]FIB-SEMによる多孔質複合材料の三次元構造解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0044]Si(100)上に蒸着した金属薄膜のRBSにおける膜厚とチャネリングの関係
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0045]リポソームを用いたモリブデンナノ粒子合成法の確立
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F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0006]導電性プローブ顕微鏡によるグラフェンの局所電圧電流計測
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F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0007]電子ビーム蒸着によるグラフェンへの電極作成
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F-BA-096 電子線蒸着装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0009]集束イオンビームを用いたグラフェンの局所加工
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0010]スパッタ薄膜の成膜と評価
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0012]酸化物半導体を用いたソーラーセルの検討
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0013]2次元アンペロメトリックセンサ用マスクの作製
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F-BA-093 レーザー描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0014]酸化薄膜成長制御のための基板裏面被覆
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0015]電気化学分析用電極の形成
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0016]酸化物デバイスの動作特性に与えるプロセス雰囲気の影響に関する評価
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0017]ナノ構造金属表面におけるフェムト秒表面プラズモン波束の導波
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0018]レーザープラズマ軟X線を用いたポリジメチルシロキサンの微細加工
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0019]長距離伝搬型表面プラズモンの導波構造の製作
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0020]浸炭鉄の浸炭過程及び内部構造の解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0021]超格子材料を用いた多層膜構造に対する表面プラズモンの励起と導波
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0023]エミッター開発
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0024]次世代ワイドギャップ材料を用いた電荷補償型パワーデバイス構造の検討
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0025]MOSFETのスナップバック挙動解析
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F-BA-091 デバイスシミュレータ
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0027]デンプン顆粒の構造解析
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F-BA-094 FIB-SEM
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0028]バルク水の異常ポッケルス効果のメカニズムの解明
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F-BA-092 スパッタリング装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0029]好中球の殺菌活性を指標としたストレス測定デバイスの構築
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F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-093 レーザー描画装置
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0001]SiC熱酸化膜の絶縁破壊箇所の断面観察
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0002]CNT試料の成長基部の断面切削加工
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0003]CNT試料の成長基部の高分解能観察と分析
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0004]浸炭鉄の断面加工
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0005]浸炭鉄の高分解能観察と分析
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0006]低融点ビスマスー錫共晶合金の微細組織の観察
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0007]多結晶HfO２膜を流れるリーク電流経路調査
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0008]PVdFナノ粒子のSEM観察
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0009]HBC-TNF自己組織化ナノチューブの構造確認
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0010]無電解金メッキによって作製されたナノギャップ電極の断面観察用試料の作製
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0011]無電解金メッキによって作製されたナノギャップ電極の断面形状観察
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0012]無電解金メッキによって作製されたナノギャップ電極のTEM 試料作製
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0013]銀ナノ結晶電析のその場観察
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0014]イオン液体硬化の電子ドーズ依存計測用金薄膜の形成
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0015]高感度バイオセンシングのための金／絶縁体／金型プラズモニック導波路構造の作製
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0016]化学的エネルギーの直接変換により自律運動するPt/Au型ナノロボットの開発
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0017]三次元細胞組織の再生医療実現に向けた血管構造作製技術の確立
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0018]細胞培養のためのマイクロシステム
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0019]薄膜形成のためのスパッタ成膜
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0020]プレーナー型トンネルトランジスタの電気特性とそれを実現するデバイス構造最適化のシュミレーションによる検証実験
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0021]ナノワイヤ型ショットキートランジスタの電気特性予測と構造の最適化
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0022]新材料による半導体ヘテロ接合構造の電流電圧特性
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0023]グラフェンFETのLSIパッケージへのボンディング
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0024]エポキシボンダーを用いた有機導電体ウィスカーのオーミック電極形成
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0025]薄膜結晶太陽電池素子への配線
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0026]CNTファイバーの電気測定用レチクルの作成
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0027]グラフェン転写用アドレスマークレチクルの作成
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0028]GaN HEMTデバイス試作を目的としたマスク作製
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(登録なし)
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0029]強磁性窒化物磁性細線の形成
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0001]ミリ波・マイクロ波計測
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0002]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0003]微細構造試料を用いた光音響高速計測技術
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0004]量子センシングのためのマイクロ波アンテナの作製
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F-UT-168 UVレーザープリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0005]ダイヤモンドの表面の洗浄と観察
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0006]ナノビーム共振器中の架橋カーボンナノチューブにおけるPurcell効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0007]カーボンナノチューブの決定論的配置によるナノデバイス作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0008]単層カーボンナノチューブ分割ゲート発光素子構造の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0009]Hexagonal boron nitride as an ideal substrate for carbon nanotube photonics
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0010]単層架橋カーボンナノチューブに対するアリルハライドを用いた気相機能化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0011]導波路結合型カーボンナノチューブ光源
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0012]Quantum Emission Assisted by Energy Landscape Modification in Pentacene-Decorated Carbon Nanotubes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0013]FeVAl薄膜のドライエッチング
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0014]高解像度誘電体メタホログラムの製作
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0015]電子線描画装置を利用した可視光領域でのアキシコンメタレンズの開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0016]電子線描画装置および反応性イオンエッチング装置を用いた可視光用可変焦点メタレンズの製作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0017]可視光領域におけるシリコンナノ柱を用いた誘電体メタサーフェスホログラムの開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0018]シリコンナノ柱を用いたAlvarezメタレンズの製作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0019]メタサーフェスを用いたガスセンサ素子開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0020]Y3Fe5O12微細構造を用いたスピン波周波数分割多重化デバイス
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0021]Lithographic in-mold patterning for CsPbBr3 nanocrystals distributed Bragg reflector single-mode laser
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0022]GaAs劈開表面の観測
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F-UT-145 SEM
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0023]MEMS振動発電型エナジーハーベスタ
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0024]天文分光用MEMSマイクロシャッタアレイ
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F-UT-158 UVオゾンクリーナー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0025]ＭＥＭＳ波長可変光源
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0026]電子ビーム描画及び深掘りエッチング装置によるシリコンメタレンズの作成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0027]アモルファスSiサブマイクロ構造の試作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0028]単一細胞捕獲分析用マイクロデバイス作製
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0029]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0030]半永久的に退色しないフルカラー構造色パターニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0031]高性能高スループット光学デバイス作製プロセス
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0032]金属被覆誘電体テラヘルツ波導波路における伝搬損失メカニズム
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0033]光触媒応用に向けた酸化チタン薄膜の形成
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0034]狭隘なトレンチで構成した回折格子を用いた再構成分光のための中赤外ディテクタ
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0035]金キラル構造を用いた反射防止フィルタ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-156 スプレーコーター 兼 自動エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0036]マイクロロボットを駆動可能な静電モータの作製に関する試行利用
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0037]パリレン薄膜の形成
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F-UT-147 パリレンコーター
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0038]不連続なAu回折格子を用いた電流検出型SPR化学量センサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0039]バイオアッセイへの応用に向けたシリコン製マイクロ流体デバイスの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0040]リフトオフによるナノ金属構造作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0041]次世代型半導体（ISFET）pHセンサーの開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0042]シリコンプラットフォームを用いた光集積回路
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0043]ポーラスSi薄膜の形成
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0044]軟Ｘ線イメージング用テストチャートの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0045]グラフェン・ナノスケール・デバイス作製に向けた微細加工
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0046]Si深堀エッチング用保護膜の開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0047]カーボンナノチューブ構造制御のための成長速度分析
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0048]Property investigations and Device applications of 1D van der Waals hetero-nanotubes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0049]微細パターン評価技術開発に向けての電子線描画によるレジストパターン形成
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-152 枚葉式ZEP520自動現像装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0050]単層カーボンナノチューブを用いたヘテロ構造デバイスの作製とその電気計測
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0051]超伝導検出器の開発
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0052]DRIEを利用した静電アクチュエータの作製
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0053]試料のSEM観察
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0054]溝付き尖塔構造を持つエミッタアレイの作製
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0055]電子線描画装置を使用した1GHz OPAW振動子の電極パターニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0056]シリコン深掘エッチングの品質向上(2)
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0057]熱電素子への成膜と電極基板の作製
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0058]ナノ粒子計測のためのナノ構造形成とデバイス作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-145 SEM
F-UT-168 UVレーザープリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0059]高分解能センサプローブを用いたPDMSビーズの硬さ計測
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0060]近接場光精密研磨
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0061]ヘテロナノチューブの電気伝導特性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0062]MIMプラズモン構造を用いた光電場計測素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0063]超伝導転移端センサ型光子数識別器の開発
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0064]音響波によるナノ粒子操作のためのマイクロ流路の作製
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F-UT-155 汎用NLDエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-164 プラズマ表面改質装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0065]プラズモニックナノ構造による光駆動ナノアクチュエータの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0066]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0067]人工ナノ構造を用いた広帯域集光素子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-155 汎用NLDエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0068]アモルファスカーボン膜の除去処理検討 ２
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-150 オージェ分光分析装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0069]InAs/(Ga,Fe)Sbの磁気伝導現象特性評価
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0070]自立型窒化シリコンナノ薄膜のウエハスケール加工
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0071]マイクロ流体デバイス作製用モールドの作製
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0072]酸化物半導体へのショットキー接合形成プロセス検討
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0073]IrOx薄膜の形成およびエッチング
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0074]グラフェン電界効果トランジスタ作製プロセスの検討
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0075]形態制御可能なカーボンナノ材料のSERSへの利用
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F-UT-145 SEM
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0076]培養基板表面の微細構造が細胞に及ぼす作用の解析
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0077]金属亜鉛電池のその場観察技術開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0078]ZnO薄膜の作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0079]骨伝導振動子の表面加速度の測定
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0080]Spin-orbit torque magnetization switching
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0081]磁性体薄膜を用いたマイクロメートル幅細線の形成
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0082]Fabrication of Diamond Like Carbon (DLC) based superhydrophobic surface
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0083]熱電対細線へのパリレン薄膜の形成
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F-UT-147 パリレンコーター
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0084]シリコン基板における大面積ナノ溝配列構造の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0085]イットリア安定化ジルコニアの単一粒界におけるイオン伝導の計測
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0086]ガスセンシングSnO2デバイスの作製
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0087]NLDエッチングを用いた長尺透過型回折格子の作製
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-155 汎用NLDエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0088]表面弾性波による微量液滴撹拌技術とバイオエレクトロニクスの融合プロジェクト
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-158 UVオゾンクリーナー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0089]Si基板への微細凹凸加工
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0090]物質の対称性やトポロジーに由来した新しい磁気輸送現象の開拓
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0091]ナノスケール幅のAuナノシート作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0092]マイクロ加工技術を利用した培養細胞間の相互作用に関する研究
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0093]0.8 μm CMOSプロセスを用いたMEMS加速度センサ
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0094]反磁性体を用いた微細反転素子の形成
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0095]MEMSデバイスを用いたTEMその場機械試験システムの構築
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0096]一軸圧縮ひずみGe-on-Insulator pチャネルMOSFET
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0097]圧電MEMSデバイスの開発
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0098]Geウエハ深掘りエッチング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0099]ガラス製ナノ流路の作製と観察
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0100]微細チャネルを用いた横型スピンバルブ素子の作製及び特性評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0101]光学測定用サンプルホルダーにおいて試料位置に生じる磁場を測定するためのプリント基板の作製
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F-UT-142 NCプリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0102]Agナノ層およびポリイミド (基材) との密着状態の観察
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F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0103]マイクロ加工デバイスを利用したナノスケール熱輸送現象の解明
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0104]濡れ性微細パターン表面におけるインク脱濡れの解析
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-147 パリレンコーター
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0105]微細蒸発界面を保持するためのナノ細孔アレイの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-145 SEM
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0106]カーボンナノチューブの階層的熱伝導測定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0107]Development of rotational electret energy harvester with synchronous circuits
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0108]Development of push-button energy harvester with soft piezoelectret
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0109]Development of electret-enhanced pyroelectric energy harvester
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F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0110]低消費電力MEMS Knudsenポンプの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0111](100)/(001) 配向PZT薄膜によるPMUTアレイの試作評価
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0112]誘電体ナノメンブレンフォトニック結晶作製技術の開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0113]デジタルホログラフィ光学系評価用のサブミクロンテストチャートの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0114]金属-絶縁体-金属構造の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0115]シリコンウエハ上への金属薄膜の形成
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0116]テラヘルツ電場誘起電子トンネリング計測用金属ナノギャップデバイスの作製
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0117]楕円筒小型X線ミラーの表面粗さ測定及びその集光性能評価に用いる試料作製
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F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0118]MEMSを用いた波長可変VCSELの開発
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0119]MSCから骨芽細胞への分化制御のためのサブミクロン表面微細構造の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0120]微細加工技術の開発
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0121]自動成膜・評価・ベイズ最適化の全自動サイクルによる高Liイオン伝導薄膜の探索
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-158 UVオゾンクリーナー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0122]原子分解能TEM用駆動デバイスの開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0123]金ナノ粒子7量体をアレイ型配置した近赤外共振器の設計と作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0124]リッジ構造を持つAlGaAsダイオード素子の電気特性評価
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-138 高速ランプアニール装置
F-UT-157 12インチプローバー
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0125]微細加工技術を利用したX線顕微イメージング手法の高度化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0126]トップダウン加工によるナノ流体デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0127]高効率輻射光源の製作
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0128]メタサーフェス構造を使った宇宙機用極低温ラジエータの開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0129]超伝導量子デバイス開発
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F-UT-150 オージェ分光分析装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0130]灌流培養チップのための電気駆動ポンプの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0131]硼素/チタン薄膜の形成
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0132]ポリマー/金属界面の電子構造
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0133]MEMSミラーの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0134]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0135]垂直入射型変調器に向けた薄膜ニオブ酸リチウム基板上金格子の作製
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0136]超音波振動子のキャビティ形成
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0138]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0139]プラズモニック構造の作製と応用
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0140]Si基板上のショットキー電極開発
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-138 高速ランプアニール装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0141]低温ウェハ接合に関する研究
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0142]イオンスパッタリングによるリソグラフィ用銀薄膜生成
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0143]半導体光素子の作製
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0144]デバイスの微細表面形状の非破壊観察法の検討（１）
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0146]The formation of patterned Ni thin film
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0147]Performance evaluation of photonic integrated circuits-based OFDR sensing
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0148]新規ポリマーナノ薄膜の表面解析
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F-UT-165 小型原子間力顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0149]コンフォーマルに製膜された薄膜の応力分布の測定法
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0150]広角ビームスプリッターの開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0151]塗布成膜有機/無機半導体の構造制御
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F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0152]サブマイクロスケールパターン表面の効率的試作
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0153]超流動ヘリウム研究用マイクロスリット構造の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0154]単一分子薄膜-細胞の電極準備
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0001]マイクロ加工技術を利用した培養細胞間の相互作用に関する研究
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0002]微細加工技術による機能性材料の物性に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0003]金ナノシートの形成プロセスの検討
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0004]尖塔構造を持つエミッタアレイと引き出し電極の作製
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0005]温度センサ・マイクロヒーターを有する電気浸透流マイクロポンプチップの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0006]一分子検出に基づくDNA 消化酵素評価法
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-145 SEM
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0007]一軸圧縮ひずみGe-on-Insulator pチャネルMOSFET
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0008]FIB によるLSI の設計ミスの修正
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F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0009]0.8 μm CMOSプロセスを用いたMEMS加速度センサ
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0010]マイクロフルイディクスの石英基板のダイシング
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0011]AlGaAs リッジ上の露光アシスト・セルフアライメントによるレジストパターニング
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0012]単層CNTの成長制御効果の同位体ラベル法による分析
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0013]MEMS の試作
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0014]酸化物半導体へのショットキー接合形成プロセス検討
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0015]スパッタリングによる薄膜積層
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0016]電気化学インピーダンス計測のための電極形成プロセス検討
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0017]アモルファスカーボン膜の除去処理検討
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0018]バイオアッセイへの応用に向けたシリコン製マイクロ流体デバイスの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0019]高効率輻射光源の製作
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0020]新規開発薄膜のドライエッチレート評価及び電子線描画によるリフトオフレジスト形成
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-152 枚葉式ZEP520自動現像装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0021]シリコンプラットフォームを用いた光集積回路
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0022]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0023]赤外線連続照射による気液界面での分子内振動の緩和と溶剤乾燥に効果的な吸収帯の解明
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0024]エッチングによるマイクロレンズ構造の形成
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0025]絶縁基板上へのMoS2 環境発電デバイス作製
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0026]ナノ粒子計測のためのナノ構造形成とデバイス作製
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-145 SEM
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0027]大面積レーザーアレイのためのペロブスカイト自己集合リソグラフィの研究
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0028]Pt/Y3Fe5O12 ヘテロ構造におけるスピン波伝搬の電流制御
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0029]Siウェハのステルスダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0030]ＭＥＭＳ振動発電を用いたパーペチュアル・エレクトロニクス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0031]ＭＥＭＳ波長可変光源
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0032]量子センシングのためのマイクロ波アンテナの作製
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F-UT-142 NCプリント基板加工装置
F-UT-153 精密二次元NC加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0033]ダイヤモンドの表面洗浄と試料への接着
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-138 高速ランプアニール装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0034]プラズモニックキラルナノ構造の作製
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0035]Siペレットのダイシング
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F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0036]可変3DキラルTHzメタマテリアルのための機械的変形方法の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-147 パリレンコーター
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0037]Siウエハ上におけるL&S構造の形成
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0038]ガラスエッチング用保護膜の開発
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0039]ガスセンシングデバイスの作製
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0040]Si深堀エッチング用保護膜の開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0041]微細加工技術の開発
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0042]ガリウム砒素融着SOI基板のレーザーダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0043]新規固体熱工学材料のナノスケール熱伝導測定
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0044]マイクロデバイスを用いたナノ構造材料の階層的熱伝導測定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0045]メタルマスクとICP-RIEによるナノホール構造を有した石英モールドの製作
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0046]マイクロ・ナノ流体デバイスの開発と化学・バイオへの応用
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0047]空間周波数分解シュリーレン装置用空間バンドパス・ハイパスフィルタの作成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0048]火山噴出物シラスを原料とする親水性薄膜の形成
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0049]NMOSまたはPMOSのみのリングオシレータを搭載した集積回路の配線修正
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F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0050]経年劣化を抑制するスターブ型リングオシレータを搭載した集積回路の配線修正
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F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0051]sapphire基板への微細凹凸加工
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0052]ナノビーム共振器中の架橋カーボンナノチューブにおけるPurcell効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0053]カーボンナノチューブの決定論的配置によるナノデバイス作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0054]架橋カーボンナノチューブ発光ダイオード
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0055]Substrate effects on molecular adsorption onto individual carbon nanotubes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0056]Hexagonal boron nitride as an ideal substrate for carbon nanotube photonics
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0057]単層架橋カーボンナノチューブに対するアリルハライドを用いた気相機能化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0058]導波路結合型カーボンナノチューブ光源
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-162 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0059]Directional exciton diffusion in pentacene-decorated carbon nanotubes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0060]Porous carbon nanowire array for surface-enhanced Raman spectroscopy
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F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0061]単層カーボンナノチューブの電気伝導特性評価
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0062]孤立単層カーボンナノチューブのオンチップイメージングおよび分光
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0063]Device applications of 1D hetero-nanotubes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0064]単層カーボンナノチューブの電気伝導計測へ向けたデバイス作製
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0065]ヘテロナノチューブの元素分析と電気伝導特性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-150 オージェ分光分析装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0066]アモルファスSiサブマイクロ構造のパターン試作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0067]アクア・プラズマ表面改質装置を用いたデバイス基板とダイヤモンド放熱基板の直接接合
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F-UT-164 プラズマ表面改質装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0068]金回折格子型プラズモンを利用した超小型分光器の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0069]シリコン上のナノホールアレイを用いた背面照射型赤外検知法
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0070]送受相補型PMUTによる超音波プローブの試作
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0071]単一分子薄膜電極準備
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0072]光学測定用超伝導体薄膜に大電流を注入するためのプリント基板の作製
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F-UT-142 NCプリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0073]静電モータで駆動するマイクロロボットの作製に関する試行利用
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0074]生体調和型有機・バイオMEMSデバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0075]静電回転ステージ製作のための反応性イオンエッチング装置の利用
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0076]可変焦点メタレンズ製作のための電子線描画装置および反応性イオンエッチング装置の利用
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0077]イットリア安定化ジルコニアの単一粒界におけるイオン伝導特性の計測
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0078]可視光領域におけるシリコンナノ柱を用いた誘電体メタサーフェスホログラムの開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0079]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0080]非晶質複合アニオン酸化物薄膜をチャネル層に用いた薄膜トランジスタの開発
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0081]THz導波路における伝搬損失のコーティング金属膜厚依存性
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0082]超高アスペクト比トレンチ構造の作製とトレンチ内製膜
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0083]自動成膜・評価・ベイズ最適化の全自動サイクルによる高Liイオン伝導薄膜の探索
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0084]トップダウン加工によるナノ流体デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0085]濡れ性微細パターン表面におけるインク脱濡れの解析
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-147 パリレンコーター
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0086]蒸発界面を保持するためのナノ細孔アレイの作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-108 精密研磨装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0087]近接場光精密研磨
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-165 小型原子間力顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0088]金ナノ構造からの電子放出を用いた光電場計測素子の開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-142 NCプリント基板加工装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0089]Vibrational strong coupling in a plasmonic nanogap patch antenna cavity
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0090]水晶振動子を用いたワイドレンジ荷重センサの応用
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0091]グラフェンを用いたシリコンフォトニクス研究
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-145 SEM
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0092]ナノフルイディクスのためのナノ・マイクロチャネル製作
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-148 ニッケルメッキ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0093]亜鉛空気電池における亜鉛電極形状の劣化に与える影響の検証
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-129 精密フリップチップボンダー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0094]Development of Rotational Electret Energy Harvester with Synchronous Circuits
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0095]Development of Push-button Energy Harvester with Soft Piezoelectret
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0096]Development of Liquid-crystal-enhanced Electret Vibration Energy Harvester
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0097]Study on VOC Sensing Properties of Parylene E
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0098]グラフェン・ナノスケール・デバイス作製に向けたSiO2薄膜の微細加工
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0099]表面弾性波による微量液滴撹拌技術とバイオエレクトロニクスの融合プロジェクト
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-158 UVオゾンクリーナー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0100]真空紫外光発生用誘電体ナノメンブレンの作製
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0101]人工ナノ構造を用いた集光素子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0102]超短周期透過型回折格子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0103]高効率ホログラムのための電子線描画装置利用
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0104]電子ビーム描画及び深掘りエッチング装置を用いたメタレンズの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0105]可変焦点メタレンズの研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0106]電子線描画装置を利用したアキシコンメタレンズ製作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0107]ステルスダイサーのトレーニング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0108]マイクロポンプ用フォトマスクの作製、SU-8エポキシ樹脂パターンの形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0109]微細構造を有する中性子遮蔽体の開発
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F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-129 精密フリップチップボンダー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0110]光音響高速イメージングに向けた微細細胞コンテナの作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0111]テラヘルツ導波管変換器の試作
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0112]生体分子の高感度センシングを目的とした光学基板の創製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0113]MSCから骨芽細胞への分化制御のためのサブミクロン表面微細構造の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0114]Testing of photonic integrated circuits for OFDR-based sensing system
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0115]超撥水機能を備えた反射防止膜
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0116]電子線描画装置を使用した薄水晶ウェハへのAu電極パターニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0117]エッチングによる微細加工検討とレーザー顕微鏡を用いた平坦性評価
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0118]テラヘルツ電場誘起電子トンネリング計測用金属ナノギャップデバイスの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0119]ルナドリームカプセルプロジェクト(LDCP)：電子線リソグラフィによる衛星搭載向けシリコン チップの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0120]新規ポリマー薄膜の表面解析
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F-UT-165 小型原子間力顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0121]メタサーフェス型宇宙機用ラジエータの開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0122]偏光子集積フォトディテクタに向けた金格子の作製
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0123]線虫の塩走性における感覚・運動情報の統合メカニズムの解明
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0124]流量センサのための石英基板への電極構造の形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0125]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0126]半導体光制御素子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0127]SnO2ガスセンサデバイスの作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0128]DRIEを利用した静電アクチュエータの作製
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0129]超音波振動子と対向面によるポンプにおけるギャップ内圧力測定用センサの開発
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0130]ゼロコンプライアンス式微小力測定装置の開発
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0131]フォトマスク描画
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0132]フレキシブルなMEMS流量センサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0133]Si 深溝Pattern
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0134]Fabrication of mechanically strong structured superhydrophobic surface using Diamond Like Carbon (DLC)
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0135]M/S/M共振器熱光起電力電池の製作および発電特性に関する研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-134 ベルジャー蒸着装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0136]金ナノ粒子7量体をアレイ型配置した近赤外共振器の設計と作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0137]SOIウェハの深掘エッチングによる宙吊り構造の作製
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0138]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0139]金属-絶縁体-金属構造放射体に関する研究
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F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0140]SiC基板上における2次元構造の成長
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F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0141]反磁性体を用いた微細反転素子の形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0142]超伝導転移端センサ型光子数識別器の開発
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0143]X線画像を用いた画像処理計測による電子パッケージ中のひずみ・応力評価手法の開発
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F-UT-135 金メッキ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0144]磁性体薄膜を用いたマイクロメートル幅細線の形成
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0145]磁気光学効果の飛躍的増大を目指した微細構造の精密制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0146]ガラス製ナノ流路の作製と観察
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0147]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発
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F-UT-127 エポキシダイボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0148]X線自由電子レーザーによるコヒーレント回折イメージングのための 新規マイクロ流路デバイス構造の作製と評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-152 枚葉式ZEP520自動現像装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0149]高速アニールによるシリコンカーバイド膜表面変化
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F-UT-138 高速ランプアニール装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0150]光非相反位相効果の評価用シリコン導波路の検討
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0151]テラヘルツ波伝送デバイスの作製
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F-UT-168 UVレーザープリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0152]常温接合に関する研究
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0153]シリコン深掘エッチングの品質向上
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0154]膜面展開構造物のヘルスモニタリング向けフレキシブルワイヤレスセンサの実現
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F-UT-129 精密フリップチップボンダー
F-UT-128 セミオートボールボンダー
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0155]ナノインプリント金型洗浄
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0156]塗布成膜有機/無機半導体の構造解析
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0157]３D リソグラフィ法により作製した凹凸界面構造を有するトライボ発電デバイス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0158]熱流入メカニズムに基づく高効率ドライ歯車研削の実現
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F-UT-147 パリレンコーター
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0159]SiベースSpin機能デバイスの研究開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0160]スピンデバイスの作製と評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0161]InAs/(Ga,Fe)Sbの磁気伝導現象特性評価
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0162]スピンバルブ素子の作製及び特性評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0163]横型ジョセフソン接合の作製と評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0164]GaMnAs単層におけるスピン軌道トルク磁化反転の電界制御
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0001]2次元層状SnS圧電特性評価のためのデバイス作製
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0002]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0003]高効率光変調器に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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| 利用課題番号/課題名 |
利用装置名 |
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0004]高性能トランジスタに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0005]単層カーボンナノチューブ熱物性計測のデバイス作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0006]グラファイト上への単結晶単層六方晶窒化ホウ素の合成と分析
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F-UT-150 オージェ分光分析装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0007]孤立架橋ヘテロナノチューブの合成と転写
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0008]Preparing individual SWNT-hBNNT heterostructure for electronic applications
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0009]水平配向単層カーボンナノチューブを用いたリチウムデンドライトの生成と消失の観察
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0010]同位体ラベルによる単一単層カーボンナノチューブの成長過程分析
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0011] １細胞由来染色体の番号識別を行うためのマイクロ流体デバイス開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0012]ナノ粒子計測のためのナノ構造形成とデバイス作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0013]誘電体ナノメンブレンを用いた真空紫外波長変換技術の開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0014]フォトニック結晶ナノメンブレンを用いた円偏光真空紫外波長変換技術の開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0015]Rotational Electret Energy Harvester with Self-powered SSHI
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0016]Liquid-crystal-enhanced Electret Vibration Energy Harvester
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0017]Parylene E-based VOC gas detector
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0018]Triangular Microwells for Cell Trapping
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0019]Hot-electron photodetector with wavelength selectivity in near-infrared via Tamm plasmon
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0020]高出力レーザーの研究開発
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0021]近接場光援用波数励起によるシリコン受光素子の開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0022]MEMS振動発電を用いたパーペチュアル・エレクトロニクス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0023]MEMS波長可変光源
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0024]赤外天文分光器用MEMSマルチスリットアレイ
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0025]ハロゲン化金属ペロブスカイト型半導体上の微細電極作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0026]Y3Fe5O12薄膜におけるスピン波伝搬と外場制御に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0027]LSI構造解析技術の研究
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0028]MEMSセンサに向けたTiNマイクロヒータの試作と評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0029]金ナノグレーティングによる光学変調
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0030]電子ビーム描画およびエッチング装置を用いた回転型可変焦点メタレンズの製作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0031]電子線描画及びダイボンダーを用いた光位相差変調素子の製作
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F-UT-127 エポキシダイボンダ―
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0032]TiNスパッタリングを用いた熱電子発電素子の製作
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0033]TiNスパッタリングを用いた赤外輻射光源の製作
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0034]可視域におけるシリコンナノ柱を用いた誘電体メタサーフェスホログラム
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0035]SOI基板への電子線描画と反応性イオンエッチングによる静電回転ステージの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0036]金属／誘電体テラヘルツ導波管の作製に向けた金属材料選択
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0037]高アスペクト比トレンチによる超臨界流体薄膜堆積法のプロセス解析
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0038]Si基板上への窒化物半導体成長に向けたSiCバッファ層の形成メカニズム解析
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0039]イオン伝導体セラミックス欠陥におけるイオン伝導特性の計測
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0040]半導体光導波路デバイスの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0041]マイクロ加工技術を利用した神経・心筋細胞の機能評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0042]グラフェンを用いたシリコンフォトニクスの研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0043]マイクロロボットに用いる静電モータの作製に関する試行利用
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0044]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0045]放射線が引き起こすSiO2中のキャリアダイナミクス
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0046]ナノ・マイクロ加工デバイスを利用したナノスケール熱伝導測定
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0047]Si熱電素子の加工と実装
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0048]サブミクロン表面微細構造を用いた間葉系幹細胞から骨芽細胞への分化制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0049]光触媒機能・超親水機能を兼ね備えた反射防止誘電体多層膜
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0050]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0051]P(VDF-TrFE)薄膜とCMOSのモノリシック構造による高感度超音波トランスデューサ
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0052]ナノホールパターン成型のためのナノインプリント原版作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0053]蒸発過程の計測に用いるナノ細孔膜の作成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0054]濡れ性パターン表面における脱濡れの計測
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0055]自励振動マイクロヒートパイプの作成と性能評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0056]OrigamiSpeaker: 導電性インクの印刷で作る折り紙スピーカー
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0057]レジスト用ポリマーのドライエッチング耐性試験
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0058]赤外プラズモニクスを活用した振動分光および化学反応制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0059]ナノインプリントプロセスにおけるエッチングレートの比較検討
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0060]銀薄膜の作製
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0061]静電容量式CMOS-MEMS圧力センサの試作
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-147 パリレンコーター
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0062]プラズモニックリニアナノモーター駆動マイクロマシンの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0063]細胞-FET型バイオセンサのためのノイズ低減構造の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-143 半導体パラメータアナライザー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0064]MEMSセンサの試作
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0065]中性子用イメージングセンサーの開発のための硼素成膜と位置分解能評価マスクの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0066]機械的大変形可能な 3D キラル THz メタマテリアル
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0067]Au回折格子と背面照射による電流検出型SPR化学量センサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0068]角度可変MEMSによる検出波長走査可能なプラズモニック金回折格子型光検出器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0069]尖塔構造を持つエミッタアレイの作製
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0070]有機系浮遊粒子状物質を検出するMEMS形センサの開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0071]暗い励起子から明るい励起子への変換機構
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0072]ナノビーム共振器中の架橋カーボンナノチューブにおけるPurcell効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0073]カーボンナノチューブの超解像光学イメージング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0074]Photoconductivity spectroscopy of individual carbon nanotube
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0075]Dielectric screening effects on photoluminescence of carbon nanotubes on hexagonal boron nitride
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0076]単層架橋カーボンナノチューブに対するアリルハライドを用いた気相機能化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0077]架橋カーボンナノチューブ発光ダイオード
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0078]導波路結合型カーボンナノチューブ光源
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0079]分子による架橋カーボンナノチューブの光物性チューニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0080]MEMSの試作
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0081]はんだ接合部におけるCr/Ni/Au、およびCr/Auの溶解耐性と濡れ性
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0082]MEMSガスセンサ開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0083]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0084]Siウェハのステルスダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0085]平滑な金薄膜の形成と大気中低温接合への応用に関する研究
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0086]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0087]異分野融合によるタンパク質探索ツールの開発と応用
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0088]プラズマドライエッチングによるアルミニウムホールアレイの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0089]超短周期透過型回折格子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0090]宇宙機用極低温ラジエータ材料の開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0091]レジストの露光特性
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0092]微細加工技術による機能性材料の物性に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0093]金ナノ粒子の幾何学的構造による近赤外共振デバイスの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0094]レジスト材料の性能評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0095]単分子電流計測技術を用いた生体分子の高感度検出手法の開発
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0096]Si深堀エッチング用保護膜の開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0097]境界設計によるバクテリア集団の秩序制御
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0098]ダイサーのトレーニング
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0099]Research on Photonic Integrated Circuits for OFDR sensing system
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0100]塩素系ICPエッチング装置(ULVAC CE-S) Pt膜エッチングテスト結果
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0101]Rθ露光マスクレスリソグラフィ装置とDRIEを用いた8インチシリコンモールドの作成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0102]PtOx/ZnOショットキーダイオードの作製
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0103]サブマイクロ構造光学素子の試作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0104]大面積理想配列パターンを有するフレキシブルモールドの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0105]電子線描画装置を使用した薄水晶ウェハへのAu電極パターニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0106]磁気光学効果の飛躍的増大を目指した精密制御微細構造の探索
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0107]ガスセンシングデバイスの作製
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0108]ナノスケール測定デバイスを用いた単一ナノ構造材料の電気・熱伝導性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0109]トップダウン加工によるナノ流体デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0110]光学測定用超伝導体薄膜への電極形成
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-138 高速ランプアニール装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0111]心筋細胞の拍動の力の計測
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0112]樹脂基板への金属膜の成膜
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0113]メッシュ型金ゲート電極MOSキャパシタの作製
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0114]亜鉛空気電池電極間反応その場TEM観察
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0115]高純度エッチングガスの評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0116]硬質材料の加工性検証
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-148 ニッケルメッキ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0117] バイオアッセイへの応用に向けたシリコン製マイクロ流体デバイスの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0118]らせん高分子による磁気抵抗率デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0119]微細加工技術の開発
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F-UT-146 レーザー直接描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0120]グレーティング型バイオセンサーデバイスのモールド作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0121]ゼロコンプライアンス式微小力測定装置の開発
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0122]線虫の塩走性における感覚・運動情報の統合メカニズムの解明
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0123]エッチングおよびステルスダイシングによる微細加工検討
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0124]サブマイクロ構造光学素子のパターン試作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0125]水中マイクロスイマーの精密な重量同定手法
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0126]SiC上Caインターカレート単層グラフェンの作製・電気伝導測定
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0127]Yb修飾グラフェン/SiCの作製・電気伝導測定
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0128]ウルトラクリーン単一カーボンナノチューブトランジスタの作製プロセスの研究
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0129]軟X線分光用不等間隔回折格子の作製と評価
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0130]非晶質酸硫化亜鉛をチャネル層に用いた薄膜トランジスタの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0131]樹脂へのナノ構造体形成
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0132]超伝導転移端センサの開発
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F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0133]ナノカーボン材料の電気特性評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0134]光アイソレータ用Si導波路の検討
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0135]光変調器に向けたシリコン格子の作製
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0136]FHEデバイスへのベアチップ実装
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F-UT-129 精密フリップチップボンダー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0137]エッチングによるマイクロレンズ構造の形成
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0138]SnO2ガスセンサの作製
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0139] SiO2の高速VHFエッチングの研究
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0140]シリコン薄膜メカニカル構造の作製
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0141]Development of a novel silicon nanodisk array for molecular sensing
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0142]GaAs上サブミクロン周期パターンの形成
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0143]微細構造体の機械特性評価
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0144]M/S/M共振器熱光起電力電池の製作および発電特性に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0145]塗布成膜有機/無機半導体の構造制御
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F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0146]熱活性化遅延蛍光薄膜の製膜プロセス最適化
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F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0147]ガラス製ナノ流路の加工と観察
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F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0148]有機膜の膜厚計測
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0149]微小気泡を用いた血液型診断用マイクロ流体デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0150]微細加工試料を用いた全光学的光音響イメージング技術
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0151]ナノフルイディクスのための流路製作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0152]内視鏡レンズによる付着物の抑制技術／半導体微細加工(ナノ加工)を用いて防汚技術をインフラ技術へ展開
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0153]高温アニール樹脂膜の物性評価（膜厚、光学定数）
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0154]CYTOP 薄膜の形成
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0155]2D/3D微細積層構造からなる3次元細胞共培養基材
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0156]3次元微細構造を有するイオンゲル振動発電デバイス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0157]プログラマブル微小体向け静電マイクロアクチュエータとワンチップ高電圧太陽電池
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0158]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-127 エポキシダイボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0001]高出力レーザーの研究開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0002]近接場光援用波数励起によるシリコン受光素子の開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0003]FIBによるGaN ICからのGaNHEMT切り出し
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F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0004]中性子用イメージングセンサーの開発に向けた硼素薄膜の最適化
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F-UT-145 SEM
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0005]酸化バナジウムをチャネルとする新規トランジスタの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0006]海洋生命理工学の戦略的研究開発
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0007]2次元層状SnSの圧電特性評価のための電極作成
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0008]有機半導体薄膜の構造・物性制御
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0009]樹脂シートのエッチング加工開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0010]メタサーフェスを使った宇宙機用ラジエータ材料の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0011]トポロジカル絶縁体の輸送特性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0012]エクソソームナノアレイのためのナノスケールパターン形成
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0013]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0014]Thermal conductivity measurement of single-walled carbon nanotubes by suspended micro thermometer
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0015]ヘテロ積層ナノチューブの合成と分析
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0016]同位体ラベルによる単層カーボンナノチューブ成長過程の分析
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0017]基板上での単層カーボンナノチューブ熱伝導率測定デバイスの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0018]単層カーボンナノチューブの再成長の同位体ラベル分析
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0019]シリコンマイクロ流路による希釈冷凍機の開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0020]湿度/酸素センサの開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0021]MEMS静電駆動マイクロシャッタのマルチスリット多天体分光器応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0022]エレクトレットＭＥＭＳ振動・トライボ発電
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0023]電子線リソグラフィのトレーニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0024]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0025]Development of a Silicon Spiral Nanoflower with Giant Optical Activity
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0026]Development of mid-infrared Ge photonic integrated circuits
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0027]ナノインプリントプロセスにおける残膜除去処理の検討
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0028]石英基板上へのシリコンナノディスクパターン形成
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F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0029]輻射制御構造のプロセス最適化に関する研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0030]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0031]単分子電流計測技術を用いた生体分子の高感度検出手法の開発
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0032]電子ビーム描画を利用した複屈折可変メタサーフェスの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0033]Si深堀エッチング用保護膜の開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0034]HFガスをガラスに当てた場合のガラス表面の変化について
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0035]超短周期透過型回折格子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0036]高フッ酸耐性膜の探査
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0037]先鋭化タングステン線へのスパッタリングによる窒化チタンの成膜
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0038]マイクロ流体デバイスを用いた１細胞由来染色体の識別技術の開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0039]メタマテリアルの製作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0040]MEMSデバイスの作成
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0041]レーザー加工によるミリ波整流回路の試作
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F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0042]タムプラズモンとキャビティのカップリングによる狭スペクトル幅熱エミッタの研究
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0043]有機強誘電体薄膜による超広帯域超音波センサーの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0044]光音響高速サイトメトリーにおける，微細細胞コンテナの作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0045]静電容量式MEMS加速度センサ・圧力センサの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0046]半導体プロセス基礎実験
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0047]光触媒機能・超親水機能を兼ね備えた反射防止誘電体多層膜
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0048]高アスペクト比トレンチを用いた超臨界流体薄膜堆積法の反応解析
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0049]GaNセンサ作製へ向けた要素プロセス検討
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0050]Si基板上への高品質窒化物半導体結晶成長に向けたSiCバッファ層形成手法の検討
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0051]エッチングおよびステルスダイシングによる微細加工検討
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0052]シリコンナノ溝周期配列のエッチング法による作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0053]レジスト材料の性能評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0054]フォトリソグラフィによるNi-W合金を用いた狭ギャップ熱電子発電素子の製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0055]ナノカーボン材料の電気特性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0056]シリコン深堀装置を用いた太陽熱光発電のためのアブソーバ・エミッタの開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0057]誘電体大面積フォトニック結晶加工技術の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0058]防水ピトー管
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0059]硬さセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0060]MEMS力センサを用いた液滴衝突の制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0061]昆虫型羽ばたき機を用いた圧力差計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0062]LEDを用いた露光機
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0063]局所滑り覚センサを用いた衝突中における路面滑りやすさの評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0064]ピエゾ抵抗型ジャイロセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0065]水中ピトー管
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0066]可動培養基板とカンチレバー型変位センサによるiPS細胞に由来する心筋細胞の伸展長さと拍動の力の計測
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0067]ヒータによる可変焦点液体レンズの焦点距離変化量向上
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0068]細胞利用型バイオセンサのための測定ノイズ低減手法の検討
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-143 半導体パラメータアナライザー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0069]ナノインプリント法によるニッケル電鋳向けの樹脂型の加工技術
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0070]Enhanced Raman scattering of graphene using double resonance in silicon photonic crystal nanocavities
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0071]架橋カーボンナノチューブにおける励起子ーキャリア相互作用に対する分子遮蔽効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0072]シリコン微小共振器による単一光子発生レートの増強
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0073]架橋カーボンナノチューブにおける分子遮蔽効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0074]カーボンナノチューブの超解像光学イメージング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0075]Photoconductivity spectroscopy of individual carbon nanotube
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0076]シリコンナノビーム共振器とカーボンナノチューブの光結合最適化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0077]架橋カーボンナノチューブ発光ダイオード
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0078]極小ピクセル Ir-TES を用いた単一光子検出器の開発
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0079]新奇非晶質半導体を用いた薄膜トランジスタの開発
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F-UT-145 SEM
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0080]プラズモニック金回折格子を備えた振動MEMSによる近赤外分光器
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0081]Au回折格子と背面照射による電流検出型SPR化学量センサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0082]Research on Photonic Integrated Circuits for OFDR sensing system
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0083]化合物半導体光デバイスの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0084]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0085]プラズマ利用イオン注入法を用いたグラフェンのSiO2/Si基板への直接合成
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0086]微細加工技術による機能性材料の物性に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0087]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0088]燃焼研究のための無線温度センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0089]Parylene E-based MEMS gas sensor
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0090]Push-button kinetic energy harvester
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0091]Electric instability of Cassie droplets on superlyophobic surfaces
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0092]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0093]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0094]X線用高精度光学素子の開発
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0095]ポリフェノール類の膜耐熱性評価
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F-UT-138 高速ランプアニール装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0096]金属ナノ構造による光駆動ナノアクチュエータの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0097]プラズモン増強近接場を利用した振動ラダークライミング・化学反応制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0098]塩素系ICPエッチング装置(ULVAC CE-S) PZT膜エッチングテスト結果
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0099]非侵襲グルコースセンサの開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0100]高品質SiC上グラフェンの作製と評価
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0101]ガラス製ナノ流路の加工と観察
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0102]破骨細胞の制御に適した電子線リソグラフィによるマイクロパターンの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0103]天文観測のための超伝導HEBミクサ素子の開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0104]SOIウェハのステルスダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0105]Si基板表面の微細パターン加工による濡れ性の温度応答性の強化
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0106]その場制御用液相ＴＥＭサンプルホルダ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0107]ナノスケール熱伝導計測のためのマイクロ/ナノスケール微細加工
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0108]シリコン光集積回路
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0109]III-V族半導体トランジスタ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0110]光ディスク用Rθ露光装置による直描マッピングパターンを使ったシリコンモールド作成
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0111]静電トランスの作製と特性評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0112]圧力計アレイの製作
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0113]無機-有機ハイブリッド半導体薄膜の構造・物性制御
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F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0114]テラヘルツ波伝送デバイスの作製
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F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0115]光変調器に向けたシリコン格子の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0116]癒着防止用スポンジ材料の構造評価
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F-UT-145 SEM
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0117]コプレーナ線路によるスピン波検出と外場制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0118]空間周波数分解シュリーレン装置用空間バンドパスフィルタの作成とアーク乱流測定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0119]Siウェハのステルスダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0120]カーボンナノチューブの光物性測定
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0121]熱電変換材料の無次元性能指数評価
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0122]実装工学における接合研究 1
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0123]実装工学における接合研究 2
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0124]実装工学における接合研究 3
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0125]実装工学における接合研究 4
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0126]実装工学における接合研究 5
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F-UT-143 半導体パラメータアナライザー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-138 高速ランプアニール装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0127]実装工学における接合研究 6
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0128]有機電気化学トランジスタを用いた生体計測
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0129]グラーフェンを用いたシリコンフォトニクスの研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0130]神経軸索に対する選択的薬理刺激用マイクロデバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0131]フィッシュネット金属/半導体/金属構造共振器熱ふく射起電力電池の開発
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0132]光デバイス応用のための架橋構造体の作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0133]SiO2の高速異方性化学エッチング技術の研究
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0134]ガスセンシングデバイスの作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0135]トライボロジー計測のためのマイクロデバイス開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0136]微小液滴によるアジャスタブル希釈・混合器の開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0137]バイオデバイス向けDIY-MEMSのためのシームレス加工技術
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0138]メカニカルメタマテリアル構造を用いた圧電振動発電デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0139]オンチップ可動マイクロロボットスイマーの作製
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-134 ベルジャー蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0140]レジスト用ポリマーのドライエッチング耐性試験
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0141]無機半導体薄膜の構造・物性制御
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0142]次世代電池用複合ナノ材料の開発
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F-UT-145 SEM
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0143]Fabrication of 10 nm-scale gold nanocrystals arrays for biosensing application
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0144]Lamb波振動子の電極パターン形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0145]電気泳動用マイクロ流路デバイスの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0146]マイクロマシン教育のための静電マイクロアクチュエータ設計
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0147]Origami Speaker: 導電性インクの印刷だけで作る折り紙スピーカー
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0148]薄膜のレーザー加工と加工性能計測のための電気的テスト構造
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F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0149]微細パターンを有する大面積スタンプ形成
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0150]生体内留置可能なフォトニックデバイスモジュールの微細加工
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F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0151]静電アクチュエータの作製に関する試行利用
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0152]ポーラス膜の剥離強度測定
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0153]レーザー加工装置によるステンシルマスク作製
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F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0001]マイクロ流体デバイスを用いた1細胞からの染色体単離技術の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0002]歪み希土類鉄ガーネット薄膜における誘電特性の膜厚依存性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0003]トポロジカル絶縁体の輸送特性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0004]Thermal conductivity measurement of single-walled carbon nanotubes by suspended micro thermometer
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0005]半導体単層カーボンナノチューブアレイの基板上精製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0006]水平配向単層カーボンナノチューブの合成と分析
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0007]架橋孤立単層カーボンナノチューブの伝熱特性測定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0008]Morphology control of single-walled carbon nanotubes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0009]MEMS低消費電力ガスセンサの開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0010]単層カーボンナノチューブ観察用TEMグリッドの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0011]誘電体メンブレン加工技術の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0012]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0013]合体による超撥水表面での液滴のジャンピング：計測とモデル
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0014]心筋細胞の拍動力計測のためのMEMSピエゾ抵抗型カンチレバーアレイ
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0015]回転プリズムを用いた回転傾斜露光を用いたPEGDAマイクロニードル
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0016]壁面ドープのカンチレバーを用いた空気流れのせん断応力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0017]ショウジョウバエの着陸時の最大許容力
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0018]EB描画を用いた石英ガラス上のナノ構造体の作製
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0019]限られた空間で細胞のトラクション力を計測するためのカンチレバーアレイ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0020]超撥水メンブレンを有したMEMS圧力センサを用いた液滴振動の計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0021]接触面の静止摩擦係数と3 軸力を同時計測可能なMEMS 触覚センサ
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0022]iPS細胞に由来する心筋細胞の拍動力評価のためのMEMS力センサアレイ
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0023]チョウの離陸時における地面効果の評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0024]Development of a novel germanium photonic integrated circuit for molecular fingerprinting
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0025]伸展刺激に対するiPS心筋細胞の収縮力変化
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0026]高感度差圧センサとナノホールアレイを用いた防水ピトー管
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0027]基板の運動制御による固体表面と液滴との衝突における接触時間の短縮
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0028]前翅固定翼による羽ばたき飛翔への影響計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0029]定常風下でのハエの飛翔力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0030]MEMS音響センサを用いた構造ヘルスモニタリング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0031]アリの歩行時の足裏反力計測のためのフォースプレート
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0032]MEMS 局所滑り覚センサを用いた滑りやすい路面と滑りにくい路面の判別
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0033]イオン液体液滴の表面張力波を用いたガスセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0034]Au/Siショットキー障壁を用いた表面プラズモンシステムによる塩分濃度の定量化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0035]SPR センサ上に形成したイオン交換膜を利用したイオンのリアルタイム計測
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0036]熱輻射制御のためのメタマテリアル
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0037]シリコンナノピラーによる中赤外検出素子の研究
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F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0038]Si回折格子上のSPRを利用した小型分光器の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0039]電流検出型SPRセンサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0040]MEMSチップのダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0041]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0042]ランダムテレグラフノイズを測定するための集積回路の配線修正
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F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0043]ソフトエラー耐性を測定するための集積回路の保護膜除去
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0044]ミリ波による無線電力伝送用レクテナの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0045]ボッシュ法を用いた高アスペクト構造体の形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0046]スパッタにて成膜したタングステン膜の評価
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F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0047]反応性スパッタ法による二酸化バナジウム薄膜の成膜
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0048]機械共振器応用に向けた単層カーボンナノチューブデバイスの作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0049]高アスペクトSi回折格子の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0050]金属-酸化物積層膜の微細加工
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0051]細胞分化制御に適した電子線リソグラフィによるマイクロ・ナノパターンの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0052]マイクロ微細加工技術によるシリコンナノ構造体と熱物性計測デバイスの製作
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0053]酸化亜鉛の量子デバイス応用を目指したナノ構造作製
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0054]単一架橋カーボンナノチューブにおける光子相関
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0055]カーボンナノチューブにおける光双安定性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0056]空気モードシリコンナノビーム共振器とカーボンナノチューブの光結合制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0057]カーボンナノチューブ分割ゲート素子における
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0058]Enhanced Raman Scattering of Graphene using Silicon Photonic Nanocavity
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0059]プラズモニック表面増強効果を利用した超高速振動分光法の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0060]MEMSピンセットによる単一細胞の機械的特性計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0061]UVナノインプリントによるAlワイヤーグリッド偏光子の作製
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0062]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0063]静電容量式MEMS圧力センサの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0064]エクソソームナノアレイのためのナノスケールパターン形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0065]放射線が引き起こすSiO2中のキャリアダイナミクス
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0066]振動発電に向けたOHAセラミックエレクトレットの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0067]回転型エレクトレット振動発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0068]高周波数帯域MEMSエレクトレット振動発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0069]Soft X-ray Charged Piezoelectret with Embedded Electrodes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0070]Electrostatic Unsteady Thermal Energy Harvester Using Nematic Liquid Crystal
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0071]Fluorinated Nematic Liquid Crystal for High-power Electret Energy Harvester
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0072]ワイヤレスフレキシブル温度センサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0073]Parylene-Based MEMS Gas Sensor
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0074]気管挿管デバイスのための小型風速センサの開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0075]ICPエッチングによる石英ガラス上の微細構造作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0076]超短周期透過型回折格子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0077]樹脂転写用金型の試作評価プロジェクト
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0078]多層配線の形成
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0079]超伝導細線軟X線検出器を用いたイメージング検出器の開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0080]熱処理によるIC特性変動調査
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F-UT-132 イナートガスオーブン
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0081]極低温用ラジエータ材料の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0082]国立研究開発法人海洋研究開発機構運営費
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0083]MEMSデバイス開発
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0084]ガラス製ナノ流路の加工と観察
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F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0085]塗布成膜有機/無機半導体の構造解析
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F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0086]MEMSセンサ開発プロジェクト
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0087]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0088]各種エラストマーにおけるハロゲンプラズマ耐性の評価
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0089]レジスト材料の性能評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0090]ロボットハンド搭載用マイクロ吸盤の造形
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0091]切削チップ用セラミックスコーティング技術の開発
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0092]マイクロ加工技術を用いた新規神経インタフェースに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0093]光学応用を目指したポリマー三次元構造への超臨界流体を用いた金属コーティング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0094]シリコン結晶製の高パワー赤外LEDの開発
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0095]テラヘルツ偏光変換用シリコンプリズムの作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0096]超短パルス高次高調波用光学素子の開発
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0097]超臨界流体薄膜堆積法(SCFD)での無残留応力Cu薄膜の製作
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0098]ナノ短冊周期配列の大面積構造の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0099]電池モデル電極の微細加工
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0100]神経髄鞘形成評価マイクロデバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0101]Si基板上への高品質GaN結晶作製に向けたAlNバッファ層成長プロセスの開発
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F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0102]電子ビーム描画を利用した金属メタサーフェス光変調素子の製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0103]フォトリソグラフィによるNi-W合金を用いた狭ギャップ熱電子発電素子の製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0104]金を用いた光デバイスによる光学特性の変調
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0105]EB描画を用いた空間光位相変調器のための光デバイスの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0106]フォトリソグラフィを用いた光制御フィールドエミッタアレイの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0107]高密度圧電MUTアレイによる超音波1Dトランスデューサの開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0108]色素増感太陽電池の膜厚測定
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0109]柔軟ポリマー構造を用いた振動発電デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0110]スピン流注入プローブの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0111]ハードマスク作成の為のパタ－ニング及びエッチング
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0112]トライボロジー計測のためのマイクロデバイス開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0113]昆虫嗅覚受容体発現細胞とFETを融合したバイオハイブリッド匂いセンサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-143 半導体パラメータアナライザー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0114]SiハイブリッドMOSキャパシタを用いた光集積回路
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0115]ナノワイヤInGaAsトンネルFETの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0116]シリコン上選択成長ゲルマニウム中貫通転位密度低減法の開拓
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0117]SOQ基板上にエピタキシャル成長したGeのバンドエンジニアリング
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0118]ゲルマニウム受光器の研究
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0119]エッチングによる石英ガラスへの溝形成
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0120]微細構造の大面積転写
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0121]化合物半導体マイクロリング共振器素子の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0122]圧電薄膜応用デバイスの裏面加工
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0123]エレクトレットＭＥＭＳ振動・トライボ発電
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0124]バイオ計測応用薄膜トランジスタ・プラットフォーム
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0125]サファイア基板のエッチング条件探索
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0126]光学材料のドライエッチング評価
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0127]アニーリングにおけるZnO薄膜のCL発光空間均一性評価
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0128]光駆動マイクロマシンの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0129]選択波長近接場光輸送によるTPV発電に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0130]マイクロヒータの試作
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0131]SrCeO3およびSr0.5Ce0.5F2.5薄膜への櫛型電極作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0132]生体分子のセンシング向けのナノポアメンブレンの形成プロセスの開発
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0133]Plasmonic nanochannel structure for narrow-band selective thermal emitter
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0134]高速有機電気化学トランジスタの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0135]伸縮性を示すグリッド基板開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0136]有機系浮遊粒子状物質を検出するMEMS形センサの開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0137]フリップチップ素子の実装
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F-UT-129 精密フリップチップボンダー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0138]Fabrication of a nanopore silica supporter
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0139] a-C:H膜の摩擦摩耗特性
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0140]シリコン深堀装置を用いた太陽熱光発電のためのアブソーバ・エミッタの開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0141]近接場光援用波数励起によるシリコン受光素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0142]高出力レーザーの研究開発
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F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0143]SOIウェハのステルスダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0144]白金とチタンを用いた圧電薄膜用下地金属基板の製作
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0145]ステルスダイサーを用いたSiNメンブレン形成基板の個片化検証
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0146]天体観測のためのテラヘルツ帯ホットエレクトロンボロメータの開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0147]多自由度MEMSスキャナおよびMEMSカンチレバの評価
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0148]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0149]輻射制御に関する研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0150]微小構造周りの界面流動と抵抗低減に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0151]赤外単一光子検出のための極小ピクセル Ir-TES の開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0152]線形可変円形光共振器の作製
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0153]フレキシブルLSI実現に向けた実装法の研究
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0154]金薄膜ナノメカニカル振動子の作製
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0155]簡易糖尿病診断のためのSnO2ガスセンサの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0156]ブレンドポリマーの誘導自己組織化における配列乱れの抑制
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0157]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0158]グラーフェンを用いたシリコンフォトニクスの研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0159]厚さ数十ナノメートルの平滑なチタン薄膜を用いた大気中ウェハ接合技術の開発
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0160]実装工学における接合研究(テラス構造の作製）
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0161]実装工学における接合研究(水素ラジカル)
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0162]実装工学における接合研究（インジウム バンプ）
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0163]チタンを利用したSiO2の高速化学エッチング
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0164]気相フッ酸エッチングにおけるアルミニウムのエッチング支援効果
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0165]光変調器に向けたシリコン格子の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0166]メタマテリアルの製作
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0167]8インチシリコンウエハのダイシング加工
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F-UT-144 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-17-UT-0168]Microrheology experiment on dense assembly of active colloids
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0001]ナノピンホール研究開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0002]薄膜太陽電池のための、銀スロット電極の作製
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F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0003]マイクロパターン化培養系を利用した神経可塑性の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0004]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0005]電子線リソグラフィにより作製した微細表面パターンによる細胞分化制御技術の検討
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0006]振動発電素子の動作挙動解析
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F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0007]レジスト材料の性能評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0008]イオン注入法によるグラフェンの合成
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0009]DRIEを用いた貫通孔作製プロセスの検討
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0010]UWB-IR Pulse Generator by CMOS Flipped on Glass
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0011]Plasmonic nanochannel photodetector with spectral-selectivity
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0012]ICPエッチングによる石英ガラス上の微細構造作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0013]III-V/Siハイブリッド光変調器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0014]Ge-on-Insulator基板を用いた集積フォトニクス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0015]AZO周期的微細構造による近接場光輸送の波長制御と促進に関する研究
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0016]Thermal conductivity measurement of single-walled carbon nanotubes
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0017]半導体単層カーボンナノチューブアレイの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0018]単層カーボンナノチューブの熱伝導率測定のためのデバイス作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0019]グラフェン電界効果トランジスタの作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0020]単層カーボンナノチューブのクローニング合成
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0021]スリット基板上架橋単層カーボンナノチューブの作製と光学評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0022]ナノカーボン材料の電気特性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0023]微細加工技術を利用したマイクロ/ナノスケールの熱伝導・流体現象の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0024]燃焼場計測のためのMEMS無線温度センサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0025]近接場効果を用いたMEMSラジエータの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0026]Study on the Cassie-to-Wenzel Transition over MEMS-Based Pillared Surface
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0027]Parylene-based MEMS Gas Sensor for High-Sensitivity VOC Detection
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0028]紫外線荷電を用いたMEMSエレクトレット振動発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-119 機械特性評価装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0029]Development of Piezoelectret Energy Harvester
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0030]Development of Electret-based Unsteady Thermal Energy Harvester
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0031]Development of Liquid-Crystal-Enhacned Electret Generator
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0032]MEMS技術を用いた回転型エレクトレット発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0033]大面積ナノ構造のレーザアシストロール成形
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0034]アルミ表面へのインプリントによる沸騰伝熱面
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0035]MEMS振動発電素子
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0036]光MEMSデバイスのOCT応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0037]ナノパターン転写装置
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0038]ナノ微細構造からの熱輻射に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0039]バルク光学材料の塩素系ドライエッチング特性評価
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0040]MEMS金属ナノピラーを用いたSi赤外線ディテクタの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0041]DRIEを用いたマイクロデバイス加工
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0042]架橋カーボンナノチューブにおけるトリオン生成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0043]単一架橋カーボンナノチューブにおける光子相関
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0044]カーボンナノチューブにおける暗い励起子の電界活性化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0045]カーボンナノチューブにおける光双安定性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0046]カーボンナノチューブ分割ゲート素子における電界発光
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0047]マイクロ流体デバイスを用いた動物細胞クロマチンの操作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0048]マイクロ流体デバイスを用いた染色体単離
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0049]空気モードシリコンナノビーム共振器とカーボンナノチューブの光結合制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0050]マイクロ流体デバイスを用いた1対1電解集中型細胞融合とその応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0051]シリコンフォトニック結晶共振器によるグラフェンのラマン散乱増強
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0052]カーボンナノチューブ分割ゲート素子におけるフォトルミネッセンス特性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0053]昆虫嗅覚受容体発現細胞とISFETを融合したバイオハイブリッドセンサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0054]微小振動子振動特性の測定
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0055]厚いSiウエハのステルスダイシング
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0056]Development of mid-infrared air-cladding suspended membrane devices
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0057]Development of suspended membrane silicon nanowires for on-chip nonlinear optical signal processing
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0058]プラズモニックナノモーター駆動マイクロマシンの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0059]ミリ波を用いた無線電力伝送に向けた整流回路開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0060]ポリイミド上の金属膜形成条件の検討
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0061]半導体プロセス基礎実験
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0062]HSQレジストを用いた自己組織化用テンプレートの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0063]Si基板の実装
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F-UT-129 精密フリップチップボンダー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0064]太陽熱光発電のための自立膜型Ni-Wアブソーバ・エミッタに関する研究
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0065]熱駆動Auナノグレーティングを用いた光位相変調素子の製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0066]Ni-W合金を用いた狭ギャップ熱電子発電素子に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0067]有機系浮遊粒子状物質を検出するMEMS形センサの開発
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0068]微細加工技術を用いた高精度放射線センサーの研究
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0069]金ナノアンテナの電場増強効果を利用した赤外非線形分光計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0070]小型自励振動ヒートパイプの試作および熱流動解析
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0071]マイクロロボットの機械部品加工に関する試行利用
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0072]金ナノ短冊周期配列構造のリフトオフ法による作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0073]メタルグリッドを用いた透明バイオ信号センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0074]大面積極薄有機光デバイスの作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0075]電子顕微鏡の内部で駆動するマイクロマシンの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0076]シリコンナノピンセットを用いた単一細胞の機械特性計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0077]MEMSデバイスによるDNAと金属イオンのリアルタイム反応計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0078]混成半導体集積回路HySIC整流回路のためのシリコンRF受動集積回路部の試作
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F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0079]化合物半導体マイクロリング共振器素子の作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0080]ナノテクノロジー・プラットフォームを利用した純スピン注入プローブの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0081]3次元UVリソグラフィ法を用いたマイクロデバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0082]ナノディスク構造による熱ふく射スペクトルの制御
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0083]CVD皮膜の成膜機構の検証
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0084]圧電カンチレバーの微細加工
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0085]高強度モードロックレーザーのための要素技術開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0086]スパッタリングにより形成した極薄Co(W)薄膜の特性評価
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0087]超高アスペクト比トレンチを利用したSiC気相化学含浸法(CVI)の反応解析
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0088]Si上に集積するSAWフィルタの開発に関する研究
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0089]Si基板上発光素子に向けた横方向成長Ge薄膜の作製と評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-108 精密研磨装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0090]Si上n型Geエピタキシャル層の研究
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0091]ひずみSiGeを用いたSi上Ge層のバンドエンジニアリング
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0092]ゲルマニウム受光器の研究
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-125 絶縁膜スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0093]バルクSi上SiNx光導波路の下部クラッド層の薄膜化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0094]n型シリコン上への低リーク電流ゲルマニウムpin受光器の作製と評価
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0095]Ge/SiGeヘテロ接合を用いたアバランシェフォトダイオードの作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0096]ナノインプリントによって形成された微細構造による反射特性の制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0097]エクソソームナノアレイのためのナノスケールパターン形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0098]表面弾性波を用いたオプトメカニクスの構築
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0099]MEMSセンサ開発プロジェクト
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0100]シリコンの深掘加工
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0101]UVナノインプリントによるAlの微細加工
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0102]ガスセンサの開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0103]近接場光の原理に基づく高出力Siレーザの研究開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0104]近接場光援用シリコン受光素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0105]天体観測のためのテラヘルツ帯ホットエレクトロンボロメータの開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0106]SOI基板上でのカーボンナノメカニカル構造体の作製
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0107]Au/ITO/SiO2/Auからなる光学多層膜の形成に関する研究
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0108]Alを利用したナノ構造作製に関する研究
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F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0109]X線コヒーレント光発生用薄膜試料の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0110]非線形メタマテリアル応用に向けた微細金属ナノ構造作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0111]熱処理によるIC特性変動調査
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F-UT-132 イナートガスオーブン
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0112]e-beam nanopattern fabrication for optical applications
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0113]切り紙構造を用いた微細構造とそのアプリケーション
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0114]MEMS加速度センサの製作と評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0115]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0116]2THz帯ホーン導波路型超伝導HEBミクサ素子の微細加工
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0117]放射線が引き起こすSiO2中のキャリアダイナミクス
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F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0118]電子ビーム微細加工によるTDS-THzバイオセンシング用メタマテリアル作製2017/02/17
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0119]圧電薄膜応用デバイスの裏面加工
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0120]多周波共振構造による広帯域Piezoelectric MUT Arrayの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0121]誘電体極薄バルク結晶の作製
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F-UT-108 精密研磨装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0122]ドレスト光子フォノンを用いたSi LEDの研究開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0123]FIBによる半導体回路修正技術習得
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F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0124]動脈圧直接測定用光導波型圧力センサに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0125]反応性スパッタリング法によるTiNマイクロヒータの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0126]無線通信向けインダクタの評価用パターンの形成
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F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0127]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0128]非侵襲血圧計測のためのMEMS超音波センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0129]液体のインパクト時の力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0130]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0131]マイクロピラーアレイを用いた高感度MEMS気流せん断応力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0132]生体分子１分子デジタル計数デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0133]MEMSフォースプレートを用いたショウジョウバエの跳躍力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0134]音響放射現象のためのMEMS多軸ピエゾ抵抗効果センサ
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0135]マイクロビーズのばね定数計測のためのMEMS力変位センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0136]MEMS滑り覚センサを利用した二足歩行ロボットの歩行中における路面滑り状態の推定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0137]微小孔を持つ液面の振動に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0138]超撥水面で合体する液滴のジャンピング力
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0139]エピタキシャル NiFe2O4 薄膜のSi(111) 基板上への作製
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0140]MEMSアコースティックエミッションセンサによる弾性波計測
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0141]集束イオンビームを用いたグラフェンの片持ち梁構造への加工
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0142]有機ナノ構造体を利用した近赤外光検出器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0143]ピエゾ抵抗を形成した両持ち梁を用いた静止摩擦係数を検出するための触覚センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0144]細胞の牽引力計測のためのMEMS高感度三軸力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0145]細胞のけん引力を計測するための高剛性MEMSフォースプレート
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0146]微細構造を有した表面を滑り落ちる液滴の振動の計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0147]露光量の違いを利用したマイクロニードルの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0148]NIR spectrometer using a Schottky photodetector enhanced by grating-based SPR
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0149]電子線描画装置F5112を利用したサブミクロン加工の検討３ ～OEBR-CAPl12～
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0150]EB描画による微細パターン基板作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0151]光変調器に向けたSi格子の作製
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0152]微細パターンの連続転写における残膜制御
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0153]GaMnAsの価電子帯のスピン分裂に起因するトンネル磁気抵抗効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0154]カーボンナノチューブ分割ゲート発光素子の性能向上
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0155]Fe/Mg/SiOxNy/Si接合を用いたSiへのスピン注入
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0156]Fe/Mg/MgO/Si構造におけるスピン注入シグナルとデッドレイヤーの関係
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F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0157]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0158]SiO2上に成膜された金属パターンの応力剥離
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0159]面内伝導型スピンバルブトランジスタにおけるスピン依存伝導と電流変調
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F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0160]Bias-dependent magneto-conductance in n-type ferromagnetic semiconductor (In,Fe)As-based Esaki diodes
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0161]光学材料ドライエッチング用レジストパターンのEB描画特性評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0162]各種エラストマーにおけるハロゲンプラズマ耐性の評価
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0001]波長選択近接場光輸送促進のためのタングステン製ピラーアレイ構造放射体の創成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0002]金属単層カーボンナノチューブの全長除去
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0003]量子ナノ素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0004]Thermal transport property measurement of single-walled carbon nanotubes
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0005]Field effect transistors using single-walled carbon nanotube films
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0006]Field effect transistors using horizontally aligned single-walled carbon nanotubes
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0007]単層カーボンナノチューブの熱物性測定
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0008]CNT-silicon solar cells
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0009]熱処理によるIC特性変動調査
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F-UT-132 イナートガスオーブン
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0010]微細構造による反射特性の制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0011]三次元積層チップへの内装を目指した小型自励振動式ヒートパイプの試作と熱流動解析
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0012]金属ナノ構造による電場増強効果を利用した赤外分光計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0013]"多機能性酸化物薄膜におけるマイクロパターン構造及び電気刺激における細胞応答研究
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0014]エレクトレットＭＥＭＳデバイスの研究
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0015]ナノドットレジストパターンの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0016]高速細胞分取装置開発のための表面弾性波デバイスの開発
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0017]高速ドロップレット分取装置のための誘電泳動デバイスの開発
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0018]超高速イメージングによる高速細胞同定装置のための細胞整列用マイクロ流体デバイスの開発
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0019]アスペクト比1000トレンチを使用したSiC気相化学含浸法(CVI)の反応解析
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0020]物理気相蒸着法（PVD）で作成したCo(W)膜のバリア性の評価
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0021]金属‐絶縁体‐金属構造からなる赤外吸収体
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0022]スピンポンピングを用いたトポロジカル結晶絶縁体SnTeにおける起電力
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0023]エレクトロアクティブマイクロウェルアレイの開発と１細胞解析への応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0024]Observation of spontaneous spin-splitting in the band structure of n-type ferromagnetic semiconductor (In,Fe)As
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F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0025]ナノカーボン材料の電気特性評価
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0026]ICPエッチング装置を用いた圧電素子微細加工
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0027]集束イオンビームを用いた半導体試料の加工
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0028]金属膜の加工
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0029]ドレスト光子を利用したＳｉ受発光素子の開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0030]近接場光援用ダイヤモンド受光素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0031]2 mm 厚シリコンに成膜されたDLCを用いたSEM測定用試料作製法の研究
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F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0032]e-beam nanopattern fabrication for optical applications
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0033]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0034]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0035]ナノインプリントプロセスによる高アスペクトパターンの作製
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F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0036]ISFETを用いた昆虫嗅覚受容体発現細胞の電気信号測定の評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0037]DRIEを用いた高アスペクト比エッチングの検討
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0038]ポリイミドの等方性ドライエッチング条件の検討
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0039]炭素機能材料の集束イオンビーム加工
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0040]Plasmonic nanochannel structure for sensing application
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0041]架橋カーボンナノチューブにおけるトリオン生成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0042]単一架橋カーボンナノチューブにおける励起子拡散および緩和過程
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0043]カーボンナノチューブにおける暗い励起子の電界活性化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0044]カーボンナノチューブ分割ゲート素子における電界発光
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0045]空気モードシリコンナノビーム共振器の性能向上
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0046]シリコンフォトニック結晶共振器の最適化
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0047]カーボンナノチューブ分割ゲート素子の広帯域化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0048]ゲルマニウムのレーザーアニールの研究
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0049]革新的Si/Geアクティブフォトニクスデバイスの研究開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0050]Si上高濃度n型Ge結晶層の研究
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0051]ゲルマニウム受光器の研究
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0052]ナノリソグラフィによる高感度Piezoelectric MUTの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0053]ショートチャンネル有機トランジスタおよび有機電気化学トランジスタの集積回路
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0054]リフトオフ法による金属ナノギャップの作製と観察
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0055]多自由度MEMSスキャナの評価
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0056]天体観測のための超伝導HEBミクサの開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0057]新材料スイッチの形成のための基板作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0058]電子ビーム露光装置F7000SによるInP系光導波路デバイスの作製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0059]人工淘汰のための大規模タンパク質マイクロアレイの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0060]SiO2上横方向成長Geの速度論
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0061]スピン流注入プローブの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0062]シリコンフォトニクスに向けた量子ドットレーザのプロセス技術開発
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0063]酸化物半導体材料評価用トランジスタの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0064]Si基板の実装
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F-UT-129 精密フリップチップボンダー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0065]マイクロ流体デバイスを用いたクロマチン操作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0066]マイクロ流体デバイスを用いた１対１電気細胞融合とその応用展開
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0067]集積イメージセンサ向け高機能化合物薄膜の微細加工利用
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0068]人体の動きを用いた回転型MEMSエレクトレット発電機
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0069]A Microfluidic Chip Coupled with Magnetophoretic and Dielectrophoretic Forces for Separating Malaria-infected Red Blood Cells
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0070]Flexible Wireless Wall Temperature Sensor for Unsteady Thermal Field
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0071]共有ばねを有する近接場熱ふく射を利用した高開口率MEMSラジエータの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0072]Electric Instability of Cassie Droplets on Super-Lyophobic Pillar Surface: Pull-in Versus Electrowetting
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0073]Liquid-Crystal-Enhanced Electrostatic Vibration Generator
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0074]In-plane Gap-closing MEMS Vibration Electret Energy Harvester on Thick BOX Layer
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0075]大面積ナノ構造のレーザアシストロール成形
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0076]陽極酸化アルミナナノホールアレイの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0077]金属配線のダマシン加工
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0078]セラミクスグリーンシートへのナノインプリント
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0079]沸騰伝熱面の熱伝達率向上のためのアルミ表面へのナノインプリント
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0080]異種材料集積を用いた光電子集積回路プラットフォーム
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0081]卍型梁構造ゲルマニウムの歪みとバンド構造に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0082]高効率化のための裏面散乱層を適用した裏面電極型太陽電池の作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0083]超高速蛍光画像識別型セルソーターの開発
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0084]MEMS多軸力センサを用いたハエの飛翔力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0085]高感度・高剛性を両立するピエゾ抵抗型3軸力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0086]蝶の離陸時の飛翔力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0087]ナノピラーを用いたSiによる近赤外検出器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0088]側壁への細胞の接着を防ぐマイクロピラー
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0089]細胞計測のための力センサを組み込んだ微小流路
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0090]液体のインパクト時の力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0091]液体の滑り時の力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0092]筋音の高周波成分計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0093]表面粗さ変化によるカンチレバー型気流せん断応力センサの感度向上効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0094]三次元積層ICチップへの内装を目指したシリコンマイクロ流体素子の作製と封止
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0095]ローレンツ力を用いたばね定数10倍可変の持ち梁
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0096]作用力および摩擦係数の同時計測のための触覚センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0097]カンチレバーを用いた真空計
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0098]MEMSカンチレバーアレイを用いた細胞の振動の計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0099]ショウジョウバエのジャンプ力を計測するフォースプレート
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0100]熱応答を利用した機能材料集積型化学センサ
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0101]広帯域のアコースティックエミッションセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0102]可動MEMSスパイラル構造による偏光変調デバイス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0103]MEMS 3軸力センサを用いた細胞の接着力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0104]液体の振動時の力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0105]光MEMS熱物性センシングデバイスの開発
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0106]マイクロカンチレバー作製と振動特性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0107]光学デバイスへの応用に向けた自己組織化構造の作製
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0108]ImPACT「セレンディピティの計画的創出による新価値創造」における1細胞多角的次世代解析技術の開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0109]ステルスダイサーを利用したシリコンウェハー精密カット2
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0110]電子線描画装置F5112を利用したサブミクロン加工の検討２～OEBR-CAP112～
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0111]センサ試作のための配線パターニングの検討
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0112]リフトオフ法により作成した金ナノ四角柱周期構造における赤外増強吸収
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0113]透過型電子顕微鏡の内部で動かすマイクロマシンの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0114]センサネットワーク用高効率マイクロエナジーハーベスター
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0115]バイオ試料の機械的特性評価のためのシリコンナノピンセット
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0116]モータータンパク質を利用したタウタンパク検出
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0117]側壁電極による陽極酸化を用いた一括ナノリソグラフィー
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0118]ナノスケール熱伝達計測のための温度測定システム
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0119]電子顕微鏡での水中観測を可能にするMEMS液体セル
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0120]昆虫型マイクロロボットのパーツ作製に関する微細加工プラットフォーム試行利用
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0121]縦型スピン電気二重層トランジスタ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0122]反強磁性体の超高速スピン制御に向けた試料作製
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0123]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0124]X線コヒーレント光発生用薄膜試料の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0125]シリコンフォトニクスにおけるMidex(中位屈折率差系)AWGの試作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0126]触覚MEMSデバイス用の成膜評価
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F-UT-119 機械特性評価装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0127]Si/Ge量子細線多接合型太陽電池のためのSi上Ge薄膜pinダイオードに関する研究
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0128]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0129]微細構造の側壁薄膜を電極に用いた局所陽極酸化によるナノパターン転写装置の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0130]光干渉断層計測法装置のための波長可変光源ＭＥＭＳファブリ・ペロ干渉計の開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0131]液晶ディスプレィ用TFTドライバ技術を用いた細胞操作用µTASの開発
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0132]MEMS加速度センサの作成とその特性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0133]微細加工を用いた切り紙構造
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0134]ブロックコーポリマーPS-PMDSによる10nm以下ハーフピッチ、ラインアンドスペースパターンの形成
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0135]シリコンナノビーム共振器と単一カーボンナノチューブの高効率光結合
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0136]単一カーボンナノチューブを用いたゲート制御式光パルス列生成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0137]光ナノメカニカル振動子の作製MEMS加速度センサの作成とその特性評価
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0138]DLCナノメカニカルスイッチの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0139]SiO2ナノ構造作製のためのVHF高速エッチングに関する研究
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F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0140]表面弾性波(SAW)を用いたオプト・エレクトロメカニクス
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0141]3D nanostructures fabricated by advanced stencil lithography
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0142]腫瘍細胞分離のための2段階誘電泳動デバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0143]神経－心筋マイクロ共培養系の構築
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0144]太陽熱光発電のためのアブソーバ・エミッタの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0145]金属ナノスリットアレイによる高効率マイクロ波長板の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0146]熱駆動金属ナノグレーティングを用いた光位相変調素子の製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0147]マイクロマシン教育のための静電マイクロアクチュエータ設計
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0148]銀ナノ粒子インクを印刷したPETフィルム観察
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0149]金属Mg挿入によるSiベース磁気トンネル接合の電流電圧特性への影響
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0150]オンチップ集積高電圧太陽電池を用いた遠隔光駆動型MEMSの高速動作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0151]電子線重合を利用した機能性高分子薄膜の創製
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0152]圧電型MEMS共振器とウェイクアップモジュールに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0153]低アスペクトL&S構造の作製技術開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0154]高繰り返し高強度コヒーレント光源用ミラーの作製
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F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0155]ステルスダイサーによるΦ8"/1mm厚Si基板のΦ6"切り出し加工
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0156]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0157]表面の微細構造および電荷による動的濡れ挙動の制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0158]低次元物質を用いたナノデバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0159]微小管の動的自己組織化における空間的制約効果の影響
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0001]単一架橋カーボンナノチューブにおける励起子のシュタルク効果
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0002]シリコンナノビーム共振器と単一カーボンナノチューブの高効率光結合
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0003]単一カーボンナノチューブを用いたゲート制御式光パルス列生成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0004]フォトニック結晶共振器における局在導波モードと共振器モードによる双共鳴
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0005]強磁性体・カーボンナノチューブ二層構造における強磁性共鳴
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0006]単一架橋カーボンナノチューブにおける励起子拡散および緩和過程
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0007]単一架橋カーボンナノチューブの励起分光における電界誘起ピーク
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0008]カーボンナノチューブ分割ゲート素子における電界発光
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0009]空気モードシリコンナノビーム共振器の最適化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0010]架橋カーボンナノチューブにおけるトリオン生成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0011]カーボンナノチューブの化学気相成長用触媒におけるアルミナの影響
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0012]架橋カーボンナノチューブの発光におけるパルス励起強度依存性
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0013]高効率金属ナノ光学素子に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0014]熱駆動可変金属ナノスリットに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0015]超高速イメージングによる高速細胞分取装置のための表面弾性波発生デバイス試作
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0016]微細構造を有する波長選択性光源の研究
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0017]集積化電極基板による培養細胞活動計測
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0018]マイクロ熱電子発電に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0019]光源と検出器を集積化したプラズモン共鳴センサに関する研究
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0020]ボース・アインシュタイン凝縮体の高分解能非破壊イメージングのための位相板の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0021]銀ナノインクの表面処理および特性評価
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0022]細胞内部構造制御用のマイクロ構造基材作製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0023]プラモニックキャビティの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0024]バイポーラPBII法によるマイクロトレンチへのDLCコーティング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0025]φ０．３μｍホール形状の大面積シームレス描画
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0026]金属微細構造を用いた赤外光応答制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0027]半導体材料評価用のトランジスタ素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0028]光MEMSを用いた熱物性センサの開発
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0029]細胞解析用一細胞アレイ基板作製用フォトマスクの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0030]FIB-CVDによるWCナノワイヤの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0031]櫛形電極作製による酸化物薄膜のインピーダンス測定
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0032]SiO2/Au/SiO2積層構造体の作製
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0033]Au/SiO2/Au積層構造体の作製
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0034]SiO2メッシュ架橋構造の作製
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0035]超高速イメージングによる高速細胞分取装置のための細胞分取用マイクロ流路
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0036]浮遊グラフェンの電気伝導度特性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0037]金属ナノ構造を用いた赤外域の電場増強と新規光学現象の発現
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0038]周期的チャネル構造表面の光学的特性に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0039]電流注入型濡れ層発光LEDのゲート制御
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0040]金属性単層カーボンナノチューブの全長除去
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0041]単層カーボンナノチューブの合成制御
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0042]グラフェンを用いた電界効果トランジスタ
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0043]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0044]単一浮遊細胞のハンドリング、固定可能なマイクロ流路デバイスの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0045]窒化物半導体用成膜過程の解析用の高精度マスクの作成
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F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0046]Fe/SiO2/Siトンネル接合素子における３端子Hanle効果の起源
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0047]シリコンリブ型導波路の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0048]スピンポンピングによるスピン流の注入と検出
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F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0049]強磁性半導体GeFeにおける、室温において存在する局所的な室温強磁性と、そのナノスケールでの成長過程
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0050]マイクロパターン基板を用いた細胞力学特性の計測に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0051]櫛歯電極を持つMEMSエレクトレット発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0052]軟Ｘ線荷電されたフレキシブルエレクトレット発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0053]回転型エレクトレット発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0054]近接場熱輻射を用いた高開口率MEMSラジエータの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0055]近接場熱輻射計測のためのMEMSデバイスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0056]超撥液面を用いた液体耐性エレクトレットの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0057]MEMSワイヤレス温度センサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0058]高性能圧電薄膜とMEMS技術を用いた高感度超音波トランスデューサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0059]イオン注入機を利用したシリコン基板へのＰ，ＢＦ２打ち込みとその電気評価
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0060]半導体デバイス向けのリソグラフィ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0061]電子線描画装置F5112を利用したサブミクロン加工の検討
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0062]ステルスダイサーを利用したシリコンウェハー精密カット
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0063]微細加工表面の濡れ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0064]くし歯型MEMS共振器の共振特性と蓄積エネルギー
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0065]ドレスト光子を利用したＳｉ受発光素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0066]ダイヤモンドパワーデバイス
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0067]レジンコート紙の微少穴測定
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0068]フレキシブル電極の微細形成 極薄有機光検出器の作製
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0069]ナノカーボン材料の電気抵抗測定
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0070]低アスペクトL&S構造の作製技術開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0071]周期的円柱ピラー形状の作製技術開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0072]大面積ナノ構造のレーザアシストロール成形
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0073]陽極酸化アルミナナノホールアレイの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0074]金属配線のダマシン加工
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0075]ナノパターンを有するバイオプレートの射出成形
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0076]セラミクスグリーンシートへのナノインプリント
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0077]沸騰伝熱面の熱伝達率向上のためのアルミ表面へのナノインプリント
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0078]実験実習用MOEMS教材開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0079]リフトオフ法による金ナノ四角柱周期構造の形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0080]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0081]シリコン導波路型光デバイス開発に向けた高速電子線露光
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0082]光学式測定装置の研究・開発向け微細サンプルの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0083]免疫治療に向けた電界集中型細胞
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0084]１細胞エピジェネティック解析に向けた動物細胞染色体の操作技術の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0085]マイクロメッシュを用いた配向性細胞シートの作製と評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0086]マイクロアレイチップ技術を用いた高速タンパク質進化システムの創製
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0087]マイクロ波LC共振器とナノメカニクス薄膜振動子の結合の観測，および振動子のサイドバンド冷却
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0088]深宇宙彫刻DESPATCHの打ち上げ最大加速度を測定するMEMSセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0089]ルナ・ドリームカプセルプロジェクトで子供達の夢・メッセージを電子線描画装置・エッチング装置を用いてシリコンウェーハに描画
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0090]酸化チタンナノシートへの導電性付与
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0091]微細ゲートホールの加工検討
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0092]電界放出源の高出力化の研究
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0093]半導体分岐可変多モード干渉カップラ素子の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0094]半導体マイクロリングレーザを用いた全光インバータの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0095]クロストークを低減可能な凸型マイクロセンサアレイ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0096]マイクロ力センサを用いたウェアラブル血圧計測デバイス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0097]マイクロ3軸力センサによる足底と足側面に加わる力の計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0098]テラヘルツ天体観測のための超伝導HEBミクサの開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0099]ゲルマニウムのレーザーアニールの研究
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0100]格子ひずみ制御によるシリコン上ゲルマニウム受発光デバイスの長波長動作
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0101]マイクロマシン教育のための静電マイクロアクチュエータ設計
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0102]鉄系酸化物半導体トンネル接合素子形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0103]シリコンプラットフォームによるバイオセンサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0104]革新的Si/Geアクティブフォトニクスデバイスの研究開発
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F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0105]ゲルマニウム発光デバイスの検討
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0106]単一架橋カーボンナノチューブにおける巨大円二色性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0107]カーボンナノチューブにおける励起子の自発的解離
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0108]シリコン深掘エッチングガスの開発
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F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0109]咀嚼時における歯の振動の伝播測定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0110]羽ばたき機を用いた8の字羽ばたき運動時の翼面圧力差計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0111]サイドドープを用いたピエゾ抵抗型気流せん断応力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0112]音響インピーダンス整合したMEMS筋音センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0113]センサフュージョンによる高感度絶対圧計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0114]運動靴のスパイクピンのための6軸力/トルクセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0115]MEMSセンサウェハのステルスダイシングによる分割の検討
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0116]液滴の動的な振る舞いを解明するためのMEMS力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0117]メンブレン状のSOI構造の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0118]薄膜片持ち梁を用いた脈波計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0119]ステルスダイシング装置によるMEMSセンサのチップ化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0120]小型カテーテルのための超音波センサを利用したドップラー効果による速度計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0121]アザミウマの毛状翼を規範とした差圧センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0122]アリの床裏反力計測のためのMEMSフォースプレート
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0123]ピエゾ抵抗型センサの側面ドープの不純物濃度計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0124]AlNカンチレバーを用いた微小圧力変化検出スイッチ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0125]パリレン膜のガラス転移を利用した3次元構造形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0126]マイクロヒーターによる細胞の熱的観測
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0127]MEMS心音センサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0128]イオン液体を用いたCO2ガスセンサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0129]薄膜 Si 上に形成した MEMS 可変メタマテリアルにおけるフレームの影響
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0130]分光器のための金回折格子による表面プラズモン型ショットキーIRディテクタの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0131]熱伝導率分布センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0132]弾性体中の微小カンチレバーの動的特性解析
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0133]弾性表面波計測センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0134]集積化マイクロアンテナ研究に向けたMEMS振動子設計試作評価基礎技術の習得
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0135]生体適合性高分子によるピラー構造の作製
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0136]ショートチャンネル有機トランジスタの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0137]可変周波数アンテナのための大変形貫通流路型液体アクチュエータ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0138]静電アクチュエータ設計演習
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0139]モード共鳴回折格子の試作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0140]深宇宙彫刻DESPATCHとともに太陽を回る未来の人類への子供達のメッセージチップ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0141]高濃度n型不純物導入によるGe成長および発光特性に関する研究
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0142]シリコンフォトニクスのためのＭＩＤＥＸ（中程度屈折率差系）光学系の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0143]選択成長を用いたGe内の歪み制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0144]非交差導波路を用いた光スイッチに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0145]スパッタSiNによるシリコンフォトニクスプラットフォームに関する研究
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0146]歪SiGe光変調器の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0147]II-V CMOSフォトニクスプラットフォームを用いた高性能光変調器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0148]LSI動作解析用磁界プローブの試作
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0149]半導体MEMS-LSI技術を利用したマルチモーダルバイオセンサ
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F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0150]ナノ・マイクロ光機能デバイスの試作と評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-119 機械特性評価装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0151]圧電効果直接駆動によるFET型高感度・広帯域超音波受信器の開発
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0152]光放射圧による粒子輸送機能の屈折率差を用いた光スイッチング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0153]ジュール熱および光熱効果を用いた物質輸送による表面反応促進
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0154]エッチング条件だしのためのパタ－ニング
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0155]マイクロドロップレットチャンバーを利用したデジタルバイオロジー
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0156]三次元積層チップへの内装を目指した小型自励振動式ヒートパイプの試作と熱流動解析
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0157]ブロックコーポリマーを用いた自己組織化法によるシングルナノラインアンドスペースパターンの形成
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0158]固体表面の構造および電荷による動的濡れ制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0159]常温接合によるシリコン／ゲルマニウム接合界面の特性
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F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0160]Ar 高周波プラズマ活性化処理による金薄膜を介したウェハ常温接合
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F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0161]集積イメージセンサ向けの高機能膜微細加工利用の迅速立ち上げと汚染評価
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0162]微細構造の側壁薄膜を電極に用いた局所陽極酸化によるナノパターン転写装置の開発
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0163]ＭＥＭＳ光スキャナを用いたインタラクティブ画像ディスプレィ開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0164]光干渉断層計測法装置のための波長可変光源ＭＥＭＳ光スキャナの開発
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0165]液晶ディスプレィ用ＴＦＴドライバ技術を用いた細胞操作用μＴＡＳの開発
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F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0166]電子線リソグラフィのトレーニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0167]AlGaAs/Alox反転積層高屈折率差導波路型波長変換素子の開発
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F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0168]超高速蛍光画像識別型セルソーターの開発
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0169]バックサイドXPSを用いたCoWバリア膜のバリア性の評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0170]超高アスペクト比ミクロキャビティを用いた化学気相含浸プロセスの解析
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0171]三元系化合物半導体の局所組成分析
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0172]多接合太陽電池応用に向けたGaAs/Ge表面活性化接合技術の検討
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F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0173]ナノスケール熱伝達計測のための温度測定システム
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0174]SmartBlocksIIプロジェクト：自律動作する集積化繊毛アクチュエータによる搬送ブロック
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0175]熱発電素子を目指した集積ナノワイヤーのトップダウン作製
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0176]ナノインプリント用モールド開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0177]電子線制御のための微細構造加工の研究
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F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0178]フォトニック結晶を用いたバイオセンサーの開発
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F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0179]アルゴンプラズマエッチングを利用した金属ナノ構造体の試作
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0001]モード多重光ファイバ伝送におけるモード変換用位相板の試作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0002]MEMS技術で作製する高機能プローブ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0003]集積化MEMSによる細胞電位計測システム
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F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0004]コンクリート表面へのテクスチャ加工に関する研究
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0005]MEMSマイクロロボット用人工神経回路網LSIチップの微細加工
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0006]テラヘルツ波リアルタイムバイオメディカルイメージング研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0007]テラヘルツ波プラズモン計測用のマイクロ流路チップ研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0008]DNA自律ジョイントを用いたマイクロ部品の自動位置決めに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0009]天体観測のためのテラヘルツ帯ホットエレクトロンボロメータ・ミクサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0010]放射光を用いたXANESスペクトル測定時のチャージアップ効果に関する研究
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F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0011]ＮＥＭＳ可変カラーフィルタの製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0012]シリコンナノピンセット上でのDNA恒温増幅とDNAの機械・電気検出
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0013]単結晶シリコンの精密異方性エッチング法
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0014]透過電子顕微鏡用液体セル
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0015]MEMS-in-TEM によるナノ物性その場観測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0016]ナノ接合を通じた熱伝達測定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0017]振動型バイオセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0018]MEMS構造を利用したナノリソグラフィー
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0019]超低電力・多波長同時制御マイクロリング・マッハツェンダー光スイッチ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0020]半導体マイクロリングレーザを用いた全光フリップフロップおよびインバータの実現
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0021]医療ＯＣＴ用ＭＥＭＳ型高速波長可変光源
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0022]ＭＥＭＳ可変静電容量による無線用ＶＣＯ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0023]静電容量検出回路とアクチュエータの集積化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0024]MEMS光スキャナによるインタラクティブ画像ディスプレイ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0025]ＭＥＭＳマイクロミラーアレイの画像ディスプレィ応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0026]３次元集積回路の撮像素子応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0027]プログラマブルＭＥＭＳ共振子アレイ
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F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0028]ＭＥＭＳ型スプリットリング共振子のテラヘルツ空間フィルタ応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0029]ＭＥＭＳマイクロシャッタアレイの天文分光器応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0030]ＭＥＭＳ耐摩耗性プローブ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0031]NEDO 省エネルギー革新技術開発事業「極低消費電力III-V族化合物半導体CMOS の研究開発」
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0032]総務省SCOPE「100Gbit/s超級歪SiGe光変調器の研究開発」
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0033]フッ化グラフェンメカニカル振動子の作製
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F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0034]波長選択近接場光輸送を促進するナノサイズピラーアレイ構造の創成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0035]プラズモニックメタサーフェスを用いたマイクロ光学位相子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0036]近接場光エッチングを用いたシリコン側壁低温平坦化プロセスの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0037]波長選択性熱輻射光源の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0038]可視アクティブメタマテリアルの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0039]プラズモン共鳴を援用した熱電子放出素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0040]酸化物ナノシートを用いた電界効果トランジスタの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0041]酸化物エピタキシャル薄膜の電気測定用電極の作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0042]NEDO革新的太陽光発電システムの技術開発
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F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0043]ナノキャビティ構造による熱ふく射スペクトルの制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0044]単一光子LEDの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0045]マイクロ燃焼における化学的消炎効果の解明
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F-UT-108 精密研磨装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0046]無線モジュールの開発研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0047]高性能触媒層の開発
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F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0048]MEMS圧電ポリマー構造の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0049]液滴高速駆動のためのMEMS ピラー構造を用いた超撥液表面の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0050]寄生容量を低減したMEMSエレクトレット振動発電器の開発
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F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0051]ワンマスク・プロセスによるMEMS エレクトレット発電器の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0052]粒子数を制御した金属ナノ粒子一次元配列作製のための超微細加工基板の形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0053]リフトオフ法による二次元ナノ周期構造の形成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0054]3次元光学結晶のための立体積層技術に関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0055]ラメラ様金属構造による高性能表面増強ラマン分光チップに関する研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0056] ドレスト光子を利用したＳｉ受発光素子の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0057]格子ひずみ制御によるシリコン上ゲルマニウム受発光デバイスの長波長動作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0058]シリコンプラットフォームによるバイオセンサの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0059]ゲルマニウムのレーザーアニールの研究
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F-UT-101 光リソグラフィ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0060]微細構造メッシュシートを用いた細胞シート作製及び細胞培養技術の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0061]1対1細胞融合技術を用いた体細胞初期化に必要なES細胞数の検討
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0062]MEMS共振器の製作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0063]シリコン微小ディスク共振器における双共振による単一カーボンナノチューブの発光制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0064]単一架橋カーボンナノチューブにおける巨大円二色性
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0065]カーボンナノチューブにおける励起子の自発的解離
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0066]架橋カーボンナノチューブの発光に対するオゾン暴露の影響
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0067]エタノール化学気相成長法によるシリコン基板上におけるカーボンナノチューブ合成の最適化
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0068]カーボンナノチューブの化学気相成長における触媒のアニール及び還元プロセスの最適化
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F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0069]埋め込みゲート式架橋カーボンナノチューブ素子
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0070]強磁性体・カーボンナノチューブによるハイブリッド素子
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0071]走査プローブ顕微鏡観察用ナノチューブ電界効果トランジスタ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0072]単一カーボンナノチューブとシリコンナノビーム共振器の光結合
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0073]架橋カーボンナノチューブのフォトルミネッセンスにおける交流ゲート電圧の影響
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0074]超高速イメージングによるがん診断技術の開発
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F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0075]フレキシブル電極の微細形成
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0076]金属性単層カーボンナノチューブの広範囲除去
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0077]単層カーボンナノチューブの合成制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0078]高分解能ＭＲＩ画像計測のための高感度マイクロコイルの研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0079]小型３軸力センサを用いたトノメトリ法による血圧計測デバイス
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0080]温度画像と色画像の同時取得のためのシリコン‐ガラスハイブリッドレンズ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0081]金属ナノ構造を用いた赤外域の電場増強と新規光学現象の発現
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0082]スパイラルメタマテリアルによる光学活性の動的制御
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0083]マイクロピラーアレイ上で成長したフィブロブラスト細胞の大きさと形状
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0084]イオン液体をゲートとするグラフェンFETガスセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0085]超音波領域をカバー出来る三軸力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0086]エミッター開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0087]Few-layer Grapheneを用いた片持ち梁構造の機械特性計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0088]MEMSピエゾ抵抗型カンチレバーを用いた細胞のトラクション力計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0089]弦楽器演奏中に指先にかかる3軸力
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0090]サブミクロンギャップの制御を用いたTHz可変メタマテリアル
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0091]高消光比2層型ワイヤーグリッド偏光子
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0092]積層型メタマテリアルの透過特性評価方法
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0093]可変焦点液体レンズを用いた多軸距離計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0094]イオン性液体を用いたフレキシブル三軸力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0095]ピエゾ抵抗カンチレバーを用いた筋音計測用圧力センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0096]キャビティ構造を用いた高感度な3軸触覚センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0097]微小凹凸構造の表面上の水滴の滑りにおける力
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0098]液体中での超音波発信を実現する熱誘起超音波発信器の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0099]表面ドープとサイドドープを用いた6軸応力センサの設計
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0100]翅脈の弾性が異なる羽ばたき機を用いた翼面圧力差計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0101]MEMSせん断力センサを用いたスティック型粘度計
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0102]液体嚥下時の喉を通過する液体の流速測定
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0103]PZT カンチレバーを用いた高感度低消費電力の差圧センサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0104]イオンゲルを用いたCO2ガスセンサ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0105]位相遅れを用いた熱拡散率の非破壊計測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0106]弾性体中片持ち梁構造を用いた触覚センサの動的応答
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0107]ピエゾ抵抗型カンチレバーのギャップを液体で封止した構造を利用したハイドロフォン
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0108]表面プラズモン共鳴を用いた波長選択型シリコン近赤外検出器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0109]非透明なマイクロ構造のリリース状況を可視化するためのテスト構造の開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0110]高性能波長変換デバイスの研究開発
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F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0111]ｎ型ゲルマニウムレーザ発振用ファブリ・ペロー共振器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0112]極薄太陽電池における光散乱層としてのSiナノ粒子の研究
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F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0113]光デバイス作製に向けたサブミクロン領域でのゲルマニウム選択エピ成長の研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0114]フランツケルディシュ効果を利用した1550nm での導波路型ゲルマニウム電界吸収型光変調器
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0115]シリコンの応力誘起バンドギャップ、屈折率変化
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0116]中性ビーム酸化によるシリコン光導波路のトリミング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0117]n 型不純物添加によるゲルマニウムの物性評価
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F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0118]フォトリソグラフィー・電子線リソグラフィのトレーニング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0119]沸騰伝熱面の熱伝達率向上のための金属表面へのナノインプリント
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0120]高性能イオン伝導ポーラス膜のためのアルミナナノホールの生成
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0121]大面積ナノ構造のためのロール成形
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0122]光取出しフィルムのためのマイクロレンズアレイの成形技術
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0123]バイオテンプレートの射出成形のための高アスペクト比金型の試作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0124]超音波支持ギャップ内圧力計測用センサの開発
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0125]Smart BlocksII向けMEMS電子制御回路の試作と評価
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F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0126]体内発電を目指した集積化発電素子(1)加工技術
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F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0127]集積化MEMS向けシングルエンドキャパシタンス読み出し回路
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0128]スマートボロメータセンサ向け電子回路と微細構造の集積化試験
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0129]多層グラフェンを用いたＭＥＭＳ共振器による質量センサの製作
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F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0130]窒素ドープ単層カーボンナノチューブによる電界効果トランジスタ作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0131]単一カーボンナノチューブにおけるゲート電圧誘起ピークの観測
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0132]フォトニック結晶ナノ共振器によるカーボンナノチューブの発光増強
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0133]単一架橋カーボンナノチューブの光伝導度分光
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0134] 微細内壁構造の非破壊計測のためのMEMS素子研究
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0135]CMOS-MEMS集積型新規センサに向けたCMOSポストプロセスの実施及び評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0136]半導体デバイス向けのリソグラフィ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0137]ステルスダイサーを利用したシリコン光学素子の作製
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0138]マイクロ・ナノスケールトレンチパターンへの三次元DLCコーティング
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0139]MEMSデバイス作製技術習得のためのプラットフォーム試行的利用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0140]遠赤外線用ゲルマニウム検出器のためのプラットフォーム試行的利用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0141]接触力センサ開発のためのプラットフォーム試行的利用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0142]単一細胞の機械的特性評価を目指した両短針駆動シリコンナノピンセット
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0143]MEMS デバイス試作のためのプラットフォーム試行的利用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0144]金属ナノパターンの作製
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0145]電力再利用機構を備えたマイクロ波帯無線送信器のためのプラットフォーム試行的利用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0146]新規半導体材料開発のための評価用トランジスタ素子の開発Ⅱ
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0147] 電子線直接描画の高スループット化実現のための多軸・多ビーム化技術
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F-UT-107 ステルスダイサー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0148] 多自由度MEMSスキャナの試作
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0149]疑似スピン電界効果型トランジスタのマルチプロジェクトウェハ上への作製と特性評価
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0150]折り畳み可能なマイクロプレートを用いた細胞の立体的な形状変化における細胞の機能測定と再生医療への応用
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F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0001]集積化NEMS-LSI技術による高光効率・低消費電力可変カラーフィルタ（科研若手Ｂ）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0002]表面プラズモン超集束を用いた高密度光制御電子源アレイの開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0003]金属ナノスリットを用いた軸対称偏光子アレイの開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0004]サファイアモノリシック耐食性圧力センサの開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0005]波長選択性熱輻射光源の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0006]高効率熱電子発電のためのマイクロ電子源アレイ
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0007]高分解能ＭＲＩ画像計測のための高感度な折り畳み式マイクロコイルの研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0008]３軸力センサを用いたトノメトリ法による血圧計測デバイスの研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0009]強磁性体薄膜への微細加工による磁気特性・電気伝導特性制御の研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0010]ジブロック共重合体によるミクロ相分離構造の制御の研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0011]MEMS型高速波長可変光源（民間等共同研究）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0012]携帯無線機用MEMS 型可変マイクロ波回路
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0013]内閣府／日本学術振興会 最先端・次世代研究開発支援プログラム 「集積化ＭＥＭＳ技術による機能融合・低消費電力エレクトロニクス」
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0014]レーザー描画ディスプレィ用ＭＥＭＳ光スキャナ
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0015]ステルスダイシングを用いた素子のカット
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0016]高性能波長変換デバイスの研究開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0017]３次元集積回路
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0018]ＭＥＭＳプローブアレイのストレージ応用
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0019]プログラマブルＭＥＭＳ共振子アレイ
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0020]光を用いた微小液滴の非接触ハンドリング技術の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0021]光放射圧を用いたマイクロチップ内微粒子分離
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0022]電気物性の温度依存性を利用した結合反応の促進
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0023]フェニテックCMOS試作によるラジカルセンサ（STARC/科研費採択プロジェクト）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0024]フェニテックCMOS試作による多重書き込み回避型ReRAM回路（科研費採択プロジェクト）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0025]フェニテックCMOS試作による高速サーモビジョンセンサ（科研費採択プロジェクト）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0026]フェニテックCMOS試作による触覚センサ（JST採択プロジェクト）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0027]細胞の自己組織化現象の操作と理解
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0028]超高効率一次元ナノワイヤー熱電変換素子の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0029]マイクロデバイスを用いた細胞融合に基づく細 胞機能制御に関する研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0030]テラヘルツ波リアルタイムバイオメディカルイメージング研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0031]テラヘルツ波プラズモン計測用のマイクロ流路チップ研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0032]MEMS深掘り加工によるSi振動子の作製
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0033]超音波支持ギャップ内圧力測定プロジェクト
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0034]超低電力・多波長同時制御マイクロリング・マッハツェンダー光スイッチの開発 （科研費・基盤研究B）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0035]波長チャネル制御を用いる半導体マイクロリングプロセッサの研究 （科研費・基盤研究Sと同じ）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0036]γ線超伝導転移端マイクロカロリメータ
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0037]不揮発性および再構成可能な機能をもつ半導体材料とデバイスの研究開発 （科学研究費特別推進研究）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0038]シリコンベース多端子デバイスによるスピン注入と検出
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0039]強磁性半導体GaMnAsのバンド構造：共鳴トンネル分光法による解析
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0040]強磁性半導体GeFeの伝導と磁性
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0041]ｎ型強磁性半導体(In,Fe)Asの作製と物性
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0042]マイクロ流体界面電気化学測定法の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0043]ナノ細孔におけるイオン輸送現象の解明
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0044]実物形状によるシミュレーションのデバイス設計への活用
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0045]Smart BlocksIIプロジェクト-紫外線パターン可能なポリイミドを用いたマイクロアクチュエータの研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0046]化合物半導体とSi回路とを融合させる新規複合デバイスの研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0047]小型・低価格放射線量モニタリングネットワークシステム
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0048]環境発電に用いるマイクロデバイスの研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0049]無線モジュール電源の開発研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0050]レーザー計測とMEMS技術の融合による代替燃料の燃焼特性の解明
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0051]マイクロ燃焼における化学的消炎効果の解明
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0052]高性能触媒層の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0053]光電離を用いたエレクトレット荷電方法の研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0054]MEMS圧電ポリマー構造の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0055]宇宙用MEMSアクティブラジエータの研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0056]液滴高速駆動のためのMEMSピラー構造を用いた超撥液表面の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0057]非線形ばねを用いたMEMSエレクトレット振動発電器の開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0058]テラヘルツヘテロダインセンシングによる星間分子雲の化学進化の探究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0059]戦略的創造研究推進事業 先端的低炭素化技術開発(ALCA) 超高耐圧高効率小型真空パワースイッチ
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0060]フォノン援用エネルギー上方変換を用いた革新的色素増感型太陽電池の創製 および挑戦的萌芽 機能創発型光プロセスを用いた革新的エネルギー下方変換デバイスの開発 若手A
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0061]ステルスダイシングを用いたウエハ劈開特性の研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0062]極微細シリコン立体構造を用いた流体システム
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0063]五神研究室プラズモニックナノ構造プロジェクト
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0064]五神研究室テラヘルツ時空間制御プロジェクト
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0065]五神研究室コヒーレントX線プロジェクト
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0066]マイクロ流路システムの構造パターンによる細胞移動の方向性制御
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0067]格子ひずみ制御によるシリコン上ゲルマニウム受発光デバイスの長波長動作
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0068]格子歪みを誘起したシリコン基板上への無転位ゲルマニウム層の形成
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0069]シリコンプラットフォームによるバイオセンサの研究
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0070]ナノキャビティ構造による熱ふく射スペクトルの制御
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0071]長距離電子スピン状態転送を実現する荷電状態制御単一光子素子の研究 （文科省科研費・新学術領域・量子サイバネティクス）
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0072]NEDO革新的太陽光発電システムの技術開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0073]ナノ物体評価のためのシリコンナノピンセットの研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0074]X線照射がDNAに与える損傷をシリコンナノピンセットで測る研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0075]MEMS-in-TEM実験系の構築によるナノ接合機械試験の「その場」観察
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0076]シリコンナノ接合の熱伝導測定
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0077]MEMS液体セルを用いた液中現象のTEM「その場」観察
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0078]科研費 挑戦的萌芽研究（H24-25） 「金属ナノ構造を利用した中赤外電磁場の増強と時空間制御」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0079]単一細胞の力刺激反応計測のためのＭＥＭＳカンチレバー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0080]JST 先端計測分析技術・機器開発プログラム 要素技術タイプ 「内視鏡のための単眼三次元異種情報計測システムの開発」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0081]科学研究費補助金 若手（B) 「金ナノディスクペアの局所表面プラズモン共鳴を利用した光計測型応力センサの研究」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0082]液体アクチュエータデバイスの実現
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0083]NEDO受託研究 「グリーンセンサ・ネットワーク技術開発プロジェクト」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0084]生体分子１分子デジタル計数デバイスの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0085]裏面金属ナノ構造による太陽電池の光マネジメント
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0086]サーメットスラリー作製のための高効率マイクロミキサーの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0087]ナノインプリント・陽極酸化・再陽極酸化を用いた酸化ジルコニウムナノワイヤの生成
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0088]沸騰伝熱面のナノインプリント転写構造が熱伝達率に与える影響
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0089]微細構造を樹脂フィルムに転写するためのローラ成形技術の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0090]フォトニック結晶のための一括リソグラフィ技術の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0091]Si基板上のエピタキシャル強誘電体薄膜を用いた圧電駆動型MEMSデバイスの研究開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0092]水平配向SWNTによる電界効果トランジスタの研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0093]グラフェンチャネル電界効果トランジスタの研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0094]フォトニック結晶ナノ共振器によるカーボンナノチューブの発光増強
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0095]カーボンナノチューブの発光における軸方向電界効果
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0096]架橋カーボンナノチューブにおける励起子拡散長のカイラリティ依存性
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0097]強磁性共鳴を用いたカーボンナノチューブへのスピン注入
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0098]埋め込みゲート式架橋カーボンナノチューブ発光素子
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0099]単一の窒素ドープカーボンナノチューブの架橋構造作製
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0100]単一の窒素ドープカーボンナノチューブの光学評価
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0101]単一カーボンナノチューブにおける円二色性測定
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0102]シリコン微小ディスク共振器の作製と評価
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0103]科学研究費補助金 基盤研究(A) 大気中常温接合の新手法
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0104]実装接合に関する研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0105]熱光起電力発電（TPV 発電）を目指した近接場光の波長制御に関する研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0106]文部科学省地域イノベーション戦略支援プログラム 「京都環境ナノクラスター」オンサイト血液診断装置の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0107]ブロックコーポリマーを用いた自己組織化法による微小ドット形成の可能性
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0108]梁構造を用いたGe導波路のﾊﾞﾝﾄﾞｷﾞｬｯﾌﾟの動的制御（NTT共同研究）
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0109]SiNによる歪み印加を用いたGe電界吸収型光変調器の研究 (FIRST/PECST ﾌｫﾄﾆｸｽ/ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ融合ｼｽﾃﾑ基盤技術開発)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0110]選択Ge成長膜中の歪み評価（FIRST/PECST フォトニクス/エレクトロニクス融合システム基盤技術開発）
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0111]中性ビームエッチングを用いたリング共振器（東北大学流体科学研究所一般公募共同研究）
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0112]GCIBを用いたリング共振器の共振波長制御（日本学術振興会/先端拠点事業／JSPS Core-to-Core Program）
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0113]Siフォトニック結晶を用いた光変調器の研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0114]テクスチャー表面上での濡れ性についての研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0115]ドロネー研ナノアンテナアレイプロジェクト
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0116]ドロネー研プラズモニックプロジェクト
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0117]医療用マイクロガスセンサプロジェクト
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0118]皮質脳波計測用神経電極の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0119]分散型超多点神経信号計測システムの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0120]マイクロ加工技術を用いた培養神経細胞ネットワークの解析
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0121]エミッター開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0122]表面拡散による形態変化を利用した３次元微細構造形成
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0123]光学式マイクロ拡散センサーの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0124]光学式マイクロ粘性センサーの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0125]NEDO 省エネルギー革新技術開発事業「極低消費電力III-V族化合物半導体CMOSの研究開発」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0126]ナノ微細加工技術を用いた電子物性評価技術
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0127]量子もつれ中継技術の研究開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0128]フォトリソグラフィを用いたMOEMS技術の教材開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0129]JST-CRESTプロジェクト「ナノシートをシード層とする機能性薄膜成長」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0130]1チップ上多色発光LED形成に向けたMOVPEによるGaN選択成長プロセス構築
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0131]シリコンナノピンセットを用いた恒温DNA増幅と電気検出
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0132]微小管・モータタンパク質を用いたタウタンパク質検出方法の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0133]新規センサを目指すCMOS-MEMS 集積化技術
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0134]半導体デバイス向けのリソグラフィ
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0135]新規半導体材料開発のための評価用トランジスタ素子の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0136]3次元電子線リソグラフィシミュレータ FabMeister-ELによるサブ100nm 微細断面形状のシミュレーション精度向上
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0137]システムとして機能を発揮するVLSI研究に向けた微細加工試行利用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0138]集積化音響システムのための微細加工プラットフォーム試行利用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0139]集積六足自立歩行ロボットのための微細加工プラットフォーム試行利用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0140]集積化ＭＥＭＳによる細胞電位計測システム
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0141]集積化 MEMS で創るエネルギー自立型水上走行素子
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0142]集積化 MEMS によるLSI プロービングシステム
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0143]多層膜を利用したナノパターン法とその応用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0144]微小領域選択有機金属気相成長を用いたIII-V on Si 光デバイス
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0145]コンクリート表面へのテクスチャ加工に関する研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0146]高周波アンテナの集積化に向けた微細加工プラットフォーム試行利用
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0147]DNA自律ジョイントを用いたマイクロ部品のセルフアセンブリ
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0148]省電力・長寿命 MEMS メモリを目指すマイクロラッチ機構設計と作製
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0149]曲げによる理想的な曲面を持つ光 MEMS
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0150]低炭素消費型社会に貢献するマイクロ・ナノスマート電荷センサの開発
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0151]マイクロ・ナノスケールトレンチへの三次元DLCコーティング
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(登録なし)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0152]SOI基板上標準CMOS回路の後加工による高機能化と発電素子応用
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0008]細胞培養に向けた電子線グラフト重合法による温度応答性微細加工膜の作製と物性評価
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0010] UV 硬化膜の断面構造解析
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0016]微細構造による Si 熱電発電集積デバイスの開発
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0017]ALD 装置による Al2O3 膜堆積
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0019]可視光応答型光触媒 TiO2/金ナノワイヤーコアシェルアレイの作製
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0021]液晶液滴内の結晶評価
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0024]リチウム金属負極を用いた二次電池の適用に向けたポリマー膜断面観察
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0028] リチウム二次電池用セパレータ上への Al 薄膜の形成
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0030]アミノシランの分子構造が自己組織化単分子膜の形成に与える影響の調査
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0034] FET バイオセンサを用いた RNA の検出
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0037]非荷電の小分子検出を目的とした FET バイオセンサの作製と評価
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0043]FET バイオセンサの作製
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0053]室温強磁性を有する In2O3 薄膜の物性評価
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0054]GaAs/AlGaAs リッジ構造の観測
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0058]導波路作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0069]メソ孔の配向制御に向けた波型断面を有する基板の作製
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F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0073]シンガポール企業からの問合せ対応
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0076]アンモニア酸化細菌 Nitrosomonas mobilis Ms1 のシングルセル観察
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0077]シングルセルレベル観察によって明らかにする微生物増殖速度のばらつき
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0098]伸縮可能な MEMS デバイスシート
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0101]培養口腔粘膜作製用に向けた三次元MEMS技術と表面状態の基礎研究
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F-WS-153 クリーンルーム環境維持装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0102] ストレッチャブル液体 OLEDs の試作
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F-WS-138 アライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0103]エッジ AI デバイスセキュリティに向けた NAM チップ実装技術
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F-WS-137 プラズマ処理装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0105]マイクロ流体デバイス作製に向けた流路パターン形成
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0107]TO 電極のパターニング
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0110]フレキシブル木質炭素フィルムを用いた環境発電デバイスの改善に向けた基礎研究
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F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0111]櫛歯型電極の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0112]蒸着薄膜 Ti の表面評価
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0114] 生分解性材料を用いたセンサ搭載ソフトアクチュエータの開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0117] SAW デバイスの作製に向けた LT 基板と水晶基板の接合の研究
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0118]呼気分析に用いる吸着シートの表面処理
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F-WS-137 プラズマ処理装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0123]CoPtメッキ膜の形成
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0126]TRaf プロセスを用いたナノドットパターンを有する架橋 PTFE 微細加工体の作製と評価
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0127]Zn 電析における微量添加 Pb の析出形態への影響の解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0129]PDMS 表面に付着したコラーゲンの観察
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0134]自己修復性層状シロキサン材料の設計
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0140]ABS 構造物へのめっきの観察
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0143]酸化物ナノシートの膜作製とそのスクロールへの転換
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0146]水電解反応用触媒電極の形成と反応機構解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0147]In-situ Raman analysis of zinc dissolution-passivation behavior
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0148]プラズモンセンサを用いた溶液 pH 変化の検出
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0149]水電解における酸素発生反応用触媒電極の設計・評価及び解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0150]電解析出による BiSbTe 系熱電変換素子の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0151] Zn 負極の形態制御に向けた Pb 及び Sn 添加種が析出及び溶解に与える影響の解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0152]表面増強ラマン散乱を用いた LIB における不働態膜形成の解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0153]表面増強ラマン散乱を用いた射出成形用金型表面の劣化過程の解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0154]TiO2 シェルを有する高耐液性プラズモンセンサの開発
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0155]水電解反応用触媒電極の形成及び性能評価
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0156]有機溶媒からの電解析出法による Si 薄膜の作製
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0162]SERS 計測を用いた Zn アノード反応における添加剤の作用機構の解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0165]磁気メモリ応用に向けた CoPt 薄膜の形成
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0166]水電解における酸素発生反応用触媒電極の設計・評価及び解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0167]亜鉛負極上 ZnO 膜の電気特性に与える電解液添加種効果の解析のための測定手法 の検討
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0170]イオン液体を用いた電析 Si 薄膜の作製
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0174]空間的シングルセル解析実現のための基礎的検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0220]再沈法に基づくサイズが均一な結晶作製法の開発
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0221]光熱効果で高速で駆動するフォトメカニカル結晶の開発
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0224]ワイドバンドギャップ半導体用高信頼ゲート絶縁膜技術の開発
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0225]ダイヤモンド表面の酸素終端化
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F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0227]金属酸化膜の光学特性の評価
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0228]電気化学析出技術の研究
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0229]MLA150 の最適露光条件の検討、フォトマスク作製及び二段露光
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0231] CoPt メッキ膜の形成(2)
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0237]ダイヤモンド MOSFETs の微細加工
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0238]ワイドギャップ半導体の欠陥エンジニアリングに関する研究
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0244]ガラスの異方性エッチング技術開発
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F-WS-902 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0247]CFRTP・GFRP の接合のための濡れ性向上
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F-WS-137 プラズマ処理装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0257]ナノ隙間における固液界面分子構造の表面増強ラマン分光解析
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0258]太陽アクシオン探査用 TES カロリメータの吸収体 Fe 成膜
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0259]スパッタリング法によるインピーダンス測定用 CeO2ペレットへの Pt 電極形成 及びそれを用いた表面プロトン伝導特性評価
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0264] 電子線グラフト重合による高分子アクチュエータの開発
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0265]パルス電析法によるイオン液体中からの p 型及び n 型 Si 薄膜の作製
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F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0268]ABS 表面へのめっき膜の生成と評価
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0269]ZrO2 膜上の Mo 薄膜の形成
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0272]Cu-Au 合金ナノ粒子によるギ酸分解光触媒性能の研究
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0273]シリコンウェハ貫通 Deep-RIE
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F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0274]酸化亜鉛および金属亜鉛膜の亜鉛負極電池極板への応用
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0277]Zn 負極反応におけるアルカリジンケート浴中への Li 添加が Zn 電析に与える影響の検討
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0003]Cr/Au薄膜の形成
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0004]熱酸化法による CuO ナノワイヤ生成における 剥離強度特性に及ぼす Cu 基板表面粗さの影響
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0007]酸化重合によるポリ(フェニレンスルフィド)誘導体の合成と機能性ハイブリッド材料への応 用
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0010]含硫黄芳香族系ポリマーと無機微粒子とのハイブリッド化による高屈折率材料の創製
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0012]純水中の微量金属分析
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F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0013]ストレッチャブル液体 OLEDs の実現に向けた基礎研究
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0016]GaN 系デバイスの信頼性評価
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0018]ダイヤモンドジョセフソン接合の微細化
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0032]酸化重合による芳香族ポリチオエーテルの合成および光学特性
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0036]スーパーキャパシタ電極への適用に向けた，熱酸化法による CuO ナノワイヤの生成
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0037]：ダイヤモンド電解質溶液ゲート FET を用いた海中無線通信の動作検証
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0039]窒素 高濃度 N 型 ダイヤモンド の 作製 および 評価
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0048]伸縮可能な MEMS デバイスシート
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0056]自己組織化単分子膜の状態の評価
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0059]電界効果トランジスタのバイオセンサ機能化のための親水化処理及び半導体特性の測定
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F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0060]電解析出による BiSbTe 系熱電変換デバイスの作製
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-127 簡易SEM
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0063]電界効果トランジスタのバイオセンサ機能化のための親水化処理及び半導体特性の測定
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0070]リチウム金属負極を用いた電池の特性向上に向けた表面形態観察
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0071]リチウムナフタレニドによる硫黄のケミカルリチエーションを利用して作製した Li2S 正極の 観察
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0072]FET バイオセンサの作製
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0073]FET バイオセンサの作製
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-137 プラズマ処理装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0079]端効果に着目したリチウムイオン二次電池電極の表面形態観察
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0080]リチウムイオン電池及びリチウムイオンキャパシタ用負極材料の評価
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0083]ダイヤモンドを用いた電解質溶液ゲート FET(SGFET)による海中通信
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0088]高温で低いサブスレッショルドスイングを実現する C-Si ダイヤモンド MOSFET
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0090]超短周期透過型回折格子の作製
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0091]次世代 5G 通信用 SAW デバイス作製技術の研究
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-136 接合装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0094]蛍光ナノダイヤモンドの観察
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0096]リソグラフィ及びドライエッチングによるナノピラーパターンの作製
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0099]Si およびダイヤモンド基板表面上への有機シラン単分子膜形成
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0110]エルビウム添加シリコンナノピラー構造の作製とフォトルミネッセンス評価
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0112]Ｓｉ ナノピラ ー 構造 の 作製
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0117]混相流マイクロチャンネルの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0120]自己修復性層状シロキサン材料の機械的特性の向上
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0121]アルコール分析に用いる吸着シートの表面処理
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F-WS-137 プラズマ処理装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0122] 生体模倣した培養口腔粘膜作成用に化学架橋を用いてマイクロパターン化したコラーゲ ン足場材の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0123]アガロースドロップレットを用いた単一細胞解析マイクロ流体デバイスの検討
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0124]圧電フィルムへの電極成膜
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0125]ピラーデバイスを用いた触媒反応の検討
|
F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0126]自然由来の木質系活性炭素材料を使用した湿度吸着度検知デバイスの開発及び表面改 質の影響
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0131]電界効果トランジスタのバイオセンサ機能化のための親水化処理及び半導体特性の測定
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0133]電流印加による純銅の疲労特性の向上とそのメカニズムの解明
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0136]薄膜ヒーターの作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0137]原子層体積装置を用いて、異なる表面に白金を薄膜に成膜する研究
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-136 接合装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0139]超伝導遷移端型 X 線マイクロカロリメータで拓く新しい太陽アクシオン探査
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0143]膜微細構造の評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0145]ABS 構造物のめっき処理の観察と評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0147]シリコンフォトニックバイオセンサの構築
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-137 プラズマ処理装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0149]シングルセルレベル観察によって明らかにする硝化菌増殖速度のばらつき
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0150]不均一に出現する抗菌薬抵抗性細菌のメカニズム解明
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-127 簡易SEM
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0151]窒素終端ダイヤモンドから作製した配向 NV アンサンブル
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0152]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子 、 熱電デバイスおよび神経細胞回路の研究
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0154]Ni 薄膜形成とイオンエッチング
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0156]N i 薄膜 の 形成 S F 6 を 用いた ドライエッチング
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0175]ナノ光ファイバー共振器形成のための位相回折格子の作製
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0178]薄膜物性評価装置による鉄酸化物粒子の付着力測定
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0185]ABS 表面へのめっきの生成と評価
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0187]溶接構造用圧延鋼材の疲労き裂治癒に及ぼす高密度パルス電流印加の影響
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0189]水電解反応用触媒電極の形成と反応機構解析
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0190]ラマン分光法による炭素極劣化の解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0192]X 線吸収体のパターニング Fe 電析
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0193]無電解法 HER 触媒形成
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0194]Zn 負極における電析初期形成過程に対する金属添加剤の影響の解析
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0199]亜鉛-空気電池炭素正極の劣化現象の解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0202]有機溶媒からの電解析出法による Si 薄膜の作製
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0204]Zn電析
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0205]プラズモンセンサ実装電解セルによる LIB 負極上溶媒種分解の in situ SERS 解析の試 み
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0206]電析による酸素発生反応用触媒電極の形成
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-127 簡易SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0207]ジンケートイオンの拡散が ZnO の形態に与える影響の解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0208]表面増強ラマン散乱を用いた LIB 負極上での SEI 形成の解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0209]イオン液体を用いた電析 Si 薄膜の作製
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F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0210]有機溶媒からの電解析出法による Si 薄膜の作製
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0211]ラマン分光法を用いた亜鉛空気二次電池の空気極劣化メカニズムの解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0213]非磁性 ZnO ナノ粒子へのスピン導入の試み
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0214]サリチリデンアニリン多形結晶による多様なメカニカル運動の創出
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0218]ボロンを堆積させた FET の作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0223]延長ゲート型 FET バイオセンサのためのシリコン基板処理
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0224]ALD 装置での TiO2膜の成膜レシピ開発
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0225]フレキシブル木質系炭素フィルムを用いた界面動電現象による環境発電デバイスの開発
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0226]液体有機半導体を用いた色鮮やかな発光素子の開発
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0227]水溶液中での有機半導体の電界駆動に関する研究
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F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0230]シリコン終端を用いたダイヤモンド MOSFET の研究
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0232]インプラント上における細胞成長機構解析に向けた Ti 膜の作製
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0233]さまざまな構成での高感度でコンパクトなブラッググレーティング
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0234]Pt 電極の 作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0001]ALD 装置での TiO2膜の成膜レシピ開発
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0004]無電解メッキによる両面導通狭ピッチパッドアレイの試作
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0009](111)縦型2DHGダイヤモンドMOSFET : 六角形トレンチ構造による大電流動作・低オン抵抗化
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0010]有機高分子薄膜を基材とした電子デバイスの開発
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0014]熱可塑性ポリマー(TPE)の膜厚測定
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0015]XeF2によるシリコンエッチングの検討
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0016]圧電フィルムへの電極成膜
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0018]ALD 装置での TiO2膜材料の加熱温度の検証
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0019]decoy サイトが GFP 振動発現遺伝子回路に与える影響
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0026]熱電発電素子の開発
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0027]電流印加による純銅の疲労特性の改善とメカニズムの解析
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0029]ナノシリコンワイヤ型熱電発電デバイスの作製
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F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0030]トレンチ構造を持つ縦型二次元正孔ガスダイヤモンド MOSFET の作製
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0031]酸化重合による芳香族ポリチオエーテルの合成および光学特性
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0032]アルミニウム合金と炭素繊維強化熱可塑プラスチックの直接接合の評価
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0033]既存の燃焼機器に対し着脱可能な有害物質に対する薄膜触媒の開発
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0039]Li 金属負極におけるリチウム析出形態にコインセル設計が与える影響の調査
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0040]Improvement of sensing capability on SOI platform by modifying the waveguide shape
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0041]FET バイオセンサの再利用化のためのめっき処理
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0042]酸素アニール処理によるダイヤモンドの酸素終端化
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0044]学生実験用のシリコンウェハーダイシング
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0045]銅基板表面の酸化の定量
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0048]フレキシブル熱電素子の開発
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0049]液体有機半導体の水溶液中での電界発光（Electro Luminescence）の検討
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F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0054]単結晶石英基板の直接接合による光学ローパスフィルタの作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0055]オンデマンド蛍光検出システムに関する基礎研究
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0056]マイクロパターン化魚うろこコラーゲンを用いた人工培養口腔粘膜の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0057]木質系活性炭の吸着性と電気特性
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0058]フレキシブル木質炭素フィルムを用いた環境発電デバイスの改善に向けた基礎研究
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0060]Al 膜上におけるコロイダルリソグラフィ
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0062]液体有機半導体を用いた高彩度発光デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0066]一細胞レベルの菌培養デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0067]サブミクロンサイズのドロップレット生成デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0068]エッジ AI デバイスセキュリティに向けた NAM チップ実装技術
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0069]量子コンピュータの小型化に向けたマイクロ流体熱交換器の試作
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0073]3 次元ドロップレット生成デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0074]マルチシースフローデバイスを用いたファイバーバンドルの形成の基礎実験
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0075]規格化ナノチタン構造による生体反応制御技術の開発
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0079]微小液滴を利用したシングルセルゲノム解析
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0080]ラマン分光法を用いた微生物・細胞・組織の分光解析・遺伝子解析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0091]磁気ビーズを用いたメッセンジャーRNA 精製法の検討
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0096]微小液滴を用いた化学反応の効率化、新規反応の探索
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0097]アモルファス中間層を用いた LiTaO3/水晶複合 SAW 基板の作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-136 接合装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0100]ITO 透明電極フレキシブル化のための研究
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F-WS-131 CCP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0101]ダイヤモンド FETs の高周波特性評価
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0103]ダイヤモンド電解質溶液ゲート FET を受信器とした新たな海中無線通信の開発
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0105] 熱酸化法による CuO ナノワイヤの生成メカニズムの解明およびスーパーキャパシタ用電 極への適用
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0109]自己修復性層状シロキサン系材料の機械的特性の向上
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0116]XeF2エッチングによるメカニカル振動子の作製
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0117]電極作製およびPEGの修飾評価
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0119]細胞シートの硬度測定
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F-WS-122 環境維持・制御装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0120]半導体素子の電気的特性評価
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0121]GaN 系デバイスの信頼性評価
|
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0122]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子、熱電デバイスおよび神経細胞回路の研究
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0123]シリカ製マイクロレンズアレイ型センサの作製
|
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0126]電子ビーム露光による回折格子の作成
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0127]電子線リソグラフィーを用いたダイヤモンド基板表面上でのナノホール規則配列作
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0128]偏光無依存の光スイッチの作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0132]ナノコンポジット絶縁薄膜の作製と分析
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0133]太陽アクシオン探査に特化した吸収体を持つ TES 型マイクロカロリメータの開発
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0137]反応性レーザーアブレーション法による貴金属添加酸化物ナノ粒子の生成
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F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0139]X 線吸収体のパターニング Fe 電析
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0140]神経細胞の培養
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0142]共焦点顕微鏡の構築
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0143]針電極を用いた神経細胞回路への電気刺激導入
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0146]生化学応用に向けた可視光応答性酸化チタン薄膜の作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0147]マイクロパターン上の神経細胞の活動計測
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0155]ナノホールレジストマスクの作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0158]Er 添加 Si ピラー構造の作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0159]神経細胞の活動計測
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0162]リソグラフィによるナノデバイスパターンの作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0165]ロボットグリッパ用微小突起の製作
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0171]FET バイオセンサによる非荷電分子検出の感度向上を目的とした認識界面の構築
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F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0172]非荷電の低分子検出に向けた半導体センサにおける競合法に関する検討
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F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0173]半導体センサの表面修飾 および特性測定
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0174]多能性幹細胞の安全性スクリーニング検査に向けた半導体センサの開発に関する検討
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F-WS-901 プラズマリアクター
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0179]多孔性ポリオレフィン膜上へのアルミニウム薄膜の形成
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0180]AlN 薄膜の不純物濃度測定
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0183]微生物発酵試料における不溶性成分の分析
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0184]高耐圧化を目指した高周波ダイヤモンド MOSFETs の作製
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0186]高周波ダイヤモンド MOSFETs の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0188]バライト砕石を用いた放射線遮蔽性能の研究
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0190]pH不感応なダイヤモンド電解質溶液ゲートFETの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0193]X 線吸収体の Fe 電析
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0196]薄膜ヒーターや混相流マイクロチャンネルの作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0199]ダイヤモンドを用いた電解質溶液ゲート FET(SGFET)による海中通信
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0200](111)超伝導ボロンドープダイヤモンドのみで構成されるジョセフソン接合の検討
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0202]リソグラフィ及びドライエッチングによるナノピラーパターンの作製
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0203]神経細胞回路への局所刺激導入
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0204]マイクロパターン上で培養した神経細胞回路の活動計測と評価
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0205]混相流マイクロチャンネルの作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0207]ナノ光ファイバーの形状測定
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0208]超短周期透過型回折格子の作製
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0209]S/KB 複合化法の検討
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0210]リチウム硫黄電池適用に向けたレドックスメディエーター固定化正極の作製
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0211]リチウムイオンキャパシタ用電極材料-電析 Sn 負極の評価
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0212]圧電ポリマー用電極の検討
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0213]マイクロ流体デバイスの作製法と観察法の相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0214]マイクロ流体デバイスを用いた細菌一つのピックアップ
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0215]圧電ポリマーの低周波領域での発電特性の検討
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0002]学生実験用のシリコンウェハーダイシング
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0003]IC, LSI の不良解析のためのエッチング検討
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0004]熱電発電素子の開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0005]電気化学測定のための電極作製
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0006]Y2O3 膜の耐エッチング性の比較
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F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0007]IGZO 基板上へ形成したMIS キャパシタの電気特性
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0008]層状ケイ酸塩RUB-15 の薄層化とその層間縮合によるゼオライトの合成
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0009]Ni 電鋳
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0010]流体デバイスのバイオ応用に関して
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0011]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子および同実装技術の研究（１）
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0012]メッキによるシリコン貫通電極の作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0013]ディーゼルスートセンサーに関する研究（スートセンサーチップの製作）
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0014]高感度プラズモンセンサの開発（１）
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0015]酸化ガリウムパワーデバイスの開発
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F-WS-139 高耐圧プローバ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0016]薄層CNT の合成条件検討および薄層化無撚CNT 糸の機械的特性評価
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0017]テラヘルツ帯導波管型平面アンテナにおける金属膜形成
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0018]ALD-アルミナ保護膜を用いたプラズモンセンサの作製法の開発
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0019]微小突起構造成型用モールドの作製
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0020]高機能性エネルギーハーベスト材料の新規創出
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0021]ビルドアップ樹脂を用いた熱インプリントプロセスによる高アスペクト比極微細ビア電極の 作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0022]SU-8 を利用した二重凹型構造の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0023]重水素化DLC の膜密度の深さ方向分析
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0024]ECoG 電極の開発を目指したフォトリソグラフィの相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0025]電流印加による銅合金の疲労特性の改善とメカニズムの調査
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0026]フォトリソグラフィーによる流体デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0027]X 線光学素子の作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0028]超伝導X 線検出器用Sn 吸収体の作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0029]Analysis of the passivation layer on Si surface by using ellipsometry
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0030]Ni 基合金の溶融塩中での腐食
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0031]環境調和型強誘電体セラミックスの微細加工および微構造解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0032]PEEK 樹脂を母材とした擬似等方性CFRP 積層板のトランスバースクラック発生 及び疲労特性評価
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0033]乳酸測定用マイクロ流体デバイスの試作
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0034]MEMS 熱線流速計プローブの開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0035]応力誘導法によるアルミニウムナノワイヤの創製およびその性状評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0036]Si ナノワイヤ構造熱電素子の開発
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0037]Ｎｉ基合金の溶融塩中での腐食
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0038]大腸菌遺伝子回路が生成する時空間パターン解析用マイクロ流体デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0039]アルミニウムとCFRTP の接合断面観察
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0040]TES 型マイクロメータ用パターニングFe 電析
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0041]ナノスケール構造を有するバイオセンサの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0042]ITO 膜の薄膜化
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F-WS-122 環境維持・制御装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0043]微小流路を用いたバクテリアの長期培養・観察系の開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0044]無電解Ni-Fe メッキ
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0045]微小電極構造を有するバイオセンサの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0046]高感度プラズモンセンサの開発（2）
|
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0047]高周波2DHG ダイヤモンドMOSFETs の作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0048]超短周期透過型回折格子の作製
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0050]蒸着装置付属の膜厚測定装置と触針式膜厚計との対応
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0051]三次元ナノ構造を用いた高耐熱性接合部の形成メカニズム解明
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0053]サンプルのEDX 分析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0055]ガラス表面のエッチング
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F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0057]CFRP 基板のトランスバースクラック発生のAFM による評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0059]Si 薄膜中に含まれる微量金属の質量分析
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F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0060]マイクロ流路デバイス作製時の流路の高さの測定
|
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0062]ゼオライト断面試料の作製
|
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0063]Si モールドの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0064]膜小胞の形態観察
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0065]ナノ構造表面を有するアルミニウムとCFRTP 積層板の接着界面の観察
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0066]金属ナノ粒子形成メカニズムの解析、及び金属ナノ粒子の表面特性評価
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0067]高分子電解質膜上に形成した電極の断面構造解析
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0068]水晶ウエハ―のプラズマエッチング
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F-WS-131 CCP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0069]リチウムイオン電池の性能向上の検討
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0070]Al 配線の断面観察
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0071]加熱処理を施した層状ケイ酸塩の断面試料作製に関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0072]熱インプリント法によるモールドのパターン転写
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0073]シリコンラバーの表面処理工法の検討
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0074]細胞培養用マイクロ流体デバイスの最適化
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0075]Ag 箔のダイシング加工
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0076]アルキル置換ポリフェニレンスルフィドの光学特性
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0077]シリコンマイクロ流路による希釈冷凍機の開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0078]布サンプルの酸素プラズマ処理
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F-WS-131 CCP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0080]表面形状プロファイルの非破壊検査方法
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0081]ZrO2 ナノ粒子-ポリマーハイブリッドフィルムの屈折率測定
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0082]プラズマを用いた樹脂表面改質
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F-WS-153 クリーンルーム環境維持装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0083]FeCo 系合金を使った発電素子の評価
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0084]persisterの分子機構の解析
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0085]シングルセルレベル観察によって明らかにする硝化菌増殖速度のばらつき
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0086]マイクロ流体デバイスを応用した生分解性ビーズの作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0087]圧電ポリマー薄膜への電極の作製
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0088]ALD 装置でのSiO2 膜の成膜レシピ開発
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0089]機械加工に代わるMEMS 加工技術全般の探索
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0090]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子および同実装技術の研究（２）
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0091]MTF テストチャートの製作に関する技術相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0092]圧電ポリマーを用いた実用的な発電デバイスの試作
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0093]高密度カーボンナノチューブフォレストを用いた櫛型電極の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0094]Electroplated surface finishing of micromachined filters at 270 GHz
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0095]GaN 系デバイスの信頼性評価
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0096]細胞培養用マイクロ流体デバイスの改良について
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0097]有機半導体材料の蛍光スペクトル測定
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0098]DEEP-RIE を用いた高精度な流体デバイス加工
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0001]環境調和型強誘電体セラミックスの微細加工および微構造解析
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0002]シリコン酸化膜の等方性エッチング
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0003]高感度-広測定域 SPR センサに向けた二重反射の動作特性評価
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0004]銅の埋め込みシリコン貫通電極の作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0005]2次元アンペロメトリックセンサのプロセス開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-200 スパッタ装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0006]光硬化高分子コーテイングの機械特性評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0007]高感度プラズモンセンサの開発
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0009]規格化されたゲート構造を持つバイオセンサの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0011]超低損失Ga2O3トレンチMOS型ショットキーバリアダイオード
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F-WS-139 高耐圧プローバ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0012]2次元正孔ガスを利用した高周波・高出力ダイヤモンドFET
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0013]テラヘルツ帯導波管型平面アンテナにおけるシリコンウエハーの金膜形成
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0014]テラヘルツ帯導波管型平面アンテナにおける積層ウエハダイシング
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0015]微細電鋳MEMSコネクタ用高強度・高弾性Ni合金めっき素材の開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0018]ALD装置で製膜した ZrO2膜の SEM観察
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0019]電解析出法を用いた Bi-Te 系マイクロ熱電変換素子の作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0020]酸化ガリウムパワーデバイスの開発
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0021]ナノチューブ内の金属めっき
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F-WS-122 環境維持・制御装置
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0022]銀材料への Al2O3の製膜
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0023]遷移金属酸化物の微細加工
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0024]Cu 箔の Auめっき及びダイシング加工
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0025]EB描画を用いたグレースケールフォトマスクの作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0027]機能性圧電ポリマーの特性向上に関する研究
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0028]縦型２DHGダイヤモンドMOSFETの作製および評価
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0029]Al2O3膜のバイアス安定性の改善に向けた成膜後熱処理の検討
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F-WS-139 高耐圧プローバ
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0030]2次元正孔ガスを利用した高周波・高出力ダイヤモンドFET
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0031]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子および同実装技術の研究
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0033]電解メッキによるSn膜の形成
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0034]ロールtoロールナノインプリントによる微細パターン作製
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0035]ハードコート樹脂上へのインク塗布膜の密着性評価
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0036]学生実験用のシリコンウェハーダイシング
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0037]サブミクロン粒径の結晶粒Auの焼結の3次元構造解析
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0038]MEMS構造体への ALD-Al2O3 成膜（再現性確認）
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0039]微小流路を用いたバクテリアの長期培養・観察系の開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0040]フェリシアン化カリウム水溶液の交流インピーダンス測定
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0041]スーパーキャパシタ用AlナノスパイクへのNiのEB蒸着
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0042]シルセスキオキサン系自己修復材料評価の相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0043]アルコキシ基数の異なる有機架橋シランを用いたメソ構造体薄膜の合成
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0044]光によるミクロ相分離構造に関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0045]細胞を対象としたラマン分光技術
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0046]2次元正孔ガスを用いたダイヤモンドMOSFETの特性評価
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0047]酸化還元酵素への電子注入におけるCISS効果の適用
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0048]Ga2O3トレンチMOS型ショットキーダイオードの耐圧評価
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F-WS-139 高耐圧プローバ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0049]アッシングを用いたレジストパターン形成精度の向上
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0050]大面積リフレッシャブル マイクロ流体有機EL の作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0051]バイオセンサチップの作製プロセス改善
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0052]高機能性エネルギーハーベスト材料の新規創出
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0053]配位子を用いた水酸化物表面の反応性の制御に基づくナノシートの評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0056]AFM によるCFRTP 積層板のトランスバースクラック発生機構評価
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0057]粉末冶金法によるMg-Al-Si-Sn-Zn 系合金の機械的性質に及ぼす金属間化合物形成の 影響
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F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0058]高出力密度の固体酸化物型燃料電池の検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0059]無染色の浮遊細胞のラマン光解析
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0060]ワイドバンドギャップ半導体素子の特性評価
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0062]Sn 添加による Si-O-C 複合負極の蒸着装置基板を用いての電析及び電子伝導度測定
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0063]金属ナノ粒子形成メカニズムの解析、及び金属ナノ粒子の表面特性評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-200 スパッタ装置
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0064]Sn 添加による Si-O-C 複合負極の充放電特性の向上のための電極処理
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0065]電鋳手法による高精度プローブカード配線パターン加工方法の開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0066]AFMによる３次元ナノポーラス構造体の表面形状測定
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0067]ホールパターンを有するフィルムドームの作製
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0068]小サイズ基板用スピンドライ機器の操作
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0069]酸化物結晶低温接合
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
F-WS-136 接合装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0070]メッシュパターンを有するフレキシブルITO電極の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0071]高分子材料の表面処理
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0072]FET表面へのAPS単分子膜の修飾
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0073]チタン表面のラフネス計測
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0074]グラフェン埋め込みスロット導波路の作製及び特性評価の検討
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0075]FeCo系磁歪材料を用いた振動アクチュエータの試作
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0076]FeCo系磁歪材料を用いた発電デバイスの発電メカニズムの解明
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0078]石英基板同士の接合
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0079]曲線型方向性結合器を用いた偏光無依存リング共振器フィルタの特性向上の検討
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0080]MnAlGe 層状化合物の磁気特性に及ぼす膜厚依存性
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0081]IC,LSIの不良解析のための等方性エッチング
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0083]やもりの足の機能を有する試作デバイスに関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0085]多孔性配位高分子による結晶配向膜の構築
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0086]VDF/TrFEを用いた高出力圧電式発電デバイスの作製
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0087]LSIの解析技術
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0088]微小突起構造成型用モールドの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0089]高分子ミクロドメインの選択エッチングと表面構造観察
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F-WS-131 CCP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0090]UAV搭載を目標としたMEMS技術を利用した熱線流速計の開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0091]スーパーキャパシタ用正電極の作製及び電気化学特性評価
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0092]X線光学素子の作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-17-WS-0093]GaN系デバイスの信頼性評価
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0001]ナノスケーラーの開発
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0002]強誘電体セラミックス薄膜の微細加工および微構造評価
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0003]ガラス基板への金属膜形成
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0004]ガラス上への無電解めっき製膜プロセスの開発
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0005]微小流路を活用したバクテリアの培養システムの構築
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0006]ISFET の面取り検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0007]256ch アンペロメトリックセンサのプロセス開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-200 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0008]300 GHz 帯導波管型平面アンテナにおけるシリコンウエハーの金めっきと積層ウエハー ダイシング
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0009]サブミリ波帯アンテナのためのシリコンウエハーの金めっき電極下地の比較に関する研究
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0010]フォトリソグラフィによるレジストモールドの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0011]生体計測デバイスとしての応用に向けた導電性ナノシートと薄膜配線の作製
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0013]ALD装置でのZrO2レシピ開発
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0014]表面弾性波発生のための櫛形電極の作製
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0015]圧電基板上の櫛形電極の周波数特性の測定
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F-WS-127 簡易SEM
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0016]高感度プラズモンセンサの開発
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0017]微小流路を活用したバクテリアの培養システムの構築
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0018]圧力式ホモジナイザおよび液中プラズマ法を用いた銀ナノ粒子担持グラフェンによる透明 導電膜の作製および特性評価
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F-WS-144 真空光学系赤外分光計
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0019]ナノコンポジット薄膜の断面観察
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0020]狭ピッチプローブアレイにおけるプローブ先端アルミ蒸着
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0021]サファイア基板のダイシング
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0022]自己修復性シリカ材料の作製
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0023]ナノインプリント用 UV 硬化樹脂のAl エッチング耐性の評価
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0024]Al2O3膜を用いたダイヤモンドMISFETの高温特性
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0025]３次元Au ナノポーラス構造作製検討
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0026]ガラス基板への表面処理に関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0027]インピーダンス測定方法の相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0028]カーボンナノチューブフォレストの構造制御と次世代微小電極アレイへの応用
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0029]大気圧プラズマを用いたハードコート処理樹脂の表面改質
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0030]白金担持グラフェンの創成に与える液中プラズマ法の影響調査および電気化学特性評価
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0031]アッシングを用いたレジストパターン形成精度の向上
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F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0032]画像取り込み技術の開発
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F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0033]低温度域触媒反応の開発
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0034]トレンチMOS 構造を設けた Ga2O3ショットキーバリアダイオード
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F-WS-139 高耐圧プローバ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0035]CFRP試験片に塗布した両性イオンコーティングの海水中劣化挙動調査
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0036]CNTs/SiC 上各種めっき電極膜形成の検討及び評価
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0037]水分解用光触媒薄膜電極に関する検討
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0038]3元系 Bi-Sb-Te 電析膜の形態制御およびマイクロ熱電変換素子作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0039]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0040]FeCo 系材料を用いた小型発電デバイスの発電メカニズムの検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0041]高機能ワイドバンドギャップ半導体素子における電気伝導特性と熱処理温度の関係
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0042]Mn 基強磁性薄膜/強誘電体へテロ構造の作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0043]MnAlGe 層状化合物の薄膜作製
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F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0044]有機官能基によるメソポーラスシリカ薄膜の細孔表面修飾
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0045]ISFET の不良解析 1：構造解析と電気特性測定
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0046]ISFET の不良解析２：TEG(Test Element Group)の電気特性測定
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0047]ISFET の不良解析 3：ISFETの再度の電気特性測定と断面観察
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0048]傾斜露光によるレジストモールドの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0049]FeCo 系合金を用いた発電デバイスとNdFeB 利用のデバイスとの出力の比較
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0050]FeCo 系合金を使ったアクチュエータの基礎検討
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0051]VDF/TrFE ポリマーを応用した発電デバイスの性能向上
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0052]VDF/TrFE ポリマーを応用した MEMS デバイスの開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0053]新 ISFETの電気特性測定
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0054]接合電極形成とその接合界面反応に関する研究
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
F-WS-137 プラズマ処理装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0055]カーボンナノチューブの基板上合成，集合形態制御と電子エミッタ応用
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0057]MEMS構造体への ALD-Al2O3 製膜
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0058]Si ダミーチップの製作
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0059]細胞を対象としたラマン分光技術
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0060]半導体素子の電気的特性評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0061]金属ナノ粒子形成メカニズムの解析，及び金属ナノ粒子の表面特性評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0062]おからを利用したパン・麺の組織構造解析
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0063]MnBi の電析法による合成プロセスの確立と磁気特性
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0064]EDAX 分析による重層マイクロファイバーの構造評価
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0065]ナノポーラス粉末バンプと真空紫外光を利用した低温金-金接合技術
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0066]ALD装置でのSnO2レシピ開発
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0067]発光性液体有機トランジスタに向けた櫛歯電極構造の作製
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F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0068]高品質 GaNテンプレートに向けた SiO2ナノマスクの作製
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0069]水素終端ダイヤモンド(001)表面伝導層上の金オーミック電極直下シート抵抗値
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0070]ナノインプリントと異方性ウェットエッチングを用いた極微細金属埋め込み構造の作製
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0071]金－金低温接合を目指した金表面への真空紫外線照射の効果
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0072]スーパーキャパシタ用三次元電極の電気化学特性評価
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0073]サブミクロン金粒子の一括埋め込みによる I 型構造 TGV 形成とその気密封止デバイスへ の応用
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-200 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0075]パワーデバイス計測のための半導体パラメータアナライザに関する技術相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0076]3 次元光インターコネクション用ポリマー縦型マッハツェンダ型光スイッチの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0077]半導体パラメータアナライザを用いた熱電デバイス計測
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0078]酸化剤を変えて形成した原子層堆積 Al2O3膜の電気特性
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0079]GaN 系デバイスの信頼性評価
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0080]バイオセンサ応用を目指した微細構造作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-200 スパッタ装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0081]SOI を用いた屈折率センサー
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0082]埋め込み型プラズモンセンサの開発
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0083]O2プラズマアッシング装置を用いた基板表面処理
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
F-WS-153 クリーンルーム環境維持装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0001]Mn基強磁性薄膜/強誘電体へテロ構造の作製
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F-WS-124 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0002]PDMS製マイクロ流体デバイスの作製
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F-WS-124 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0003]PDMS製マイクロ流路チップの成型加工方法
|
(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0004]X線マイクロカロリメータのX線吸収体のためのナノ構造体形成と評価
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0005]フォトリソグラフィーを利用した微細構造体の開発
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F-WS-138 アライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0006]ナノメータの凹凸を有する膜形成による表面エネルギー制御
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0007]極低温下におけるPZT薄膜のリーク電流特性評価
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F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0008]InAlGaAs/InAlAs光スイッチ用導波路のラフネス補償の検討
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F-WS-124 スパッタ装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0009]熱線流速計小型プローブ作製における問題点の抽出
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0010]ラマン分光器用透過型センサ開発1
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0011]ラマン分光器用透過型センサ開発２
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0012]熱インプリント装置の使用方法について
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F-WS-130 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0013]金属ガラスの機械的特性評価用銅電析膜形成の検討
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0014]ナノポーラス構造を有する構造体の光特性評価
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0015]両性イオン含有ポリマーを表面に偏析したコーティングの断面解析
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0016]300GHz帯導波管型平面アンテナにおけるシリコンウエハーの金メッキと積層ウェハダイシング
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0017]サブミリ波帯アンテナのためのシリコンウエハーの金めっき下地の比較に関する研究
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0018]微小ドロップレット形成チップの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0019]電析ビスマス/銅吸収体TES型X線マイクロカロリメータの表面改質
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0020]グロー放電発光分析による水分解用光触媒アノード電極材料LaTiO2Nの解析
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0021]強誘電体セラミックス薄膜の微細加工および微構造評価
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0022]2次元アンペロメトリックセンサのプロセス開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0023]微細加工技術によるバイオセンサ基板の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0024]金属酸化物の表面分析
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0025]がん培養液中の成分分析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0026]表面弾性波発生のための櫛形電極の作製
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F-WS-127 簡易SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0027]圧電基板上の櫛形電極の周波数特性の測定
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0028]Mn基層状化合物の薄膜試料における組成・基板加熱温度の最適化と磁気特性
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F-WS-124 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0029]金属ナノ粒子形成過程の解析、及び形成した金属ナノ粒子の特性評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0031]Roll to Rollインプリント装置によるフィルムレプリカ版の転写評価
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0032]電極電位の測定
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0033]プローブカード製造における高精度エッチング手法の開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0034]NCSセラミックスによる除錆・防錆効果の検証
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F-WS-127 簡易SEM
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0035]小型界面活性化装置の仕様検討
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0036]銅の埋め込みシリコン貫通電極の作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0037]ドライエッチングプロセスによるSi製マスタの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0038]フォトリソグラフィを用いたパターニングNiめっき
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F-WS-124 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0039]CVDグラフェンを用いたテラヘルツ波検出器の開発
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0040]インプリント装置使用方法習得と転写実験
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0041]MEMS技術を利用した熱線流速計プローブの開発
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-132 Deep-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0042]FeCo系材料を用いた小型発電デバイスの発電メカニズムの解明
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0043]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0044]液中プラズマ処理による白金ナノ粒子担持ナノカーボン材料の創成および電気化学特性評価
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0045]皮膚貼付型歪みゲージとしての応用に向けた導電性高分子ナノシートのパターニング
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0046]CNT/SiC上各種めっき電極膜形成の検討及びコンタクト抵抗の評価
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0047]無電解Au-Niめっき膜の作製及び評価
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0049]MnBi強磁性体の新合成法確立とその磁気特性評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0050]強磁性Mn-Bi の磁場中反応の微視的解明
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0051]高強度カーボンナノチューブ無撚糸の創成と強度発現機構
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0053]GaNデバイスの加工
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0054]MEMS技術を利用した熱線流速計プローブ用治具の開発
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F-WS-127 簡易SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0055]マイクロ流体デバイスを用いた超微量生体サンプルの濃縮
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0056]ラマン分光器に用いる反射型プラズモンセンサの試作開発
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0057]深堀構造を持ったSi基板へのレジスト被膜及び露光
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0058]表面修飾したTiO2薄膜とポリマー間におけるラジカル交換反応の進行調査
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F-WS-124 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0059]ナノドットプラズモンセンサの開発
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0060]有機発光層同士貼り合わせOLEDの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0061]高性能OLEDsに向けた平坦化電極構造の作製
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-135 走査型プローブ顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0062]マイクロ流体デバイスを用いた「金属錯体含有タンパク質」の結晶化
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-144 真空光学系赤外分光計
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0063]新規導入ALD (Anric Technologies社製Model: AT-400) の膜厚均一性評価
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0064]圧電性ポリマーを用いた小型発電デバイスの試作
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0065]マイクロ流体デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-127 簡易SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0066]脳内乳酸計測用マイクロ流体デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-127 簡易SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0067]FeCo系材料を用いた小型発電デバイスの発電メカニズムの解明その２
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0068]重水素化DLCの膜密度の深さ方向分析
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0069]CFRTP／アルミニウム板の接着強度における表面処理の影響
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0070]DLC膜の膜厚評価
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0071]マルチ電極パターンの最適化に関する技術相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0072]マイクロパターン上での培養による興奮性-抑制性神経細胞の非標識判別
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0073]ダイヤモンドMOSFETの作製・評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0074]Geの1次元配列を有するMOSトランジスタの室温伝導特性
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0075]波長1500nm帯ポリマー導波路型クレッチマン配置表面プラズモン共鳴センサの高感度化と広測定域化の検討
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0076]SiC上に形成したカーボンナノチューブ上のメタルフリーCVD 成長におけるCNT 端面の検討
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0077]3次元光インターコネクション用ポリマー２層構造4×4光スイッチの特性改善の検討
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0078]真空紫外線処理によるリグノセルロース多孔性炭素ペレットの表面改質効果
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0079]メソポーラスシリカ薄膜表面のメソ細孔を利用したパターン形成
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0080]高密度 3 次元実装に向けたフィラー含有樹脂とバンプのハイブリッド接合
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F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0081]芳香族ポリチオエーテルの光学特性
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0082]3元系Bi-Sb-Te薄膜のパターン電析およびマイクロ熱電変換素子作製
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0083]多結晶ダイヤモンドを用いた電解質溶液ゲートFETの電気的特性評価
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F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0001]PDMS製マイクロ流体デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-127 簡易SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0002]多糖類基材へのイオンビームスパッタによるSiO2成膜
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F-WS-124 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0003]PDMS製マイクロ流体デバイスの作製
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F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0004]深さが異なるマイクロ流路チップの作製
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F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0005]：シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究(シリコンウエハー表面への金メッキ)
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0006]強誘電体セラミックス薄膜の微細加工および微構造評価
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0007]2次元アンペロメトリックセンサのプロセス開発
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-124 スパッタ装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0008]伸縮可能なMEMSデバイスシート
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0009]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発
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F-WS-136 接合装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0010]カーボンナノチューブ・フレキシブル電極・配線のパターン形成のための微細加工
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F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0012]誘電体/絶縁体基板上へのグラフェンパターンの直接形成のための微細加工
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0013]SiC JFETのソース電極、ゲート電極のAuめっき
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0014]ICP-RIEを使用したUVナノインプリント用光硬化性樹脂のドライエッチングレート測定
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F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0015]めっき法による3次元ナノ構造の特性評価
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0016]表面弾性波発生のための櫛形電極の作製
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F-WS-124 スパッタ装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0017]小型コンデンサーセンサの開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0018]Bi-Te電析膜の微細構造制御およびマイクロ熱電変換素子への応用
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0019]Al電極上のAuめっき
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0020]陽極酸化皮膜（アルマイト）処理方法に関する研究
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0021]X線マイクロカロリメータのX線吸収体のためのナノ構造体形成と評価
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0022]3D-FIBトモグラフィー法によるサブミクロンAu粒子焼結体の微構造と焼結応力解析
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0023]MEMSデバイスの基板接合技術に関する基礎実験
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F-WS-136 接合装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-138 アライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0024]CNT /SiC上へのパターンめっき電極膜形成の検討及び顕微ラマン分光装置を用いたCNTの評価
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F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0025]ディスプレイ関連技術相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0026]異種材料接合技術
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-136 接合装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0027]特殊ナノインプリント技術構築と特異材料の特定用途へ適用性検討
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F-WS-136 接合装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0028]GaN基板に関する技術相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0029]金属ナノ粒子形成過程における添加剤の影響解析
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0030]配向制御Fe-Co合金薄膜の作製と磁歪MEMSデバイスへの応用展開
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F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0031]プラズマ耐性材料の探索
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F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0032]ナノインプリントを用いた間葉系幹細胞培養の研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0033]プラズモンセンサのプロセス開発
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0034]ナノメータの凹凸を有する膜形成による表面エネルギー制御
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0035]CMPを利用しためっき膜の平滑性向上
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0036]単結晶サファイアの接合
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-138 アライナ
F-WS-136 接合装置
F-WS-139 高耐圧プローバ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0037]メッキ板の硫化膜厚測定
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0038]微小ゲート構造を有するバイオセンサ用基板の作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0039]Ir/ＩrOxワイヤ酸化被膜剥離の検討
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F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0040]ラマン分光による面分解能評価パターン作製
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0041]イオンビームスパッタ装置を用いて成膜したNi膜の膜厚計測
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F-WS-134 表面極微細構造測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0042]イオンビームスパッタ装置を用いて成膜したNi膜のSEMによる表面観察
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F-WS-127 簡易SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0043]赤外無反射構造加工のための微細ニッケルメッキ条件だし
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0044]強磁性Mn-Biの新合成法確立とその物性評価
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0045]炭化ケイ素基板のドライエッチングマイクロレンズ加工
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F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0046]特殊加工ハイドロ キシアパタイトによる環境負荷低減作用の研究
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0048]イオンビームスパッタ法によるMn層状化合物の薄膜作製
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0050]自己組織化膜（SAM）を用いた電鋳技術
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0051]透明導電性Sn:In2O3 (ITO)薄膜電極の作製
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F-WS-126 FE-SEM
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0052]パッシベーション用アルミナ膜の成膜方法による比較
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0053]アルミナ膜の膜中水素量による比較
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F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0054]圧電基板上の櫛形電極の周波数特性の測定
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-148 ダイシングソー
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0055]カーボンナノチューブ・フレキシブル電極・配線のパターン形成のための微細加工：カーボンナノチューブ・フレキシブル電極・配線用マスク作製検討
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0056]プローブカードパターン製造におけるレジスト材に関する研究
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0057]金属被覆を施した金属ガラスの機械特性
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0058]微生物発酵産物の柱状解析
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0059]サブミリ波帯アンテナのためのシリコンウエハーの金めっきプロセスに関する研究
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F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0060]埋め込み型プラズモンセンサの開発
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0061]ネオジム磁石膜を用いたMEMSアクチュエータの研究
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
F-WS-121 精密めっき装置×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0062]Mn層状化合物の形成と組成分析
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0063]高性能OLEDsに向けたITO上へのナノパターン形成
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F-WS-128 電子ビーム描画装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0064]マイクロ流体有機ELの作製と電界発光特性
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F-WS-136 接合装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0065]高分子圧電材料を用いた発電デバイスの作製と特性評価
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F-WS-124 スパッタ装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0066]FeCo系合金を使用した磁歪発電デバイスの高出力化
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0067]磁歪発電デバイスの持続的発電構造の検討
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F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0068]低温用プローバ利用に関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0069]マイクロミキサーの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0070]化学反応用マイクロ流体デバイスの作製
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F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-144 真空光学系赤外分光計
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0071]樹脂製流体デバイス作製指導に関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0072]特殊加工ハイドロ キシアパタイト（セラミックス）による防錆・防食・除錆効果
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F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0073]微小ドロップレット形成チップの作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0074]インプリント用モールドの再生方法検討
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F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0075]がん培養液中の成分分析
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F-WS-133 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0076]分光エリプソメーターを使用したガラス基板上のAPTES単分子膜の測定の検討
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F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0077]X線光学素子作製のための微細めっき技術
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0078]フレキシブル薄型の力覚センサ
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0080]圧電ポリマーを用いた発電デバイスの検討
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F-WS-122 環境維持・制御装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0081]神経細胞の表面改質法に関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0082]ナノスケール微細構造形成の相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0083]ピレニルホスホン酸の選択的固定化に関する相談
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0084]Si 細線スロット導波路へのカーボンナノチューブの埋め込みの検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0001]SiC上のグラフェン薄膜の評価
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0002]集束イオン/電子ビーム加工観察装置による圧痕下部組織の３次元トモグラフィ
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0003]めっき膜後処理
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0004]GaAs上の金膜パターン形成
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F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0005]炭素ハイブリッド膜のラマンによる微小領域測定
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0006]ソフトリソグラフィーによる高分子ナノディスクの作製
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0007]石英ガラスの変形制御
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0008]サブミクロン微粒子上への金ナノシェルの作製
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0009]強誘電体セラミックス薄膜への電極形成と微細加工
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0010]FIBによるピンホールの形成
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0011]表面の滑らかなXeF2ドライエッチング
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F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0012]XeF2を用いたSiエッチング過程における温度上昇
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F-WS-116 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0013]NiFeめっき膜形成
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0014]CYTOPによるウエハレベルガラス接合
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0015]血漿・血球分離のための樹脂流路チップの作製に関する研究
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F-WS-116 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0017]Fe40Ni60合金薄膜の作製と磁歪特性評価
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0019]表面弾性波を用いたナノ物質位置制御技術に関する研究
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0020]強磁性Mn-Biの合成とその評価
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0021]カーボンナノチューブ/SiC界面の不純物濃度の測定
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F-WS-118 グロー放電分光分析装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0022]長波長対応反射型プラズモンセンサの開発
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0023]ナノめっき技術を用いた硬質貴金属電気接点の実用化研究
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0024]糖鎖層へのSERS用Ag蒸着
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0026]2次元アンペロメトリックセンサのプロセス開発
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0027]狭ピッチプローブの膜応力及び磁歪材料の変形制御
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0028]高温高濃度オゾン被曝法によるダイヤモンドの酸化処理
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F-WS-123 ダイヤモンド基板専用 特殊成膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0029]微細接合用ナノポーラスシートの特性評価
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0030]プラズマリアクターを利用したレジスト剥離
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0031]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0032]温度応答性表面へのナノインプリント微細構造導入による親疎水性動的変化の増幅
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0033]ポリ乳酸ナノシートの微細構造解析
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0034]３次元LSIのハイブリッド接合に関する研究
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0035]CoPtパターンド・メディアにおける初期析出挙動解析
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0036]ALD-Al2O3膜の耐熱性検討
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0037]Mn層状化合物の薄膜作成と特性評価
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0038]Fe基超磁歪合金の開発とエネルギーハーベスト素子への応用研究
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0039]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0040]プラズモンセンサのバイオ応用
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0041]めっき膜のナノ構造と表面エネルギー制御に関する検討
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0042]CNT上へのめっき電極膜形成の検討
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0043]Fe基超磁歪合金のヤング率測定
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F-WS-120 デバイス電気特性 測定装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0044]FeCo磁歪合金薄膜の作製と機能化に関する研究
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0045]めっき法による3次元ナノ構造形成に関する研究
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0046]高周波ＦＥＴの特性評価
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0047]多自由度MEMSスキャナの試作
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F-WS-116 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0048]表面微細加工パターンの試作
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0050]金属ナノ粒子作製用添加剤の挙動解析
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0051]軟らかいポリマー両面への電極薄膜の形成
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0052]駆動可能な金属櫛歯電極の試作
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0053]MEMS マイクロフォンの臨床用圧力センサへの応用
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0054]磁歪材料を用いたMEMS発電デバイスの試作
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0055]SiC-FETダイの銀ナノペーストを用いたダイボンディング条件の最適化
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0056]太陽電池用パッケジの石英加工
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0057]水溶液中におけるベンゾトリアゾールの銅表面への吸着の直接観察
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0059]基板の貼合せ封止・実装技術
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0060]電析法による透明電極上へのSiナノ構造体の作製
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0062]サファイヤの直接接合
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0063]樹脂複層フィルムの直接接合技術開発
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0064]Roll to Rollナノインプリント法を用いた微細パターンの作製
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0066]IGZO-FETのFIB-SEMとEDAXによる分析
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0067]IGZO薄膜のGDOESによる分析
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0068]長焦点深度アライナーの有用性について
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F-WS-117 顕微ラマン分光装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0069]車載向け電力素子用パッケージの検討
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F-WS-120 デバイス電気特性 測定装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0070]SSC付きCNT含有スロット導波路の作製
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0071]異種材料の接合
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0072]石英基板のハイアスペクト加工検討
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F-WS-116 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0073]MEMSデバイスの基板接合技術に関する基礎実験
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0074]UVインプリントによる高アスペクト比樹脂構造体の作製
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F-WS-116 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0075]液体発光材料の評価方法
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F-WS-114 電子顕微鏡群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0076]ITO電極のエキシマーUVによる基板表面処理
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F-WS-116 ICP-RIE装置
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0077]超高感度免疫測定システム検討のためのPDMSマイクロ流路の試作
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F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0078]マイクロ流路の製作の検討
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F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0079]サブミクロンAu粒子パターンを用いたウエハレベル接合
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0080]パッシベーション用アルミナ膜の成膜
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0081]高磁場中でのNiFeめっき膜形成における変形
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0084]Si基板終端の反応性の違いを利用した有機ホスホン酸の選択的表面修飾
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F-WS-119 表面処理・接合装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0086]多糖類基材へのADLによるアルミナ製膜
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0087]銅版の酸化膜厚の測定
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F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0088]ALD法で形成したAl2O3膜絶縁耐圧の向上
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F-WS-113 高品質製膜装置群
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0001]表面弾性波（ＳＡＷ）デバイス作成
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0002]めっき法を用いた熱電変換素子マスク作製、プロセス検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0003]強誘電体セラミックス薄膜への電極形成と微細加工
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0004]学生実験用回折格子アレーの作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0005]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0006]ナノインプリントにおけるガラスおよびシリコン等耐熱基材へのナノレベルの微細構造転写のための基礎検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0007]マイクロチップ電気泳動-質量分析用ポリマーマイクロデバイスの作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0008]金ナノドット集積化電気泳動分析用ポリマーマイクロチップの作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0009]ALD-Al2O3ゲート絶縁膜の性能評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0010]血漿・血球分離のための樹脂流路チップの作製に関する研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0011]微細接合用ナノポーラスシートの特性評価に関する研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0012]ナノマルチフェロイクス素子開発のためのナノ加工に関する研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0013]MEMS技術のための薄膜コーティング
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0014]マイクロ流路デバイスの作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0015]SiC基板上のCNTのめっき膜形成検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0016]アモルファス金属ガラスへの水素導入とその変形制御
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0017]基板接合技術の開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0018]Ni-Nb-Zr-H薄膜を用いたデバイスの作製とI-V特性
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0019]水素導入したアモルファス合金薄膜デバイスの導入水素量と 電気的特性の関係に関する評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0020]特殊磁性体材料の逆磁歪効果を用いた発電テバイスの研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0021]3次元MEMS加工技術を応用した特殊磁性体材料を用いた発電テバイスの試作
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0022]GaAs上の金膜パターン形成
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0023]狭ピッチプローブプロセス開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0024]サブミクロンAu粒子を用いたウェーハ接合
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0025]Cavity付シリコンチップの製作
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0026]三次元集積デバイスのためのハイブリッド接合技術の検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0027]Si基板への有機ホスホン酸の選択的固定化
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0028]メソポーラスシリカ膜のドライエッチング加工
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0029]金属ナノ粒子作製用添加剤の挙動解析
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0030]Cu基金属ガラス上へのめっき膜形成検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0031]2次元アンペロメトリックセンサの試作
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0032]固体酸化物型燃料電池におけるイオン導電率の検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0033]シアノバクテリアSynechoccocus elongatus PCC 7942の単一細胞に対する位相応答解析
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0034]イオンゲルを用いた電気二重層トランジスタの高速動作
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0035]SiC上のグラフェン薄膜の評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0036]高感度ラマン分析用のSERS基板の作成
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0037]過酷酸化条件下でのダイヤモンドの表面処理
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0038]メタノール型燃料電池のアノード触媒の研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0039]新規微細加工・表面加工技術の開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0040]燃料電池におけるアノード触媒の研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0041]非晶質Au-Ni合金めっき膜の作製と物性評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0042]高分子樹脂上へのめっきによる配線形成
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0043]Al2O3パッシベーションを施した水素終端ダイヤモンドMOSFETの作製および評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0044]凸面基板製造技術に関する開発
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0045]ALD-Al2O3のMEMSパッシベーションへの応用
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0046]高周波FETの特性評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0047]有機分子層へのSERS用Ag蒸着膜形成の研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0048]薄膜永久磁石駆動集積マイクロポンプの研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0049]シリコン製基板と樹脂との接合メカニズムに関する研究
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0050]a-IGZO層への絶縁膜並びに配線層の作製と電気的特性評価
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0051]TSV充填めっき技術における電気化学評価とめっき高速化の検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0052]ミリング装置を用いた素子作製検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0053]微細素子作製におけるイオンミリング装置の応用
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0054]電解磁性めっきにおける均一制御
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0055]狭ピッチプロ－ブの変形制御
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0056]金属薄膜のリフトオフ用・レジストパターン作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0057]水素終端ダイヤモンドのAl2O3の製膜およびその保護効果の検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0058]高濃度ボロンドープナノダイヤモンドを用いたP型透明伝導膜の作製
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0059]ナノインプリント・トポグラフィによる表面親疎水性動的変化増強の検討
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(登録なし)
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0060]伸縮可能なMEMSデバイスシートの検討
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0001]リッジ構造を持つ AlGaAs ダイオード素子の電気特性評価
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0002]有機金属気相成長法によるInP再成長埋め込み
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0003]磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0004]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0005]磁壁移動観察のためのデバイスの試作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0006]メタサーフェスの作製に向けたSi 基板を用いた電子ビーム露光とレジスト塗布
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0008]超伝導体を用いたハーフメタル・フルホイスラー合金薄膜のスピン分極率評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0009]プラズモニックカラーフィルタの開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0010] マイクロヒーターの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0011]光レクテナ用幾何学的ダイオードの微細金属パターン
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0013]ダイヤモンド薄膜の CVD 合成と分光評価
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F-IT-161 共焦点ラマン顕微鏡
F-IT-163 マイクロ波プラズマCVD装置
F-IT-164 クライオ共焦点顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0014]ダイヤモンド量子センサの研究
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F-IT-163 マイクロ波プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0015]SiO2とSiN薄膜の形成
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F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0016]３層レジストを用いた準ミリ波帯 GaN HEMT 用 EB 露光ゲートに関する研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0017]マイクロ流体デバイスを用いた微粒子変形能計測
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0019]トンネル結合調整可能な二重量子アンチドットの実現
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0020]化合物半導体上への誘電体膜パターン形成
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0021]無機材料ナノポアを用いた単鎖DNAシーケンサーの製作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0022]ガラス基板上に形成したナノ構造物の断面観察
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F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0023]BiSbトポロジカル絶縁体を用いたスピン軌道トルク磁気抵抗メモリ
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F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0024]トポロジカルハーフホイスラ合金のスピンホール効果に関する研究
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F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0025]InP 基板上の導波路光アイソレータに関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0026]ダイヤモンド中の NV センターの光学特性評価
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F-IT-164 クライオ共焦点顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0027]シリコンフォトニクス導波路に向けた電子線露光のレジスト形状のウエハ面内依存性検討
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0028]近赤外帯域で可視化されたバレー分極プラズモニックエッジモード
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0029]Si 基板上への正方形積層(Au/SiO2/Au)パッチの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0030]オンチップマイクロミキサの開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0031]電子ビーム露光によるSiNx メンブレンの表と裏両面への正方形Au パッチの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0032]光レクテナ用幾何学的ダイオードのための近接大面積電極
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0033]大面積ナノ粒子アレイの直接アセンブリ
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0034]学部学生実験 MOS 集積回路作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0035]コンタクトエピタキシャル技術を用いた集積型光非相反デバイスの研究
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F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0036]シリコンフォトニクスを用いたガスセンサに関する研究
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0037]アンドレーフ反射を応用したデバイス加工
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0038]高精度細胞マニピュレーションのためのマイクロ流路デバイスの設計開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0039]H2 Plasma を利用した石英ガラスの光学特性
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F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0040]磁気光学結晶-on-Insulator 基板の作製と磁気ナノフォトニクスへの応用
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F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0041]レクテナ用GaAs ショットキーダイオードの開発
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F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0042]縦型シリコンスピンデバイス作製のための基板接合技術の開発
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0043]高分子系高熱伝導コンポジットの開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0044]異常ホール効果測定へ向けた SiC 上グラフェンのエッチング
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F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0045]準ミリ波帯で動作する窒化物半導体トランジスタ増幅器の高耐圧・高出力化に関する研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0046]カーボンオニオンによる超精密研磨面の加工変質層評価
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F-IT-161 共焦点ラマン顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0047]磁性細線メモリーの原理検証素子試作
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0048]ナノホールアレイの形成
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0001]準ミリ波帯で動作する窒化物半導体トランジスタ増幅器の高耐圧・高出力化に関する研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0002]磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0003]量子ホール Y 接合における量子化された電荷分数化現象
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0004]InP:Si 埋め込みの試作
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0005]プラズモン増強蛍光の STEM-CL マッピング
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0006]AlGaAs 系半導体積層膜の劈開プロセス開発
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F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0007]液中分散非球形粒子の分離用マイクロ流路デバイスの開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0008]SiC 上エピタキシャルグラフェンの超伝導化
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0009]Evaluation of Spin Polarization of Half-metallic Full-Heusler Alloy Thin Films with Superconductor
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F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0010]マイクロヒーターの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0011]高精度細胞マニピュレーションのためのマイクロ流路デバイスの設計開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0012]Au 平板上における SiO2薄膜の形成
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0013]学部学生実験 MOS 集積回路作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0014]低環境負荷プロセスで作製したセラミックス材料のマイクロ構造観察
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F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0015]BiSb トポロジカル絶縁体を用いたスピン軌道トルク磁気抵抗メモリ
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F-IT-127 コンタクト光学露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0016]YPt 合金のスピンホール効果に関する研究
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F-IT-127 コンタクト光学露光装置
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0017]窒化シリコンメンブレン両面に正方形金属チップを配置した高屈折率低反射メタサーフェ スの電子ビーム露光による作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0018]オンチップマイクロミキサの開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0020]CVD 法により合成したダイヤモンドの評価
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F-IT-161 共焦点ラマン顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0021]Atomic Layer Deposition（ALD）による SiO2 成膜
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0022]GaN FinFET 製作のためのゲート絶縁膜堆積
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0023]バレープラズモニック結晶のバンド構造解析とエッジモードの観察
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0024]GaAs 上リフトオフプロセスにおける電子ビーム露光近接効果補正
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0025]ガラス上アンテナ作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0026]複雑な形状を有するマイクロ流路の製作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0027]プラズモニックカラーフィルタの開発
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F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0028]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0029]磁壁移動観察のためのデバイスの試作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0030]貴金属触媒エッチングを用いた縦型薄膜トランジスタの作製
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0001]黒リンをチャネルとした電気二重層トランジスタのための6端子作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0002]微小光学素子向け電子ビーム露光の大電流化による高速化に関する検討
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0003]スピン量子ビット実現に向けたIV族半導体量子ドットデバイスの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0004]プラズモニック結晶における局在モードと格子モードの混成
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0005]低環境負荷プロセスで作製した機能性材料の微細構造観察評価
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F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0006]複雑な形状を有するマイクロ流路の製作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0007]磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0008]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0009]ナノ構造スピンデバイスの試作に向けた電子ビーム露光装置で作製した位置合わせパターンのマスクレーザー露光機での検出及び位置合わせ技術の開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0010]コロイド型量子ドットとメタマテリアルの結合を用いた単一光子源の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0011]天文観測用の接合型Ge遠赤外線検出器の高感度化への挑戦
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F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0012]液中分散非球形粒子の分離用マイクロ流路デバイスの開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0013]CVD法によるSiO2薄膜の形成
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F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0014]全自動成膜・評価とベイズ最適化を融合した高Liイオン伝導薄膜の創製
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0015]微小光学素子向け電子ビーム露光のビーム電流と露光時間に関しての検討
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0016]トポロジカルプラズモンモードの電子線分光ナノイメージング
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0017]InP:Si 埋め込みの試作
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0018]シリコン基板上の磁性ガーネットの製膜に関する研究
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F-IT-153 スパッタ成膜装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0019]埋め込み MRAM に向けたスピン流源 BiSb の熱耐久性の向上
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F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0020]強磁性半導体(In,Fe)Sb ホールセンサーの出力改善
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F-IT-127 コンタクト光学露光装置
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0021]MnGa 垂直磁化膜を用いた横型スピンバルブデバイスの作製
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F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0022]高精度細胞マニピュレーションのためのマイクロ流路デバイスの設計開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0023] 準ミリ波帯で動作する窒化物半導体トランジスタ増幅器の高耐圧・高出力化に関する研究
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0024]学部学生実験MOS集積回路作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0025]電子線励起によるプラズモニックナノ構造の研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0026]微小量子アンチドットにおける電子輸送
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0027]マイクロダイヤモンドの座標特定のためのパターン形成
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0028]単分子接合の物性計測に向けた微細加工電極の作製
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F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0029]微小光学素子向け電子ビーム露光のレジスト厚膜化に関する検討
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0030]Atomic Layer Deposition（ALD）によるAl2O3成膜
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0031]マイクロ液滴並列形成用スリットデバイスの開発
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0032]Au平板上におけるSiO2薄膜の形成
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0033]半導体レーザーによるSiアニール装置開発
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F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0034]絶縁体上磁気光学結晶基板の作製と磁気ナノフォトニクスへの応用
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F-IT-142 基板貼付け装置
F-IT-143 ウェハ洗浄装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0036]窒化シリコンメンブレン両面への電子ビーム露光による高屈折率低反射メタサーフェスの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0037]InAsの塩酸エッチング
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0038]FIBエッチングを利用したスロット交差光導波路の製作
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F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0039]Zn2SiO4蛍光膜内包プラズモニック結晶の作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0040]InP系薄膜を用いた光電子集積回路に関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
F-IT-156 薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置
F-IT-157 フォトルミネッセンス測定装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0041]Si基板上への高屈折率低反射メタサーフェス構造の作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0042]光学回折素子のEB露光による作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0043]導波路光アイソレータを集積したInPリング共振器の研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
F-IT-156 薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置
F-IT-157 フォトルミネッセンス測定装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0044]光集積回路形成-結晶成長
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0046]超音速フリージェットPVD法を利用したSi導波層を有する磁気光学導波路の製作
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0047]磁壁移動観察のためのデバイスの試作
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0048]オンチップ光スキルミオン生成器の作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0049]FIB加工による電気化学STM探針の機械特性の向上
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F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0050]SiC基板のダイシング
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0001]量子ホールエッジチャネルにおける非熱的準安定状態
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0002]量子ホールエッジチャネルの弾道的ホットエレクトロン輸送
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0003]誘電体ナノ構造および貴金属ナノ構造の試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0004]マイクロ流路による高粘性溶液の混合・攪拌の検討
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0005]マイクロ流路デバイスによる液中分散粒子の分離
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0006]表面活性化接合による磁気光学導波路の開発
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F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0007]ナノスケールスピントランジスタにおけるスピン依存伝特
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F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0008]室温における安定なスキルミオンの発生
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F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0009]強磁性半導体を用いた高感度異常ホール効果磁気センサー
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F-IT-127 コンタクト光学露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0010]黒リンをチャンネルとした電気二重層トランジスタのための 6 端子作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0011]全自動成膜・評価とベイズ最適化を融合した高 Li イオン伝導薄膜の創製
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0012]Mn 添加 InAs/GaSb ヘテロ接合系における量子異常ホール効果に関する研究
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F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0013]N2 プラズマ活性化による AlN ウェハ接合に向けた検討
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-142 基板貼付け装置
F-IT-143 ウェハ洗浄装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0014]シリコンフォトニクスを用いた光アイソレータとセンサに関する研究
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0015]誘電体ナノ構造および貴金属ナノ構造のナノスケール光物性評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0016]高効率太陽電池に向けた化合物半導体／シリコン接合技術の開発
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0017]高スピン偏極率磁性層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0018]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0019]簡易型クロスポイント抵抗変化メモリの作製・評価
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0020]酸化ガリウム MOS フォトダイオードの検討
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0021]三角格子プラズモニック結晶のバンド構造解析
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0023]InP 系薄膜を用いた光電子集積回路に関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0024]光集積回路形成
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0025]シリコン基板上ショットキーバリアダイオード
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F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0026]黒リンをチャンネルとした電気二重層トランジスタ作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0027] 溶液作製した機能性セラミックス材料の微細構造観察
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F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0028]コロイド型量子ドットとメタマテリアルの結合を用いた単一光子源の開発
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F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0029]Ag∕Ta2O5/Pt 原子スイッチへの電気的接触の改善
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0030]InP/InGaAs薄膜の形成
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0031]単色磁気プラズモンの電子エネルギー分光
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0032]コンタクトエピタキシャル技術を用いた集積型光非相反デバイスの研究
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F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0033]シリコン細線プラズモン光導波路に関する研究
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0034]黒リンをチャンネルとした電気二重層トランジスタの輸送特性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0035]Ge 量子ドットデバイス作製に向けた EB レジストの条件出し
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0036]セラミックコーティングの CH4プラズマ腐食試験
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F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0037]ナノワイヤのその場変形 TEM 観察を行うための試料支持基板作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0038]分子トランジスタの動作速度評価
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0039]光集積回路形成-メサ基板上
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0042]ナノ構造スピンデバイスの試作に向けた電子ビーム露光装置で作製した位置合わせパターンのマスクレーザー露光機での検出及び位置合わせ技術の開発
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0043]微小光学素子向けプロセス技術に関する相談
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0044]Atomic Layer Deposition (ALD) によるSiO2,Al2O3成膜
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0045]局在プラズモンモードと格子モードの結合
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0046]Ge 量子ドットデバイス作製に向けた二層 EB レジストの条件出し
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0047]熱輻射制御に向けた高屈折率低反射メタサーフェスの作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0048]学生実験での集積回路作製のためのリソグラフィ技術
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0049]マスクレス露光機による AlN 導波路の作製と測定
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F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0001]微細金 2 層構造非相反光学素子の試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0002]低損失 Ga2O3トレンチ MOS 型ショットキーバリアダイオードの開発
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0003]原子閉じこめのための微細スリット形成
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0004]リフトオフプロセスによる光学素子の試作
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F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0005]金属ナノ構造近傍に作用する表面プラズモン光誘起力の定量測定
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0006]コロイド型量子ドットとメタマテリアルの結合を用いた単一光子源の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0007]集積型光非相反素子に関する研究
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F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0008]シリコンフォトニクスを用いた光アイソレータとセンサに関する研究
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-155 ダイシングソー
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0009]InP 基板上の導波路光アイソレータ
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0010]ナノスケールスピントランジスタにおけるスピン依存伝特性
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F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0011]BiSb を用いる磁化反転技術の研究開発
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F-IT-134 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0012]強磁性半導体を用いるスピンバイポーラトランジスタの作製とスピン依存伝導特性の評価
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0013]センサ応用
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0014]パワーデバイス応用
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0015]表面弾性波による二重量子ドットのラビ分裂
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0016]フォトコンダクティブスイッチによるエッジマグネトプラズモンの励起と検出
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0017]低環境負荷プロセスにより作製した機能性セラミックス材料の構造観察
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F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0018]基板貼り合わせ技術を用いた p 型ダイヤモンド/n 型 AlGaN ヘテロ構造深紫外発光素子
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-142 基板貼付け装置
F-IT-143 ウェハ洗浄装置
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0019]共鳴トンネルダイオードと伝送線路一体型アンテナの集積化
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-135 走査型電子顕微鏡
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0020]三角格子プラズモニック結晶のバンドギャップ
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0021]酸化ガリウム MIS フォトダイオードの検討
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0022]高屈折率低反射メタマテリアルを活用したアンテナの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0023]プラズモニック結晶中線欠陥の導波路分散
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0024]メタマテリアルアンテナの為の SOG を用いた低 tanδ 材料の貼付
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0025]シクロオレフィンポリマー基板両面への電子ビーム露光によるメタマテリアルアンテナ の作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0026]ウェハ接合による極性反転構造の作製
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-142 基板貼付け装置
F-IT-143 ウェハ洗浄装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0027]金属ナノ構造近傍に作用する表面プラズモン光誘起力の定量測定２
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0028]磁性ガーネット上への a-Si/SiNx 層の成膜
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F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0029]銅薄膜を用いたメタマテリアルアンテナの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0030]リフトオフプロセスの改善方法
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0031]液中分散粒子の分離用マイクロ流路デバイスの開発
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F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0032]共鳴トンネルダイオードとマイクロストリップ線路の結合
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-135 走査型電子顕微鏡
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0033]エッジマグネトプラズモンの二重ゲート型遅延回路
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0034]磁気光学材料を集積した光導波路の評価方法
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-17-IT-0035]シリコン基板上ショットキーバリアダイオード
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F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0001]微細金2層構造非相反光学素子の下層の２次試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0002]三角格子プラズモニック結晶のフルバンドギャップ
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0003]Fabrication of silicon photonic waveguides for optical assembly test
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0004]電子顕微鏡用ゾーンプレート作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-140 スパッタ成膜装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0005]光学素子の試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0006]II-V CMOS フォトニクスプラットフォームを用いた光電子集積回路に関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0007]Alを含む半導体層の酸化実験
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F-IT-152 化合物半導体光素子用酸化炉
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0008]プラズモニック線欠陥導波路の分散測定
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0009]Er,O 共添加 GaAs 基板上エピタキシャル構造でのアンダーカットエッチング
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0010]水素化アモルファスシリコン磁気光学導波路
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0011]新構造光素子向けプロセス技術の研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0012]シリコンフォトニクスを用いた方向性結合器と光アイソレータへの応用
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F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0013]集積型光非相反素子に関する研究
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F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0014]量子ホールエッジチャネルにおける電荷ダイナミクス研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0015]リフトオフプロセスによる光学素子の試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0016]フォトニック結晶作製
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F-IT-141 スパッタ成膜装置
F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0017]抵抗変化メモリのためのナノ電気配線
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0018]金リフトオフ法による電子顕微鏡用ゾーンプレート
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0019]六方配置微細ホールパターンの転写加工プロセスの開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0020]RTD 発振器作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0021]ナノスケールスピントランジスタにおけるスピン依存伝特性
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F-IT-151 触針式段差計
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0022]BiSb系トポロジカル絶縁体結晶成長とスピンホール効果評価
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F-IT-127 コンタクト光学露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0023]強磁性半導体p-n接合作製とスピン依存伝導特性評価
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0024]トレンチMOS構造を設けたGa2O3ショットキーバリアダイオード
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0025]ポリマー型取り用のSU-8パターン作製
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F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0026]プラズモニック線欠陥導波路のバンドギャップ
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0027]新構造シリコン量子ドットデバイスの開発
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F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0028]溶液プロセスで作製した試料の表面断面構造観察
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F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0029]シリコン基板上光デバイスの研究開発
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0030]アモルファスシリコン膜の形成
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0031]スピン注入に向けた InGaAs/InAlAs 半導体量子井戸の成膜
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0032]共鳴トンネルダイオードを用いるテラヘルツアクティブビームフォーマの基礎研究
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F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0033]InP 基板上の導波路光アイソレータ
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F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0034]a-Si/SiNx層を用いた磁気光学導波路の製作
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0035]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0036]AlInAs酸化層を用いた小型光アイソレータの製作
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0037]微細金2層構造非相反光学素子の上層の２次試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0038]局所量子ホール系における分数電荷準粒子のトンネル現象
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0039]電子線リソグラフィーを用いたレジストのナノ加工
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0040]Er,O 共添加 GaAs 基板上への電子線描画
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0041]抵抗変化メモリのための二層レジストを用いたナノ電気配線
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0042]周波数可変 RTD 発振器作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0043]ガラス板への金属薄膜の蒸着
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F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0044]スロット導波路を用いた集積型センサ・光アイソレータ
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F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0045]ALD によるアルミナ成膜
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0046]電子顕微鏡用ゾーンプレート作製時のサイズ依存性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0048]二つのシリコン層の間に挟ませた酸化シリコン層のウェットエッチング作業
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F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0049]RTD 発振器の周波数ばらつき測定
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0050]有機半導体レーザーの実現を目指した光共振器の作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0051]表面弾性波共振器中の二重量子ドットにおけるスピン反転フォオン支援トンネル
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0001]Study of the T-shaped Gate Head Dimension Influence for 90nm InAs HEMTs on InP Substrate Using E-beam Lithography
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0002]薄膜デバイスの金属電極形成
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0003]金属ナノギャップアンテナ構造の光学特性評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0004]90-nm EBL for manufacturable gate recess etching
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0005]ライン向け微細周期構造パターン描画の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0006]ハーフメタル強磁性ナノシートの異方性磁気抵抗効果の観測
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0007]Making test samples for optical assembly technology demonstration
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F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0008]InAs Quantum Well MOSFETs Performance Improvement by Using pre-AlN Passivation Layer and In-Situ PEALD Post Remote Plasma Treatment
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0009]2種類の 直径をもつ金属円柱のプラズモニック結晶
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0010]選択成長傘型構造ダイヤモンドにおけるNVセンタ発光強度の改善
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0011]半導体人工量子系における電子ダイナミクスの研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0012]Si基板上へのアルミナ堆積
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0013]III-V CMOSフォトニクスプラッームを用いた光電子集積回路に関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0014]Si基板上への絶縁物の堆積
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F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0015]Siチャネル・スピン輸送デバイス
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0016]InGaAs薄膜形成
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0017]半導体2次元素子へのスピン注入
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0018]回折格子の作製可能性検討
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0019]微細金2層構造非相反光学素子の下層の試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0020]六方配置ホール向け微細周期構造パターン描画の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0021]Si3N4基板裏面剥離
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F-IT-130 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0022]溶液プロセス作製膜の表面断面構造観察
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F-IT-135 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0023]水素化アモルファスシリコン磁気光学導波路
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0024]Waveguides fabrication on SOI
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0025]半導体人工量子系による朝永-ラッティンジャー流体の実験的研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0026]ナノスケールスピントランジスタにおけるスピン依存伝特性
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F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0027]GaAs オフ基板上への強磁性半導体(In,Fe)Asの結晶成長と磁気特性の評価
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F-IT-127 コンタクト光学露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0028]BiSb系トポロジカル絶縁体の結晶成長とスピンホール効果の評価
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F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0029]強磁性半導体p-n接合の作製とスピン依存伝導特性の評価
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F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0030]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0031]銀ドット配列中の線欠陥導波路
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0032]GaN系ナノ 構造作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0033]SiO2上金属微細パターンの作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0034]フォトニック結晶を用いた蛍光計測デバイスの開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0035]CVD-SiN の調査
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0036]近接六方配置ホール周期構造パターン描画の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0037]微細金2層構造非相反光学素子の上層の試作
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0038]電子顕微鏡用ゾーンプレートの作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0039]電子顕微鏡用デバイスの作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0040]GaNのキャリヤ濃度分布について
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0041]光パルス波形測定
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0042]ワイヤーグリッド式ビームスプリッター
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0043]GaAs薄膜上のフォトニック結晶パターン
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0001]薄膜デバイスの金属電極形成
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0002]2次元プラズモニック結晶のバンドギャップの表面形状依存性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0003]エッジマグネトプラズモンのMach-Zehnder 干渉計の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0004]金属ナノアンテナ構造の曲率がプラズモン共鳴波長におよぼす影響
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0005]EUV露光用レジスト及び周辺材料の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0006]Study of Tri-Gate In0.6Ga0.4As mHEMTs for Low-Power Logic Applications
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0007]半導体レーザに関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0008]光変調器に関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0009]ダイヤモンドFET
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F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0010]フラーレン含有ZEP520レジストによるEB露光プロセス
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0011]金属マークの形成
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0012]フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの 加速電圧変更時のEB露光での感度評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0013]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0014]フッ化グラフェン上のアルミナ膜の作製
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F-IT-148 原子層堆積装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0015]シリカzipper型光共振器を用いた光路変換応用の検討
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0016]金属ナノアンテナ構造に誘起されるプラズモン増強場の近接場イメージング
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0018]T-gate EBL for GaAs HEMT MMIC on 4” wafers
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0019]フッ化グラフェン上のアルミナ薄膜の電気的特性評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-134 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0020]絶縁樹脂上での微細銅配線形成
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0021]六方格子プラズモニック結晶のSTEM-CL法分析
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0022]化合物半導体を用いた新規の医療画像スキャナー用放射線計測システムの基礎開発
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F-IT-134 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0023]Study of Enhancement Mode In0.65Ga0.35As/InAs/In0.65Ga0.35As HEMTs using Au/Pt/Ti non-annealed Ohmic process for Low-Power Logic Applications
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0026]GaN/InGaNナノコラムLEDの保護膜
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0027]水素化アモルファスシリコン磁気光学導波路
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0028]選択成長法を用いた(111)ダイヤモンド微細構造の作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0029]Bow-tieナノアンテナの表面プラズモン由来の光学特性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0030]センサ用基板の裏面薄膜剥離
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F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0031]MEMSナノメータサイズ流路
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0032]温度無依存シリコンリング共振器の開発
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0033]精製フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの EB露光での感度評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0034]プラズモニックナノ共振器のモードエネルギーと放射の角度分布
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0035]フォトニック結晶を用いたDNA蛍光測定チップの作製プロセスの簡易化
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0036]X線用FZPの製作のためのレジストパターン形成プロセスの検討
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0037]選択成長法による(100)傘型ダイヤモンドマイクロ構造の作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0038]トポロジカル絶縁体を通したスピン注入およびスピン検出
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0039]Siチャネル・スピン輸送デバイスの試作
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F-IT-145 マスクレス露光装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0040]一次元電子系の非平衡状態のエネルギー分光
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0041]Effect of oxide quality on the DC Performance of InAs Quantum Well MOSFETs
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0042]半導体レーザ用誘電体膜の形成
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F-IT-149 プラズマCVD装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0043]スパッタ薄膜における堆積初期段階の評価
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0044]ALDによる誘電体薄膜形成
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0045]アリール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのEB露光での感度評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0046]X線用FZPの製作のためのSiNメンブレン上へのレジストパターンの形成
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0047]プラズモニックナノ共振器のSTEM-Cathodoluminescence(CL)法分析
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0048]Optimization of Gate Recess-etch Current for Device Performance
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0049]SiNメンブレン上へのレジストパターンの観察
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0050]Study of InGaAs Metamorphic HEMTs for Low Noise Amplifier Applications
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0051]合成法改良フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのEB露光での感度評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0001]ピンホールアレイの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0002]一次元プラズモニック結晶の表面プラズモンポラリトン
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0003]電子ビーム描画法の研究(III)
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0004]フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの EB 露光での感度評価
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0005]表面弾性波共振器中の二重量子ドットの輸送特性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0006]量子井戸 MOSFETs の DC/RF 特性に対するエピタキシャル構造の効果
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0007]Si基板上磁性体デバイス
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0008]メタ平面による平面フォトニクス
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0009]半導体レーザーに関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0010]光変調器に関する研究
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F-IT-144 有機金属気相成長装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0011]磁性ガーネット上に成膜された a-Si 導波層を有する光非相反素子の研究
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0012]1THz帯高検出能常温検出器技術の研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0013]結晶構造変化Quantum dotのバンド制御
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0014]金属ナノ構造近傍に作用する表面プラズモン光誘起力の定量測定
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0015]InAs 量子井戸 MOSFETs のヒステリシスのバイアス依存性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0016]フッ化グラフェンの非対称なキャリア輸送特性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0017]グラフェンチャネルの形成
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0018]テラヘルツ表面波伝搬のためのダイポールアレーの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0019]プラズモニックナノアンテナにおける局在表面プラズモン
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0020]電波望遠鏡応用に向けた低雑音HEMTs
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0021]Si基板上Ta2O5光導波路
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0022]Si基板上SiN光導波路
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0023]ダイアモンド JFET の微細加工
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0024]金属マークの作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0025]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0026]光導波路型マイクロフォン
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0027]ZnO LED の結晶性向上
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0028]W バンド MMIC 応用に向けた InxGa1-xAs メタモルフィック HEMTs の研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0029]パワーアンプ応用の為の In0.4Ga0.6As メタモルフィック HEMT の研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0030]薄膜デバイスの金属電極形成
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0031]フッ化グラフェンの磁気抵抗効果
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0032]プラズモニックキャビティからの光放射
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0033]ダイヤモンドMISFETの絶縁体に向けたアルミナ堆積
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0034]トップゲート型グラフェンMISFETの絶縁膜堆積
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F-IT-133 プラズマCVD 装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0035]ダイヤモンドPN接合の断面構造の解析
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F-IT-137 集束イオンビーム装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0036]BCBコーティング
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0037]フォトミキシング応用テラヘルツ帯アンテナ
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0038]横型フッ化グラフェン―グラフェンヘテロ構造の作製
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0039]低温・高周波応用の為のInAs HEMTsの研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0040]集積化エッジチャネルの熱輸送現象
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0041]高速・低電力論理応用の為のエンハンスメントモードInAs HEMTｓの研究
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0042]金属細線の形成 (t_ox=30 nm)
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0043]金属細線の形成 (t_ox=10/20 nm)
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0044]表面プラズモン光誘起力の金属ナノ構造ギャップ長依存性
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-136 触針式段差計
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0045]2次元プラズモニック結晶のバンド端定在波の可視化
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F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0001]極微細ナノインプリント用モールドの作製とデバイス応用
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0002]グラフェンの磁場中電気伝導における化学修飾効果
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0003]フラーレン誘導体ポジ型レジストのEB感度における保護基依存性
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0004]サブミリ波応用に向けた高い遮断周波数を持つInAs HEMTs
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0005]グラフェンホールバー素子の作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0006]一次元プラズモニック結晶の表面プラズモンポラリトン
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0007]方形チップ周期構造を有するテラヘルツ波帯人工誘電体レンズの作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0008]フッ化グラフェンFETの作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0009]III-V 族相補型回路のためのダブルヘテロ接合p 型QWFET
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0010]六方格子プラズモニック結晶からのバンド構造
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0011]プラズモニック結晶中cavityからの光放射
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0012]新規フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのEB感度評価
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0013]MOCVDによるInP基板上GaInAs結晶成長
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0014]PCVDによるSi基板上SiO2厚膜堆積
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0015]フッ化グラフェンFETの温度特性
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0016]量子ドットによる時間分解トンネル分光測定
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0017]1 THz帯高検出能常温検出器技術の研究
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0018]結晶構造変化Quantum dotのバンド制御
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0019]電子ビーム露光における近接効果補正の評価
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0020]プラズモニック結晶cavityからの光放射の構造依存性
|
(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0021]ダイヤモンドFETの為の微細加工
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0022]Auによるプラズモンアンテナ
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0023]強磁性半導体(Ga,Mn)Asナノバーの作製
|
(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0024]ZEPレジストを用いた電子ビーム複数階調描画 の研究
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0025]光学波面測定用ピンホールアレイの開発
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0026]イオン液体ゲート制御のフッ化グラフェンFETの作製
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0027]EBLによる光導波路側面揺らぎについて
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0028]W-band MMIC の為のInxGa1-xAs メタモルフィックHEMTs
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0029]グラフェン・電極コンタクトの電子輸送特性に対する酸素吸着効果
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0030]グラフェン抵抗変化型メモリの開発
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0031]金属ナノ構造近傍に作用する表面プラズモン光誘起力の定量測定
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0032]非局所配置法を用いたGaAsの純スピン流の検出
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0033]定量的なバイオセンシングを可能とする表面増強ラマン分光法(SERS)基板の開発
|
(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0034]フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの開発
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0035]HSQレジストを用いた電子ビーム複数階調描画 の研究
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(登録なし)
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0036]グラフェンの電子輸送特性に対する吸着酸素の磁気効果
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0001]マイクロデバイスの作製
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0002]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討
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F-NU-187 ナノインプリント装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0003]複合酸化物の成膜
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0004]新規表面活性化接合の開発
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F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0005]超高速オンチップ細胞操作技術のためのロボット統合型マイクロ流体チップに関する研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0006]ナノオーダーの周期構造を用いた光学素子作製に関する研究
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0007]薄膜表面形状の解析
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0008]光電子分光によるナノ空間材料の金属イオン収着特性評価
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0009]LNO基板上の強磁性/非磁性薄膜におけるスピン軌道トルクの評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0010]オンチップ局所環境制御による単一細胞の外部刺激応答特性の解明
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0011]ムーンショット型研究開発事業（目標３）「サイエンス探求マイクロロボットツール」
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0012]半導体質量計測装置に関する研究開発
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0013]ナノバイオデバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0014]プラズマ照射試料の表面観察
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0015]カーボンナノチューブの観察
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0016]フォトリソグラフィーによる小片基板へのパターン形成
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0017]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0018]半導体フォトカソードへの微細加工に関する研究
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F-NU-170 段差計
F-NU-224 マスクレス露光装置
F-NU-301 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0019]GaNのスパッタリング成膜及びプラズマエッチング手法の開発
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0020]FePtナノドットの磁化特性評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0021]磁性トポロジカル絶縁体の微小接合作製と評価
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0022]Unidirectional thermal conductivity enhancement in yttrium iron garnet due to the effect of spin waves
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0023]ウェアラブル機器搭載を見据えた超薄型熱輸送デバイスの開発研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0025]有機材料・ナノカーボン物質・強相関電子材料における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0026]アルミニウム微細加工表面に対するレーザーアブレーション力積方向特性の調査
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0027]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価
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F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0028]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0029]GaNマイクロLEDのためのInGaN/GaNナノディスク作製
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0030]磁性ナノ粒子の特性を活かしたマイクロバルブの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0031]新規高磁歪合金薄膜の作製とその磁気特性評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0032]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0033]高密度ラジカル源の機能性・信頼性に関わる要素技術開発及び評価
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0034]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0035]イオンエネルギー照射による多層薄膜の損傷調査
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0036]次世代ドライエッチング技術の開発
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0037]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0038]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発
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F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0039]プラズマ中の現状ラジカル解析
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0040]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0041]次世代材料のプラズマエッチングの開発
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0042]半導体電極開発
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0043]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0044]原子層デバイスの創製
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0045]ヘテロ接合半導体ダイオードの製作と評価
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0046]非空間反転対称磁性体の作製と新規スピン光機能の探索
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0047]高純度同位体シリコンエピ基板上の量子デバイス作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
F-NU-225 原子層体積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0048]マイクロギャップ電極の作製
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0049]Magnetic Measurement of the Chitosan-decorated Iron Oxide
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0050]イオン注入法によるシリサイド半導体への不純物のドーピング
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0051]蛍光金属酸化物ナノ粒子の超臨界水熱合成プロセスの開発
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F-NU-226 蛍光りん光分光光度計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0052]ナノホールアレイの形成
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0053]培養型プレ－ナーパッチクランプ装置の開発
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F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0054]導電性高分子デバイスの作製と評価
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0055]細胞および生体モデルを対象とした医療機器開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0056]マイクロロボットを用いた新しいドラッグデリバリーシステムに関する研究
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0057]露光検討
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F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0058]メタン合成の触媒研究
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0059]シリコン基板上における周期的金ナノ構造の作製と表面増強赤外分光法への応用
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0060]液化ジメチルエーテルによる藻類からの機能性マテリアルの抽出
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0061]湿式処理により蓮の葉構造をナノレベルで再現する安価な撥水処理技術の研究開発
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F-NU-150 走査型電子顕微鏡
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0062]Green-Synthesis of Iron Oxides-based Magnetic@Semiconductor Nanoparticles using Moringa Oleifera (MO) Extract, Investigation of their Microstructures and Magnetic properties, and their application for Photocatalyst and Biosensors.
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0063]フォトニックデバイスに関する研究
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F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-208 プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0064]フォトニック結晶構造を有するLEDの作製
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0065]固体飛跡検出における低速イオン検出性能の評価と低速イオンにおけるエネルギー損失メカニズム研究
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0066]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0067]含窒素有機共有結合構造体の熱分解による高活性酸素還元触媒の開発
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0068]GaNマイクロLED作製技術
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F-NU-167 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0069]エラストマー基板の表面改質
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0070]Electrochemical CO2 Reduction
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0071]高濃度オゾン反応による各種材料表面の状態変化調査
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0072]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作
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F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0073]廃棄系プラスチックから機能性材料への変換技術
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0074]X線回折によるめっき膜の結晶構造の解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0075]中性子偏極解析用鉄薄膜の膜厚解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0076]ビスマス置換希土類磁性ガーネットの磁気特性の評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0077]InP微細加工および電極形成
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F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0078]SEMによる材料内部組織観察手法の開発
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0079]線虫の走化性を利用したチャネルのためのパターニングマスク作製
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0080]ハイブリッド光検出器の光電膜の開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0081]表面処理したジルコニアの表面形状及び形態観察
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F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0082]レジスト材料の成膜、露光プロセスの品質確認
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F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0001]ナノオーダーの周期構造を用いた光学素子作製に関する研究
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0002]半導体フォトカソードへの微細加工に関する研究
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F-NU-167 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0003]スパッタ絶縁膜作製装置によるAlN, Al2O3成膜の検討
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F-NU-166 スパッタ絶縁膜作製装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0005]Si-Ge-Sn系薄膜熱電材料および素子の創製
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0006]非反転対称性磁性体の作製と新規スピン光機能の探索
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0007]マイクロレンズアレイ遮光膜の作成
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0008]ナノバイオデバイスの開発
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0009]アクリル樹脂基材上へのSiO2膜作製検討
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0010]GaNのスパッタリング成膜及びプラズマエッチング手法の開発
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0011]X線を用いた神経操作法の開発
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0012]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-187 ナノインプリント装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0013]Fabrication of micron Light Emitting Diode
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0014]窒化物半導体可視光センサの開発に関する研究
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0015]超小型速度・濃度計測用プローブの開発
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0016]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0017]トンネル接合の作製およびトポロジカル物質の評価
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F-NU-224 マスクレス露光装置
F-NU-225 原子層体積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0018]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0019]極薄酸化膜上への高密度ナノドットの一括形成と化学構造評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0020]Cs-K-SbによるGaAsのNEA活性化
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0021]高純度同位体シリコンエピ基板上の量子デバイス作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-225 原子層体積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0022]カーボンナノチューブスタンプの開発と応用
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0023]新規表面活性化接合の開発
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F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0024]超高速オンチップ細胞操作技術のためのロボット統合型マイクロ流体チップに関する研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0025]円筒形状を有する単一FeNiナノ磁性細線の構造と異方性磁気抵抗効果の相関解明
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0026]ニュートラル窒化処理を施したSUS304のX線回折パターンの測定
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0027]ペロブスカイト太陽電池の薄膜構造解析
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0028]フォトニックデバイスに関する研究
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0029]シリコン基板上における周期的金ナノ構造の作製と表面増強赤外分光法への応用
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0030]光共振器導入による高分子及び原子層レーザー素子の作製
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0031]Unidirectional thermal conductivity enhancement in yttrium iron garnet due to the effect of spin waves
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0032]ウェアラブル機器搭載を見据えた超薄型熱輸送デバイスの開発研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0033]Fabrication and evaluation of InAlN/GaN MIS-HEMTs
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F-NU-208 プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0034]コンビナトリアル手法による軟磁性合金の組織傾斜材料の作製とその測定
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0035]新規窒素含有ナノ炭素材料の合成
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0036]スピンペルチェ効果の原理解明に向けた高速熱特性計測
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0037]高効率緑色LEDに関する研究
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0038]AZO膜を用いたLow-Eガラスの日射熱取得率に関する研究
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0039]全血対応が可能な細胞分取装置による癌モニタリング
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0040]教育・評価のための眼科手術用リアル患者シミュレータの開発
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F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0041]オンチップ時空間制御による光合成細胞の環境応答機能の解明
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0042]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発
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F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0043]次世代材料のプラズマエッチングの開発
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-223 ラジカル注入型プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0044]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0045]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0046]高密度ラジカル源の機能性・信頼性に関わる要素技術開発及び評価
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0047]ナノグラフェンの研究
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F-NU-208 プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0048]各種材料の反応性プラズマのエッチング特性
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0049]次世代ドライエッチング技術の開発
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0050]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0051]プラズマ中の現状ラジカル解析
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0052]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0053]セラミックスナノコンポジット極小曲面の形成
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
F-NU-226 蛍光りん光分光光度計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0054]光応答性ブロック共重合体ナノ構造の配向制御と応用
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0055]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0056]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0057]イオン照射による多層薄膜の損傷調査
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0058]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0059]プラズマ合成した金属ナノ粒子を含有する複合高分子ファイバーの静電紡糸法による合成
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0060]歯の迅速結晶化
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0061]a-C PECVD膜の成膜過程および膜質決定メカニズム解明
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F-NU-223 ラジカル注入型プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0062]半導体電極開発
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0063]アルミニウム微細加工表面に対するレーザーアブレーション力積方向特性の調査
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0064]AFMおよびイオン電流計測の統合に基づく創薬標的イオンチャネル解析システムの開拓
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0065]大同オリジナルターゲットを用いた薄膜のエッチング性評価
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0066]飛翔体搭載用光学素子開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0067]細胞および生体モデルを対象とした医療機器開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0068]スパッタ洗浄による透過型LaB6光電面の量子効率の回復
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0069]遷移金属チオハライド層状結晶の新奇二次元物質の構造決定
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0070]BiドープSiにおけるスピンホール効果の光学的観測
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0072]半導体プロセス技術を活用した全固体電池の開発
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0073]眼科モデルの開発
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0074]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作
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F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0075]B4C/SiCコンポジットセラミックスのトライボロジー特性
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0076]有機電子材料・ナノカーボン物質・強相関電子材料における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
F-NU-226 蛍光りん光分光光度計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0077]X線回折によるアルミナ担持白金ｰスズナノ粒子の構造解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0078]グラフェン-基板界面構造の解析
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0079]半導体基板のアニール処理
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F-NU-151 電気炉
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0080]石炭熱分解時化学構造変化の解明
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0081]セラミックス微粒子で修飾された無機基材表面の微構造評価
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0082]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価
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F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0083]線虫の走化性を利用したチャネル作製
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0084]フェリ磁性体を用いた新規スピンデバイス
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0085]光電子分光を用いた有機エネルギー変換材料の電子状態解析
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0086]複合酸化物の成膜
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0001]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0002]スパッタ薄膜の耐久性改善
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0003]微細構造光学素子の作成
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0004]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0005]超臨界流体中でのPtエアロゲルの合成と燃料電池電極触媒への応用
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0006]暗黒物質探索用固体型飛跡検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン飛跡検出性能の評価
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0007]極小曲面をテンプレートとするナノ薄膜合成
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0008]省エネルギー社会の実現に資する次世代半導体研究開発
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0009]薄膜金属ガラスを用いた超小型高感度静電容量型圧力センサの研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0010]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0011]3d遷移金属添加AIN薄膜の結晶構造の解明
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0012]超小型速度・濃度計測用プローブの開発
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0013]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0014]高純度同位体シリコンエピ基板上の量子デバイス作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-225 原子層体積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0015]新規磁区測定手法開発のための金属磁性体薄膜の作成
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0016]樹脂表面の改質効果
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0017]微細加工表面での動的接触角決定機構の解明
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0018]ナノ―オーダーの周期構造を用いた光学素子の作製に関する研究
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0019]高分子材料及び二次元ナノ材料への光共振器導入とレーザー素子の作製
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0020]天文観測用の接合型Ge遠赤外線検出器の超薄層化・高感度化への挑戦
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-208 プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0021]新規表面活性化接合の開発
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0022]薄膜金属ガラス製ダイアフラム構造体の応力制御
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0023]カーボンナノチューブ膜へのパリレンコーティング
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F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0024]トンネル接合の作製およびカーボンナノ物質成長制御
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F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0025]真空紫外光を透過する透明高抵抗膜の開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0026]UV硬化型材料の性能評価
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F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0027]磁性/非磁性の多層構造を有する単一磁性ナノワイヤーにおける巨大磁気抵抗効果の観測
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0028]Study of the Synechocystis sp. PCC 6803 cells in response to environmental stress by using on chip space-time control
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-182 スプレーコーター一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-195 SEM用断面試料作製装置
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0029]新生児生体信号の非侵襲モニタリング
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0030]バイオニックヒューマノイドのシステム統合と眼球モデルの開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0031]CVD成長したWS2原子層を用いた高移動度デバイス作製法の開発
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0032]フェムト秒レーザによるサファイア極小径深穴開け加工の研究
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0033]微細加工技術を用いた細胞圧縮用マイクロデバイスの作製
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0034]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0035]電極開発
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0036]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0037]飛翔体搭載用素子開発
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0038]生体適合性向上を目指した機能性チタン表面の作製と評価
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0039]光励起誘電体ナノ構造の創る磁気増強場でのキラル核形成
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0040]窒化ガリウムパワーデバイスの作製プロセスおよびデバイス構造の研究
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F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0041]急速昇温熱処理によるシリコンウェーハ内部の欠陥形成挙動の調査
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F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0042]マイクロロボットの開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0043]窒化物半導体可視光センサの開発に関する研究
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0044]超臨界流体急速膨張法によるカロテノイドナノ粒子の調製
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0045]テンプレート熱分解法による多孔酸素窒素ドープ炭素材料の合成とスーパーキャパシター電極への応用
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0046]多次元・マルチスケール特異構造の作製と作製機構の解明
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0047]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0048]AZO膜を用いたLow-Eガラスの日射熱取得率
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0049]光応答性液晶側鎖およびアモルファス側鎖ランダム共重合体を用いたサブ10nmパターン形成
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0050]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0051]高密度ラジカル源の高信頼性化・高付加価値化のための要素技術開発及び評価
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0052]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発
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F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0053]高精度ガラスエッチングの開発
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0054]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0055]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0056]次世代ドライエッチング技術の開発
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0057]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0058]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0059]プラズマ中の原子状ラジカル解析
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0060]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0061]各種材料の反応性プラズマのエッチング特性
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0062]次世代材料のプラズマエッチングの開発
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0063]絶縁膜/ワイドギャップ半導体界面における欠陥評価および欠陥低減プロセスに関する研究
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0064]トップコート膜の作製
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F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0065]細胞および生体モデルを対象とした医療機器開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0066]半導体フォトカソードの微細加工に関する研究開発
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F-NU-224 マスクレス露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0067]Fabrication and Characterization of Gold (Au) & Bismuth (Bi) thin film, CoFeB-based GMR thin film
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0068]アクリル樹脂基材上へのSiO2膜作製検討
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0069]プラズマ処理した酸化物膜の表面分析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0070]ガラスマスクの作成
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0071]ガラス基板上の誘電体スラントグレーティングの作製
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0072]セラミックス微粒子を担持した金属・高分子基板表面の3次元形状測定
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0073]骨含有元素との合金化による生体適合性チタン合金の開発
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0074]食品廃棄物からの高付加価値物の回収
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0075]表面改質した炭素繊維の分析
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0076]シリコン光機能デバイスの試作
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0077]熱処理によるSiウェーハへの影響の調査
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F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0078]Ge基板上へのⅢ-V族化合物半導体薄膜の形成
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0079]強誘電体薄膜キャパシタ向け白金電極の作製と評価
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0080]Cu合金膜およびTi合金膜のエッチング性評価
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0081]半導体電極開発
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0082]酸化物型全固体リチウム二次電池に用いる集電体金属膜の作製
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0083]レーザーによる微細加工の研究
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0084]ダイヤモンド内部への変質線形成
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0085]パワーデバイス用GaN基板の評価
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0086]スパッタリング収率の結晶方位依存性
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0087]高効率LEDに関する研究
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0088]Unidirectional thermal conductivity enhancement in yttrium Iron garnet due to the effect of spin waves
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-166 スパッタ絶縁膜作製装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0089]コンビナトリアル手法による軟磁性合金の組織傾斜材料の作製とその測定
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0091]SiC上グラフェンの界面制御と化学結合状態分析
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0092]液中プラズマと超音波の併用によるナノグラフェンの合成
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0093]シリコン中のドーパントのアニールによる拡散評価
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F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0094]CFRTP/Al合金複合平板の接合強度評価
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0095]強磁性CoPtスパッタ膜の規則化
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0096]SiC結晶中の歪評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0097]ナノバイオデバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0099]Si赤外線受光素子に関する研究
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F-NU-208 プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0100]セラミック材料の耐プラズマ性の評価
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0101]Cs-K-SbによるGaAsのNEA活性化
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0102]ケイ素鋼板の磁気特性測定
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0103]非反転対称性磁性体の作製と新規スピン光機能の探索
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0104]ウェアラブル機器搭載を見据えた超薄型熱輸送デバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0001]極小曲面をテンプレートとするナノ薄膜合成
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0002]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0003]超臨界流体中でのPtエアロゲルの合成と燃料電池電極触媒への応用
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0004]微細構造光学素子の作成について
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0005]光・テラヘルツ波制御のための高機能メタマテリアルの提案
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0006]アクリル樹脂基材上へのSiO2膜作製検討
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0007]トンネル接合の作製およびカーボンナノ物質成長制御
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0008]ZnO:Al膜と銀膜による赤外線反射膜の作製
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0009]光学的観察のための金属フィルタの作製
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0010]微細加工を用いた細胞押付用マイクロ基板の作製
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0011]細胞培養環境の剛性が細胞機能に及ぼす影響の解明
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0012]Vapor-Liquid-Solid成長モードによる機能性酸化物ナノワイヤー成長に関する研究
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0013]フォトカソードのための半導体技術開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0014]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0015]SiC上グラフェンの界面制御と化学結合状態分析
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0016]有機電子材料・ナノカーボン物質における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0017]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-179 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0018]チタン/アモルファス炭素微細テクスチャーによる高骨形成能・骨接着性表面の創製
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0019]天文観測用の接合型Ge遠赤外線検出器の超薄層化・高感度化への挑戦
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0020]微細加工表面での動的接触角決定機構の解明
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0021]オンチップ時空間制御による光合成細胞の環境応答機能の解明
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F-NU-182 スプレーコーター一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-195 SEM用断面試料作製装置
F-NU-208 プラズマCVD装置
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0022]バイオニックヒューマノイドのシステム統合と眼球モデルの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0023]流体制御を基盤とする超高速・超精密単一細胞分取技術の開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0024]超高速オープンフローサイトメーター
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0025]シロイヌナズナの気孔開閉にかかわる細胞壁強度の測定
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0026]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0027]薄膜金属ガラスを用いた光学デバイスの開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0028]超小型速度・濃度計測用プローブの開発
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0029]GaNトランジスタを用いたマイクロ波無線電力伝送用ダイオードに関する研究
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0030]イットリア安定化ジルコニアセラミックのフラッシュ焼結挙動に及ぼす交流電場周波数依存性
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0031]高分子材料及び二次元ナノ材料への光共振器導入による発光デバイスの作製
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0032]ダイヤモンド内部への変質線形成
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0033]現像液添加剤による現像性の影響
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0034]シリコン量子ドット発電層の高品質化技術の開発と太陽電池構造の作製
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F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0035]樹脂表面の改質効果
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0036]パワーデバイスのプロセス技術検討
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F-NU-167 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0037]グラフェンデバイス開発
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0038]遅い不斉プラズモン場中でのカイラル結晶制御
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0039]有機ペロブスカイト太陽電池の薄膜構造解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0040]絶縁膜／GaN表界面の高感度電子状態計測と酸化膜界面設計の研究
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F-NU-205 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0042]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0043]テンプレート熱分解法による多孔質酸素窒素ドープ炭素材料の合成とスーパーキャパシター電極への応用
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0044]強誘電体薄膜キャパシタ向け白金電極の作製と評価
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0045]筆記用具表面粗さのスケッチに対する影響度評価
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0046]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0047]レーザーアブレーション面積および表面状態の計測
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0048]超臨界流体急速膨張法によるカロテノイドナノ粒子の調製
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0049]UV硬化型材料の性能評価
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F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0050]3次元凹凸構造の作製
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0051]GaN 系半導体・光電子デバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0052]微細加工を用いたバイオマイクロの研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0053]ESRによるヒト毛髪とラジカルに関する研究
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0054]各種材料の反応性プラズマのエッチング特性
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0055]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0056]次世代材料のプラズマエッチングの開発
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0057]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0058]プラズマ中の原子状ラジカル解析
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0059]切削加工に用いる工具と生成される切りくずの観察
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0060]Fabrication and Characterization of Au & Cr thin film, Magnetic Nanostructures
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0061]磁性/非磁性の多層構造を有する磁性ナノワイヤーにおける巨大磁気抵抗効果の観測
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0062]軟X線非線形効果の観測に向けた金属多層膜の作成
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F-NU-156 8元MBE装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0063]ラシュバ界面を持つ磁性二層膜の磁気光学特性評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0064]中性子ペンデル干渉法のための単結晶資料作成
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F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0065]PET及びPS表面の元素解析
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F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0066]各種ゴム製Oリングにおける水素プラズマ耐性の評価
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0067]飛翔体搭載用素子開発
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0068]反応性イオンエッチングを用いた焦点制御型回折レンズの作製
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0069]複合金属酸化物触媒及び固定化触媒のXPSによる金属価数評価
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0070]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0071]CoFeSiBアモルファス薄膜の耐熱性向上と磁歪評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0072]自動車排気ガス浄化フィルタの微細構造可視化
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0073]機能性分子薄膜の熱電物性評価用ナノスケール電極アレーの作製
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0074]ICP装置を用いたシリコン基板の深堀りエッチングによる集積型ナノ柱状構造の作製
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0075]複合高分子／不揮発性液体からなるゲル電解質を用いた色素増感太陽電池の作製
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0076]樹脂基板上へのAl膜スパッタリングにおける逆スパッタ処理の有用性検討
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0077]磁性規則合金薄膜の磁気特性評価
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0078]光応答性ブロック共重合体薄膜の配向制御と応用
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0079]CVD成長したWS2原子層を用いた高移動度デバイス作製法の開発
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0080]多結晶CVD-SiCの粒界分析
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0081]酸化合金触媒のメタン水蒸気改質反応への適応
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0082]シリコン/磁性体界面におけるスピン流‐電流変換現象の解明
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0083]GaN integration with amorphous substrates via silicon seed layers fabricated by aluminum-induced crystallization
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0084]微細加工を用いた細胞圧縮用マイクロデバイスの作製
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0085]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討
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F-NU-187 ナノインプリント装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0086]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0087]分子モーターを用いた回転アクチュエーターの作製
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0088]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール種依存性
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0089]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発
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F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0090]次世代ドライエッチング技術の開発
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0091]高密度ラジカル源の要素技術開発及び評価
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0092]プラズマ処理が炭素表面に及ぼす影響の調査
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F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0093]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0094]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0095]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0096]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0097]高精度ガラスエッチングの開発
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0098]非反転対称性磁性体の作製と新規スピン光機能の探索
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0100]単結晶および金属基板上REBa2Cu3O7薄膜の歪評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0101]銅配線メッキ膜の解析
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0102]有機高分子で被覆された磁性ナノ粒子の磁化測定
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0103]フェムト秒レーザによるサファイア極小径深穴開け加工の研究
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0001]ドナー・アクセプター分子ヘテロ接合構造体の光電変換過程に関する研究
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0002]超小型速度・濃度計測用プローブの開発
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0003]超低摩擦現象解明のための摩擦誘起表界面ナノ構造の分析
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0004]高クヌッセン数流れの総合的理解へ向けた計測手法の開発とその応用
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F-NU-170 段差計
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0005]感光性樹脂の研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0006]生物医学応用に向けた円盤状粒子の作製と評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0007]SiC上グラフェンの界面制御と化学結合状態分析
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0008]マイクロセンシングデバイスの開発
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0009]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0010]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0011]非線形光学効果を利用した還元焼結
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0012]光学的観察のための金属フィルタの作製
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0013]磁性薄膜の磁壁を利用したスピン散乱効果の検証
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F-NU-182 スプレーコーター一式
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0014]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0015]コンビナトリアル評価デバイスの研究開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0016]薄膜金属ガラスを用いた光学デバイスの開発
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0017]レーザ直接描画法によるマイクロデバイスの研究開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0018]高時間応答マイクロ壁面せん断応力センサの開発
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0019]ステンレス多孔体の表面改質
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0020]スパッタ法により形成した酸化薄膜の評価
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0021]シリコン量子ドット発電層の高品質化技術の開発と太陽電池構造の作製
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F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0022]微細加工表面での動的接触角決定機構の解明
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0023]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0024]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0025]シリカの炭素還元により生じるSiOガスを介したSiCナノ材料含有薄膜の合成
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0026]量子ナノ構造デバイスの研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0027]マイクロリアクタの作製
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-182 スプレーコーター一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0028]有機電子材料・ナノカーボン物質における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0029]高秩序ナノ構造体の創製と評価に関する研究
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0030]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0031]大気圧プラズマを用いたナノファイバー不織布膜の濾過性能の向上
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0032]エネルギー創成・貯蔵材料に関する研究
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-170 段差計
F-NU-218 透過型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0033]色素増感太陽電池用光学基板の作製
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0034]高成形性形状記憶合金のコンビナトリアル評価
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0035]薄膜金属ガラスを用いた超小型高感度静電容量型圧力センサの研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0036]高機能磁気センサデバイスの開発と評価
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0037]高効率磁化反転技術の開発
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F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0038]ダイヤモンドのレーザ内部変質加工
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0039]ポリイミド樹脂シートのマイクロ構造加工
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0040]高磁気異方性薄膜の磁化ダイナミクス測定
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0041]NiO薄膜の形成
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0042]細胞培養環境の剛性が細胞機能に及ぼす影響の解明
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0043]オンチップ細胞計測を基盤とする光合成細胞の外部刺激応答特性の解明
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0044]マルチ材料積層造形技術による心臓モデルの開発
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0045]流体制御を基盤とする超高速・超精密単一細胞分取技術の開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0046]バイオニックヒューマノイドのシステム統合と眼球モデルの開発
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F-NU-170 段差計
F-NU-186 光三次元造形装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0047]超高速オープンフローサイトメーター
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0048]光学式応力センサを搭載した生体模擬網膜モデルの開発
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0049]バイオニックヒューマノイドモデリングのための解剖構造モデリングと物性計測技術の開発
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0050]スフェロイドの機械特性ソーティングを基軸とした培養環境との機械的相互作用
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0051]GaNトランジスタを用いたマイクロ波無線電力伝送用ダイオードに関する研究
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0052]イオン注入Si基板を用いたシリサイド半導体/Siヘテロ構造の作製
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-151 電気炉
F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0053]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEB、レーザーによるフォトマスクの作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0054]高分子材料へのDFB型回折格子の導入によるレーザー発振
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0055]Siライン&スペース上へのSi量子ドットの高密度形成
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0056]プラズマ照射試料の表面観察
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0057]砒化亜鉛化合物新規磁性半導体の高品位薄膜成長とデバイス作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0058]亜臨界流体による微細藻類からの油脂抽出挙動の解明
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0059]ALD法を用いたGaN基板上Al2O3薄膜作製
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0060]カーボンナノチューブの結晶成長
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0061]パワーデバイスのプロセス技術検討
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0062]マイクロロボットの開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0063]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0064]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0065]ZnO:Al膜と銀膜による赤外線反射膜の作製
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0066]UFL-Hybridを用いた薄膜トランジスタ作成
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0067]強く捻れた光場中でのカイラル核形成による結晶カイラリティ制御
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0068]強磁性ナノワイヤーにおける磁壁電流駆動の観測
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0069]パワーデバイス用GaN基板の評価
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0070]切削加工による仕上げ面の観察
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0071]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0072]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発
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F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0073]グラフェンデバイス開発
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0074]次世代材料のプラズマエッチングの開発
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0075]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール種依存性
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0076]プラズマプロセスを用いた加工形状および気相・表面の評価
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F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0077]高精度ガラスエッチングの開発
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0078]大気圧プラズマの医療応用技術の開発に関する研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0079]高密度ラジカル源の用途拡張のための要素技術開発及び評価
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0080]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0081]次世代ドライエッチング技術の開発
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0082]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0083]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0084]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0085]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0086]微細構造体の作製
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0087]LSAT表面構造の制御とその解析
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0088]酸化物薄膜へのイオン挿入脱離による熱伝導率の変化を利用した熱スイッチ材料の提案
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F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0089]Fabrication and Characterization Au & Cr thin film, Magnetic Nanostructures
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0090]Chiral domain wall driven by current in the presence of external AC magnetic field in perpendicularly magnetized magnetic nanotracks
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0092]超薄型熱輸送デバイスの研究
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0093]洗浄成分ポリグリセリン脂肪酸エステルが角層ラメラ構造へ及ぼす影響
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0094]体内埋め込み微小電極に関する研究
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F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0095]軟X線非線形効果の実証実験に向けた金属多層膜の作成
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F-NU-164 分子線エピタキシー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0096]シリコンナノ粒子太陽電池に関する研究
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0097]半導体プロセス基礎実験
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F-NU-167 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0098]微細加工プロセスを利用した光学素子の作成
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0099]ESRによるヒト毛髪とラジカルに関する研究
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0100]反応性スパッタ膜の結晶構造解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0101]ラジカル支援RE-MOCVD法によるGaN系次世代半導体とデバイス開発
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0102]省エネルギー素子用大口径Si基板上高品質GaN成膜技術の開発
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0103]レーザーアブレーション面積の計測
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0104]微細加工を用いた細胞培養基盤の創出
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0105]有機ペロブスカイト太陽電池の薄膜構造解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0106]天文観測用の接合型Ge遠赤外線検出器の超薄層化・高感度化への挑戦
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F-NU-152 急速加熱処理装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0107]チタン/アモルファス炭素微細テクスチャーによる高骨形成能・骨接着性表面の創製
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0108]非空間反転対称磁性体の作製と新規スピン光機能の探索
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0109]強誘電体薄膜キャパシタ向け白金電極の作製と評価
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F-NU-179 レーザー描画装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0110]GaN選択成長用基板に向けたRIE加工
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0111]XPSによる燃料電池電極触媒の金属価数評価
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0112]酸処理したTiO2板の表面粗さの解析
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0113]オーステナイト系ステンレス鋼の不均一変形挙動に関する研究
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0114]GaN表界面の高感度電子状態計測と酸化膜界面設計の研究
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F-NU-205 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0115]表面処理をしたチタン板の薄膜X線回折装置での同定分析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0116]光応答性ブロック共重合体薄膜の配向制御と応用
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F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0117]極小曲面をテンプレートとするナノ薄膜合成
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0118]Al2O3/BN複合材料の微細組織と熱伝導率に関する研究
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0119]磁性多層膜の磁気光学特性評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0120]シリコンウェハの微細パターニング
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0121]バイオ燃料電池を搭載した超小型自己泳動マイクロロボットへの挑戦
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0122]3次元凹凸構造の作製
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0123]微細加工を用いた細胞押付用マイクロ基板の作製
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0124]ガラス上へのエッチング用マスク作製法の検討
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0125]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0126]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0127]ビスマスドープシリコンにおけるスピン流‐電流変換現象の解明
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0128]セルロースナノファイバー/リン酸カルシウム複合体の微細構造観察
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0129]光・テラヘルツ波制御のための高機能メタマテリアルの提案
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0130]AFMを用いたDNAとヒストンの凝集構造の観察
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0131]複合金属酸化物触媒及び固定化触媒のXPSによる金属価数評価
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0132]3d遷移金属添加AlN薄膜の結晶構造の解明
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0133]アクリル樹脂基材上へのSiO2膜作製検討
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-17-NU-0134]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の製作
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0001]赤外線天体観測用フォトニック結晶スーパーレンズの開発
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0002]光誘起非平衡状態の輸送現象の研究
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0003]VHF-DC重畳マグネトロンスパッタにおける膜の平坦性
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0004]蛍光性ナノ粒子を利用した深部高解像イメージング
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F-NU-216 原子間力顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0005]大気エアロゾル粒子中のラジカルの測定
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0006]GaN系半導体光・電子デバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0007]量子ナノ構造デバイスの研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0008]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0009]アルミニウム誘起成長法を利用したSi薄膜の作製
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0010]SiC基板上グラフェンの構造解析および化学結合状態分析
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0011]高秩序ナノ構造体の創製と評価に関する研究
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0012]高時間応答マイクロ壁面せん断応力センサの開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0013]電子線露光装置を用いた金属薄膜の作製
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F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0014]微小粒子分離デバイス作製
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F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0015]マイクロセンシングデバイスの開発
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0016]機能性磁性積層膜の開発と評価
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0017]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－分子・バイオCMOS融合デバイス実現に向けた電子ビームリソグラフィを用いた電極形成－
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0018]マイクロリアクタの作成
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-182 スプレーコーター一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0019]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0020]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0021]薄膜金属ガラスを用いた超小型高感度静電容量型圧力センサの研究
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0022]レーザ直接描画法によるマイクロデバイスの研究開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-195 SEM用断面試料作製装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0023]光学的観察のための金属フィルタの作製
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0024]非線形光学効果を利用した還元焼結
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0025]自己組織化を用いた3次元微細周期構造の作製
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0026]コンビナトリアル評価デバイスの研究開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0027]ナノカーボン物質の合成とデバイス作製
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0028]電流センサ用の超高精度・超小型GSRセンサに関する研究
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-182 スプレーコーター一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0029]Si基板上BaSi2太陽電池のバックサーフェイスフィールドの検討
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F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0030]有機単分子膜トランジスタにおける単分子膜内部構造の解明
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0031]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射による磁性制御とパターン形成
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0032]金属材料表面評価について
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0033]プラズマ照射試料の表面観察
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F-NU-150 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0034]高クヌッセン数流れの総合的理解へ向けた計測手法の開発
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F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-170 段差計
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0035]超臨界流体噴霧による天然有価物の貧溶媒晶析
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F-NU-150 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0036]有機ラジカル薄膜の分析
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0037]酸化物薄膜へのイオン挿入脱離による熱伝導率の変化を利用した熱スイッチ材料の提案
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F-NU-150 走査型電子顕微鏡
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0038]スパッタリングによる布帛へのAZO膜の成膜に関する研究
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0039]XPSによる燃料電池電極触媒の金属価数評価
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0040]能動鉗子の直感的操作可能な操作インタフェースの設計・試作
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F-NU-186 光三次元造形装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0041]分子薄膜の膜厚測定
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0042]白金薄膜抵抗温度計の作製と評価
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0043]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長およびデバイス作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0044]オンチップ細胞計測を基盤とする光合成細胞の外部刺激応答特性の解明
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F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0045]水晶振動式MEMSプローブを用いた卵細胞の非侵襲活性評価への挑戦
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0046]オープンチップを用いた超高速細胞分取システムの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0047]生体模倣眼球モデルの作製
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F-NU-170 段差計
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0048]バイオニックヒューマノイドモデリングのための解剖構造モデリングと物性計測技術の開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0049]トップダウン・ボトムアップ統合オンチップ細胞計測システム
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0050]立体造形による機能的な生体組織造形技術の開発
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F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0051]蓄電池代替、埋め込み超伝導蓄電コイル積層体の研究開発
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F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0052]蓄電池代替、埋め込み超伝導蓄電コイル積層体の研究開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0053]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0054]医用材料の微細形態と組成の分析
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F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0055]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0056]超低摩擦現象解明のための摩擦誘起表界面ナノ構造の分析
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0057]セラミックス材料のEBIC測定
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0058]感光性樹脂の研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0059]強く捻れた光場中でのキラル核形成による結晶キラリティ制御
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0060]SiC上グラフェンナノリボンの観察
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0061]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0062]Si-Ge系スーパーアトム構造のセルフアライン集積による光・電子物性制御
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-205 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0063]フォトカソード用半導体の技術開発と透過型電子顕微鏡観察への応用
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0064]人工衛星搭載磁性材料の形状磁気異方性トルクの計測
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0065]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0066]微細加工表面での動的接触角決定機構の解明
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0067]Ge系材料へのドーピング品質改善と評価に関する研究
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F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0068]フェムト秒レーザー加工によるテラヘルツ・メタサーフェスの作製
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0069]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0070]エピタキシャル磁気ヘテロ接合系における垂直磁気異方性の研究
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F-NU-164 分子線エピタキシー装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0071]Fabrication and Characterization of Magnetic Nanostructures
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0072]モデル生物を応用したマイクロ・ナノ操作技術に関する研究
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F-NU-170 段差計
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0073]繰返しレーザーアブレーションによる力積特性
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F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0074]マイクロロボットの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0075]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0076]シリカの炭素還元により生じるSiOガスを介したSiCナノ材料含有薄膜の合成
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0077]フェムト秒レーザー反応場において生成された微粒子の構造評価
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0078]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール種依存性
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0079]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発
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F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0080]ナノインプリント工法の検討
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F-NU-187 ナノインプリント装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0081]プラズマエッチング装置構成材料の開発
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0082]大気圧プラズマの医療応用技術の開発に関する研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0083]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究
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F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0084]高精度ガラスエッチングの開発
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0085]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0086]次世代材料のプラズマエッチングの開発
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0087]次世代ドライエッチング技術の開発
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0088]高密度ラジカル源の製品サイズに対するシリーズ化のための要素技術開発および評価
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0089]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0090]プラズマプロセスを用いた加工形状および気相・表面の評価
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F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0091]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0092]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0093]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0094]3次元レーザー・リソグラフィシステムを用いた超高アスペクト構造体の形成
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0095]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
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F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0096]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0097]IV族クラスレート膜の電子物性評価
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0098]超薄型フリースタンディングテラヘルツ半波長板の実現
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0099]有機ペロブスカイト太陽電池の薄膜構造解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0100]電子線位相微分法による燃料電池界面の観察
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0101]大気圧プラズマを用いたナノファイバー不織布膜の濾過性能の向上
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0102]NOxガス低減に向けた炭素材料の検討
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0103]出力光ファイバーと接続した導光板に密着させる太陽電池に関する研究
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F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0104]半導体のプロセス技術検討
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F-NU-167 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0105]有機電子材料・ナノカーボン物質における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0106]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0107]FeSiBNbアモルファス薄膜の軟磁気特性の評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0108]反応性スパッタ膜の結晶構造解析
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0109]電子ビーム露光を利用したNi微細凹凸パターンの作製
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0110]ニュートラル窒化処理によるオーステナイト系ステンレス鋼の表面改質
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0111]スパッタリングによるSi基板の反りに関する研究
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F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0112]ダイヤモンドのレーザ内部変質加工
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0113]Er,O共添加GaAsを用いた2次元フォトニック結晶点欠陥共振器の作製
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0114]グラフェンデバイス開発
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F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0115]熱間圧延サーマルクラウン蛇行の予測
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0116]パワーデバイス用GaN基板の結晶性評価
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0117]シリコン単結晶の方位確認
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0118]ESRによるヒト毛髪とラジカルに関する研究
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0119]ナノ粒子による基板上パタン形成の検討
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0120]JST先端計測分析技術・機器開発プログラム「高速1ショット観測を実現するフォトカソード電子源の開発」
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0121]高効率磁化反転技術の開発と評価
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0122]複合金属酸化物触媒及び固定化触媒のXPSによる金属価数評価
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0123]XPSによる酸化物表面固定化金属錯体の固定化量・金属価数評価
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0124]ステンレス多孔体の表面改質
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F-NU-221 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0125]高分子材料へのDFB型回折格子の導入によるレーザー発振
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0126]マイクロ多孔体内相変化素過程の解明とループヒートパイプ高熱流束化への応用
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0127]酸化物蛍光体の組成分析
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0128] ミリ波帯用GaN on Siトランジスタに関する研究
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0129]皮膚傷害の発症過程における皮膚接触力学の特性
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0001]MEMSデバイスの研究開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0002]レーザ直接描画法によるMEMSデバイスの研究開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0003]VHF-DC重畳マグトロンスパッタリングにおけるITO膜平坦性向上機構の検討
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0004]微粒子分離用マイクロ構造体の作製
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F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0005]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発
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F-NU-182 スプレーコーター一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0006]細胞アセンブリに関する研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0007]高クヌッセン数流れの総合的理解へ向けた研究
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F-NU-170 段差計
F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0008]モデル生物を応用したマイクロ・ナノ操作技術に関する研究
|
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0009]有機ラジカル薄膜の分析
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0010]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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F-NU-149 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0011]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0012]機能性磁性積層膜の開発と評価
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F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0013]マイクロセンシングデバイスの開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0014]高秩序ナノ構造体の創製と評価に関する研究
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0015]電子線露光装置を用いた金属薄膜の作製
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0016]マイクロリアクタの作成
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-182 スプレーコーター一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0017]テンプレート分子を用いたナノカーボン物質の超精密合成
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0018]アルミ誘起成長法を利用したSi薄膜の作製
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0019]プラズマ照射試料の表面構造観察
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0020]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証
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F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0021]人工衛星搭載磁性材料の形状磁気異方性トルクの計測
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0022]亜鉛電析に及ぼす電解液の流れの影響に関する研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0023]キラル金ナノ構造体により誘起されるねじれた光場中でのキラル結晶化制御
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0024]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－分子・バイオCMOS融合デバイス実現に向けた電子ビームリソグラフィを用いた電極形成－
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0025]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長と接合作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0026]超低摩擦現象解明のための摩擦誘起表界面ナノ構造の分析
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0027]スパッタリング収率の結晶方位依存性
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F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0028]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0029]感光性樹脂の研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0030]GSR sensor 素子の試作
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0031]IV族半導体-金属合金化反応制御による強磁性ナノドットの高密度形成と磁気的特性
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0032]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0033]楕円振動切削による金属金型の高能率鏡面仕上げ加工
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0034]CFRP熱伝導率測定のための試料製作
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0035]医用複合材料の微細形態と組成の分析
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F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0036]量子ナノ構造デバイスの研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0037]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究
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F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0038]有機電子材料における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0039]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究
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F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0040]マイクロロボットの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0041]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0042]プラナーパッチクランプ基板の開発
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F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0043]出力光ファイバーと接続した導光板に密着させる太陽電池に関する研究
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F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0044]パワーデバイスの作製
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F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0045]a-Si：Ｈ膜の成膜ガス利用効率の検討
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0046]灰付着による脱硝触媒の劣化機構の解明
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0047]超臨界流体を利用した貧溶媒化法による微粒子製造
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0048]Fabrication and Characterization of Metal Oxides Magnetic Nanostructures
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0049]微細加工とロボット技術を基盤とする細胞の機械特性計測
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0050]オンチップ細胞計測を基盤とする光合成細胞の外部刺激応答特性の解明
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0051]振動誘起流れによる非接触三軸姿勢制御を用いた卵細胞の非侵襲活性評価への挑戦
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0052]非侵襲生体センシング技術
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0053]オープンチップを用いた超高速細胞分取システムの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0054]がん細胞分離・濃縮バイオデバイスの技術開発
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0055]繋ぐ技術で拓く弾性型血管の創生とバイオニックシュミュレータ
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F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0056]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0057]ストライプ状鉄カーボン薄膜の熱処理による形態変化の観察
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0058]金属電極表面へのレーザー照射による多孔化
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0059]電子線露光装置における100nm以下微細パタンの形成特性の検討
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0060]Ge系材料へのドーピング品質改善と評価に関する研究
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F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0061]熱処理により形成させたLSAT表面ステップテラス構造のAFM観察
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0062]プラズマ処理によるフッ素樹脂の親水性表面改質
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-168 RIEエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0063]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0064]ナノ磁気センサを用いた磁性膜の観測
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0065]GeコアSi量子ドットにおける GeコアサイズがPL特性に及ぼす影響
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0066]微粉炭燃焼に及ぼす水素系ガス添加の影響
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0067]赤外線天体観測用フォトニック結晶スーパーレンズの開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0068]磁性細線メモリにおける高速動作に関する研究
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0069]フェムト秒レーザーによるガラス接合の検討
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0070]プラズマ用インジケータの開発
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F-NU-167 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0071]微細加工形状の評価
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F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0072]白金薄膜抵抗温度計の作製と評価
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0073]FeRh薄膜の静・動的温度変化XAFSによる研究II
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0074]蛍光性ナノ粒子を用いた深部高解像イメージング
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F-NU-220 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0075]XPSによるメタン燃焼用PdCoアルミナ触媒の構造解析
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F-NU-205 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0076]熱電薄膜発電デバイスの研究開発
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0077]Laser ablation spot area measurement
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F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0078]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEBレーザーによるフォトマスクの作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0079]ラシュバ型スピン軌道相互作用誘起のFe超薄膜の垂直磁気異方性の研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-164 分子線エピタキシー装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0080]SiC基板上グラフェンにおける化学状態分析
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F-NU-149 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0081]Molecular Recognition and Aggregation Control of Distributed DNA Nanorobots
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F-NU-216 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0082]Al/Epoxy間の濡れ性に及ぼす大気圧プラズマ処理の効果
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F-NU-149 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0083]キラル金ナノ構造体により誘起されるねじれた光場中でのキラル結晶化制御
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F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0084]Magnetic Sensor Fabrication
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F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0085]ロボット身体化に関する研究
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F-NU-186 光三次元造形装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0086]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0087]テラヘルツ波を応用した識別タグの開発
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F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0088]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射による磁性制御とパターン形成
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0089]有機薄膜トランジスタの開発
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F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0090]強磁性垂直磁化膜における人工微小欠陥導入とその磁化反転過程に関する研究
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0091]ガラス基板上へのAZO膜の成膜に関する研究
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0092]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール依存性
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0093]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0094]プラズマ医療創成に向けた大気圧プラズマ基本パラメータの解析
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0095]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0096]プラズマプロセス中の基板温度制御に関する研究
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0097]XPSによる燃料電池電極触媒の金属価数評価
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F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0098]プラズマ励起CVD法で成膜したアモルファスカーボン薄膜中の水素含有量の評価
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F-NU-206 フーリエ変換赤外分光分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0099]シリコン単結晶の疲労に関する研究
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F-NU-219 Deep Si Etcher
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0100]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0001]FeRh薄膜の静・動的温度変化XAFSによる研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-209 ダイシングソー装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0002]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射による磁性制御とパターン形成
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0003]薄膜材料の試作評価
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F-NU-149 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0004]プラズマ照射試料の表面構造観察
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0005]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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F-NU-149 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0006]マイクロリアクタの作成
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-182 スプレーコーター一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0007]MEMSデバイスの研究開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0008]工具用ダイヤモンド材料の高効率加工
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0009]機能性ナノワイヤの創製と性能評価に関する研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0010]GaAsを用いたマイクロ波AFMプローブの開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0011]機能性磁性積層膜の開発と評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0012]VHF-DCマグネトロンスパッタ装置の放電特性
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0013]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0014]IV族半導体-金属合金化反応制御による強磁性ナノドットの高密度形成と磁気的特性
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0015]医用複合材料の微細形態と組成の分析
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0016]プレーナーパッチクランプ基板製作
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0017]マイクロセンシングデバイスの開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0018]ナノバイオデバイスの開発
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F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0019]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0020]キラル金ナノ構造体により誘起されるねじれた光場中でのキラル結晶化制御
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0021]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－バイオCMOS融合デバイス実現のためのSEMを用いた電極観察－
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0022]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0023]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究
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F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0024]有機低次元電子系材料における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0025]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究
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F-NU-149 X線光電子分光装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0026]細胞アセンブリに関する研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0027]モデル生物を応用したマイクロ・ナノ操作技術に関する研究
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F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0028]Magnetoresistive Magnetic Field Sensor Fabrication
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0029]高クヌッセン数流れの計測手法の開発及び総合的理解へ向けた研究
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F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0030]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長と接合作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0031]量子ナノ構造デバイスの研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0032]有機薄膜ラジカルの分析
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0033]磁性薄膜の磁壁を利用したスピン散乱効果の検証
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0034]超臨界流体を利用した貧溶媒化法による微粒子製造
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0035]GaNナノワイヤー成長技術の開発
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0036]金属酸化物ナノロッドの構造解析とその電気的特性
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0037]ポリマーアロイの弾性率マッピング
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0038]テンプレート分子を用いたナノカーボン物質の超精密合成
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0039]有機非線形光学結晶のX線回折による構造評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0040]がん細胞分離・濃縮バイオデバイスの技術開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0041]オンチップロボティクスを基盤とする光合成細胞の機能計測
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0042]フロー式細胞力学パラメータ計測システムの構築
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F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0043]卵細胞の粘弾性の異方性を測る革新的マイクロロボットシステムへの挑戦
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0044]非侵襲生体センシング技術
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0045]細胞解析用マイクロデバイスの作製
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0046]繋ぐ技術で拓く弾性型血管の創生とバイオニックシュミュレータ
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F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0047]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0048]超低摩擦現象解明のための摩擦誘起表界面ナノ構造の分析
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F-NU-150 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0049]プラズマ照射済み環境下での細菌活性に関する研究
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F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0050]Ge系材料へのドーピング品質改善と評価に関する研究
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F-NU-152 急速加熱処理装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0051]X線・中性子回折格子干渉計のための光学素子の作製
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0052]機能性光学材料の開発
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0053]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカル生成
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0054]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカルの絶対密度計測
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0055]マイクロロボットの開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0056]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究
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F-NU-170 段差計
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0057]強誘電体薄膜の加熱処理
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F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0058]MEMS微細加工及びそれの医用応用に関する研究
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-160 エッチングプロセス一式
F-NU-197 金属スパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0059]MEMSセンサ及びそれの医用応用に関する研究
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-198 パリレンコータ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0060]プラズマインジケータの開発
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-167 ICPエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0061]パワーデバイスの作製
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F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0062]顎関節の器官構築に向けた三次元器官培養法の開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0063]磁性体を使ったホログラフィーによる3D画 像表示の研究
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0064]Fabrication and Characterization of CoFe2O4 and Fe3O4 Magnetic Nanostructures; Fabrication of GMR thin films
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0065]導電率傾斜機能材料を用いたGISスペーサの作製技術に関する研究
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F-NU-189 小型微細形状測定機一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0066]基板上のジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン層の膜厚測定
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0067]Si反転層におけるスピン輸送特性の解明
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0068]スピン波ロジック回路に向けた単結晶イットリウム鉄ガーネットの形成
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0069]印刷プロセスの開発
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F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0070]強磁性カイラル構造の磁気特性評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0071]EB蒸着膜の形成および密着性検討
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0072]アルミ誘起成長法を利用したSi薄膜の作製と固相エピタキシャル成長
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0073]フォトニックバンドギャップファイバーを用いた高エネルギーサブpsパルスの制御
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0074]多元スパッタを用いたスピンゼーベック素子の作製
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0075]細胞培養マイクロデバイスの開発
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F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0076]強酸環境を対象とした金属酸化被膜の開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0077]Magnetoresistive Magnetic Field Sensor Fabrication
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0078]モーター蛋白質で駆動するマイクロデバイスのためのマイクロ構造体の作製
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F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0079]ハーフメタル強磁性体を用いたグラニュラー型トンネル磁気抵抗薄膜の作製と評価
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F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0080]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証
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F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0081]ロックインサーモグラフィを用いた熱拡散率三次元分布測定法の開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0082]機能性ナノワイヤ面ファスナーの形状制御および性能評価に関する研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0083]CoPt基合金薄膜の時間分解磁気光学測定法による磁気緩和評価
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F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0084]プレーナーパッチクランプ基板製作
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F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0085]As保護膜を使用したCs/GaAs系半導体構造の特性評価
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F-NU-156 8元MBE装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0086]感光性樹脂の研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0087]ラジカル注入型源によるシリコン薄膜
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F-NU-177 60 MHz 励起プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0088]シリコン薄膜太陽電池の開発
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F-NU-177 60 MHz 励起プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0089]プラズマエッチング中のポリマー表面反応解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0090]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0091]プラズマ医療科学にかかわる生体材料表面ラジカル解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0092]食品衛生の大気圧プラズマ利用のラジカル解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0093]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するRFバイアス印加効果の解明
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-206 フーリエ変換赤外分光分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0094]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するRFバイアス周波数依存性の解明
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-206 フーリエ変換赤外分光分析装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0095]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するDCバイアス印加効果の解明
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0096]新規下層カーボン膜を用いたエッチングプロセスの開発
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F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0097]新規ガスによるエッチングプロセスの開発「新規ガス1の性能評価」
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F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0098]新規ガスによるエッチングプロセスの開発「新規ガス2の性能評価」
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F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0099]新規ガスによるエッチングプロセスの開発「新規ガス3の性能評価」
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F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0100]非接触ウェハ温度計測に関する研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0101]フォトレジスト表面ラフネス形成機構の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0102]太陽電池用微結晶シリコンの膜特性解析
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0103]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するRFバイアス周波数依存性の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0104]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するB2H6ガス添加効果の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0105]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するN2ガス添加の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0106]DC 重畳エッチング表面の解析
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0107]マイクロ放電装置による真空紫外発光量の計測
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0108]大気圧プラズマ放電によるラジカル生成量
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0109]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール依存性
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0110]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるヘキサン添加効果
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0111]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成における有機白金添加効果
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0112]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアイオノマーコート
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0113]大気圧ミストプラズマによる絶縁膜製膜におけるガス流量依存性
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0114]大気圧ミストプラズマによる絶縁膜製膜における原料種依存性
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0115]新規ガスによるエッチングプロセスの開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0116]新規プロセスガスを用いたエッチング特性の解析
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0117]亜鉛電析に及ぼす電解液の流れの影響に関する研究
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F-NU-209 ダイシングソー装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0001]エミッター開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0002]磁気記録用ビットパターンド媒体の研究
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F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0003]有機ラジカル薄膜の分析
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0004]医用複合材料の微細形態と組成の分析（体液模倣環境におけるリン酸カルシウムの生成）
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0005]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-150 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0006]神経細胞ネットワークの形成デバイス装置の微細加工 －光神経電子集積回路開発と機能解析・応用－
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0007]Pt系合金ナノドットの高密度形成
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0008]マイクロセンサの開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0009]繰返し圧縮応力によるシリコン単結晶中の欠陥形成と残存引張強度に関する研究
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0010]GaAsを用いたマイクロ波AFMプローブの開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0011]機能性ナノワイヤの創製と性能評価に関する研究
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0012]MEMSデバイスの研究開発
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F-NU-159 露光プロセス装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0013]がん細胞分離・濃縮バイオデバイスの技術開発
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0015]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発
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F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-147 反応性イオンエッチング装置
F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0016]オンチップロボティクスを基盤とする光合成細胞の機能計測
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0017]フロー式細胞力学パラメータ計測システムの構築
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F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0018]自己集積化による半導体ナノロッドの配列制御と光エネルギー変換への応用
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0019]プラズマ照射試料の表面損傷観察
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0020]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長と接合作製
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F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0021]金属酸化物ナノロッドの構造解析とその電気的特性（鉄酸化物ナノロッドの成長条件と構造解析）
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0022]マイクロリアクタの作製
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F-NU-145 マスクアライナ
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0023]超臨界流体噴霧による天然有価物の微粒子化
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0024]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0025]王水処理によるグラファイトシート表面の化学状態変化に関する研究
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0026]電子部品用機能性薄膜の開発
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0027]有機低次元電子系材料における新しい光・電子応答現象の探索
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0028]量子ナノ構造デバイスの研究
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F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0029]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－分子エレクトロニクスのための電子ビーム蒸着による電極形成－
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0030]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0031]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0032]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0033]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0034]マイクロロボットの開発
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F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0035]ガラス基板のドライエッチング性調査
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F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0036]Ｔｉ上のＣｕ微小構造物への細胞接着特性評価
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0037]スピン注入磁気メモリの研究
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F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0038]ブロック共重合体薄膜のミクロ相分離構造の配向制御に関する研究
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0039]超微粒子原子核乾板における方向感度を持った暗黒物質検出器としての検出器性能評価
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F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0040]ラジカル注入型プラズマ源によるシリコン薄膜
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F-NU-177 60 MHz 励起プラズマCVD装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0042]プラズマエッチング中のポリマー表面反応解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0043]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0044]プラズマ医療科学にかかわる生体材料表面ラジカル解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0045]食品衛生の大気圧プラズマ利用のラジカル解析
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0046]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するＲＦバイアス印加効果の解明
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F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0053]非接触ウェハ温度計測に関する研究
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0058]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するＮ２ガス添加効果の解明
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F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0060]マイクロ放電装置による真空紫外発光量の計測
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0061]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカル生成
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0062]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカルの絶対密度計測
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F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0064]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール依存性
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F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0072]Fabrication and Characterization of Iron Oxides-based Magnetic Nanostructures; Fabrication of GMR thin films
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-180 磁気特性評価システム群
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0074]セラミック薄膜のX線回折測定
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-162 レーザー描画装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0075]Ｆｅ薄膜の真空中加熱における凝集状態の把握
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F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-156 8元MBE装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0076]Ｘ線・中性子回折格子干渉計のための光学素子の作製
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F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-181 マスクアライナ群
F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0077]生体高分子解析のためのナノ構造体作製（マイクロ流体バイオセンサーによるDNAおよびタンパク質検出）
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F-NU-170 段差計
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0078]高速細胞特性計測
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F-NU-181 マスクアライナ群
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-193 電鋳装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0079]EB蒸着膜の形成および密着性検討
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F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0080]金属ナノ細線パターンの形成方法の探求
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F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0081]光造形法によるステントモデルの作製
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F-NU-186 光三次元造形装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0082]高次機能ナノプロセスに関する研究 －SiC溶液法による低密度ステップ構造の形成－
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F-NU-169 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0083]機能性光学材料の開発 [(3)表面ＡＦＭ観察]
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0084]有機非線形光学結晶のX線回折による構造評価
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F-NU-153 薄膜X線回折装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0085]大気圧プラズマを用いたバイオセンサに向けた表面処理の研究
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F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0086]VHF-DC重畳マグネトロンプラズマ中の高エネルギー負イオン計測
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F-NU-154 原子間力顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0087]癌細胞におけるHUVECネットワークへの浸潤評価
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F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0088]強磁性/反強磁性パターン媒体の研究および磁性細線の研究
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F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-148 イオン注入装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0089]平面基板タイプの超小型MIセンサ素子開発
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0090]ハイパボリック・メタマテリアルの作製
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F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0091]工具用ダイヤモンド材料の高効率加工
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F-NU-147 反応性イオンエッチング装置
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0092]トライアック故障の原因解析
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F-NU-150 走査型電子顕微鏡
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0093]モーター蛋白質で駆動するマイクロデバイスのためのマイクロ構造体の作製
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F-NU-181 マスクアライナ群
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0001]Fabrication and Characterization of CoFe2O4 and Fe3O4 Magnetic Nanoparticles; Fabrication of GMR Thin Film
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0003]高周波共鳴用金属蛇行パターンの製作
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0004]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0005]キューブ状ガラスビームスプリッターへのスリット形状転写
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0006]MEMSデバイスの研究開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0007]マイクロセンサの開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0008]GaAsを用いたAFMプローブの開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0009]シリコンMEMSの強度信頼性評価と疲労破壊機構の解明に関する研究
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0010]形彫放電加工機用2次元マイクロ加工電極形成技術開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0011]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0012]機能性ナノワイヤの創製と性能評価に関する研究
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0014]有機ラジカル薄膜の構造決定
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0015]SiC表面分解法によるカーボンナノチューブの構造制御
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0016]ブロック共重合体の設計とナノ構造形成に関する研究
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0017]金属ナノクラスター触媒の構造解析
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0018]光触媒の構造評価
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0019]リモート水素プラズマ支援によるCoPt合金ナノドットの高密度形成
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0020]超高速操作による細胞計測と自立誘導モニタリング
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0021]RTV615を使用した多層マイクロ流路作成
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0022]タングステン酸化物ナノロッドの構造解析
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0023]DNAハイドロゲルの金属化により金属フィルム創製と評価
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0024]超臨界流体噴霧による天然有価物の微粒子化
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0025]人工骨用無機／有機複合材料の表面構造解析
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0026]電池材料を指向したナノ構造炭素系材料等の形状・生成プロセスの解明
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0027]磁気記録用ビットパターンド媒体の研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0028]SEMによるHeイオン照射タングステン材の観察
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0029]高分子膜へのAl薄膜の真空蒸着
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0030]化合物系半導体量子井戸構造へのスピン注入に関する研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0031]化合物系半導体/酸化物半導体ナノワイヤ構造の評価に関する研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0032]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0033]極微細カーボンナノチューブデバイスの作製
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0034]ラジカル注入型プラズマ源によるシリコン薄膜
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0036]プラズマエッチング中のポリマー表面反応解析
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0037]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0039]食品衛生の大気圧プラズマ利用のラジカル解析
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0047]非接触ウェハ温度計測に関する研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0054]マイクロ放電装置による真空紫外発光量の計測
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0068]NEA表面を利用した伝導電子エネルギーの測定
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0069]GaAs(110)基板上へのCs/GaAs NEA表面の形成と評価および(001)基板との比較を通じたCs/GaAs表面構造の研究
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0070]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0071]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0072]グラフェンの合成とカーボンナノチューブ／金属接合特性の評価
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0073]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0074]1分子DNA解析ナノデバイス開発
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0075]高品位鉄砒素超伝導薄膜のMBE成長
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0076]超高分解能原子核乾板におけるイオン注入装置を用いた低速イオン飛跡における検出器性能評価
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(登録なし)
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0077]マイクロリアクタの作成
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0078]ヘリウム照射金属のナノ形状変化
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0001]微細加工技術による立体サンプル形成と高機能化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0002]ホイスラー合金薄膜から半導体へのスピン偏極電子の注入に関する研究
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F-TT-233 イオンミリング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0003]三次元微細加工に関する器具・設備類の開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0004]ナノカーボンの構造評価
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0005]半導体型CNTを使用したデバイス作製
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0006]水溶性ポリマーシートを用いた微細加工応用の工業化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-234 走査型電子顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0007]次世代太陽電池技術の開発のためのナノ材料とこれを利用した太陽電池の製作と分析
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0008]強磁性細線の磁壁構造の制御による電流磁壁駆動現象の効率化
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0009]両極性伝導体における無損失スピン流
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0010]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製③
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0012]溝形成ウエハへのパターニング
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0013]0402/0201サイズチップ部品のはんだ接合状態の観察
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F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0014]プラズマプリンティングのための円筒面の微細パターニング
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0017]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0018]磁気熱電発電効果に関する研究
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F-TT-235 ナノ物性測定用プローブ顕微鏡システム
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0019]パワエレ高周波磁気のための極薄多結晶鋼帯の試作
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0021]フォトレジスト材の検討
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0022]シリコン酸化膜上へのナノカーボンの直接合成
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-221 ラマン分光装置
F-TT-234 走査型電子顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0023]細胞培養マイクロシャーレの試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0024]GaNデバイスの研究開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0025]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製④
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0026]酸化物薄膜によるパッシベーションと蛍光
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0027]磁気光学材料への磁区パターン形成技術の研究
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F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0028]単層グラフェン上での強誘電性フィルムの作製
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0029]単結晶シリコンの疲労過程における結晶すべり進展の動的その場観察
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0030]光ニューラルネットワーク評価用フォトマスクパターンの作製
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0031]宇宙探査機用Volume binary (VB) gratingの製作法の開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-210 気相フッ酸エッチング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0032]天文学観測用Trapezoid gratingの製作法の開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0033]インプラント型バイオデバイス向け最小スペース壁面配線
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0034]スペーサ高さの精度確認
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F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0035]SOT書き込み細線を有する希土類細線中の電流誘起磁壁移動の観察
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F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0036]高品質還元酸化グラフェンの作製のための還元手法の最適化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0037]スチール缶再加工の質向上に向けた天板切断面の観察（Ⅱ）
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F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-234 走査型電子顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0039]微細加工技術によるレンズ曲面へのパター転写
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0040]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0041]電界・電荷による磁性ナノドットの磁化特性変調
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F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0042]PE-ALD-MgO 薄膜のカバレッジ特性とWet 除去性能
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0043]シリコン上のマイクロ流体チップの微細加工
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0044]ALD MgO成膜 プロセス開発
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0045]PID評価用ウェハ作製のためのガラスマスク作製
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0001]水溶性ポリマーを用いた微細加工応用の高度化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0002]磁性膜を利用したグアニン結晶の磁気アシスト法に関する研究
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0003]微細加工技術による立体サンプルの製作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0005]マイクロコイルの試作検討
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0006]ポリカーボネートへの成膜とパターニング加工
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0007]液体分析用センサ電極形成のための金属成膜
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F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0008]ナノカーボンの構造評価
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0009]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0010]カーボンナノチューブ成長基板上へのアルミナバッファー層の形成
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0011]GaN などの化合物半導体デバイスの研究開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0013]ナノカーボン材料を用いたバイオセンサーのための分子系の開発
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0014]三次元微細加工に関する器具・設備類の開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0015]反強磁性結合構造をもつ多層膜細線の磁壁構造に関する調査
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F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0016]インプラント型デバイスのための最小スペース微細配線技術
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F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0017]ターゲットを利用して作成した膜のエッチング試験
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0018]結晶系シリコン太陽電池への拡散ペーストの適合性評価
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0019]細胞培養に適した微細構造を持つSi基板の作製
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0020]スチール缶再加工の質向上にむけた天板切断面の観察
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F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0021]鏡面鋼材への微細構造の加工
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F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0022]MgZnO のALD 成膜
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0023]切削加工面性状の定量的評価
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0024]ホイスラー合金/半導体構造におけるスピン注入現象の観測
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F-TT-233 イオンミリング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0025]アミドアルコール誘導体を利用したW/O型乳化物の相同定
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0026]単結晶シリコンの疲労過程における結晶すべり進展の動的その場観察
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F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0027]スピントロニクスにおける次世代デバイスの開発
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0028]電流駆動磁壁移動を利用した全個体メモリに関する研究
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0029]プラズマプリンティングの微細化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-233 イオンミリング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0030]GaNウエハ上へのALDによるSiO2形成
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0031]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製②
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0032]フォトレジスト材の検討
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0033]天文学観測用Volume binary (VB) gratingの製作法の開発II
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0001]溝形成ウエハへのパターニング
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0002]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0003]微細加工技術による立体サンプル形成と高機能化（マイクロヒータの製作）
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0004]高輝度化された陽極酸化被膜型感圧塗料の応答特性評価
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F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0005]シリコンオプティカルベンチ用レジストプロセス
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0006]走査プローブ顕微鏡を用いた表面科学研究
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0007]カーボンナノチューブのパターニング合成による撥水基板の作製と制御
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0008]GaNなどの化合物半導体デバイスの研究開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0009]ナノカーボン材料を用いたバイオセンサーのための分子系の開発
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0010]両極性伝導体における無損失スピン流の発生と共鳴ホール効果
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0011]水溶性ポリマーの微細加工応用の高度化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0012]スピンエレクトロニクスの研究
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0013]CVDグラフェン単結晶を用いたゲルマネン合成
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F-TT-221 ラマン分光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0014]ナノカーボンの構造評価
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0015]多層グラフェンナノリボンの電気特性評価
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0016]塩ビ樹脂の劣化予測指標に関する研究
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0017]反強磁性結合構造をもつ強磁性細線の磁壁構造に関する調査
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F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0018]透明電極パターンの試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0019]サブミクロンパターンを持つ流路デバイス用マスクの作製
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0020]微細パターン加工
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0021]カーボンナノチューブ合成におけるシリコン酸化膜厚の影響
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F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0022]切削加工面性状の面品位の定量化
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0023]新半導体デバイスの熱処理
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0024]可視光型光触媒への応用を目指したCuドープZnSの作製と評価
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F-TT-232 絶対ＰＬ量子収率測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0025]第33回 半導体プロセス実習･講習会の受講
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0026]フォーミングガスアニールによるGaN-MOS界面の改質
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0027]鏡面鋼材への微細構造の加工
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0028]光学センサ応用を指向したナノインプリント用金型の作製
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0029]シリカガラス中のＰ周辺構造の探索
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0030]細胞に刺激を与えるためのマイクロ構造付き基板の試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0031]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究
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F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0032]磁性体の磁区構造観察
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F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0033]シリコン中のドーパントのアニールによる拡散評価
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0034]インプラント型デバイスのための最小スペース微細配線技術
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0035]透明電極パターンの試作
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0036]ALD膜の酸化状態に基板表面状態が及ぼす影響
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0037]撥水処理剤の応用検討
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0038]草本系バイオマスのガス化における共存ガスの影響
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0039]ゾルゲルガラスの膜厚測定
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F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0041]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(1)Ｘ線構造回析技術の習得」講習会の受講
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0042]Al2O3薄膜の形成
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0043]カー顕微鏡を用いた新奇窒化物スキルミオンの直接観測
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F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0044]マイクロコイルの試作検討
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0045]天文学観測用Volume binary (VB) gratingの製作法の開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0046]フォトリソグラフィーによる小片基板へのパターン形成
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F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0047]PDMSマイクロ流路作製体験コース
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0048]高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(2)赤外ラマン振動解析の基礎と応用講座の受講
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F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0049]細胞に電気刺激を与えるためのマイクロ電極対の試作
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0051]金属のプラズマエッチング
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-233 イオンミリング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0052]センサ電極形成のための金属成膜
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F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0053]磁性膜を利用したグアニン結晶の磁気アシスト法に関する研究
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0054]2019年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0056]プラズマ曝露に対するセラミック材料の耐性評価
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F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0057]新半導体材料の評価
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0058]ダイヤモンドNVセンター生成と計測
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F-TT-232 絶対ＰＬ量子収率測定装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0059]天文学観測用の新しい回析格子の製作法の開発Ⅲ
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0001]GaN表面洗浄に関する研究
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0002]水溶性ポリマーの微細加工応用の高度化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0003]GaNなど化合物半導体デバイスの研究開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0004]微細加工技術による立体サンプル形成と高機能化（マイクロヒータの製作）
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0005]自己組織化ナノ材料の選択的ドライエッチング及び表面構造観察
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0006]マイクロレンズアレイの試作加工の検証
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F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0007]センサ素子のための不純物イオン注入
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0008]反強磁性結合構造の磁壁構造に関する調査
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0009]ナノカーボン材料を用いたバイオセンサーのための分子系の開発
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0010]スピントロニクスの研究
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0011]両極性伝導体におけるスピン流の自律モード発生と共鳴ホール効果
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0012]電子線描画による流路デバイス用マスク作製
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0013]Al-Ti-N 薄膜サーミスタの形成
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0014]GaN 上へのSiO2 保護膜の成膜
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0015]ナノカーボンの構造評価
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0016]アルミ板表面微細加工による陽極酸化被膜型感圧塗料の高輝度化
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0017]天文学観測用の新しい回折格子の製作法の開発 II
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0018]カーボン材料の紫外光照射による構造変化の観察
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0019]熱絶縁性と機械強度を合わせ持つマイクロヒータの製作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0020]磁性ナノワイヤ用基板の絶縁膜の成膜
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F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0021]シリコン単結晶の疲労に関する研究
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F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0022]塩ビ樹脂の劣化予測に関する研究
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F-TT-221 ラマン分光装置
F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0023]MOD 法により作製した磁性ガーネットの光学特性
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F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0024]細胞培養用シリコンチップ型マイクロウェルデバイスの試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0025]MEMSプロセスに関する特別講義の受講
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0026]H30 年度 電子線描画リソグラフィスクールの実施
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0027]ポリオレフィンの結晶化挙動
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0028]シリコンへのリン拡散
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0029]第32 回 半導体プロセス実習･講習会の受講
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0030]テラヘルツ領域シングルショット超高速２次元イメージング
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0031]インプラント型デバイスのための最小スペース配線技術
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F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0032]カーボンナノチューブのパターニング合成による撥水基板の作製と制御
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0033]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(1) X線構造解析技術の習熟」講習会に参加して
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0034]重金属下部層を用いた希土類細線中の電流誘起磁壁移動の観察
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F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0035]シリコンオプティカルベンチ用レジストプロセス
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0036]ナノピラー付きマイクロ流路デバイス用パターン形成
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0037]光応答性近接ナノ構造の作製
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0038]Mg ドープGaN の活性化とオーミック電極の形成
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0039]スパッタ薄膜の耐久性評価
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0040]外場を用いたフェリ磁性体の磁気的性質の制御
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0041]シリカガラス中のP 周辺構造の探索
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0042]ナノホールパターン形成
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0043]溝形成ウエハへのパターニング
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0044]デジタルマイクロスコープを用いた亜鉛ウィスカの観察
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0045]磁性膜を利用したグアニン結晶の磁気アシスト法に関する研究
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0046]太陽電池に関する体験実験
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0047]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(2) 赤外ラマン振動解析の基礎と応用講座」に参加して
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F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0048]2018 年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0049]2018 年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0050]半導体ナノ粒子の応用
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0051]H30 年度 切削加工面性状の面品位の定量化
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0052]8.2m すばる望遠鏡のMOIRCS 用高分散グリズムの開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0053]2018 年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講
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F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0001]GaNショットキーダイオードの作製
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0002]水溶性ポリマーの微細加工応用の高度化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0003]シリカ膜のドライエッチング及び表面構造観察
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0004]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究
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F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0005]二次元物質をチャネルとしたFe-FET型不揮発性多値メモリデバイスの開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0006]Siライン&スペース上へのSi量子ドットの高密度形成
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0007]マイクロ流路デバイスの作製
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0008]磁性ナノワイヤの絶縁膜の成膜
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0009]陽極酸化被膜型感圧塗料の高輝度化
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0010]走査プローブ顕微鏡による表面ナノ構造の計測
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0011]光計測用MEMSデバイスの試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0012]MOSFETの作製
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0013]コーティング炭素薄膜の紫外光による表面劣化の観察
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0014]GaNなど化合物半導体デバイスの研究開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0015]ナノカーボンおよび2次元材料の合成に関する研究
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0016]深紫外分光用マイクロ流路
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0017]マイクロデバイス電極と金属コンタクトの改良
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0018]磁気結合した「強磁性体/非磁性体/強磁性体」構造細線上の磁壁の電流駆動実験
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0019]トリアジンチオール処理の膜厚計測
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0020]Al-Ti -N薄膜サーミスタの形成
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0021]ナノカーボンの構造評価
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0022]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証
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F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0023]微細加工によるハイブリッド電気回路基板の試作
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0024]最小スペース配線技術の生物埋込センサ応用
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0025]細胞培養マイクロウェルデバイスの試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0026]天文学観測用の新しい回折格子の製作法の開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0027]次世代太陽電池技術開発
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0028]複数の重金属界面層を用いた希土類細線中の電流誘起磁壁移動の観察
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F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0029]微細パターンが接着細胞に与える影響の解明
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0030]平成29年度 リソグラフィ・微細加工 実習・講習会の受講
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0031]垂直磁化膜作製に関する技術相談
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0032]第31回 半導体プロセス実習･講習会の受講
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-226 シート抵抗測定器
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0033]窒化物半導体ナノ構造の結晶成長メカニズムの検討
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0034]両極性伝導体YH2におけるスピン流の自律モード発生と共鳴ホール効果
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0035]乳化系クリームのX線散乱測定に基づく構造解析
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0036]シリコン単結晶の疲労に関する研究
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0037]外場を用いたフェリ磁性体の磁気的性質の制御
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F-TT-223 多機能薄膜作製装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0038]熱・乾燥影響下にあるセメントペーストの中性化の評価
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0039]光反射特性測定のための微小回転プレート
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0040]ディンプル付き酸化膜付き基板の試作
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0041]赤外域におけるシリコン基材の低反射化
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0042]GaAs/AlAs超格子の形成
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F-TT-199 分子線エピタキシー装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0043]シリコン単結晶の疲労に関する研究
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F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0044]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(1) X線構造解析技術の習熟」講習会を受講して
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0045]フォトリソグラフィ・微細加工の実習
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F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0046]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(2) 赤外ラマン振動解析の基礎と応用講座」講習会を受講して
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F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0047]8.2mすばる望遠鏡のnuMOIRCS用エシェル・グリズムの開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0048]ナノカーボン材料を用いたバイオセンサーのための分子系の開発
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0049]位置選択的ポリ（３－アルキルチオフェン）の結晶構造解析
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-17-TT-0050]シリコンウェハの深堀加工
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0001]Siナノコンタクト作製プロセスの検討
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0002]プローブ顕微鏡を用いた表面科学計測およびナノ構造作製
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0003]ポリマー材料のドライエッチング
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0004]錠剤成分のラマンイメージング
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0005]水溶性ポリマーの微細加工応用
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0006]マイクロプラズマ源の開発
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0007]マイクロねじり振動子の開発
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0008]走査型プローブ顕微鏡によるナノ構造観察
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0009]MOSFETの作製
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0010]シリコン単結晶の疲労に関する研究
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0011]単色光用光電変換素子の作製
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0012]強磁性微小細線中のバブル磁区に対する電流印加実験
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0013]セラミックスの熱膨張率測定
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0014]MEMSインターフェイスを介したバイオサンプルへの大気圧プラズマ処理(II)
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0015]ガス封止型真空紫外プラズマ光源
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0016]超高精度・超小型磁気センサ素子の研究開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0017]高アスペクト比のVolume binary回折格子用シリコンの鋳型の開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0018]材料評価用ナノギャップ電極形成
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0019]カーボンナノチューブ成長における技術相談
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0020]微細加工によるハイブリッド回路基板の試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0021]加熱雰囲気制御下での赤外分光
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0022]シリカ膜のドライエッチング処理
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0023]酸化シリコン基板を用いた新材料開発
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0024]ALD法による金属酸化物薄膜の被覆
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0025]GaNなど化合物半導体デバイスの研究開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0026]二次元物質をチャネルとした強誘電体ゲート電界効果トランジスタの創出
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F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0027]外場を用いたフェリ磁性体の磁気的性質の制御
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0028]生物埋込センサのための最小スペース配線技術
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0029]Poly(butylene adipate)のβ-α結晶相転移の再検討
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0030]ポリイミドヒータの製作
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0031]界面特性評価用テストデバイスのための不純物導入方法・条件の検討
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0032]界面特性評価用テストデバイスの作製プロセスの検討
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0033]薄膜へテロ構造における磁気光学効果とスピン軌道相互作用の相関に関する研究
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F-TT-231 磁気光学効果測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0034]ナノカーボンの構造評価
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0035]マイクロヒータを利用する赤外光源のための波長選択格子
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0036]磁性細線用基板の絶縁膜の成膜
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0037]原子間力顕微鏡によるt-aC上深紫外光照射損傷部の雰囲気依存観察
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0038]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0039]第30回 半導体プロセス実習･講習会の受講
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-226 シート抵抗測定器
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0040]GaNショットキーダイオードの作製
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F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0041]マイクロ流路デバイスとレーザー捕捉による微量分析
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0042]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0043]グラフェン上への電極作製
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0044]Siライン&スペース上へのSi量子ドットの高密度形成
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0045]ステンレス板への耐熱微細マスク形成
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0046]セラミックス材への微小電極形成
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0047]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0048]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証
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F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0049]分子レベルでの構造制御に基づく再生可能資源としての高タフネスシルク素材の創成
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F-TT-219 多目的X線回折装置
F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0050]MEMSデバイスに向けたCuSn薄膜によるウエハレベル真空封止接合評価
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0051]フォトリソグラフィ・微細加工の実習
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F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0052]センサ・MEMS実践セミナー 実習コースの受講
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0053]Boschプロセスおよびシリコン酸化による新しい回折格子の製作法の開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0001]ラマン分光を用いた非破壊加工ダメージ評価
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0002]FeRh薄膜の温度変化X線回折
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0003]強磁性微小細線中のバブル磁区の電流駆動に関する実験
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0004]単色光用光電変換素子の作製
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0005]カーボンナノウォールの物性と応用
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F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0006]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0007]t-aCのアルゴンガス中での深紫外光照射損傷の観察
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0008]表面ナノ構造の構築および走査ﾌﾟﾛｰﾌﾞ法を用いた科学計測
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0009]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0010]CNTナノプローブの用途開発
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F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0011]圧粉磁心の磁区構造解析Ⅱ
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F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0012]MEMSインターフェイスを利用したバイオサンプルへの大気圧プラズマ照射
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0013]化合物半導体デバイスの研究開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0014]劈開グラファイトの微細構造観察
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F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0015]マイクロプラズマ源の開発
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0016]マイクロねじり振動子の開発
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0017]磁性ナノワイヤ用基板の絶縁膜の成膜
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F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0018]生物埋込センサのための素子配線基礎技術
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0019]ガス封止型真空紫外プラズマ光源
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F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0020]3軸磁場計測のための超小型MIセンサ素子の研究開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0021]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究
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F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0022]微細加工によるハイブリッド回路基板の試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0023]フィルム状フォトレジストの微細加工応用
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0024]材料評価用ナノギャップ電極形成
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0025]シリコン基板上へのパターン加工付きＳｉＯ2マスク作製
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0026]n型結晶Si太陽電池の電気特性に対するAg/Alペースト中のガラスフリットの効果
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0027]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0028]磁性材料の局所構造解析および磁気特性との相関解析
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0029]深い溝の回折格子の試作
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0030]波長選択赤外光源のための表面プラズモン励起用格子の製作
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0031]外場を用いたフェリ磁性体の補償温度・磁気異方性制御
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0032]センサ素子のための不純物イオン注入
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0033]フォトリソグラフィ・微細加工 実習・講習会の受講
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0034]ミラーの動的変形量の計測
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0035]ナノファイバー状芳香族ポリアミドと溶媒との分子間相互作用の解明
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F-TT-219 多目的X線回折装置
F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0036]強磁性体薄膜における磁壁内のスピンブロッホラインの直接観測
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F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0037]太陽電池用Siウエハの光閉じ込め構造の検討
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0038]広角X線回折と赤外分光法によるポリアクリルニトリルの結晶構造転移に関する研究
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0039]シリコン単結晶の疲労に関する研究
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0040]当社開発のバリ取りツール使用前後における金属表面の微細構造観察
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F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0041]AlGaNを用いた深紫外発光素子およびパワーFETの作製
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0042]スピン偏極キャリヤを利用する排他的論理和ゲートの作製
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0043]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0044]AlGaNヘテロ接合トランジスタの研究開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0045]窒化物半導体ナノ構造の結晶成長メカニズムの検討
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0046]薄膜型マイクロヒータの赤外線光源応用
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0047]極低雑音超伝導パラメトリック増幅器開発に向けた窒化ニオブチタン薄膜コプレーナ線路の作製
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0048]フォトリソグラフィ・微細加工の実習
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0049]Quasi-Bragg grating用ミラー基板の裏面の精密エンボス加工
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0001]両面受光n型結晶Si太陽電池の電気特性に対するAg/Alペースト中のガラスフリットの影響
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0002]シリコン単結晶のドライエッチング速度に関する基礎検討
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0003]プローブ顕微鏡による表面科学計測
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0004]シリコンマイクロ構造体の破壊と疲労に関する研究
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0005]ポリビニルアルコール水溶性フィルムの構造解析
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F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0006]フォトニック・テクスチャダブル構造を利用した太陽電池開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0007]ラマン分光による評価技術開発
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0008]微傾斜SiC表面のステップテラス構造の観察
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0009]MEMSノズルを利用したバイオサンプルへの大気圧プラズマ照射
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0010]金属微粒子の幾何学的構造と光学物性の微視的解析
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0011]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0012]グラフェンの走査トンネル顕微鏡観察が微傾斜SiCの表面上に成長させた
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0013]ＣＮＴナノプローブの用途開発
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0014]準静条件下で育成された高品質結晶の表面微細構造の実験的検証
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F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0015]磁性ナノワイヤ形成用電子線描画基板の作製
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0016]磁性ナノワイヤ形成用電子線描画基板の作製
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0017]磁性ナノワイヤ用基板のAFM表面凹凸観察
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0018]カンチレバー酸化によるTERS探針開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0019]SiC基板 エッジ面取り後の加工ダメージの測定
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0020]MEMS 犠牲層エッチングのためのプラズマレスSi ケミカルドライエッチング装置の開発
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0021]アップコンバージョン蛍光体の光学特性評価
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0022]強磁性微小細線中のバブル磁区の電流駆動に関する実験
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F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0023]ポリマーの結晶化ならびに破断現象に及ぼす溶媒浸漬・超音波照射効果の検討
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F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0024]省動力動作で高温が得られる薄膜型マイクロヒータの開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0025]マスクレス露光装置の限界解像度調査
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0026]カーボンナノウォールの物性と応用
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F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0027]深い溝の回折格子の試作
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0028]立体規則性ポリノルボルネンの結晶構造解析
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0029]PDMS結晶における連続構造変化の解明
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0030]スピン偏極キャリヤを利用する排他的論理和ゲートの作製
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0031]MoS2の結晶方位決定
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F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0032]材料評価のためのナノギャップ電極形成
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0033]結晶シリコンの電気的特性のテクスチャサイズ依存性の評価
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0034]平面基板タイプ超小型MIセンサ素子と3軸磁場計測検討
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0035]細胞培養に向けたマイクロ流路デバイスの試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0036]低エネルギー損失振動型MEMSデバイスの試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0037]PP/PE芯鞘繊維の微細構造
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0038]結晶基板材料のナノレベル構造解析と最適加工技術
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F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0039]PZT薄膜のサブミクロンパターン形成
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0040]シリコン深堀エッチング
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F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0041]マスクレス露光装置を用いたTEG作製
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F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0042]熱物性評価に向けたナノ半導体架橋構造の作製
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-210 気相フッ酸エッチング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0043]リチウムイオン電池用シリコン活物質および集電体の構造調査
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0044]単色光用光電変換素子の作製
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0045]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製
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F-TT-221 ラマン分光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0046]外場を用いたフェリ磁性体の補償温度の制御
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0047]二軸延伸ポリ乳酸試料の力学、熱物性と構造との関わり解明
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F-TT-219 多目的X線回折装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0048]AlGaN系深紫外発光素子の作製
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0049]圧粉磁心の磁区構造解析
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F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0050]ナノファイバー状芳香族ポリアミドの相転移挙動の解明
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F-TT-219 多目的X線回折装置
F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0051]量子ドットを用いた共鳴トンネルダイオードの構築
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0052]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証
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F-TT-224 マスクレス露光装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0053]GaAs(001)基板上におけるInSb薄膜のヘテロエピタキシャル成長
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F-TT-199 分子線エピタキシー装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0001]ラマン装置内部LED 白色光源を使用した反射光による短時間評価技術開発
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F-TT-221 ラマン分光装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0002]シリコン深堀エッチング
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F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0003]金属ナノ細線パターンの作製
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0004]カーボンナノウォールの物性と応用
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F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0005]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発
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F-TT-221 ラマン分光装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0006]グラファイト-カーボンナノチューブ複合体の成長
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F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0007]数10nm～数100nm 微細パターンの形成
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0008]金属微粒子の構造解析およびＣＮＴ局所成長に関する研究
|
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0009]プローブ顕微鏡による表面科学計測、ナノカーボン創製と応用の支援
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0010]フォトニックナノ構造・量子ドット結合体を利用した太陽電池開発
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0011]MBE によるInAs 量子構造の作製
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F-TT-199 分子線エピタキシー装置
F-TT-219 多目的X線回折装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0012]シリコンマイクロ構造体の破壊と疲労に関する研究
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0013]化合物太陽電池の微細構造観察
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0014]ランダム位相板の作製とレーザー照射強度均一性の評価
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0015]半導体選択成長用マスク付きSi 基板の作製
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0016]結晶基板材料のナノレベル構造解析
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0017]深い溝の回折格子の試作
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F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0018]シリコンナノ粒子を活性層とした薄膜型太陽電池の開発
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-214 エリプソメーター
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0019]電流誘起磁壁移動を利用したフェリ磁性体ナノワイヤメモリの高性能化
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-211 ダイシング装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0020]in vivoイメージング用プローブの合成
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0021]強磁性微小細線を用いた論理回路の作製
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0022]結晶シリコンの電気特性の面方位依存性の評価に関する技術支援
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F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0023]曲面に対する三次元リソグラフィの展開に関する研究
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0024]シリコン単結晶のナノ変形特性評価と環境脆化機構の解明
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0025]結晶シリコン太陽電池用受光面銀ペーストの焼成挙動
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0026]AFM Raman によるSi の高空間分解能歪測定
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F-TT-221 ラマン分光装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0027]MBE 成長III-VI 族化合物の構造評価
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F-TT-221 ラマン分光装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0028]全固体型Liイオン電池における固体・固体界面の解析
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0029]希土類ドープされた酸化物の蛍光計測
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0030]スピン偏極キャリヤを利用する排他的論理和ゲート動作の作製
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0031]AFM によるグラフェンの弾性率測定
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0032]ポリフッ化ビニリデンの結晶化挙動
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F-TT-219 多目的X線回折装置 一式
F-TT-220 フーリエ変換型赤外分光光度計 一式
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0033]MEMS 静電プローブを援用した薄膜強度評価システムの開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理装置（UVキュア，アッシング）
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0034]Use of the apparatus for evalution of new semiconductor material
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F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-210 気相フッ酸エッチング装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0035]ガス計測応用マイクロデバイスに関する研究
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F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0036]走査型プローブ顕微鏡による酸化物ナノ構造体の電気的特性
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0037]ラマン分光法を用いたナノカーボン成長過程の観察
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F-TT-221 ラマン分光装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0038]ＣＮＴナノプローブの用途開発
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F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0039]単結晶Si 及びSiC を用いた自己冷却デバイスの開発
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F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0040]微傾斜SiC 表面のステップテラス構造の観察
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0041]GaN デバイスプロセスの研究開発
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0042]MEMS ノズルを利用した大気圧プラズマ照射の微細化
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F-TT-203 レジスト処理装置（UVキュア，アッシング）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0043]プラズマを利用しないMEMS 犠牲層 Si エッチング
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0044]平面基板タイプの超小型MI センサ素子開発
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0045]結晶表面ナノ構造の作製と観察
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0046]シリコン基板に対する不純物イオン注入および活性化アニール
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F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0047]ナノファイバー状芳香族ポリアミド構造体の構造解析
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F-TT-219 多目的X線回折装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0048]振動型薄膜MEMS デバイスの試作
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F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0049]PZT 薄膜のサブミクロンパターン形成
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0050]電極形成材料の評価
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0051]シリコン単結晶のドライエッチング速度に関する基礎検討
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0052]PET ボトルにおける分子鎖凝集状態の検討
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F-TT-220 フーリエ変換型赤外分光光度計 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0001]マイクロ流路の生産安定性向上に関する研究
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0002]結晶シリコン太陽電池用受光面銀ペーストの焼成挙動について
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0003]金属ナノ細線体の作製
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F-TT-201 電子ビーム描画装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0004]マイクロマシン材料の破壊・疲労機構解明に関する研究
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0005]レーザ直接描画による高屈折角フォトニック結晶作成技術のフィージビリティ調査
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0006]輸送気相法有機結晶の表面モルフォロジー評価
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0007]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発
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F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0008]化合物太陽電池の微細構造観察
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0009]マイクロ流路デバイスの試作
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0010]半導体電極の形成技術に関する技術支援
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0011]省電力動作で高温が得られるマイクロヒータの開発
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0012]バイオナノ分子測定用ギャップ電極の作製
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0013]金属微粒子の構造解析およびCNT局所成長に関する研究
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F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0014]ＣＮＴナノプローブの用途開発
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F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0015]サファイア薄板へのTiNのスパッタ成膜
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0016]フォトリソグラフィによる立体配線回路の開発
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0017]MEMS振動体における3次元振動状態の評価
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0018]中性子反射率測定用Si系ナノ薄膜試料の作製
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F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0019]スーパーコンティニュアム光のMEMSマイクロ流路デバイスへの応用
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0020]プラズマを利用しないMEMS犠牲層Siエッチング
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0021]強磁性微小細線を用いた論理回路の作製
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0022]パワー半導体の開発
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F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0023]振動型MEMSデバイスの試作
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0024]ランダム位相板の作製とレーザー照射強度の均一化
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0025]スピントルクの研究
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0026]磁性細線メモリの研究
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0027]プローブ顕微鏡による表面科学計測
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0028]MEMSノズルを利用した大気圧プラズマ照射
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0029]グラフェンの誘電体被覆によるドーピング制御と光学素子の開発
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0030]ナノカーボン成長用基板
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0031]ナノカーボン成長用基板
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0032]Ⅲ-Ⅴ族半導体（GaAsNなど）の構造評価と伝導特性評価
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0033]結晶シリコン太陽電池反射防止膜の評価
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F-TT-217 ライフタイム測定装置
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0034]ラマン分光法を用いたナノカーボン成長過程の観察
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F-TT-221 ラマン分光装置 一式
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0035]電子ビーム励起プラズマを利用した光輝窒化処理の評価
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0036]カルド系材料を添加したポリ乳酸(PLLA)の結晶化に及ぼす影響を検討する研究支援
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0037]スピンコート製膜家庭における鎖状高分子の薄膜結晶化挙動の解明
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0038]VDF、TrFEを含む3元系共重合体における結晶構造の相転移現象の研究
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0039]Ｘ線散乱とラマン散乱の同時測定に関する技術検討
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0040]MBEによるInAs量子構造の作製
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0041]マイクロマシン材料の破壊・疲労機構解明に関する研究
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0042]Properties and Applications of Carbon Nanowalls(CNW)
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(登録なし)
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0043]太陽電池モジュールのラマン分光による評価技術開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0001]哺乳類細胞移動アッセイ用新規マイクロデバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0002]超高エネルギー密度，本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0003]マイクロ波を用いた有機材料中の電荷・スピン輸送の計測
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0004]ハイドロゲルのAFM 測定
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0005]ナノ粒子の強誘電体特性評価
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F-KT-306 強誘電体特性評価システム
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0006]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0007]研削工具の計測
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0008]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0009]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0010]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0011]圧電デバイスの作製と評価
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0012]微細構造を利用した光学素子の研究
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0013]アクリルアミド系ポリマーフィルムの強誘電性評価
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F-KT-306 強誘電体特性評価システム
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0014]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0015]高分子材料の表面形状観察
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0016]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0017]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0018]マスクアライナーおよびRIE装置を用いたAlパターンの作製及びエッチング
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0019]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0020]テラヘルツ反射ミラーの作製
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0021]ドライ酸化による熱酸化膜
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F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0022]ナノ構造による光制御技術
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0023]感光性樹脂の露光評価
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0024]低損失微小共振器の作製
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0025]ナノフォーム
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0026]バイオマス由来微粒子の特性分析
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0027]半導体および絶縁体のナノ構造評価
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0028]生分解性蓄熱マイクロカプセルの作製
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0029]プラズマ暴露による機能性材料の粘弾性特性および電気特性変化の研究
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0030]オンチップ時空間制御による光合成細胞の環境応答機能の解明
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F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0031]配線電極付き石英基板上TEOS厚膜のドライエッチング加工検証
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0032]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0033]蛍光偏光法を用いたジェル型温度センサの開発
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0034]DOE(回折光学素子)の試作検討／偏光素子開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0035]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0036]無機有機ペロブスカイト膜の構造評価
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F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0037]ナノ粒子の表面電荷の解析
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0038]ウエハダイシング
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0039]MEMSデバイス
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F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0040]長寿命改質オゾンUFB水のバブル粒径濃度測定
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0041]窒化物半導体のデバイス作製
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0042]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証-1
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0043]ナノスケール共振器の作製と機械特性評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0044]微細穴構造の製造技術
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0045]ナノアンテナによる磁気光学効果の増強
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0046]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0047]MEMSガスセンサの開発
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F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0048]動的斜め蒸着法による薄膜の形態制御と応用
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0049]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0050]カロテノイド含有ミセル形成に与えるヨーグルトの影響
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0051]PDMSとガラスの結合
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0052]カーボンナノチューブ薄膜の基礎物性評価
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0053]培養細胞の力学特性測定
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0054]ナノアンテナシールによる積層ナノアンテナの開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0055]ポリマ光変調器の低消費電力化
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0056]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0057]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 2
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0058]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
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F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0059]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0060]CUPAL 電子線描画装置入門コース
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0061]ダイヤモンドデバイスの作製
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0062]ヒトオルガノイドを用いた重力応答機構の解析
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0063]酸化ガリウム表面におけるヘテロエピタキシー初期過程の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0064]2次元サーモリフレクタンス法を用いたサブマイクロスケールネットワークの温度分布測定
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0065]探針増強ラマン分光用プローブに対するFIB加工
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0066]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0067]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0068]コンポジット材料界面の分析技術開発
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F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0069]ガラス上のマイクロピラーの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0070]ダイヤモンド電極パターニング
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0071]半導体のドライエッチング加工と基板貼り合わせ
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0072]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0073]トリチウム増殖材の精密化学分析
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F-KT-235 ICP質量分析装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0074]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0075]水電解触媒の高性能化に向けた構造解析
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F-KT-235 ICP質量分析装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0076]表面プラズモン共鳴を利用した高周波超音波センサの開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0077]シリコン深掘り構造作製における欠陥形成機構の研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0078]MEMSデバイスの作製
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F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0079]DRIEによるSiエッチング
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0080]ガラス基板へのナノインプリント
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0081]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0082]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0083]MEMSデバイスの共振モードの実験確認
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0084]SEM観察を通じた各種煤粒子形態の比較
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0085]Janus粒子の合成
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F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0086]Quartz結晶基板の切断
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0087]高分子材料の表面形状観察
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0088]超微細パターン石英ナノインプリントモールドの作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0089]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0090]共有結合性有機構造体の結晶性の評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0091]細胞上で形成されるアミロイド線維構造のAFM-IRによる解析
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0092]表面及び内部に微細構造を形成したガラスの形態観察
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0093]インプリント転写検討
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0094]半導体用コーティング材料の開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0095]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0096]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0097]X線1分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0098]BN薄膜のMEMSデバイス応用へ向けた微細加工試験とカンチレバー試作
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0099]肺癌の病態における間質圧上昇の役割の解明と新たな治療法の開拓
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F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0100]ハイドロゲルのAFM測定2
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0101]VLSボトムアップ成長シリコンナノワイヤの架橋集積技術の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0102]静電気力を利用した粉体ハンドリング技術の開発とその粉体ダイナミクスに関する研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0103]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス（２）
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0104]静電容量型加速度センサーの設計から試作・評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0105]大面積のメタマテリアルの作製
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0106]フィールドエミッタアレイの膜物性評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0107]テラヘルツ反射ミラーの作製 （２）
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0108]表面弾性波共振器によるリザーバーコンピューティング
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0109]レーザー描画による厚膜レジストパターン形成 1
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0110]探針増強ラマン分光用プローブに対するFIB加工
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0111]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0112]歪フォトニック結晶の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0113]微細メッシュ構造基板を用いた細胞配向性制御
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-21-KT-0114]培養細胞の力学特性測定
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-21-KT-0115]ナノスケール共振器の試作と電気機械特性の研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0116]マイクロ波を用いた有機材料中の電荷・スピン輸送の計測
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0117]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析２
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0118]無機有機ペロブスカイト膜の構造評価2
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F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0119]熱流束を直接測定する積層センサの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0120]金属酸化物の光学応答特性
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F-KT-251 レーザアニール装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0121]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 ２
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0122]原子層二硫化モリブデン作製と特性評価
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0123]生物を模倣したソフトロボットの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0124]ナノセルロース複合材料の物性評価
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0125]酸化ガリウム表面におけるヘテロエピタキシー初期過程の研究2
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0126]高機能酸化物薄膜の作製と評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0127]ダイヤモンド表面ナノ加工
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0128]新規高性能半導体ウエハ接合技術の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0129]遊走ニューロンに関する研究
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F-KT-272 全反射励起蛍光イメージングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0130]歪フォトニック結晶の作製2
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0131]アルカリ金属生成用三次元構造を一括形成したMEMSガスセルの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0132]ナノ結晶及びポリマー等との複合材料の作製と評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0133]メタサーフェスミラーの開発 2
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0134]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0135]ナノスケール共振器の作製および電気機械特性研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0136]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0137]多孔質フィルムの開発
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0138]Genocelの膨潤状態の形状測定
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0139]フォトニッククリスタルを用いた狭角配光ＬＥＤの開発
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0140]ダイヤモンド表面ナノ加工
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0141]微小空間におけるタンパク質のダイナミクス解析
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0142]圧電デバイスの作製と評価 2
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0143]チップTSV
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0144]拡散レーザービームを用いたナノ粒子の高効率微細化
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0145]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0146]基板上へのAl微細パターンの形成
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0147]境界層を介したレーザー駆動準１次元衝撃波形成と新高エネルギー粒子加速法の開拓2
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0148]カーボンナノチューブ薄膜の基礎物性評価
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0149]細胞の機能解析
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0150]心臓拍動を模倣した圧力刺激印加による肝オルガノイド成熟化を目指す流体デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0151]ナノフォーム
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0152]メタ表面による磁気光学効果の増強
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0153]プラズマ物理学とナノ工学の融合による極限物質科学への挑戦 (2)
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0154]プラズマ暴露による機能性材料の粘弾性特性および電気特性変化の研究
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0155]メタサーフェスミラーの開発
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0156]原子間力顕微鏡によるナノスケール表面下構造可視化
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0157]窒化物半導体のデバイス作製
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0158]微細構造を利用した光学素子の研究
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0159]境界層を介したレーザー駆動準１次元衝撃波形成と新高エネルギー粒子加速法の開拓3
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0160]シリコン基板を用いた表面プラズモンの制御とその応用に関する研究
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0161]プラズマ物理学とナノ工学の融合による極限物質科学への挑戦
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0162]圧電デバイスの作製と評価３
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0163]肺癌の病態における間質圧上昇の役割の解明と新たな治療法の開拓
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F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0164]レーザー描画による厚膜レジストパターン形成 ２
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0165]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0166]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0167]表面ナノテクスチャリングの創成による潤滑特性の向上とそのメカニズムの把握
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0168]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発-事業化フェーズ ２
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0169]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発-事業化フェーズ 3
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0170]粒子ハンドリングのための静電デバイスの作製
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0171]リグノセルロースから生産した抗ウイルス活性リグニンの作用機構の解明
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0172]超高エネルギー密度，本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発 2
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0173]Siナノアンテナシールの作製
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0174]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0175]低損失微小共振器の作製(2)
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0176]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0177]生分解性蓄熱マイクロカプセルの作製 2
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0178]薄膜弾性波を利用した高感度質量センサの創製
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0179]溶融塩およびイオン液体からの金属電析における電析金属の結晶成長メカニズムの解析
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0180]ナノ構造による光制御技術
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0181]DOE(回折光学素子)の試作検討／偏光素子開発 2
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0182]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究 2
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0183]MEMSセンサの開発2
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0184]プラズモニック金ナノ構造集積MEMS共振器の作製と応用
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0185]ナノ粒子二量体配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0186]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0187]コンポジット材料界面の分析技術開発
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0188]DOE試作
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0189]表面粗面化形状の形成
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0190]導波モード共鳴を用いた新規光学デバイスに関する研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0191]シリコンウェハとガラスウェハの陽極接合
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F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0192]1 umギャップ電極作製
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0193]Ｘ線１分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0194]ダイヤモンドデバイスの作製、評価
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0195]酵母を用いた人工的タンパク質脂肪酸修飾システムの構築
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0196]ウェットエッチングによるAlパターニング
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0197]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認3
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0198]導波モード共鳴を用いた新規光学デバイスに関する研究２
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0001]窒化物半導体のデバイス作製
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0002]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0003]窒化ケイ素セラミックスの抗菌活効果と骨伝導効果の評価
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0004]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0005]縮環型アゾベンゼンホウ素錯体を用いた非対称湾曲共役系高分子の薄膜状態の調査
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0006]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0007]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0008]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0009]運動による細胞集団相分離メカニズムの階層横断的理解
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0010]MEMSアレイセンサを用いた乱流熱伝達の評価手法に関する研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0011]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0012]親水疎水細密パターニング
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0013]ナノインデンターによるＳｉフォノニック結晶の機械的特性評価
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0014]臨床検査デバイスの開発
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0015]圧電デバイスの作製と評価
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0016]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0017]MEMSセンサの開発
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0018]ボールボンディングによるMEMSデバイスの電気的接続
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F-KT-262 ボールワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0019]セラミックス薄膜被覆金属基板の疲労寿命特性に関する研究
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0020]祖先型パルマ藻の性状解析
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0021]RF-MEMSデバイスの研究
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0022]加工面の表面性状に基づく官能評価指標の定量化
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0023]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0024]MEMS・マイクロ流路一体化デバイスの開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0025]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0026]高分子材料の表面形状観察
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0027]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0028]ナノフォーム
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0029]微細構造面における伝熱に関する研究
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0030]：テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0031]YIG リング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0032]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0033]：量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0034]バイオマス由来微粒子の特性分析
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0035]新聴覚デバイス作製
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0036]センシング応用に向けた光集積技術開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0037]DOE（回折光学素子）の試作検討
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0038]光学素子の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0039]コンポジット材料界面の分析技術開発
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F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0040]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0041]シリコン基板のエッチング加工検証
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0042]半導体プロセス基礎実験
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0043]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0044]シリコンウエハへの貫通孔形成
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0045]プラズマインジケータの研究開発
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F-KT-299 ICP-RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0046]半導体レーザーを用いたSi単結晶帯形成アニール装置の開発
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0047]フレキシブルデバイス表面の保護膜形成技術に関する研究
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0048]ウエハダイシング
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0049]蛍光偏光法を用いたジェル型温度センサの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0050]微小電極アレイを搭載したボディ・オン・チップの作製プロセス
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F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0051]ナノインプリントを用いた蛍光材料の高性能化
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0052]無機有機ペロブスカイト膜の構造評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0053]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0054]マイクロ流路デバイスを用いたセルロースナノクリスタルの調製・精製・ファイバー形成2
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0055]X線1分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0056]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性変化および誘電率変化の研究
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0057]光トラップ中における単一原子の高分解能顕微鏡観測
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0058]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0059]表面及び内部に微構造を形成したガラスの形態観察
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0060]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0061]ボールボンディングによるMEMSデバイスの電気的接続
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F-KT-262 ボールワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0062]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0063]超高エネルギー密度，本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0064]表面プラズモン共鳴を利用した高周波超音波センサの開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0065]DNAカーテン法を用いてDNA上のタンパク質の動態を明らかにする
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0066]プラズマ照射によるSi系材料の電気伝導特性及び光学特性の変化に関する研究
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-299 ICP-RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0067]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0068]MEMS デバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0069]運動による細胞集団相分離メカニズムの階層横断的理解
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0070]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0071]加工面の表面性状に基づく官能評価指標の定量化
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0072]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0073]高分子材料の表面形状観察
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0074]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0075]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0076]ナノフォーム
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0077]YIGリング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0078]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0079]テラヘルツ反射ミラーの作製
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0080]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0081]テラヘルツ波偏光の高効率制御を可能にする反射型メタマテリアルの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0082]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0083]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0084]ガリウム及びインジウム化合物による細胞鉄恒常性の破綻と肺障害発生に関する研究
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F-KT-235 ICP質量分析装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0085]グレースケールマスクを使用したシリコンエッチング
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0086]Si基板上へのSiC成膜
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0087]細胞の機能解析
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0088]グレイスケール露光を利用した光学デバイス用電鋳モールド作成技術の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0089]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0090]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0091]CUPAL(Nanotec Career-up Alliance) 圧電デバイスコース2020年
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-306 強誘電体特性評価システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0092]マイクロ流路デバイス作製実習2020
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0093]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0094]フォトリソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とMEMSプロセス開発
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0095]微細穴構造の製造技術
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0096]DOE（回折光学素子)の試作検討
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0097]CUPAL EB入門コース
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0098]CUPAL EB入門コース実習2020年
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0099]ナノ構造による光制御技術2
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0100]ナノインデンターによるＳｉフォノニック結晶の機械的特性評価
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0101]マイクロデバイス成形用樹脂モールドの開発2
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0102]犠牲層エッチングによる薄膜構造形成
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0103]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0104]ナノインデンターによるＳｉフォノニック結晶の機械的特性評価2
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0105]グレースケール露光によるPDMS製マイクロバルブ／ポンプの作製
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0106]アルカリ金属生成用三次元構造を一括形成したMEMSガスセル
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0107]プラズマ暴露による機能性材料の粘弾性特性および電気特性変化の研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0108]低損失微小共振器の作製
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0109]低損失微小共振器の作製(2)
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0110]セラミックス薄膜被覆金属基板の疲労寿命特性に関する研究
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0111]プラズモニック金ナノ構造集積MEMS共振器の作製と応用
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0112]人口減少社会へむけた上水道システムの持続的再構築に関する総合研究2
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0113]MEMSアレイセンサを用いた乱流熱伝達の評価手法に関する研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0114]神経ネットワーク形成デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0115]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認（2）
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0116]レーザー描画による厚膜レジストパターン形成
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0117]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証（１）
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0118]ポーラスシリコンへの金属めっき
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0119]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0120]圧電デバイスの作製と評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0121]MEMSガスセンサの開発
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0122]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0123]Deep-RIEとダイシングの検証
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F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0124]マイクロ流路デバイス作製実習2020
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0125]半導体および絶縁体のナノ構造評価
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0126]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0127]チップTSV
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0128]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造(2)
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0129]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0130]チップTSV(3)
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0131]新方式アルミ製放熱材（メタマテリアル放熱材）の量産技術開発
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F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0132]ミストCVD法を⽤いて形成した⾦属酸化物の新規応⽤展開
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0133]ウエハダイシング(2)
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0134]チップTSV (1)
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0135]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0136]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発(2)
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0137]グレイスケール露光のための形状補正ソフトウエアの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0138]半導体用コーティング材料の開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0139]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0140]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
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F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0141]コンポジット材料界面の分析技術開発
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0142]ダイヤモンド電極パターニング
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0143]ナノスケールの振動子の作製とその電気機械特性
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0144]微小電極アレイを搭載したボディ・オン・チップの作製プロセス
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F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0145]3次元加工性を有するセルロースナノファイバー強化樹脂材料の開発
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0146]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現(1)
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0147]オルガノイド培養用マイクロ流体デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0148]微細メッシュ構造基板を用いた細胞接着機能制御
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0149]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0150]表面ナノテクスチャリングの創成による潤滑特性の向上とそのメカニズムの把握
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0151]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証-2
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0152]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証-3
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0153]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発2
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0154]ダイヤモンドデバイスの作製、評価
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0155]メカノバイオロジーを利用した細胞挙動制御法の開発
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0156]熱電子発電のためのへき開面ナノギャップ創製
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0157]ナノ・マイクロ加工技術による細胞機能制御
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0158]シリコンナノ構造を用いた生分解性微小センサの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0159]PDMSとガラスの結合
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0160]ダイヤモンドと異種材料の直接接合による高効率デバイスへの応用
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F-KT-299 ICP-RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0161]圧電体による振動発電デバイスの作成
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F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0162]ナノインプリントを用いたナノアンテナシールの開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0163]カーボンナノチューブ薄膜の基礎物性評価
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0164]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0165]金属アレイによるコアーシェル型ナノ粒子のアップコンバージョン増強
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0166]ナノ粒子の表面電荷の解析
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0167]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現2
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0168]ポーラスシリコンへの金属めっき2
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0169]基板上へのAl微細パターンの形成
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0170]スパッタ法による電極薄膜の作製
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0171]トリチウム増殖材の精密化学分析
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F-KT-235 ICP質量分析装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0172]酸化ガリウム表面におけるヘテロエピタキシー初期過程の研究
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0173]微小電極アレイを搭載したボディ・オン・チップの作製プロセス2
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F-KT-288 セルテストシステム
F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0174]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0175]水電解触媒の高性能化に向けた構造解析
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0176]微細構造面における伝熱に関する研究
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0177]X線1分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製2
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0178]動物用心拍数測定デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0179]生体分子，細胞，組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0180]表面プラズモン共鳴を利用した高周波超音波センサの開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0181]表面及び内部に微細構造を形成したガラスの形態観察
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0182]マイクロ波を用いた有機材料中の電荷・スピン輸送の計測
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0183]接着接合部における超音波伝搬に対する界面モデリングの検討
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0184]シリコンマイグレーションシール（SMS)ウェハレベルパッケージング
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0185]MEMS真空封止評価技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0186]二段電極構造を有するイオン液体エレクトロスプレースラスタの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0187]近位尿細管のオンチップ再構成による臓器機能と腎毒性の評価
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0001]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0002]カーボンナノチューブを用いた極性分子吸着ガスセンサの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0003]キラル置換型ポリメタフェニレンエチニレンの凝集状態でのキラル反転
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0004]Observation of grinding tools
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0005]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究（１）
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F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0006]光応答性液晶エラストマーのナノ構造解析
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0007]表面プラズモン共鳴を利用したポンププローブ分光計測における高感度化の検討
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0008]アパタイト核の複合化による生体活性骨修復材料の開発
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0009]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現（１）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0010]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用（１）
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0011]窒化物半導体のデバイス作製
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F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0012]接触面の形状計測
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0013]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0014]超高エネルギー密度、本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発（１）
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0015]マイクロ流体デバイス
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0016]人口減少社会へむけた上水道システムの持続的再構築に関する総合研究
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0017]プラズマエッチング装置用新規機能部品の開発（１）
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0018]誘電泳動力を用いた粒子整列用マイクロデバイス開発（１）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0019]半導体異種材料接合の研究（１）
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0020]プラズモンによる低光エネルギー駆動スイッチグデバイスの実現
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0021]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（１）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0022]エッチングによる金属表面の形状制御
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0023]ペンタアザフェナレンを含む共役系高分子の膜厚評価
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0024]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0025]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造（１）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0026]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発（１）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0027]三相界面における蒸発現象関す実験的研究
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F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0028]各種光閉じ込めデバイスへの結合素子および機能基礎研究
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0029]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発（２）
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0030]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0031]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0032]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0033]高分子材料の表面形状観察
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0034]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0035]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0036]液体ジェット生成用金属ノズルの開発
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0037]半導体デバイス組立て材料の高温環境試験に関する研究
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0038]YIGリング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測（１）
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0039]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0040]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0041]LiPO3ガラスの熱起電力特性
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F-KT-288 セルテストシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0042]バイオマス由来微粒子の特性分析
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0043]半導体および絶縁体のナノ構造評価
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0044]窒化物半導体光集積デバイスの作製
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0045]プラズマエッチング装置用新規機能部品の開発（２）
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0046]MEMSデバイス
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F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0047]シリコンナノグレーティング構造の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0048]ナノインデンターによるSiフォノニック結晶の機械的特性評価
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0049]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性および誘電率変化の研究
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0050]熱起電モジュールの作製
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0051]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0052]接触面の形状計測
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0053]DNA上のタンパク質の動態研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0054]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0055]平板のゼータ電位測定
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F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0056]COPレプリカモールドでの熱ナノインプリント
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0057]薄膜ピエゾの圧電特性
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F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0058]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造（２）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0059]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する研究
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0060]装置磁気中性線放電ドライエッチング装置によるSiO2のドライエッチング
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0061]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成（１）
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0062]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0063]半導体プロセス基礎実験（１）
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0064]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0065]センシング応用に向けた光集積技術開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0066]ECRエッチングプロセスを用いた有機膜の加工
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F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0067]MEMSガスセンサの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0068]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成（２）
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0069]静電駆動型MEMS振動子の周波数制御に関する研究開発
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0070]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0071]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0072]半導体プロセス基礎実験（２）
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0073]TEER計測用電極付マイクロ流体デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0074]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0075]超高エネルギー密度、本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発（２）
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0076]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0077]細胞接着制御基板の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0078]新規フッ素化合物電池材料の結晶構造解明
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0079]有機溶媒中のLi-P-S-Clの溶解度測定
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F-KT-235 ICP質量分析装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0080]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究（２）
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F-KT-253 基板接合装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0081]半導体異種材料接合の研究（２）
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0082]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0083]圧電ミラーデバイスの開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0084]250℃耐熱フレキシブル熱電発電モジュールの実用化開発
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0085]ペンタアザフェナレンを含む共役系高分子の膜厚評価
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0086]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現（２）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0087]量子もつれ光発生のための高精度窒化シリコンリング共振器の実現（１）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0088]金属構造によるテラヘルツ電場増強と電子状態の解明
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0089]MEMSアレイセンサを用いた乱流熱伝達の評価手法に関する研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0090]センシング応用に向けた光集積技術開発（２）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0091]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発（２）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0092]ポーラスシリコン電極への金属めっき
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0093]RF-MEMSデバイスの研究
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0094]運動による細胞集団相分離メカニズムの階層横断的理解
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0095]現場で使える簡易検査用マイクロ流体デバイスの研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0096]高分子材料のXRDスペクトル分析
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0097]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0098]微細構造面における伝熱に関する研究
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0099]YIGリング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測（２）
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0100]静的光散乱による線状高分子の慣性半径の評価
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F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0101]生体外における腎機能と腎毒性評価のための近位尿細管チップの製作
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0102]高温環境下におけるプラズマ診断用電気素子の研究開発
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0103]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0104]銀膜/焼結銀界面結合強度における銀膜の結晶粒構造の効果
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0105]シリコンの化学エッチングによるレーザー照射用構造性ターゲット作製（１）
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0106]クレッチマン型表面プラズモンセンサにおける金属薄膜の膜厚測定
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0107](100)単結晶シリコンを用いた同調型振動リングジャイロスコープにおける形状補償
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0108]イオン液体エレクトロスプレースラスタの二段電極作製に向けたガラスの貫通加工
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0109]シリコンの化学エッチングによるレーザー照射用構造性ターゲット作製（２）
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0110]ナノインプリントを用いた蛍光材料の高性能化（１）
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0111]厚さを制御した高分子膜被覆による銀ナノ構造プラズモン共鳴のチューニング
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0112]誘電泳動力を用いた粒子整列用マイクロデバイス開発（２）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0113]DOE（回折光学素子)の試作検討（１）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0114]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0115]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0116]令和元年度ナノテクノロジープラットフォーム学生研修プログラム
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0117]プラズモニック金ナノ構造集積MEMS共振器の作製と応用
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0118]ナノ粒子二量体配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0119]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製（１）
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0120]生体分子、細胞、組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発（１）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0121]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0122]微細メッシュ構造を用いた細胞接着制機能制御（１）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0123]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（２）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0124]MHz帯の超音波検出用表面プラズモン共鳴センサの作製
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0125]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0126]ポーラスシリコン電極への金属めっき
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0127]ナノフォーム
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0128]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0129]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0130]脂質膜リポソーム上プリオン様タンパク質の動態変化
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F-KT-268 高速液中原子間力顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0131]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現（３）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0132]DNAカーテン法を用いてDNA上のタンパク質の動態を明らかにする（１）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0133]DNAカーテン法を用いてDNA上のタンパク質の動態を明らかにする（２）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0134]量子もつれ光発生のための高精度窒化シリコンリング共振器の実現（２）
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0135]ナノインプリントを用いた蛍光材料の高性能化（２）
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0136]スパッタ法による電極薄膜の作製
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0137]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造（３）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0138]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製（２）
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0139]弾性表面波を用いた高精度・高効率アクチュエータの開発
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0140]弾性表面波を用いた高精度・高効率アクチュエータの開発 2
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0141]金ナノギャップ配線の作製と電気的評価
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0142]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-231 スプレーコータ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0143]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成（２）
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0144]RF-MEMSデバイスの研究（２）
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0145]生体分子、細胞、組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発（１）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0146]二次元ナノ材料に対する局所機械的特性評価方法の開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0147]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用（２）
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0148]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス（２）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0149]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価（２）
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0150]生体分子、細胞、組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発（２）
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0151]ポリマ光変調器の低消費電力化
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0152]半導体および絶縁体のナノ構造評価（２）
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0153]接触面の形状計測（３）
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0154]微細メッシュ構造を用いた細胞接着制機能制御（２）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0155]マイクロ流体デバイスを使った非アルコール性脂肪性肝疾患モデルの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0156]マイクロデバイス成形用樹脂モールドの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0157]PECVD-DLC傾斜多層膜を被覆したSi微小構造体の引張強度特性
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0158]固体中におけるスピン流輸送現象の解明（２）
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0159]CUPAL (Nanotec Career-up Alliance) マイクロ流路デバイスコース2019年
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0160]動物用心拍数測定デバイスの作製
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0161]SiとSOIウエハを用いたSiトーションミラーデバイスの開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0162]メカノバイオロジーを利用した細胞挙動制御法の開発
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0163]新規フッ素化合物電池材料の結晶構造解明（２）
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0164]超高エネルギー密度、本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発（３）
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0165]基板上へのAl微細パターンの形成
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0166]医療用マイクロデバイスのプロセス開発（２）
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F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0167]フォトリソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とMEMSプロセス開発
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0168]フォトリソグラフィによる微細構造を有する光学素子の作製
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0169]DOE(回折光学素子)の試作検討 （２）
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0170]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成（２）
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0171]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製（２）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0172]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0173]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0174]MEMSジャイロ高精度化のための微細加工調整プロセスの試行
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0175]フィブロイン基質上とSAM上における軟骨細胞挙動の比較
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0176]ペプチドナノチューブの電気的特性の解析
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0177]食糧タンパク質の品質に関する研究
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F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0178]レーザダイシング装置を用いた超小型植物水分動態センサチップの切断
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F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0179]臨床検査デバイスの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0180]フォノニック結晶の温度特性解明に関する研究
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0181]3次元加工性を有するセルロースナノファイバー強化樹脂材料の開発
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0182]CUPAL (Nanotec Career-up Alliance) 圧電デバイスコース2019年
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-306 強誘電体特性評価システム
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0183]臨床検査デバイスの開発（２）
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0184]レジストの塗布膜厚と残膜厚の関係
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0185]圧電デバイスの作製と評価
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0186]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する研究（２）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0187]ボールボンディングによるMEMSデバイスの電気的接続
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-262 ボールワイヤボンダ
F-KT-258 真空マウンター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0188]MEMSへき開創製した間隔制御電極におけ真空電子放出
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0189]ニオブ酸リチウムディスクジャイロスコープ
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0190]光吸収体集積マイクロ振動子を用いた近赤外光センサにおける梁形状の影響
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0191]マイクロプラズマアクチュエータの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0001]熱トンネル現象を用いた冷却素子及び熱発電素子の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0002]せん断型ひずみゲージ集積型試験片を用いた単結晶シリコン並列引張疲労試験
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0003]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0004]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0005]ナノフォーム
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0006]微細3次元ナノインプリントモールドの製作
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0007]微細3次元ナノインプリントモールドの製作
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0008]単結晶シリコンへき開破壊により形成したナノギャップの間隔制御・電流計測用MEMSデバイスの開発
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0009]臨床検査デバイスの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0010]ナノインプリントリソグラフィ用UV硬化樹脂の検討
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0011]プラズマインジケータの研究開発
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F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0012]導体デバイス組立て材料の高温環境試験に関する研究
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0013]β-Ga2O3表面における窒化物成長初期過程の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0014]軟培養面を用いた細胞挙動制御
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0015]接触面の形状計測
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0016]プラズモンによる低光エネルギー駆動スイッチングデバイスの実現
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0017]Si またはSiO2 上のサブミクロンオーダーフォトレジストパターンの作製
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0018]ガラス部材の先端的加工技術開発
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0019]グラフェンデバイスの作製
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0020]PECVD DLCを被覆したSi微小構造体の引張強度特性に対する成膜バイアスの効果
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0021]MEMS創成技術によって形成したテクスチャ面でのスクイーズ弾性流体潤滑挙動の把握
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0022]スピネル接合基板のSAWデバイス特性評価
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0023]窒化ケイ素セラミックスの抗菌活効果と骨伝導効果の評価
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0024]各種光閉じ込めデバイスへの光結合素子および機能素子の基礎研究
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0025]食品ナノ粒子の構造・物性測定
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0026]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0027]ミストCVD 法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0028]微小周期構造を持つクラッド層を用いたレーザ構造に関する研究
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0029]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0030](100)単結晶シリコンを用いた同調型振動リングジャイロスコープにおける形状補償
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0031]薄膜アクチュエータの研究開発
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0032]フォトリソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とMEMSプロセス開発
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0033]表面弾性波を利用した微量液滴撹拌による高感度電気化学検出
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0034]先進複合材料の破壊特性に関する微視的観察による評価
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0035]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0036]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM 観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0037]ウェハー加工技術開発
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0038]圧電体材料における結晶軸とGHz帯表面弾性波伝播特性の関係調査
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0039]ナノ構造による光制御技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0040]顕微ラマン分光を用いたへき開面ナノギャップの温度差測定
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0041]金属薄膜形成及びドライエッチングによる試料加工技術の開発
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0042]SiGe薄膜の機械物性計測
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0043]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0044]原子間力顕微鏡によるナノスケール表面下構造可視化
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0045]糖鎖修飾ポリオキサゾリンが結晶化により形成する自己組織化体のXRDによる構造解析
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0046]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0047]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0048]ポリマ光変調器の低消費電力化
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0049]ドライ酸化による熱酸化膜
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0050]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0051]単結晶シリコンねじり梁を用いた振動型ミラーの共振疲労試験
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0052]半導体および絶縁体のナノ構造評価
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0053]VUV光による酸化チタン薄膜とマイクロパターンの形成
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0054]キラル置換型ポリメタフェニレンエチニレンの凝集状態でのキラル反転
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0055]ナノディフェクトマネジメント
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0056]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0057]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0058]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0059]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0060]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0061]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0062]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0063]水処理膜の表面構造とろ過性能の明確化
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0064]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0065]ナノ粒子の表面電荷の解析
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0066]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0067]蛍光偏光法を用いたジェル型温度センサの開発
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F-KT-272 全反射励起蛍光イメージングシステム
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0068]スパッタ法によるKNN薄膜の形成
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0069]接触面の形状計測 その２
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0070]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0071]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性変化および誘電率変化の研究
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0072]臨床検査デバイスの開発 ２
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-297 ナノインプリント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0073]マイクロ流体デバイスの試作
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F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0074]ナノインプリントを用いた光学材料の高性能化
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0075]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0076]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現 その２
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0077]生体分子，細胞，組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0078]熱ナノインプリントにおける気泡欠陥
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0079]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0080]プラズマエッチング装置用新規機能部品の開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0081]半導体デバイス組立て材料の高温環境試験に関する研究
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0082]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発 II
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F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0083]プラズモンによる低光エネルギー駆動スイッチグデバの実現 その２
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0084]核沸騰現象における顕熱輸送に関する研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0085]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成 1
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0086]β-Ga2O3表面における窒化物成長初期過程の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0087]RF-MEMSデバイスの研究
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0088]コヒーレントX線回折イメージングにおける試料調製手法の開発
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0089]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製 No.2
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0090]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 その２
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0091]フォトリソグラフィーによる射出成形金型の製作
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0092]各種光閉じ込めデバイスへの光結合素子および機能素子の基礎研究 ２
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0093]エッチングによる金属表面の形状制御
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0094]半導体異種材料接合の研究, No.2
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F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0095]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0096]センシング応用に向けた光集積技術開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0097]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究 No.2
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0098]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス ２
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0099]低分子ゲル化剤の会合体形成機構の解明 2
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F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0100]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ その２
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0101]新聴覚デバイス作製
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F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0102]位相変調透過板に関する研究
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0103]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成 2
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0104]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0105]低分子ゲル化剤の会合体形成機構の解明
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F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0106]ポリマ光変調器の低消費電力化 ２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0107]ＭＥＭＳ加工技術を用いたセンサデバイスの開発
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F-KT-251 レーザアニール装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0108]半導体および絶縁体のナノ構造評価 2
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0109]プラズマインジケータの研究開発2
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F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0110]：YIGリング共振器を用いたマグノン-フォトン結合の観測
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F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-302 ダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0111]軟培養面を用いた細胞挙動制御
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0112]高温パンチクリープ成形による力覚センサの開発, No1
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0113]フォノニック結晶の温度特性解明に関する研究 その１
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0114]フォノニック結晶の温度特性解明に関する研究 その２
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0115]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0116]MEMSガスセンサの開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0117]LEDデバイス開発
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0118]犠牲層エッチングによる静電駆動素子の作製
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F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0119]Ｘ線１分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0120]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 その１
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0121]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0122]Nanotech-CUPAL N.I.P KY002 電子線描画装置アドバンストコース <<短期型>>
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0123]アトムプローブ測定に用いるプロトン伝導セラミックスの FIB 加工
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0124]ナノインプリントを用いた光学材料の高性能化
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0125]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0126]ナノ微細表面構造の特性評価
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0127]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0128]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0129]ＭＥＭＳ加工技術を用いたセンサデバイスの開発
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F-KT-251 レーザアニール装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0130]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0131]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0132]新方式アルミ製放熱材（メタマテリアル放熱材）の量産化技術開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0133]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 その２
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0134]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
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F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0135]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0136]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0137]3D-MEMS加工技術を利用したマイクロ宇宙推進機の抜本的な推進効率の向上
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0138]マイクロ流体デバイスを応用した細胞塊捕捉技術の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0139]バイオガスを原料とした水素製造に於けるＣＯ2削減に関する分離技術の開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0140]DOE(回折光学素子)の試作検討
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0141]ダイヤモンドデバイス用基板の結晶性評価 その１
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0142]ダイヤモンドデバイスの作製、評価 その２
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0143]フォトリソグラフィーによる射出成形金型の製作
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0144]生物の力学的特性測定を目的とした，分子機械型超微小ワイヤレス力センサの開発、その１
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F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0145]生物の力学的特性測定を目的とした，分子機械型超微小ワイヤレス力センサの開発、 その２
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0146]CUPAL 人材育成 MEMS後期
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0147]コヒーレントX線回折イメージング法の効率化に向けた試料作製法の開発
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0148](100)単結晶シリコンを用いた同調型振動リングジャイロスコープにおける形状補償
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0149]MEMS試作のフォトリソ工程最適化
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0150]TEER計測用電極付マイクロ流体デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0151]微細構造面における伝熱に関する研究
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0152]静電駆動型MEMS振動子の周波数制御に関する研究開発
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0153]食品ナノ粒子の構造・物性測定
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0154]MEMS技術を用いた圧力・温度センサーの研究
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0155]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0156]量子もつれ光発生のための、高精度窒化シリコンリング共振器の実現
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0157]Body-on-a-Chipへの搭載を目的としたイオン液体型圧力センサ
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0158]細胞局所刺激・応答計測可能なナノマイクロツール開発、その２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0159]Soil-on-a-chipデバイスの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0160]レーザー実験用擾乱ターゲットの製作
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0161]CUPAL EB描画装置入門コース
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0162]細胞局所刺激・応答計測可能なナノマイクロツール開発、その１
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0163]細胞間コミュニケーションのライブイメージング
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0164]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0165]Si基板の超微細加工
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0166]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0167]熱起電モジュールの作製 １
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0168]ウエハ加工技術開発
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0169]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 No.1
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-231 スプレーコータ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0170]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 No.2
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-262 ボールワイヤボンダ
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0171]マイクロ流路デバイス作製実習および施設利用
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0172]バイオガスを原料とした水素製造に於けるＣＯ2削減に関する分離技術の開発２
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0173]液体金属電極ReRAMの簡易マスキングプロセス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0174]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0175]CUPAL 人材育成 MEMS通年
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0176]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0177]薄膜アクチュエータの研究開発
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0178]アパタイト核の複合化による生体活性骨修復材料の開発
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0179]誘電泳動力を用いた粒子整列用マイクロデバイス開発
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0180]ポーラスシリコン電極への金属めっき
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0181]シリコンへの化学エッチングによるレーザー照射用構造性ターゲット作製
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0182]色素増感太陽電池の作製
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0183]X 線格子の検討
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0184]光導波路サンプルの作製
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0185]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0186]カーボンナノチューブを用いた極性分子吸着ガスセンサの開発 １
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0187]高温パンチクリープ成形による力覚センサの開発 No.2
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0001]MEMSガスセンサの開発
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0002]人工関節材料の潤滑特性評価
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0003]VUV還元酸化グラフェンFETの作製とその電気特性評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0004]薄層炭素繊維複合材料積層板の強度・破壊特性評価
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0005]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0006]ナノ構造による光制御技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-302 ダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0007]ナノ・マイクロ加工技術による細胞機能制御
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-268 高速液中原子間力顕微鏡
F-KT-272 全反射励起蛍光イメージングシステム
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0008]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0009]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0010]シリコン系薄膜の機械特性に及ぼす寸法・温度効果
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0011]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0012]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究
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F-KT-235 ICP質量分析装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0013]小口径半導体ウエハへの微細深溝作製
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0014]MEMSデバイス用Siドライエッチング加工 その１
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0015]MEMSデバイス用Siドライエッチング加工、その２
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0016]フォトリソグラフィを用いたFTO薄膜のドライエッチング
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0017]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0018]Plasma etching評価
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0019]プラズマ用インジケータの開発
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F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0020]接触面の形状計測
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0021]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0022]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0023]アパタイト核の複合化による生体活性骨修復材料の開発
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0024]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0025]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性変化および誘電率変化の研究
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0026]コヒーレントX線回折イメージング用試料基板の開発
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0027]高分子材料の薄膜形成
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0028]水処理膜の表面構造とろ過性能明確化
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0029]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0030]生体模倣反応を用いたアパタイトカプセルの開発
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0031]精密ノズルの表面粗さ測定
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0032]ニューロン軸索ガイダンスにおける脳組織の物理的環境の作用機序
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0033]細胞内電気測定用無線デバイスとシステムの開発
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0034]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0035]臨床検査デバイスの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0036]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0037]熱ナノインプリントにおける成形圧力と残膜厚の関係
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0038]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0039]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0040]気密封止パッケージ
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F-KT-301 ウエハ接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0041]半導体デバイス組立て材料の高温環境試験に関する研究
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0042]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0043]フォトリソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とMEMSプロセス開発
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0044]ガラス部材の先端的加工技術開発
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0045]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0046]SiGe薄膜の機械物性計測
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0047]MEMS創成技術によって形成したテクスチャ面でのスクイーズ弾性流体潤滑挙動の把握
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0048]ペンタアザフェナレンを含む共役系高分子の膜厚評価
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0049]ナノディフェクトマネジメント
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0050]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0051]半導体および絶縁体のナノ構造評価
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0052]位相変調透過板に関する研究
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0053]触媒粒子担持用のアルミナ薄膜の評価
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0054]ナノ構造による光制御技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0055]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0056]マイクロ流路を用いた液膜試料の生成
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-230 レジスト塗布装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0057]X線格子の検討
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0058]シリコン系薄膜の機械特性に及ぼす温度の効果
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0059]VUV還元酸化グラフェンFETの作製とその電気特性評価 その２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0060]薄膜形成及びドライエッチングによる試料加工技術の開発
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0061]ウェット酸化による熱酸化膜
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F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0062]3Dリソグラフィを応用したPDMS製マイクロバルブ/ポンプの高精度加工
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0063]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0064]DNAナノ構造体の機械的/電気的特性評価のためのMEMSナノピンセットの作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0065]琵琶湖における微生物群集の増殖解析
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0066]スパッタ法によるKNN薄膜の形成
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0067]液膜試料生成のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0068]薄膜ピエゾの圧電特性
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0069]量子もつれ光発生のための、高精度窒化シリコンリング共振器の実現
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0070]位相変調透過板に関する研究
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0071]触媒粒子担持用のアルミナ薄膜の評価 その２
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0072]半導体および絶縁体のナノ構造評価 2
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0073]DNA構造体の固定化によるナノポアセンシングデバイスの作製
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-300 簡易RIE装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0074]SPMを用いたナノレベルでのナノファイバー材料の表面構造・力学物性評価
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0075]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0076]超微小材料機械変形評価装置を用いた細胞強度の測定
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0077]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0078]生体分子，細胞，組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発 II
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0079]ガラス部材の先端的加工技術開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0080]高温超伝導体の微細構造を用いた新規物性研究
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0081]原子間力顕微鏡を用いたナノスケール表面物性評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0082]高性能圧電薄膜による高感度超音波トランスデューサの開発
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0083]シリコン深堀りドライエッチングを応用した3次元微細構造の作製
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0084]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発 1
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0085]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発、その１
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0086]ナノ微細表面構造の特性評価
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0087]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
|
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0088]マイクロ流路デバイス作製実習および施設利用
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0089]ガスセンサの開発
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0090]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0091]有機薄膜太陽電池用SrTiO3ナノ構造体の作製と評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0092]湿式プロセスによる酸化亜鉛多孔体の形成
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0093]微細穴構造の製造技術 その１
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0094]細胞測定のための遮蔽型ナノ構造作製の試行
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0095]チタン材料の微視組織が深穴加工性に及ぼす影響
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0096]横波型薄膜共振子MEMSセンサの信号強度向上に向けたデバイス構造の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0097]シリコンの化学エッチングによるレーザー照射用構造性ターゲット作製
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0098]Body-on-a-Chipへの搭載を目的としたイオン液体型圧力センサ
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0099]イオンチャネル固定化用窒化膜チップ
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0100]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 2
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0101]プラズモニック金ナノ構造集積MEMS共振器の作製と応用
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0102]微粒子を懸濁した作動流体の熱物性
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0103]微細穴構造の製造技術 その２
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0104]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析 その２
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0105]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0106]半導体プロセス基礎実験
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0107]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製 その２
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0108]ナノインプリントを用いた光学材料の高性能化 ２
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F-KT-297 ナノインプリント装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0109]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0110]：圧電薄膜/高音速基板構造を利用した弾性表面波の励振
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0111]マイクロ流体デバイスを用いた微生物遊泳運動の流体実験
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0112]バイオミネラリゼーションに学んだアパタイト核機能の活用による生体環境適合マテリアルの構築
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0113]Sb2Se3を用いた無機-有機ハイブリッド太陽電池の作製と評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0114]ナノインプリントを用いた光学材料の高性能化 1
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0115]高速高精度電子線描画装置を用いたサブミクロンピッチ回折格子金型の製作
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0116]ダイヤモンドデバイスの作製、評価
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0117]Nanotech-CUPAL N.I.P KY006圧電デバイスコース
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0118]Ｘ線１分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0119]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0120]小口径半導体ウエハへの微細深溝作製 その１
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0121]マイクロ流路内でのレーザー応力波干渉の応用
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0122]塗布型太陽電池の薄膜構造評価 その２
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0123]電子線描画装置入門コース
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0124]ナノインプリントを用いた光学材料の高性能化 3
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0125]医療用マイクロデバイスのプロセス開発 その１
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F-KT-253 基板接合装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0126]人口減少社会へむけた上水道システムの持続的再構築に関する総合研究
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0127]リサーチコンプレックス マイクロ流路デバイス作製実習
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0128]GaN/AlGaN量子井戸とフォトニック結晶を用いた熱輻射光源の開発
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F-KT-253 基板接合装置
F-KT-251 レーザアニール装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0129]高分子の多孔化とその物性
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0130]高性能圧電薄膜による高感度超音波トランスデューサの開発 2
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0131]分子を用いたグラフェンの電子状態変調
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0132]メソポーラスシリカのフォトニクス応用
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0133]UV硬化型PDMSを使ったマイクロ流体デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0134]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0135]銀膜/焼結銀界面結合強度における銀膜の結晶粒構造の効果
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0136]半導体の基礎研究
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0137]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製 その１
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0138]食品ナノ粒子の構造・物性測定 1
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0139]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-262 ボールワイヤボンダ
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0140]MEMSとDNA融合プロセスによるナノポアセンサデバイスの構築
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F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0141]食品ナノ粒子の構造・物性測定 2
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0142]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0143]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製 その２
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0144]酸化ガリウムの結晶成長に関する研究
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0145]TiO2の成膜、評価
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0146]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発、その２
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0147]ポーラスシリコン電極への金属めっき
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0148]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0149]細胞局所刺激・応答計測可能なナノマイクロツール開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0150]ＭＥＭＳ加工技術を用いたセンサデバイスの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0151]犠牲層エッチングによる静電駆動素子の作製
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0152]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0153]表面保護のための酸化膜形成
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0154]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0155]ガラスモールドの作製
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0156]金属薄膜形成による試料加工技術の開発
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0157]Nanotech-CUPAL N.I.P KY007フォトニックコース
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0158]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究 II
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F-KT-235 ICP質量分析装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0159]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 その１
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0160]GaN/AlGaN量子井戸をフォトニック結晶を用いた熱輻射光源の開発
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F-KT-251 レーザアニール装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0161]MEMSジャイロ高精度化のための微細加工調整プロセスの試行
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0162]感光性ポリイミドを用いた、たんぱく質構造解析用チップの製作
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F-KT-231 スプレーコータ
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0163]シリコン系薄膜の機械特性に及ぼす温度の効果
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0164]カルボキシメチルセルロースのアンモニウム塩のSEM観察
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0165]ナノ粒子の粒径分布
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0166]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0167]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0168]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性変化および誘電率変化の研究
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0169]炭化タングステンのカーボン添加による強度向上のメカニズム解明と実用化
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0170]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEB、レーザーによるフォトマスクの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0171]ナノ粒子二量体配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0172]医療用マイクロデバイスのプロセス開発 その２
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0173]リン脂質含有リポソームの生理機能と物性の相間研究
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0174]生体分子，細胞，組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発 I
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0175]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 その２
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0176]生体分子，細胞，組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発 III
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0177]高校生を対象としたエコサイエンスツアー2017の実施
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-17-KT-0178]MEMSセンサデバイスの応力評価
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0001]ポリマ光変調器の低消費電力化
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0002]半導体及び絶縁体のナノ構造評価
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0003]固体中におけるスピン流輸送現象の解明1
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0004]固体中におけるスピン流輸送現象の解明2
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0005]ガラス部材の先端的加工技術開発
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0006]電子線描画装置入門コース（CUPAL）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0007]マイクロ蛍光偏光法による粘性計測
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0008]積層フィルムの断面観察
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0009]ブロックコポリマーの配向自己組織化を用いたナノリソグラフィー
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0010]π－π相互作用を介した共役ポリマー間のキラリティ転写
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0011]MEMSガスセンサの開発
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0012]MEMSガスセンサの開発 2
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0013]シリコン薄膜の機械特性に及ぼす温度の効果
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-230 レジスト塗布装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0014]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0015]位相変調透過板に関する研究
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0016]SiO2膜の成膜実験、およびSiO2とSiの加工実験
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F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0017]かご型シルセスキオキサン誘導体の薄膜構造解析
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0018]VUV還元酸化グラフェンFETの作製とその電気特性評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0019]Sb2Se3を用いた無機-有機ハイブリッド太陽電池の作製と評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0020]マイクロ流路内でのレーザー応力波干渉の応用
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0021]熱ナノインプリントによる両面パターニングの研究
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0022]AFMによりRNAとタンパク質の結合様式を可視化する
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0023]原子間力顕微鏡を用いたナノスケール表面物性評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0024]ナノテクノロジーによる地球天然物を基にした新多機能性材料の開発
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0025]応力センサの特性評価に関する研究
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0026]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0027]高感度ガスセンサの開発
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0028]プラズマインジケータTMの研究開発
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F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0029]プラズマインジケータTMの研究開発 2
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F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0030]ナノ構造による光制御技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0031]ナノ構造による光制御技術 ２
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0032]ナノプラ技術スタッフ交流プログラム・鉛フリー圧電薄膜の作製
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0033]振動デバイスの評価
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0034]MEMSプロセス技術の開発
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F-KT-231 スプレーコータ
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0035]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0036]MEMS加速度センサの開発
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F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0037]サブミクロンAu粒子による気密封止接合
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0038]AFM用バルクPZTセンサの開発
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0039]窒化物ナノ粒子アレイの作製とプラズモニック特性
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0040]メソポーラスシリカを基板とするAuメソグレーティングのSERS特性
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0041]Alナノ粒子アレイの作製と発光増強
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0042]階層的プラズモニック構造作製と光学特性
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0043]各種配水管材質に対する細菌、微粒子の付着特性
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0044]各種配水管材質に対する細菌、微粒子の付着特性 ２
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0045]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 (2)
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F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0046]圧電駆動方式MEMS光スキャナの開発
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0047]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0048]石英ガラスモールドの作製 １
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0049]石英ガラスモールドの作製 ２
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-297 ナノインプリント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0050]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0051]熱ナノインプリントにおける温度と残膜厚の関係
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0052]MEMSとDNA融合プロセスによりナノポアセンサデバイスの構築
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0053]層状金属水酸化物結晶の構造研究
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0054]静電容量型加速度センサーの設計から試作・評価まで
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0055]VAPOR HF DRY ETCH装置導入検討
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0056]Preparation of porous graphene-based composites
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0057]Porous metal oxide/graphene composites for energy storage applications
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0058]MEMSデバイスの温度特性改善
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0059]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発
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F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0060]超薄型フリースタンディングテラヘルツ半波長板の開発
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0061]プリンタブルエレクトロニクス
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F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0062]共振子デバイスの開発 ２
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0063]フェムト秒レーザーによる極薄ガラスシートの加工検討
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0064]熱トンネル現象を用いた冷却素子
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0065]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0066]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0067]SiGe薄膜の機械物性計測
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0068]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0069]臨床検査デバイスの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0070]応力センサの特性評価に関する研究 ②
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0071]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-258 真空マウンター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0072]微細穴構造の製造技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0073]半導体プロセス基礎実験
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0074]３次元パワーSoC用の基板構成法の研究
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0075]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-287 インピーダンスアナライザ
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0076]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究
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F-KT-235 ICP質量分析装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0077]水処理膜の表面構造とろ過性能の明確化－１
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0078]ナローバンド吸収特性を有するプラズモニック金ナノグレーティング構造
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0079]金ナノ粒子二量体配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0080]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0081]食品ナノ粒子の構造・物性測定
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0082]リン脂質含有リポソームの生理機能と物性の相間研究
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0083]コヒーレントX線回折イメージング用試料基板の開発
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0084]Ｘ線１分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0085]MEMS創成技術によって形成したテクスチャ面でのスクイーズ弾性流体潤滑挙動の把握
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0086]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0087]せん断型ひずみゲージ集積化単結晶シリコンマイクロ構造並列引張試験デバイス
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F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0088]フォトニックコース （CUPAL）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0089]MEMSデバイス試作に関して
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0090]静電ピストンアレイ駆動のMEMS可変形状ミラーの開発
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F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0091]MEMS可変形状ミラーに用いる静電ピストン構造の試作
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F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0092]DLC薄膜でコーティングしたシリコンマイクロ構造の引張試験
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0093]シリコンナノワイヤを用いたねじり梁型共振ミラー
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0094]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0095]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発①
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0096]細胞内物質導入の基礎研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0097]FPDフォトマスク向け高精細ペリクルの開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0098]ＭＥＭＳ加工技術を用いた音響センサデバイスの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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| 利用課題番号/課題名 |
利用装置名 |
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0099]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEB、レーザーによるフォトマスクの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0100]自動車用エンジンの超高効率化のための給気ガス改質技術の開発
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0101]CSAC用MEMS型Csガスセルの開発（１）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-301 ウエハ接合装置
F-KT-302 ダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0102]ポーラスシリコン電極への金属コバルトおよび酸化テルビウムの共析
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0103]配線パターンの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0104]ミストデポジション法による有機半導体薄膜の作製
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0105]ナノテクノロジープラットフォーム学生研修プログラム
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0106]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0107]電気化学反応による高精度ポーラスシリコン電極の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0108]PDMS埋め込み型電極アレイの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-288 セルテストシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0109]スプレーコート法による高段差基板上レジスト膜形成
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F-KT-231 スプレーコータ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0110]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0111]スプレーコート法による超高段差基板上レジスト膜形成 ２
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F-KT-231 スプレーコータ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0112]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発 ２
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0113]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 ２
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0114]新規デバイス向けウェハ微細パターニング
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0115]ＭＥＭＳ加工技術を用いた音響センサデバイスの開発 ②
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0116]3D-MEMS加工技術を利用したマイクロ宇宙推進機の抜本的な推進効率の向上
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0117]薄膜ピエゾの圧電特性
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0118]薄膜ピエゾの圧電特性 ２
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0119]漿液性子宮内膜腺癌においてシスプラチン感受性に対する研究
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F-KT-235 ICP質量分析装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0120]超硬合金WC炭化タングステンのカーボン添加による強度向上とメカニズム解明
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0121]帯電微粒子の自己組織配列を利用したプラズモン構造色の色域拡大および大面積印刷
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0122]鋳型を用いた微細構造転写に基づく機能性ポリマー薄膜の創製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0123]酸化アルミナを鋳型とした微細構造を有するポリマー薄膜の作製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0124]圧電デバイスコース（CUPAL）
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0125]深紫外発光素子の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0126]マイクロ・スケールの熱流体現象の解明
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0127]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0128]Al2O3コーティングを施したステンレス表面における高温熱処理の影響
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F-KT-274 X線回折装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0129]結晶方位データを用いた材料設計へのアプローチ
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0130]電極材料の構造特性評価
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0131]多孔性高分子の構造と物性
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0132]共振子デバイスの開発
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0133]CNT電気特性評価のための微小電極並列チップ作製
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0134]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0135]等速電気泳動を用いた一細胞スケールRNA 抽出における効率の評価
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0136]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発⑤
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0137]CSAC用MEMS型Csガスセルの開発（２）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-301 ウエハ接合装置
F-KT-302 ダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0138]単結晶シリコンのへき開によるナノギャップ形成とギャップ間の熱・電子移動計測
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0139]抗原抗体反応の検出を目的とした横波型薄膜共振子MEMSセンサの創製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0140]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0141]多層膜による波長選択赤外線源の開発
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0142]臨床検査デバイスの開発 2
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0143]自動車用エンジンの超高効率化のための給気ガス改質技術の開発 ２
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0144]遷移金属ダイカルゴゲナイドとフラーレンの複合体
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0145]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0146]半導体プロセス基礎実験 2
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F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0147]薄膜形成及びドライエッチングによる試料加工技術の開発2
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0148]ハサミアジサシ類のくちばしに見られる微細構造の機能解明
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0149]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0150]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0151]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究 その２
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-235 ICP質量分析装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0152]希土類添加酸化物薄膜を用いた無機ELの開発
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0153]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0154]微量化学物質除去に及ぼす有機膜表面のゼータポテンシャルの影響の検討
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0155]金属メタマテリアルによるテラヘルツ電場制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0156]プラズモニック金ナノ粒子凝集体構造を有するMEMS共振器
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0157]単独金ナノ粒子二量体の表面増強ラマン分光特性
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0158]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 ２
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0159]色素増感太陽電池用対極基板のＦＴＯガラスのパターニングの検討
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0160]水晶振動子の不良再現試験
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F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0161]セルロースナノファイバー開発に関する相談
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0162]3次元加工性を有するセルロースナノファイバー強化樹脂材料の開発
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0163]高分解能電流経路映像化システムの開発
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0164]バイオMEMSデバイス試作に関して
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0165]サブミクロンパターンの試作
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0166]電子線描画装置アドバンストコース（CUPAL）
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0167]プラズマ曝露による絶縁薄膜の粘弾性特性変化の研究 ２
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0168]シリコンフォトニック結晶の作製と構造評価
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0169]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 ３
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0170]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 ２
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0171]プラズマ曝露されたSi基板表面の反応層の解析
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0001]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0002]マイクロ構造を有するPDMS薄膜の作成
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0003]感光性材料の加工技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0004]シリコンコロイドから作る多孔質Si膜の電気的性質
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0005]低蒸気圧有機溶媒を利用した新規マテリアル創生に関する研究
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F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0006]GRENE先進環境材料・デバイス創製スクール「フォトニックコース」実習編
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0007]プラズマスパッタによる Si ナノワイヤ形成
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0008]マイクロ構造を有するPDMS薄膜の作成
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0009]異方的な物性をもったコロイド粒子の作製
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0010]ポリイミド膜上での微細銅パターンの作成
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0011]薄膜材料の反応生成モデリングおよび電極材料の構造特性評価 その１
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0012]薄膜材料の反応生成モデリングおよび電極材料の構造特性評価 その2
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0013]単結晶薄膜ACoO3 (A=Ca, Sr)の構造評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0014]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0015]高性能圧電薄膜による高感度超音波トランスデューサの開発
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0016]ガラス部材の先端的加工技術開発
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0017]シリコンの機械特性に及ぼす寸法・温度効果
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0018]シリコンの機械特性に及ぼす寸法・温度効果、その２
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0019]残光性量子ドットの合成と残光機構
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0020]カンチレバーを用いた高周波ESR測定法の開発
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F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0021]金属薄膜の微細加工に関する一考察
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0022]樹脂モールドの耐久性検討
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0023]X線位相イメージング用位相格子の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0024]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0025]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-235 ウェハ汚染計測装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0026]半導体および絶縁体のナノ構造評価 その１
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0027]半導体および絶縁体のナノ構造評価 その２
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0028]π－π相互作用を介した共役ポリマー間のキラリティ転写
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0029]積層フィルムの断面観察
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F-KT-228 液滴吐出描画装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0030]ポリマーMEMS製作技術の開発
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0031]酸化アルミナを鋳型とした微細表面構造を有するポリマー薄膜の作製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0032]レリーフ効果のホログラム試作
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0033]各種配水管材質に対する細菌、微粒子の付着特性の検討
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0034]ナノ構造による光制御技術
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-251 レーザアニール装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0035]ナノテクノロジーによる地球天然物を基にした新多機能性材料の開発
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0036]臨床検査デバイスの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0037]臨床検査デバイスの開発 その２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0038]サブミクロンパターンの試作
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0039]ポリマ光変調器の低消費電力化
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0040]ポリマ光変調器の低消費電力化 その２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0041]ＩＴＯナノドットアレイの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0042]窒化チタンプラズモニックアレイの作製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0043]メソポーラスシリカ薄膜を利用した異方性プラズモニック構造の作製
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0044]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発 ①
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0045]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発 ②
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0046]圧電膜を利用した音響センサ作製
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0047]薄膜形成及びドライエッチングによる試料加工技術の開発
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0048]サブミクロンAu粒子による気密封止接合
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0049]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0050]圧電薄膜の作成
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0051]ファインバブルの無機材料合成への応用
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0052]走査型プローブ顕微鏡を用いた細胞集合体の強度測定
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0053]DNAオリガミ架橋構造のシリコン基板への選択的形成
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0054]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開 (2)
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F-KT-302 ダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0055]GRENEフォトニックコース実習
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0056]半導体異種材料接合の研究
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0057]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布の制御
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0058]半導体異種材料接合の研究
|
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0059]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0060]二酸化バナジウムを用いたキャパシティブ・インダクティブ特性の切り替え可能なテラヘルツメタ表面の実現
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0061]ガラスの微細加工
|
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0062]低温陽極接合をもちいたパッケージング技術の封止性能評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0063]GRENEフォトニックコース実習 ２
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0064]二酸化バナジウム膜のドライエッチングによるパターニング
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0065]VUV還元酸化グラフェンFETの作製とその電気特性評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-292 半導体パラメータアナライザ
F-KT-289 マニュアルプローバ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0066]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0067]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 (2)
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0068]3D-MEMS加工技術を利用したマイクロ宇宙推進機の抜本的な推進効率の向上
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0069]プラズマ暴露による有機系薄膜の誘電率変化の研究
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0070]感光性ポリイミドを用いた、たんぱく質構造解析用チップの製作
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0071]石英ガラスモールドの作製
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0072]プラズマ用インジケータの開発
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F-KT-299 ICP-RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0073]Ｘ線１分子動態計測用低ノイズマイクロチャンバの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0074]マイクロ流体デバイスの埋め込み型の金属配線パターン作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-300 簡易RIE装置
F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0075]イオン液体型圧力センサの作製プロセスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0076]結晶系太陽電池ウェハの微細表面構造創製
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0077]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0078]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0079]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0080]浮遊微粒子捕集用マイクロ流路デバイスの作製
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0081]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0082]固体中におけるスピン流輸送現象の解明、その２
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F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0083]MEMSデバイスの温度特性改善
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F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0084]ポーラスシリコン電極への金属めっき
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0085]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0086]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証 ２
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0087]MEMSセンサ
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F-KT-292 半導体パラメータアナライザ
F-KT-289 マニュアルプローバ
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0088]ナローバンド吸収特性を有するプラズモニックナノ構造
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0089]メタマテリアルを用いたバイオセンシング, その２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0090]高感度表面増強ラマン分光分析技術のための金ナノ粒子二量体配列の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0091]INCONEL alloy617 合金の微細析出物の観察
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0092]内部酸化銀の微細酸化物の観察
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0093]架橋構造シリコンナノワイヤのMEMS集積化と引張強度評価
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0094]80 μm角センサの10×10アレイを用いたSOI静電容量型加速度センサ
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0095]自己組織化ナノ細孔を用いたナノポアDNAセンサの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0096]ナノ粒子表面状態と細胞との相互作用に関する研究
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0097]ひずみゲージ集積型単結晶シリコンマイクロ構造の並列引張疲労試験
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0098]単層グラフェンの破壊特性評価
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0099]多孔性高分子の構造と物性
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0100]一本鎖DNAを修飾した単層CNTの金ナノ電極への架橋アセンブルと特性評価
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0101]へき開破壊によるナノギャップ創製MEMSデバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0102]DLC薄膜でコーティングしたシリコンマイクロ構造の引張試験
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0103]多孔性高分子の構造と物性 ２
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0104]Siウェハへの微細穴加工の実施
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0105]植物の成長モニタリング用MEMSセンサの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0106]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0107]局所プラズモン共鳴によって誘起されたマランゴニ流における表面の濡れ性の影響
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F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0108]VO2薄膜のサーモクロミズムによる熱ふく射の波長制御
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0109]金属メタマテリアルによるテラヘルツ電場制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0110]新方式アルミ製放熱材の量産技術開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0111]GRENE事業 「高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省エネ照明デバイスの実証」
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F-KT-263 ダイボンダ
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0112]GRENE事業 「高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証」
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0113]GRENE事業 「新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証」
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0114]GRENE事業 「高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省エネ照明デバイスの実証」
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F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
F-KT-263 ダイボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0115]GRENE事業 「高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証」
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0116]大面積超高精度電子線描画装置を用いたサブミクロンピッチ回折格子金型の製作
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F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0117]ナノポーラスSiO2エレクトレット開発にむけたSi熱酸化膜形成およびその評価
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F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0118]混合潤滑特性に及ぼす表面ディンプルパターンの影響
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0119]Si微細構造形成の研究
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0120]抗原抗体反応の検出を目的とした横波型薄膜共振子MEMSセンサの創製
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0121]新規デバイス向けウェハ微細パターニング
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0122]色素増感太陽電池への自然材料の応用
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0123]寸法効果を利用したサブミクロンギャップ垂直櫛歯型SOI加速度センサアレイ
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0124]電子線描画装置入門コース（CUPAL）
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0125]細胞内物質導入の基礎研究 その２
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0126]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0127]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 その２
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0128]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0129]MEMSチップステージの開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0130]せん断型ひずみゲージ集積化単結晶シリコンマイクロ構造並列引張試験デバイス
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0131]新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証 ２
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-251 レーザアニール装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0132]光学顕微鏡の結像ユニットの作製1
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0133]光学顕微鏡の結像ユニットの作製 ２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0134]メッシュ培養法を用いた高次細胞構造の作製技術
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0135]静電型ピストンアレイ駆動のMEMS可変形状ミラーの開発
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0136]シリコン加工技術を用いた300 GHz帯導波管型平面アンテナの研究
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0137]GRENEフォトニックコース実習 No.3
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0138]創・省エネデバイスコース実習セミナー
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0139]溶液プロセスによる有機薄膜トランジスタの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0140]光学式バイオセンサの研究
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0141]セルロース系単層カーボンナノチューブ分散材料の開発とトランジスタ応用
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0142]リン脂質含有リポソームの生理機能と物性の相関研究
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0143]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-302 ダイシング装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0144]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 ２
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0145]セラミック微粒子へのW電極形成
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0146]金属塩含有疎水性イオン液体中の水分
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0147]圧電薄膜の形成
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0148]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0149]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0150]MEMS技術支援に関する相談
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0151]MEMS加速度センサの開発
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F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0152]細胞内物質導入の基礎研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0153]サーモバイルデバイスの開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0154]ガラス基板の表面粗さの接合性に及ぼす影響
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0155]コロイドプローブAFMおよびMEMS創成技術を用いた極限流体潤滑の実現と評価
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0156]バイオ・MEMS実践セミナー実習コース
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0157]大面積超高精度電子線描画装置を用いたサブミクロンピッチ回折格子金型の製作 2
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0158]キラルネマチック相を示す液晶性イオン液体反応場でのヘリカルPEDOTの電解重合
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0159]SiO2膜の成膜実験
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0160]単結晶シリコンマイクロ構造高温機械特性に及ぼす構造寸法と結晶異方性の影響
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0161]SOFC(Solid Oxide Fuel Cell)の実験及び数値解析
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0162]平成２７年度ナノテクノロジープラットフォーム学生研修プログラム
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0163]電子線描画装置中級者コース（CUPAL）
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0164]ナノプローブを用いたマイクロ流路内流体温度計測技術の開発
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0165]生体筋の特徴を有したバイオアクチュエータの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-242 熱酸化炉
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0166]次世代集積ガラスバイオ流体デバイスの開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0167]機能性材料薄膜形成についての技術相談
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0168]有機ポリマー微細加工
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0001]固体酸化物形燃料電池コンポジット電極の微細構造解析
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0002]温度反転液晶を用いたらせん状高分子の制御
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0003]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0004]多結晶シリコンMEMS構造共振特性評価
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0005]ナノポーラス金属薄膜の創製と特性評価 その２
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0006]光学顕微鏡の開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0007]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発 その２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0008]微小化された細胞内膜電位記録用電子回路の作成
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0009]半導体および絶縁体内部に形成したナノ構造の評価
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0010]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0011]GRENE先進環境材料・デバイス創製スクール「フォトニックコース」実習編
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0012]π－π相互作用を介した共役ポリマーの凝集体形成
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0013]X線1分子動態計測法で用いる低ノイズ観測チャンバの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0014]シリコンナノワイヤの熱伝導率測定
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0015]微粒子の振動輸送
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0016]マイクロ流体デバイス中での等速電気泳動を用いた抗原抗体反応の促進
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0017]キネシンモータタンパク質固定のためのナノピラーの作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0018]単結晶薄膜ACoO3 (A=Ca,Sr)の構造評価
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0019]ＮｂドープＰＺＴスパッタリングターゲットによる成膜とその特性評価
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F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0020]ステルスダイサーを用いたSi基板のチップ化
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0021]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0022]自立薄膜形成方法の検討
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F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0023]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0024]フォノンエンジニアリングに向けたグラフェンヘテロ構造の界面制御
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0025]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0026]高分子系複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0027]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0028]ポリイミド膜のドライエッチング評価とそれに基づく改良検討
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0029]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
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F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-302 ダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0030]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0031]薄膜ピエゾの圧電特性
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0032]ナノテクプラットフォーム技術支援者交流プログラム
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0033]Van Der Pauw法による半導体膜（炭素系）の抵抗測定
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0034]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御； 擬似表面プラズモンを用いた光の起動角運動量に関する光学遷移選択則の研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0035]燃料電池用触媒の開発
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0036]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 その２
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0037]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 その１
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0038]ポリイミド基板上の絶縁破壊の条件に関する研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0039]ポリイミド基材上での微細加工
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0040]電子線描画装置入門コース（CUPAL）
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0041]感光性ポリイミドを用いた、たんぱく質結晶成長デバイスの開発
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0042]ナノポーラス金属薄膜の創製と特性評価
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0043]サブミクロンAu粒子による気密封止接合
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-297 ナノインプリント装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0044]半導体異種材料接合の研究 (1)
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0045]半導体異種材料接合の研究 (2)
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F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0046]MEMS技術を用いたマイクロ流路の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0047]光電子デバイス応用へ向けた原子層材料の光学特性の解明
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0048]圧電MEMS用下部電極材料の開発
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0049]高Ｑ値シリコンフォトニック結晶ナノ共振器の高度化に向けた検討
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0050]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発 その２
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0051]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0052]ダイヤモンド上への反転フォトリソグラフィー手法の確立
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0053]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0054]ナノ構造による光制御技術 ２
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0055]高抵抗アルミナ膜作製の基礎検討
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-289 マニュアルプローバ
F-KT-292 半導体パラメータアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0056]結晶系太陽電池ウェハの微細表面構造創製
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0057]結晶系太陽電池ウェハの微細表面構造創製 ２
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0058]ナノ構造による光制御技術 ２
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0059]MEMSセンサ
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0060]MEMSセンサ (2)
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0061]溶融塩電気化学プロセスで得られた炭素めっき膜の構造解析
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0062]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0063]Siウエハ独立回路への無電解めっきプロセス
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0064]半導体および絶縁体内部に形成したナノ構造の評価 ２
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0065]単結晶シリコンマイクロ構造高温機械特性に及ぼす構造寸法と結晶異方性の影響
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0066]動的解析を用いた非対称シリコン・マイクロミラーの高励振効率化に関する研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0067]GRENE事業 「強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証」
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0068]シリコン単結晶薄膜の衝撃破壊特性に及ぼす温度の効果（その１）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0069]シリコン単結晶薄膜の衝撃破壊特性に及ぼす温度の効果 (その２)
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0070]酸化バナジウムを用いたアクティブパーフェクトアブソーバの開発
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0071]金属ナノ粒子粒度測定
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0072]溶液中のカーボン粒子分散状態とその安定性検討
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0073]ガラス基板の表面粗さの接合性に及ぼす影響
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F-KT-253 基板接合装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0074]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-256 レーザダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0075]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製 （２）
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0076]軽金属用電気伝導率推定システムの開発
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0077]フェムト秒レーザーによるエレクトライド活性
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0078]金属アルミニウムの腐食を利用した水素発生装置の作製
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F-KT-231 スプレーコータ
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0079]自己補対メタ表面の周波数無依存応答
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0080]キャビティ付SOIウェハの作製
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0081]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製（２）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0082]ダイヤモンド成長とデバイス応用
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0083]DNAオリガミ架橋構造のシリコン基板への選択的形成
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0084]MEMSデバイスの振動状態観察
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-285 真空プローバ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0085]MEMSデバイスの温度特性改善
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F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0086]リソグラフィーを用いた微細構造形成技術の開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0087]真空蒸着による極薄金属膜の作製
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0088]単結晶シリコンのへき開によるナノギャップ形成
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0089]ナノ構造の試作
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0090]単結晶シリコン自立マイクロ構造のKrFエキシマレーザ局所アニールによる表面 改質および機械的信頼性向上
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0091]ナノゲル集積マテリアルの構造と物性に関する研究
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0092]誘電体膜のナノパターニング加工（2）
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F-KT-241 プラズマCVD装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0093]寸法効果を用いたサブミクロンギャップを有するSOI静電容量型 加速度センサアレ
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0094]アルミニウム薄膜の微細加工に関する研究
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0095]微粒子表面の観察
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0096]FeSi2薄膜を用いた赤外線吸収・放射特性の制御
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F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0097]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0098]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0099]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発 ２
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0100]イオン液体潤滑膜のマイクロトライボロジー
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F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0101]レーザー集光照射によって生じた石英ガラス内部の微細構造の解析
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0102]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布の制御
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0103]ポリマ光変調器の低消費電力化
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0104]ポリマ光変調器の低消費電力化２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0105]数10nm～数100nm径Hole Array，Pillar ArrayおよびGratingの形成、その２
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0106]数10 nm～数100 nm径Hole Array，Pillar ArrayおよびGratingの形成,その３
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0107]非鉛圧電膜の加工技術
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0108]駆動電極可動型MEMS静電可変形状ミラーの作製
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0109]poly-Si擬2次元周期微細構造の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0110]自立膜を形成したウェハのレーザーダイシング検討
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0111]酸化アルミナを鋳型とした微細表面構造を有するポリマー薄膜の作製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0112]高性能圧電薄膜による高感度超音波トランスデューサの開発
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0113]Si構造体を用いたVOCガス吸着体
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0114]熱溶解積層3Dプリンタにおけるプラスチック固化過程の可視化解析用マイクロデバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0115]波長以下の超微細金型加工の研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0116]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-302 ダイシング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0117]非対称シリコン・マイクロミラーの高励振効率化に関する研究
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0118]ガス分離ポリマー膜の開発
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0119]カーボンナノチューブセンサーアレー
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0120]有機ポリマー微細加工
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0121]ポリマーMEMS製作技術の開発
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0122]多孔性高分子の構造と物性
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0123]新規デバイス向けウェハ微細パターニング
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F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0124]新規デバイス向けウェハ微細パターニング ２
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0125]大面積超高精度電子線描画装置を用いたナノインプリント用シリコンモールドの作製
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0126]高配向メソポーラスシリカ薄膜を基板とする金属メソグレーティング構造の作製
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0127]ナノインプリントを用いた金ナノ粒子周期構造の作製
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0128]フォトマスクおよびナノインプリント用モールド開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0129]ポリマーMEMS製作技術の開発 ２
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0130]薄い膜厚のコロイド結晶の形成
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0131]サブミクロン周期の三次元周期構造体形成
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0132]「プラズマインジケータ」の研究開発
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F-KT-299 ICP-RIE装置
F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0133]「プラズマインジケータ」の研究開発 (２)
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F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0134]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0135]GRENE事業 「高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証」
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0136]樹脂とカーボンの複合体作製と評価
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0137]GRENE事業 「創・省エネデバイス実習セミナー」
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0138]GRENE事業 「新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証」
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0139]ナノ粒子配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術
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F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0140]ナノ粒子配列ナノ流体デバイスを用いた表面増強ラマン分光分析技術 ２
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0141]ナローバンド光吸収特性を有するプラズモニック金ナノ構造の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0142]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0143]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0144]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 ３
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0145]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 ２
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0146]Si基板のドライエッチングによる大面積微細構造形成
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0147]難加工材のドライエッチング加工
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0148]リン脂質含有リポソームの生理機能と物性の相関研究
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0149]ナノ要素集合薄膜の変形剛性特性評価 No.2
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0150]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究 ２
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0151]キラルネマチック相を示す液晶性イオン液体反応場でのヘリカルPEDOTの電解重合
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0152]COI 「細胞組織化と血液検査」
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0153]COI 「細胞組織化と血液検査」 (2)
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0154]圧電駆動方式MEMS光スキャナの開発
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0155]X線1分子動態計測法で用いる低ノイズ観測チャンバの開発 ２
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0156]抗原抗体反応の検出を目的とした横波型薄膜共振子センサの開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0157]一本鎖DNA修飾した単層カーボンナノチューブの電気・機械特性評価
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0158]ブロックコポリマーの配向自己組織化を用いたナノリソグラフィー
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0159]ひずみゲージ集積型単結晶シリコンマイクロ構造の並列引張疲労試験
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0160]金属共振器を用いた高効率テラヘルツ磁気励起手法の開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0161]波長以下の超微細金型加工の研究2
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0001]圧電膜を利用した音響センサ製作
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0002]ナノ構造薄膜を用いた発熱の空間的時間的制御
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0003]多段ICP-RIEプロセスによるSiナノワイヤのMEMS集積化
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-299 ICP-RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0004]液相法による機能性ナノ・マイクロ構造の構築
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F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0005]高分子系複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0006]マイクロ機械構造体の信頼性向上のための単結晶シリコンの破壊特性評価
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F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0007]フォトリソグラフィーを使ったメタマテリアルの作製（１）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0008]微細回折格子の作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0009]無機材料物性の光学特性と構造の解析による評価
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F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0010]ポリマ光変調器の低消費電力化
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0011]シリコン単結晶のマイクロ疲労試験
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0012]金属塩含有疎水性イオン液体中の水分
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0013]ナノポーラス金属薄膜の創製と特性評価
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F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0014]Zr合金酸化膜中の重水素拡散に及ぼすイオン照射の影響
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0015]ブロックコポリマーの配向自己組織化を用いたナノリソグラフィー
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0016]シリコン単結晶の脆性延性遷移に及ぼす寸法効果の評価
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0017]ナノポーラス金属薄膜上の細菌・細胞観察
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0018]中枢神経軸索の再生
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0019]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0020]微細構造プラズモニックチップの射出成形金型加工
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0021]細胞培養用ハイドロゲル基盤のAFM顕微鏡システムによる弾性測定
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F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0022]一本鎖DNAを修飾したSWCNTの電気、機械特性評価
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0023]カーボンナノチューブの機械特性評価のためのMEMS引張試験デバイスの製作
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0024]抵抗変化薄膜の光学特性の評価
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F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0025]高分子系複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明（２）
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0026]ナノギャップ熱伝達測定デバイスの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0027]ドライエッチングによるフォトマスクの作製
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0028]シリコン単結晶の脆性延性遷移に及ぼす寸法効果の評価（その２）
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0029]延性脆性遷移温度における単結晶シリコン薄膜のマイクロ引張試験
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0030]3DプリンタによるSOFC 電極微構造の拡大再構築および形状再現性の評価
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0031]細胞親和性付与のための高分子表面改質
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F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0032]両側静電駆動MEMS光チョッパによる時間分解顕微ラマン分光
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0033]フォトリソグラフィーを使ったメタマテリアルの作製 (2)
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-301 ウエハ接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0034]多原子分子イオンを用いた表面改質および新規マテリアル創生に関する研究
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0035]光学波面補償のための静電型可変形状ミラーの作製
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0036]ナノ・マイクロ加工技術による細胞機能制御
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0037]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0038]ジブロック共重合体の自己組織化を用いたフェリチンの配列制御に関する研究
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0039]GRENE先進環境材料・デバイス創製スクール「フォトニックコース」実習編
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0040]エキシマレーザアニールによるシリコンマイクロ構造の表面改質
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0041]非鉛圧電膜の加工技術
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0042]インプリント用ガラスモールドの量産課題検討
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F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0043]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0044]MEMSデバイスの小型化
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F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0045]Van Der Pauw法による半導体膜（炭素系）の抵抗測定
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0046]SAWデバイスの評価
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F-KT-289 マニュアルプローバ
F-KT-290 RFプローブキット
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0047]固体電解質の研究開発
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F-KT-263 ダイボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0048]MEMSデバイスの小型化
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F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0049]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製(2)
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0050]MEMSウエハSD加工
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0051]数10nm～数100nm径Hole Array，Pillar ArrayおよびGratingの形成
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0052]血管内皮細胞HUVECの培養デバイスの製作
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0053]蛋白質1分子動態計測に用いるナノインプリント法でサイズ制御した金ナノ結晶の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0054]微細パターン形成用金属系ナノ粒子及びその分散液の開発
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F-KT-228 液滴吐出描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0055]３次元リソグラフィ用プロセス最適化シミュレータの開発（２）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0056]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0057]X線1分子動態計測法で用いる低ノイズ観測チャンバーの開発
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0058]Siウエハ（Alパッド）への表面処理について
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F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0059]小型原子磁気センサ用アルカリ金属蒸気セルの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0060]小型原子磁気センサ用アルカリ金属蒸気セルの開発②
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0061]ナノインプリントによる３次元フォトニック結晶の作製
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F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0062]ダイヤモンド成長とデバイス応用
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0063]CVD法を用いて合成した単層MoS2の発光測定
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F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0064]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製
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F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0065]ナノファイバーの物性研究
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F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0066]メソポーラスシリカのフォトニクス応用
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0067]有機強誘電体の面内分極反転
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0068]細胞内物質導入の基礎研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0069]MEMSセンサ
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0070]Deep-RIEのエッチング高速化と加工壁面の平滑化
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F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0071]感光性樹脂を用いた微細加工
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F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0072]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0073]マイクロ流路中でキネシンにより駆動される微小管フィラメントの構造情報に基づく運動方向制御
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F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0074]誘電体膜のナノパターニング加工1
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0075]誘電体膜のナノパターニング加工2
|
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0076]サブミクロンAu粒子による気密封止接合
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F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0077]超低電圧駆動ポリマ光変調器
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0078]ナノインプリントによる３次元フォトニック結晶の作製（２）
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0079]「プラズマインジケータ」の研究開発
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F-KT-299 ICP-RIE装置
F-KT-300 簡易RIE装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0080]サブミクロン周期構造に関するプロセス課題抽出
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F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0081]MEMSデバイスの温度特性改善
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F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0082]MEMSデバイスの温度特性改善（２）
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F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0083]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発
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F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0084]CNT複合体の膜形成技術の開発
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0085]新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0086]新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証（２）
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-251 レーザアニール装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0087]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0088]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発（２）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0089]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0090]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（２）
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0091]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（３）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0092]接点変調によるチェッカーボード型メタ表面の転移現象
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0093]ナノインプリントを利用した三次元周期構造形成
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0094]ナノインプリントを利用した三次元周期構造形成（２）
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0095]医療診断用銀微粒子プラズモン電場増強素子とその応用装置の開発
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F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0096]接点変調によるチェッカーボード型メタ表面の転移現象
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0097]CVD法により形成した絶縁膜の評価解析
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F-KT-284 プローバ
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0098]ナノインプリント用モールド開発
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0099]表面増強ラマン分光におけるナノ粒子配列の方向依存性評価
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0100]多点微小流体を用いたマイクロバイオマニピュレーションに関する研究
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0101]フィルム基材上の薄膜構造解析
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F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0102]マイクロ流路の作製（MEMS実践セミナー）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0103]高感度光導波路型センサの開発
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F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0104]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0105]マイクロ流路を有する水素供給セルの作製と燃料電池への応用
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0106]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0107]poly-Si擬2次元周期微細構造の作製
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0108]金ナノ粒子配列を用いた4,4’-ビピリジンの高感度ラマン分光分析
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0109]マイクロ流路の試作
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0110]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布の制御
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F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0111]溶液中における微細粒子の会合状態検討
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0112]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製（２）
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F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0113]細胞コロニーの大きさを制御するためのマイクロポア膜の開発
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0114]AFM用シリコン先鋭化探針の作製
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F-KT-251 レーザアニール装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0115]ナノ粒子配列マイクロナノ流体デバイスを用いた表面増強ラマン分析
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0116]Si基板への金属ナノ構造形成
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F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0117]ナノ粒子直鎖配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0118]溶液中における微細粒子の会合状態検討（２）
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0119]MEMS加工を用いた中空構造の形成
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F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0120]圧電膜を利用した音響センサ製作（２）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0121]有機ポリマー微細加工
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0122]薄膜ピエゾの圧電特性
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0123]GRENE Project新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証
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F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-251 レーザアニール装置
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0124]半導体基板加工
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0125]微小管運動アッセイ用マイクロ流体デバイスの製作
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-301 ウエハ接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0126]多点櫛形電極の作成
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0127]医療用マイクロ濃縮機における構造の最適化に関する研究
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0128]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発
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F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0129]炭化物ナノシートの評価
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F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0130]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究
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F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0131]薄膜ピエゾの圧電特性（２）
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F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0132]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
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F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0133]ポリマーMEMS製作技術の開発
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F-KT-298 パリレン成膜装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0134]高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0135]多点櫛形電極の作成（２）
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F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0136]GRENE Project 創エネデバイス（圧電）コース実習
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F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0137]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発（２）
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0138]マスクレス露光装置を用いた立体構造ＰＣ基板露光
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F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0139]有機機能性微小単結晶を用いた薄膜電子デバイス作成
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0140]微細加工技術を用いた水晶センサの製作
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F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0141]GRENE Project 高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省ｴﾈ照明ﾃﾞﾊﾞｲｽの実証
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F-KT-262 ボールワイヤボンダ
F-KT-263 ダイボンダ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0142]ダイヤモンド上への反転フォトリソグラフィー手法の確立
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F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0143]配向性を有する細胞シートの作製と評価
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0144]テラヘルツ波用パッチアンテナに関する研究
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0145]磁石薄膜とSiウェハとの密着性検討
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F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0146]イオン液体潤滑膜のマイクロトライボロジー
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F-KT-275 分光エリプソメーター
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0147]細胞接着のマイクロ・ナノスケール解析
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F-KT-224 レーザー直接描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0148]ナノインプリント用モールド開発
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F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0149]多結晶シリコンMEMS構造共振特性評価
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F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0150]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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F-KT-257 ダイシングソー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0001]医療診断用銀微粒子プラズモン電場増強素子とその応用装置の開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0002]細胞分裂期の細胞膜にかかる張力と分裂軸制御
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0003]CKプロジェクト・バイオイメージングデバイス開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0004]X線1分子計測法の開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0005]サイズ制御されたナノ粒子の作製
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0006]プログラマブル・セルフ・アセンブルを用いたＭＥＭＳとナノ構造の融合
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0007]ナノ粒子表面状態と細胞との相互作用に関する研究
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0008]薄膜材料の反応生成モデリングおよび電極材料の構造特性評価
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0009]ナノインプリントを利用した三次元周期構造形成
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0010]細胞親和性付与のための高分子表面改質
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0011]薄膜複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0012]MEMS流量センサーの開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0013]表面状態の改質
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0014]高分子溶液を用いた電池の研究開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0015]MEMSデバイスの小型化
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0016]PZT圧電薄膜微細加工
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0017]圧電膜を利用した音響センサ製作
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0018]３次元リソグラフィ用プロセス最適化シミュレータの開発
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[F-12-KT-0019]多チャンネルマイクロチップを用いる血清試料中のがんマーカーの高感度検出法の開発
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[F-12-KT-0020]DNA/Siメモリトランジスタの基板作製
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[F-12-KT-0021]細胞操作用マイクロハンドならびに力センサの開発
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[F-12-KT-0022]節付きBoschプロセスによる3層構造の作製
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[F-12-KT-0023]エキシマレーザアニールによるシリコンマイクロ構造の表面改質
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[F-12-KT-0024]MEMS振動型ジャイロスコープの加速度感度の低減
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[F-12-KT-0025]ビオチン修飾1本鎖DNAを用いたSWCNTの孤立アセンブル
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[F-12-KT-0026]SOG構造を用いた光MEMSチョッパの試作
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[F-12-KT-0027]マイクロ機械構造体の信頼性向上のための単結晶シリコンの破壊特性評価
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[F-12-KT-0028]多段ICP-RIEプロセスによるSiナノワイヤの作製
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[F-12-KT-0029]エレクトロポレーション技術を用いた細胞内物質導入の研究
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[F-12-KT-0030]細胞局所刺激用マイクロデバイスの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0031]細胞間相互作用計測デバイスの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0032]細胞外微小溶液環境調節デバイスの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0033]ナノ構造体の機械特性評価
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[F-12-KT-0034]ナノ構造体の機械特性評価2
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0035]KNN圧電薄膜微細加工
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0036]GRENE教育事業「マイクロ・ナノ材料コース」
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0037]次世代グリーンセンサデバイスの開発
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[F-12-KT-0038]PZT圧電薄膜の転写加工
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[F-12-KT-0039]μ-TAS・MEMS用光硬化性樹脂組成物の光パターニング性評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0040]KNN圧電薄膜のコンビナトリアル成膜
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0041]Si基板上に形成した圧電薄膜の構造解析
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[F-12-KT-0042]生体分子とマイクロナノ構造の融合
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[F-12-KT-0043]ヒューマンエレクトロニクスに関するデバイス及びシステムの研究
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[F-12-KT-0044]マイクロ流路の作製及び構造計測
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[F-12-KT-0045]フィルム基材上の薄膜構造解析
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[F-12-KT-0046]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究
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[F-12-KT-0047]合成化合物の解析
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[F-12-KT-0048]薄膜ピエゾの圧電特性
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0049]μ-TAS・MEMS用光硬化性樹脂の細胞培養適性の評価
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[F-12-KT-0050]センシング研究
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[F-12-KT-0051]医用材料の表面修飾法の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0052]細胞分析のためのマイクロ流体システムの構築
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0053]グラフェンの走査プローブ顕微鏡による評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0054]クルクミンを用いた新規がん治療法の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0055]Shearing干渉計を用いたAt-wavelength波面計測法の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0056]多結晶ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0057]Si基板への金属ナノ構造形成
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[F-12-KT-0058]GRENE夏期集中講義 「創エネデバイス（圧電）コース」実習セミナー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0059]細胞･生体分子のバイオメカニクス実験手法の開発
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[F-12-KT-0060]ナノ光学用金属ナノ構造体の微細構造観察
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[F-12-KT-0061]金属材料の微細領域における力学的組織変形の観察
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[F-12-KT-0062]ナノゲル集積マテリアルの構造と物性に関する研究
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[F-12-KT-0063]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布制御
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[F-12-KT-0064]ソーダ石英ガラスのヒーリング挙動について
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[F-12-KT-0065]生体分子とマイクロナノ構造の融合
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[F-12-KT-0066]MEMSデバイスの温度特性改善
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[F-12-KT-0067]原子レベルで制御された極性結晶界面の開発とデバイスの実証
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[F-12-KT-0068]細胞内物質導入の基礎研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0069]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0070]セラミックス材料のエキシマレーザーアニールに関する研究
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[F-12-KT-0071]MEMSデバイス
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0072]マイクロ電極を用いた微小繊維の導電性評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0073]貴金属代替プラズモニクス材料の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0074]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0075]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0076]医療用マイクロ濃縮機における構造の最適化に関する研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0077]液相法による機能性ナノ・マイクロ構造の構築
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0078]テラヘルツ波用パッチアンテナに関する研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0079]細胞内物質導入の基礎研究
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[F-12-KT-0080]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0081]ナノ粒子を用いた化学センサに関する研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0082]非鉛圧電膜の加工技術
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[F-12-KT-0083]基板ダイシング加工
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0084]高温斜め蒸着によるGa2O3ナノワイヤの成長に関する研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0085]光ピンセットを用いたマイクロ粒子に働く誘電泳動力の計測
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0086]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0087]マイクロ流路を用いた強磁場環境下における赤血球の磁気特性解明
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0088]摺動膜のヤング率測定
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0089]飲料水の研究開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0090]ポリマー微小光素子の研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0091]金ナノ構造体の微細構造観察
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0092]ナノ微細加工を応用した新規光学材料・デバイスの研究開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0093]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0094]β-FeSi2薄膜による熱ふく射の制御
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0095]光学調整用基材へのSiO2スパッタ膜の密着性検証
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0096]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0097]ナノインプリント用モールド開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0098]MEMSミラーに関する研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0099]新規デバイス向けウエハへの微細パターンニング
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0100]修飾方法の検討と評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0101]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証②
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0102]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0103]ポリイミド膜のドライエッチング評価とそれに基づく改良検討
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0104]小型、ローコストMEMSデバイスの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0105]イオン液体潤滑膜のマイクロトライボロジー
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0106]Si流路加工
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0107]高密度光ストレージの研究開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0108]ナノインプリント用ガラスモールドの量産課題検討
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0109]誘電体薄膜のナノパターニング加工
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0110]ナノインプリントによる接着性能の改善
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0111]MEMS技術を応用したマイクロ流路の作製（ﾅﾉﾌﾟﾗ学生実習）
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0112]圧電薄膜を使用したMEMSデバイスの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0113]新しい太陽電池の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0114]水素化合物におけるγアルミナの触媒特性の研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0115]高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省エネ照明デバイスの実証
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0116]高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0117]新規鉛フリー圧電材料開発と高周波振動発電デバイスの実証
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0118]ナノ構造体の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0119]MEMS技術を用いた新しい人工内耳の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0120]MEMSデバイスの作製プロセス開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0121]MEMSセンサの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0122]Si加工技術開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0123]ドライエッチングによる立体加工
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0124]Siナノワイヤの電子物性に関する基礎研究
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0125]石英基板の加工
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0126]X線回折測定による粉末試料の評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0127]インナー素材の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0128]SEMを用いたろ過膜の表面観察と膜ファウリング評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0129]ナノ微細構造の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0130]電子顕微鏡による細胞組織観察
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0131]MOSFETの絶縁膜厚とドレイン電流の関係調査
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0132]バイオMEMSの開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0133]強誘電体薄膜の開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0134]新規半導体薄膜形成のための原料開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0135]リチウムイオン電池の電極材料開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0136]有機トランジスタ素子の電気物性評価及び塗布による素子作製
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0137]光学機能性材料の加工性開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0138]微細回折格子の作製
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0139]透明導電膜の評価
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0140]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0141]多点櫛形電極の作製
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(登録なし)
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0142]溶液中における微細粒子の会合状態検討
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0001]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0002]光・電子デバイス応用に向けたガルバニック水中結晶光合成法による表面パターン作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0003]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0004]電子線リソグラフィにおけるレジストプロセス
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0005]化学増幅型レジストの電子線描画パターン評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0006]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0007]位相差フレネルゾーンプレートの製作
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0008]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0009]二次元結晶膜を用いたナノポアセンシングデバイスの開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0010]赤血球の変形能の測定
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0011]ガラス表面への微細加工
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0012]光波帯における電磁クローク媒質の実現
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0013]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0014]ナノ可視化法の開発による染色体研究
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F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0015]光バイオセンサの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0016]高感度ナノウイルスセンサの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0017]高輝度・高演色性ディスプレイに向けた新規材料の研究
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F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0018]VO2薄膜の金属絶縁体相転移過程の直接観測
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0019]フレキシブルエレクトロニクス実現に資する薄膜デバイス開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0021]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0022]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0023]ナノ材料の構造制御合成と電子デバイス応用
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0024]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0025]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0026]有機半導体中のスピン流計測
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0027]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0028]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0029]赤外誘電体メタサーフェス
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0030]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0031]量子ビーム誘起反応に基づいた微細加工材料の創出
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0032]高感度X線イメージング用のX線光学素子の作製
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0033]グラフェンデバイスの作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0034]微細加工技術の援用による固体高分子形燃料電池電極に関する研究
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0035]ポリオキソメタレート分子デバイスにおけるスパイキング発生とその制御
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F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0036]レジスト材料の感光性試験
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0037]電子線描画装置を用いたサブミクロン微細パターンの形成
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F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0038]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0039]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0040]超伝導ナノデバイスの開発
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0041]高機能エラストマー開発における耐性試験
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F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0042]ヒト及び植物染色体内部の構造解析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0043]ピコ秒超音波法を用いたエレクトロマイグレーションのリアルタイムモニタリング
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0045]半導体製造プロセス過程において動作する胎動回路
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0046]直接はんだ付けのためのアルミニウム薄膜形成
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F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0047]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0049]組織構築のためのマイクロ流体デバイスの開発
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0051]微細プロセス構築可能なEUVレジストの開発及び次世代材料の探索
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0052]シリコンディスクの作製
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F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0053]レーザー照射実験用ターゲットの加工
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0054]高強度化を目的としたナノ粒子分散ガラスの開発
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0055]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0056]ナノインプリントの成形試験
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F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0057]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0058]サファイア基板上微小電極の作製
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0059]優れた物理的機能を有する生物のナノ／マイクロ構造観察
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0061]テラヘルツヘリシティ反転を可能にする反射型メタマテリアルの高機能化
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0062]ヘリウムイオンビーム照射による超電導薄膜のnm領域物性制御検討
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0001]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0002]高結晶性ナノカーボン材料の創成とデバイス応用
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F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0003]光バイオセンサの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0004]ナノ可視化法の開発による染色体研究
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0005]E B蒸着により作成した銀薄膜におけるエレクトロマイグレーション挙動の研究
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0006]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0007]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0008]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0009]赤血球の変形能の測定
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0010]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0011]電子線リソグラフィにおけるレジストプロセス
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0012]グラフェンデバイスの作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0013]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0014]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0015]位相差フレネルゾーンプレートの製作
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0016]メタマテリアル構造の観察と評価
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0017]有機半導体中のスピン流計測
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0018]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0019]自立膜を用いた高精度音響減衰測定のためのSi基板エッチング
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0020]赤外メタサーフェス
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0021]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0022]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0023]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0024]量子ビーム誘起反応に基づいた微細加工材料の創出
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0025]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0026]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0027]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0028]半導体マイクロ球の内部観察
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0030]多結晶界面を用いた低熱伝導率酸化亜鉛薄膜の開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0031]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0032]高感度ナノウイルスセンサの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0033]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0036]薄膜の分析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0037]微細加工技術の援用による固体高分子形燃料電池電極に関する研究
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0038]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
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F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0039]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0040]二次元結晶膜を用いたナノポアセンシングデバイスの開発
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0041]超伝導ナノデバイスの開発
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0042]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0043]ナノインプリントリソグラフィーを用いたナノフォトニクスデバイス作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0044]細胞毒性分子のリアルタイム計測にむけた原子層デバイスの作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0045]フレキシブルエレクトロニクス実現に資する薄膜デバイス開発
|
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0046]原子状水素によるドライエッチングの応用に関する研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0047]レジスト材料の感光性試験
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0048]リキッドバイオプシーのための診断技術の開発
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0049]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0050]脂質膜チップの作製とその応用研究
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0051]ナノ・マイクロスケールの構造特性に基づくバイオセンシング基盤に関する研究
|
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0052]ナノ構造による光制御技術
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0053]横型プラズモニックナノポア
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0054]光・電子デバイス応用に向けたガルバニック水中結晶光合成法による表面ナノパターン作製
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0055]シリコンナノディスクアレイからなる新規メタサーフェスデバイスの開発
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0056]MoS2の架橋構造の作製と光活性化ガス応答の評価
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0057]高感度、超高解像性、低ラフネス性の極端紫外線用レジスト材料の開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0058]反応プラズマエッチングにおけるイオン-固体表面反応解析
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0059]テラヘルツ波偏光の高効率制御を可能にする反射型メタマテリアルのパターニング
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0060]金ナノ構造の作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0061]ガラス表面への微細加工
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0062]電子線描画装置を用いたサブミクロン微細パターンの形成
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F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0063]ウイルス試料観察
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0064]電子顕微鏡観察用MEMSヒータの加工
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0065]ドライエッチングマスク形成
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F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0001]位相型フレネルゾーンプレートの製作
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0002]光バイオセンサの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0003]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0004]金属・誘電体ハイブリッド型メタマテリアル
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0005]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0006]電子線リソグラフィーにおけるレジストプロセス
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0008]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0009]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0010]ナノ可視化法の開発による染色体研究
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0011]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0012]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0013]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0014]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0015]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0016]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0017]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0018]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0019]高結晶性ナノカーボン材料の創成とデバイス応用
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0020]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0021]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0022]微細金属構造を用いたナノ分光技術の開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0023]微小電極付きマイクロ・ナノ流路の作製
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F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0024]ナノピラーとナノポアを集積化したマイクロ流体デバイスの開発
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0025]半導体マイクロ球の内部観察
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0026]ナノ材料の変形・破壊に及ぼす応力集中の影響
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0027]ヘリウムイオン顕微鏡による試料観察
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0028]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0029]高感度ナノウイルスセンサの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0030]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0031]グラフェンの層数及び、分散状態の評価
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0032]量子ビームによる次世代微細加工材料の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0033]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0035]次世代半導体向け極薄Ni配線・拡散防止膜の電気特性評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0037]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0038]金属/半導体積層構造を用いた高性能熱電材料の開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0039]光コーティング材のインプリント性試験
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0040]ダイヤモンドデバイス研究
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0041]超伝導ナノデバイスの開発
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0042]自立膜を用いた高精度音響減衰測定のためのSi基板エッチング
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0043]赤血球の変形能の測定
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0044]EB照射によるレジスト解像性検証
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0045]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0046]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0047]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡（GIS機能含む）を用いた染色体の構造解析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0048]薄膜の分析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0049]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0050]強相関酸化物素子における直流電流誘起された電子相の開拓
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0051]スパッタ装置によるAu成膜形成
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0053]ナノポア型ナノ共振器の作製と評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0055]グラフェンデバイスの作製
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0057]高電流密度下でのSn-Agはんだのエレクトロマイグレーション現象
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0058]有機半導体中のスピン流計測
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0059]シングルナノメートル以下の超高精密空間光制御技術の開発
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0060]レジスト材料の感光性試験
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0061]雰囲気光電子分光用ノズルの開発
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0002]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0003]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0004]マイクロ流路チップを利用したin vitro神経筋接合モデルの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0005]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0006]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0007]シリコンミー共振器によるフルカラーの生成と制御
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0008]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0009]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡（GIS機能含む）を用いた染色体の構造解析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0010]ナノギャップ作製に関する研究
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0011]高感度ウイルスナノセンサの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0012]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0013]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0014]ナノ材料の変形・破壊に及ぼす応力集中の影響
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0015]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0016]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0017]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0018]プラズモンによるEu添加GaN赤色発光ダイオードの発光強度増大
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0019]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0020]ダイヤモンド共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0021]新規ナノモールドの開発
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0022]光バイオセンサの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0024]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0025]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0026]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0027]ナノ細孔とナノピラーを用いたDNA センシングデバイスの開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0028]ダイヤモンドデバイスの作製・評価
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0030]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0031]集光型プラズモニックナノポアの作製と評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0032]両極性伝導体への正孔及び電子スピン注入を目的としたvan der Pauw型微小ホール素子作製
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0034]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0035]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0036]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-18-OS-0038]電子線リソグラフィーにおけるレジストプロセス
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0039]感光性樹脂の開発
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0040]有機金属化合物を含む高感度非化学増幅レジストの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0041]微小電極付マイクロ・ナノ流路の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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[F-18-OS-0042]微細表面構造(モルフォ蝶構造)に関する研究
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0043]半導体マイクロ微小球の内部観察
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0045]ラマン分光によるグラフェンの構造評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0046]ナノインプリント法によるアルミニウムナノ構造の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0047]EB蒸着装置による炭素化合物成膜
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0048]量子ビームを使った最先端微細加工材料の研究
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0049]ヘリウムイオン顕微鏡を用いたナノポア作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0050]Waveguide-coupled monolithically fabricated ZnO nanolaser
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0051]透過型電子顕微鏡用観察サンプルの作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0052]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0053]レーザーテラヘルツ放射顕微鏡による半導体デバイスの故障評価
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0055]半導体表面周期構造の観察
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0056]GaN微小共振器型波長変換デバイス
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0057]生物材料の物性解析のためのシリコン基板の作成
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0058]シリコンウェーハ研磨加工の高能率・高精度化
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0059]次世代半導体向け極薄Ni配線・拡散防止膜の電気特性評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0060]光学コーティング材のインプリント性試験
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0061]XFELによる真空回折実験のための光学素子開発
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0062]イオンミリングによるパターン形成
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F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0063]ナノ可視化法の開発による染色体研究
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0064]250℃耐熱フレキシブル熱電発電モジュールの実用化開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0001]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0002]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0003]光バイオセンサの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0005]バイオセンサー表面構築のための化学修飾膜の評価
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0006]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0007]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0008]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回析格子の作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0009]超低損失ダイヤモンドパワーデバイス創製に向けたプロセス開発 (II)
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0010]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0011]シリコンミー共振器によるフルカラー生成
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0012]最先端微細加工材料のナノ化学の研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0013]ナノ細孔とナノピラーを用いたアDNAセンシングデバイスの開発
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0014]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0015]表面増強ラマン散乱計測に用いる金属ナノ粒子表面のナノ計測
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0016]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0017]インプリント工法の検討
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0018]マイクロ流路チップを利用したin vitro神経筋接合モデルの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0019]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0020]ポリマー微細加工技術の構築
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0021]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
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F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0022]FIBによる電子線用フレネルゾーンプレートの作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0023]プラズモンによるEu添加赤色発光ダイオードの発光強度増大
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0024]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0025]ナノインプリントリソグラフィーを用いたポリマー製フォトニック結晶ナノ共振器の作製とセンサ応用
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0026]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0027]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0028]高感度ウイルスナノセンサの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0029]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0030]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0031]MEMS技術を用いた高機能マイクロチップ・パーツの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0032]多孔質炭素材料の局所構造解析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0033]マイカ基板での金薄膜清浄表面の作製
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0034]金属ナノポア構造の作製と評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0035]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0036]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0037]縮退高濃度ホウ素ドープダイヤモンド多重積層構造におけるnmスケールの分散化プロセス
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0038]分子処理による二次元層状半導体の非破壊キャリア制御
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0039]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0040]高感度非化学増幅レジストの研究
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0041]高分子膜電気特性評価用薄膜絶縁層とパターン形成
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0042]ナノギャップ作製に関する研究
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0043]コールターカウンターの作製
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0044]光熱効果に基づくナノ粒子マニピュレーションに最適な金属ナノ薄膜構造体の開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0045]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0046]先鋭構造を有するプラズモニック結晶の設計・作製と超高感度バイオセンシングデバイスへの応用
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0047]半導体マイクロ球の内部観察
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0048]ダイヤモンドデバイスの測定・評価
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0049]新規ナノモールドの開発
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F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0050]バイオ系分析用電極・基板の開発
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0051]第2高調波発生する金属ナノ構造の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0052]分離膜ナノ粒子高機能化に関する研究
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0053]LED 光強度劣化原因調査
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0054]サファイア基板上微小電極の作成
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0055]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡（GIS機能含む）を用いた染色体の構造解析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0056]ヘリウム・ネオンイオン顕微鏡を用いた電子材料の二次電子像、ダメージ、加工特性の検討
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0057]両極性伝導体YH2への磁化反転スピン注入を目的とした微小ホール素子作製
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0002]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0003]超低損失ダイヤモンドパワーデバイス創製に向けたプロセス開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0005]原子オーダー制御した3次元ナノ立体構造の創製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0006]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0007]光バイオセンサの研究
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0008]ポリマー微細加工技術の構築
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0009]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0010]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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[F-16-OS-0011]高感度ウイルスナノセンサの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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[F-16-OS-0012]バイオマイクロデバイスの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
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[F-16-OS-0013]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
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F-OS-313 マスクアライナー
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[F-16-OS-0014]１分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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[F-16-OS-0015]高Q値ナノ光ファイバ共振器の作製
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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[F-16-OS-0016]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0017]電子ビームリソグラフィを用いたナノロッドアレイターゲットの作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0018]Si基板の平滑エッチング技術検討
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0019]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0020]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0021]プラズモニックマルチナノポアデバイスの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0022]ウエハ上におけるナノ・マイクロスケール3次元加工技術開発
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0023]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0024]ナノメカニクスによるメタ表面の動的制御
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0025]ナノ細孔とナノピラーを用いたアDNAセンシングデバイスの開発
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0026]新規ナノモールドの開発
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0027]表面増強ラマン散乱計測に用いるナノ構造基板の形成
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0028]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0029]ポリマー製フォトニック結晶ナノ共振器用鋳型の作製とバイオセンサへの応用
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0030]ナノインプリント工法の検討
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0031]半導体プロセス用有機膜材料の二次電子像特性、ダメージ、および加工特性の検討
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0032]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡（GIS機能含む）を用いた染色体の構造解析
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0033]単結晶ダイヤモンドの微細加工
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0034]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0035]細胞培養制御のためのプラズマによる培養皿表面の改良
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0036]ナノハイブリッド細線パターンの形成と評価
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0037]極微細加工材料中の放射線化学の研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0038]高精細集束イオンビーム装置によるInP系ナノ粒子観察
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0039]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0040]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0041]Evaluation of surface modification for biosensor application
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0042]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0044]金蒸着不良解析
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0045]被覆型分子を用いたナノサイズの化学物質センサーの開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0046]ナノ材料を用いたガスセンサーの作製と微視的アプローチによる応答メカニズムの解明
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0047]集束イオンビームによる有機オリゴマー結晶のレーザー素子に向けた微細加工
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0048]電子線リソグラフィー加工による周期的ナノ構造を利用した有機発光デバイスの高効率化
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0049]He+ irradiation for Anderson localization on single layer graphene
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0050]周期的構造のレジスト形成
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0051]B,P同時ドープSiナノ結晶薄膜の電気伝導特性評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0052]プラズモンによるEu添加GaN赤色発光ダイオードの発光強度増大
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0053]FIBによる電子線用フレネルゾーンプレートの作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0054]マイクロ流路中のひも状ミセルの流動誘起構造解析
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F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0055]フレキシブルエレクトロニクス実現に向けた薄膜トランジスタの基礎評価
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F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0056]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0057]電子線リソグラフィー加工による周期的ナノ構造を利用した高効率有機発光デバイスの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0058]縮退高濃度ホウ素ドープダイヤモンド多重積層構造におけるnmスケールの分散化プロセス
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0059]高精細集束イオンビーム装置による量子効果素子の開発
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0060]触媒膜および低濃度水素利用にもとづく希土類三水素化物の作製
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0061]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0062]分子処理による二次元層状半導体の非破壊キャリア制御
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0063]EUVリソグラフィ用水塗布・水現像ポジ型レジスト材料の開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0064]マイカ基板での金薄膜清浄表面の作製
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0065]スパッタ法によるサファイア基板上へのAl成膜
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F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0002]合成したダイヤモンド薄膜の結晶性評価および半導体素子の試作
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0003]１分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0004]高感度ウイルスナノセンサの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0005]ナノカーボン薄膜トランジスタによるセンサー開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0006]希土類イオンとフォトニックナノ構造の融合による発光現象の制御
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0007]２端子確率共鳴素子の開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0008]光学式バイオセンサの研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0009]ポリマー微細加工技術の構築
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0010]新規金属ロールナノモールドの開発
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F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0011]自己組織化ナノ細孔を用いたDNAセンサの開発
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0012]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0013]ナノ周期構造作製技術開発
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0014]ガスセンサ用ナノギャップ電極の作製
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0015]ナノブリッジ型プラズモニック導波路における３次元光伝搬特性
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0016]積層フィルムの断面観察
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0017]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0018]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0019]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0020]シリコン基板上への多孔質シリコンマイクロチューブ自己組織化技術の開発
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0021]金属薄膜の微細加工に関する一考察
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F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0022]ナノ材料の強度に関する研究
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0023]擬ゼロホール係数材料を用いた電流－スピン流変換機能
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0024]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0025]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0026]高Q値ナノ光ファイバ共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0027]新学術領域「超高速バイオアセンブラ」
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0028]ナノインプリントリソグラフィー製フォトニック結晶ナノ共振器用鋳型の作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0029]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0030]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場のin situモニタリング技術開発
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0031]電子ビームを用いた微細加工型PEFC用高分子電解質膜に関する研究
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0032]偏光イメージング法を用いた流動の可視化による固液界面の評価
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0033]エクソソーム形状解析デバイスの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0034]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0035]面発光レーザー（VCSEL)の特性劣化解析(Ⅱ)
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0036]細胞の足場材料の制御のためのプラズマによる培養皿の改良
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0037]塗布型高移動度有機トランジスタの開発
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0038]サブサーフェス磁気イメージングシステムの高分解能化
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0039]極微細加工材料中の放射線化学の研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0040]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡を用いた電子材料、生体材料の二次電子像特性、ダメージ/加工特性の検討
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0041]バイオセンシング用デバイス作製プロセスの開発
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0042]メタマテリアルデバイスによるテラヘルツ波の高度応用
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0043]ナノ材料を用いたガスセンサーの作製と微視的アプローチによる応答メカニズムの解明
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0044]ナノ光ファイバ共振器の作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0045]集束イオンビームを用いた石英基板上での単結晶銀ナノピラーの作製
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0046]分相性ポーラスガラスの室温ナノインプリントによるプラズモンバイオセンサーの試作
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0047]ナノハイブリッド細線パターンの形成と評価
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0048]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡を用いた半導体プロセス用有機下地膜材料の二次電子像特性及びダメージの検討
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0049]：電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0050]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0051]表面増強ラマン散乱計測に用いるナノ構造基板の形成
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0052]回折格子を用いた金ナノ粒子トラップによるメタマテリアルの作製
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0053]金属基板を腐食する強アルカリ現像液を使用しないMEMS 加工用バイオマスレジスト材料の開発
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0054]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0055]バイオマイクロデバイスの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0056]サファイヤ基板上金ホールアレイ作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0057]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0058]微粒子の分別収集に向けた多段階粒子輸送法の開発
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F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0059]ナノ共振器を用いたASE増強デバイスの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0060]Si基板上への微細円筒形キャビティパターンの制作
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0061]金属ナノロッド配列ナノレンズによる超解像イメージング
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0062]ナノ電極を利用したDNA損傷計測
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0063]Si基板の平滑エッチング技術検討
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0002]単一ＤＮＡ分子検出ナノ構造の作製
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0003]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0004]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0005]ダイヤモンド半導体デバイスの試作
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0006]２端子確率共鳴素子の開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0007]グリーンリソグラフィ技術の開発
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0008]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0009]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0010]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0011]自己組織化ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創成
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0012]ポリマー微細加工技術の構築
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0013]メゾスコピック空間を利用した生体高分子の高精度分離
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0014]ナノカーボン薄膜トランジスタによるセンサー開発
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F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0015]ダイヤモンド加工（Solid Immersion Lens作製）
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0016]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0017]ナノ材料の電気伝導特性の評価および制御
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0018]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0019]バイオマイクロデバイスの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0020]金属触媒によるSiエッチング技術を用いたナノホール構造の作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0021]ナノ材料の強度に関する研究
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0022]極微細加工材料中の放射線化学の研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0023]新学術領域「超高速バイオアセンブラ」
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0024]プラズモニック導波路における光伝搬特性
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0025]DNA自立ジョイントを用いたマイクロ部品組み立てに関する基礎的研究
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0026]自然災害の減災と復旧のための情報ネットワーク構築に関する研究：気象観測システム用酸化物薄膜ガスセンサーの開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0027]擬ゼロホール係数材料を用いた電流－スピン流変換機能
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0028]マイクロウエルを利用したＴ細胞分泌物質解析
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0029]ナノポアを用いた1分子•1細胞構造解析法の開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0030]Pdナノギャップ水素センサの作製
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F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0031]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0032]電子ビームグラフト法を用いたフッ素系高分子アクチュエータの開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0033]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0034]新規ナノモールドの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0035]ナノ周期構造作製技術開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0036]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
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F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0037]１分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0038]２次元同時近接場光検出のためのホールアレイ開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0039]機能性高分子を基材として用いたナノインプリントリソグラフィー製ナノ光デバイスの開発
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F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0040]希土類イオンとフォトニックナノ構造の融合による発光現象の制御
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0041]金属被覆を用いたダイヤモンド加工
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0042]磁気イメージング装置の高分解能化
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0043]ボロン－リン同時ドープSiナノ結晶を使った単電子素子の試作
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0044]シリコン基板上への多孔質シリカマイクロチューブ自己集積技術の開発
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0045]生体分子分析に向けた新規グラフェンナノポアデバイスの開発
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0046]塗布型高移動度有機トランジスタの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0047]イオンビームを用いたバイオポリマーの表面微細加工によるデバイス作成
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0048]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0049]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0050]回路の不具合確定の為の微細加工
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0051]DNA損傷計測用チップの作製と性能評価
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0052]面発光レーザー（VCSEL)の特性劣化解析
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0053]サブナノ粒子の光学応答測定のためのサブ波長周期構造シリコンデバイスの作製
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0054]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡における二次電子像特性，ダメージ/加工特性の検討
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0055]ファインケミカル生産を指向したLab on a Membraneの創成
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0056]Siナノ結晶を単電子島とした単電子素子の形成
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0057]光学式バイオセンサの研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0058]薄基板アルミ蒸着ミラーの作成
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0059]1分子熱電特性測定用ナノデバイスの構造評価
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F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0060]積層フィルムの断面観察
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0061]電子ビームを用いた空間機能制御材料の研究
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0002]単一ＤＮＡ分子検出ナノ構造の作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0003]有機化学的手法によるボトムアップ型分子デバイスの作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0004]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0005]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
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F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0006]周期的なナノホール構造を形成した硫化亜鉛膜の作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0007]２端子確率共鳴素子の開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0008]数10nm～数100nm微細パターンの作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0009]金属メタ表面による輻射制御に関する研究
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0010]機能性酸化物ナノ構造体を利用した磁気抵抗デバイスの開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0011]極微細加工材料中の放射線化学の研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0012]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0013]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
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F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0014]位置制御型単一量子ドット作製に関する研究
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0015]メゾスコピック空間を利用した生体高分子の高精度分離
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0016]擬ゼロホール係数材料を用いた電流－スピン流変換機能
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0017]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0018]一分子解析技術を用いた革新的ナノバイオデバイスの開発
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F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0019]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0020]酸化物ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創出
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0021]窒化物ベース希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製
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F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0022]ナノ加工時の反応に伴う薄膜中の自由体積変化に関する研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0023]天然高分子材料の微細加工体の創製
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0024]バイオマイクロデバイスの開発
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F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0025]高アスペクトなＳｉエッチングパターンに関する研究
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-GA-317 電子線描画装置群
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0026]微細加工技術を用いた超高感度酵素アッセイ系の構築
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0027]マイクロ流路を用いた赤血球変形能評価
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F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0028]DNA自立ジョイントによるマイクロアセンブリ技術の開発
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F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0029]センサー応用に向けたカーボンナノチューブ薄膜の作製とキャリア輸送特性評価
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0030]マイクロウェルを利用したT細胞分泌物質解析
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0031]Si微細パターンエッチングプロセスの開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0032]ポリマー微細加工技術の構築
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F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0033]ダイヤモンド加工（Solid Immersion Lens作製）
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0034]超伝導電極を有する微細酸化物トランジスタの作製
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F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0035]キャリア注入による単原子層半導体の光電物性変調
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0036]フォトニック結晶レーザの開発
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F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0037]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
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F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0038]TEM試料の加工条件の検討
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0039]水溶性極端紫外光レジスト材料を用いたグリーン微細加工技術の開発
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0040]金属ナノロッド配列ナノレンズによる超解像イメージング
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0041]DNA損傷計測用チップの作製
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0042]サブナノ粒子偏光検出法のためのナノ周期微細構造シリコンデバイスの作製
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F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0043]マルチビーム生成用回折光学素子の作成
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0044]収束イオンビームを用いた原子間力顕微鏡探針の先鋭化
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0045]ナノ周期構造作製技術開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0046]ナノ薄膜の強度に関する研究
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F-OS-306 集束イオンビーム装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0047]GaAsとSiの微細パターンエッチングプロセスの開発
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F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0001]Ｘ線撮像装置用埋め込みターゲットの作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0002]メタマテリアルによる中赤外領域熱輻射スペクトルの制御
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0003]プラズモニック導波路による光伝搬制御
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0004]擬ゼロホール係数材料を用いた電流－スピン流変換機能
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0005]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0006]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0007]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0008]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0010]２端子確率共鳴素子の開発
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0011]酸化物ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創出
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0012]時間分解電子顕微鏡の開発
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0013]STM-SQUID 顕微鏡の磁場校正用試料の作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0014]一分子解析技術を用いた革新的なバイオデバイスの開発
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0016]単一DNA 分子検出ナノ構造の作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0017]最先端微細加工用レジスト新材料創製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0018]架橋フッ素樹脂微小部材を用いたUVナノインプリントに関する研究
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0019]極微細加工材料中の放射線化学の研究
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0020]量子ビーム装置への室温イオン液体導入によるマイクロ･ナノ構造体 の作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0021]透明伝導膜応用に向けたカーボンナノチューブ薄膜の作製と評価
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0022]希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製(I)
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0023]有機化学的手法によるボトムアップ型分子デバイスの作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0024]微細構造界面による液晶のパターン配向制御とマイクロ粒子配列に関する研究
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0025]希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製(II)
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0026]量子ビームを用いたグリーンポリマーのナノ／マイクロ加工
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0027]DNA自立ジョイントを用いたマイクロ部品組み立てに関する基礎的研究
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0028]量子ビームグラフト高分子電解質を用いたマイクロアクチュエータの作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0029]高精細電子レジストの評価
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0030]細胞操作用マイクロハンドならびに力センサの開発
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0031]イオンビームを用いた高分子材料の微細加工と照射効果の検討
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0032]ダイヤモンド加工(Solid Immersion Lens作製）
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0033]サブナノ粒子偏光検出法のためのナノ周期微細構造シリコンデバイスの作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0034]アルカリ現像液を不要とする水溶性極端紫外光グリーンレジスト材料の創出
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0035]新規なTEM 用グリッドの作成条件の検討
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0036]強磁性Fe酸化物をベースにしたナノ狭窄型磁気抵抗デバイスの構築
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0037]光メタマテリアルによる負の屈折率の実現と制御
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0039]周期的なナノホール構造を形成した硫化亜鉛膜の作製
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0040]高品質ナノ絶縁層の形成に関する検討
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F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0041]ダイヤモンド単結晶基板の大口径化に向けたヘテロエピタキシャル核発生制御
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(登録なし)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0042]天然多糖類ゲル微細構造体の創製
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0002]プラズモン励起を利用するオプトエレクトロニック素子作製技術構築
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0005]反射防止構造を有する干渉鮮明度向上マルチスリットの開発
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0008]半導体GaAsを用いた強磁性Feパタン埋め込み構造の作製
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0015]ヒ－トパルス型道管流センサの製作
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-329 電子測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0017]メタマテリアルを含むTHz帯微小共振器の作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0023]Siのニードル形状加工
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F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0024]半導体の物性評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0027]表面形状の測定
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0034]窒化シリコン薄膜基板上におけるシリコン薄膜のエピタキシャル成長に関する研究
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-339 膜厚測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0035]EBリソグラフィ用薄膜基板に関する研究
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる超硬材料の先鋭化加工
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0057]3線式測温抵抗体の形成
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0058]樹脂フィルム上への電極形成
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0069]マイクロプロ－ブ上への薄膜形成
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0071]THz帯メタマテリアルの作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0076]微細ナノ構造の作製
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0083]ニューラルネットワークにむけたセンサの製作と評価
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0084]せん断加工用デバイスのサブマイクロメートルの形状変化がせん断品に与える影響評価
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0086]細胞評価のためのデバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0087]木材の透明化とその表面形状の観察
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F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0088]マイクロ構造の製作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0089]プラズモン導波路を用いた高密度光配線技術の基本要素構造の検討
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0091]Dektakによるエッチング速度測定
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0093]医療用センサの製作と評価
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0094]RFスパッタリング法を用いた硬質膜密着性の改善
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0002]SiO2をコアとするチャネル型プラズモニック導波路作製
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0005]超小型赤外分光イメージング装置における干渉鮮明度向上の為の回折格子
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0008]半導体GaAsを用いた強磁性Feパタン埋め込み構造の作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0015]マイクロセンサの製作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-329 電子測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0017]メタマテリアルを含むTHz帯微小共振器の作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0020]医療用センサの製作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0023]Si のニードル形状加工
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F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0024]半導体の物性評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0028]MEMSアクチュエータの研究
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0034]教育用シリコントランジスタの作製及び集積化に関する研究
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0035]選択熱拡散の微細化に関する研究
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0045]構造色変化によるセンシングの研究
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる超硬材料の先鋭化加工
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0057]感水膜パタ－ンの製作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0058]絶縁保護膜の形成
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0059]遺伝子導入に向けた細胞配列用デバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0069]マイクロリザーバ構造の製作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0071]THz帯メタマテリアルの作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0076]微細ナノ構造のSi金型作製
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0083]ニューラルネットワークに向けたセンサ開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0084]せん断加工用デバイスのサブマイクロメートルの形状変化がせん断品に与える影響評価
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0085]溶接継手試験片の局所ひずみ計測
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F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0086]細胞評価のためのデバイスの開発
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0087]ABS樹脂材料の表面形状観察
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0088]立体電極の製作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0089]Auナノ構造を配置したSi導波路の作製技術の確立
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0090]個別細胞評価のためのデバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0091]有機薄膜の膜厚測定
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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[F-20-GA-0092]マイクロプロ－ブの形状観察
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0002]SiO2をコアとするチャネル型プラズモニック導波路作製
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0005]超小型赤外分光イメージング装置における干渉鮮明度向上の為の回折格子作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0007]GaN系半導体・光電子デバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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[F-19-GA-0008]半導体GaAsを用いた強磁性Feパタン埋め込み構造の作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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[F-19-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
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[F-19-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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[F-19-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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[F-19-GA-0015]Su-8の厚膜レジストを用いた構造体の形成
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0017]THz帯カットワイヤメタマテリアルの作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0020]医療用センサの製作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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[F-19-GA-0023]Siのニードル形状加工
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F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0024]半導体の物性評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0033]マルチスリットの作製
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0034]マイクロ合金トランジスタ作製用デバイスプロセスに関する研究
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0035]選択熱拡散の微細化に関する研究
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0040]臓器の層間滑りを検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0045]構造色変化によるセンシングの研究
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F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0049]金属破断面から金属破壊モードの推測
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0051]磁気テープの表面形状の測定
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる超硬材料の先鋭加工
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0054]超硬工具の面粗さ測定
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0057]温度補償に用いる測温抵抗体の形成
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0058]絶縁性基板上への電極形成
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0059]遺伝子導入に向けた細胞配列用デバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0064]採卵鶏におけるメラトニン摂取が卵殻及び骨組織に及ぼす影響の探索
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0069]薬剤注入用マイクロ流路構造の製作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0070]分光光学系に用いるSi格子構造の作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0071]THz帯双曲線メタマテリアルの作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0072]豆粒大中赤外分光器の感度及び干渉鮮明度向上を目指した透過型回折格子作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0073]ミラー一体型SUSリングへのミラー面への高反射膜形成
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0074]漏水検知システム用マイクロ光学部品の作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0075]イオンビーム照射による酸化物半導体ガスセンサの表面改質
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F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0076]微細ナノ構造の作製
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0077]有機薄膜デバイス作製のための微細加工
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0078]クロム膜の透過性確認
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0079]光センサのキー部品であるMEMSシリコン構造体の試作
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0080]位相シフターのミラー面の金の成膜と評価
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F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0081]静電触覚ディスプレイの試作
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0082]ZnSe系ハイブリッドAPDの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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[F-19-GA-0083]ニューラルネットワークに向けたセンサ開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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[F-19-GA-0084]せん断加工用デバイスのサブマイクロメートルの形状変化がせん断品に与える影響調査
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0005]Si基板を用いた超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の回折格子作製
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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[F-18-GA-0007]GaN系半導体・光電子デバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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[F-18-GA-0008]遷移金属磁気ライン・メモリーの作製と電流駆動磁壁移動の検証
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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[F-18-GA-0009]光導波路の観測及び作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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[F-18-GA-0015]Su-8の厚膜レジストを用いた構造体の形成
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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[F-18-GA-0017]THz帯メタマテリアルの作製
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F-GA-319 マスクアライナ
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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[F-18-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製
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F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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[F-18-GA-0019]医療用センサの製作
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F-GA-319 マスクアライナ
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[F-18-GA-0020]医療用センサの製作
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[F-18-GA-0023]Siのニードル形状加工
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F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
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[F-18-GA-0024]半導体の物性評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0027]薄膜構造の解析
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0033]回折格子の作製
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0034]マイクロ合金トランジスタ作製用デバイスプロセスに関する研究
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0035]選択熱拡散の微細化に関する研究
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0039]メカニカルプラズモンデバイスによるナノ空間プラットホームの構築
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0040]臓器の層間滑りを検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0045]構造色変化によるセンシングの研究
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F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0049]金属破断面から金属破壊モードの推測
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0050]金薄膜基板の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0051]磁気テープ表面形状の測定
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0052]金属配線用Ti蒸着における条件検討
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F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる鉄系材料の加工
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0054]ステンレス材の面粗さ測定
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0055]磁気テープ表面の粗さ観察
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0058]切り込み付きマイクロニ－ドルのSEM観察
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0059]遺伝子導入に向けた細胞配列用デバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0060]光センサのキー部品であるマイクロミラーの試作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0061]光センサのキー部品であるMEMSシリコン構造体へのTiコート
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0062]金属表面の光沢化処理
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F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0063]SOI基板を用いた超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の回折格子の作製
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0064]妊娠期及び授乳期のラットにおけるメラトニン摂取が子ラットの骨石灰化に及ぼす影響
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0065]免疫染色を検出するためのマイクロホールアレイデバイスの作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0066]低電圧で駆動可能な静電摩擦触覚デバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0068]貴金属ナノ複合粒子の原子種分布測定
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0001]半導体表面におけるイオンビーム照射誘起微細規則構造の作製
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0003]液晶性半導体を用いたフレキシブルデバイスの作製と評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0005]超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の回折格子作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0006]紙切断刃の刃先形状測定
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F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0008]遷移金属磁気ライン・メモリーの作製と電流駆動磁壁移動の検証
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0015]マイクロ流路構造への表面処理
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0017]THz帯メタマテリアルの作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0019]医療用センサの製作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0020]微細加工による治療用センサの製作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0023]Siのニードル形状加工
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F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0024]半導体の物性評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0028]MEMS素子用マスクの作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0031]アオイ電子製FT-IR評価用サンプルの測定
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0032]発光性薄膜材料の開発
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F-GA-339 膜厚測定器群
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0033]回折格子の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0034]教育用シリコンマイクロ合金バイポーラトランジスタの表面形状分析
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0035]選択熱拡散の微細化に関する研究
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0036]銅（I）錯体の薄膜化検討
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F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0037]位置判別用の多段電極形成
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0039]メカニカルプラズモンデバイスによるナノ空間プラットホームの構築
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0040]臓器の層間滑りを検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0041]カメラで情報を検知する内視鏡用センサの開発
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0042]リード線破断面のSEM画像解析
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0043]GaNの表面観察
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0044]教育用シリコントランジスタの作製及び集積化に関する研究
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0045]構造色変化によるセンシングの研究
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0046]1分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0047]ステンレス鋼板の円柱貫通孔の変形挙動
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F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-17-GA-0048]グリースの金属新生面による分解挙動に関する潤滑性能評価のための表面形状測定
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F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0002]NEMSを用いたプラズモン変調器の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0003]液晶性半導体を用いたフレキシブルデバイスの作製と評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0005]超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の回折格子作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0006]2物体の接触面の表面性状の変化
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0007]GaN系半導体光・電子デバイスの開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0008]大面積の磁気ライン・メモリーの作製と電流駆動磁壁移動の検証
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0009]電子線露光装置により光導波路型回折格子作製
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0013]マイクロ電極による生体分子操作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0015]植物生体情報計測に向けたマイクロ流路構造の製作（２）
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0016]マイクロ流体撹拌素子の製作・改良
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0017]THz帯メタマテリアルの作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0019]医療用センサの製作
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0020]微細加工による治療用センサの製作
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0022]GaN系半導体の電気特性の評価に関する研究
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0023]金属材料との安定した接合抵抗を持つMEMSデバイスの作製
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F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0024]MBE法によるシリコンウエハ上のGaN薄膜成長
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0025]3次元UVリソグラフィを用いたマイクロデバイス開発
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0026]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)
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F-GA-339 膜厚測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0027]表面形状の測定
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0028]エレクトレットデバイスの研究
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F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0029]エレクトレット膜の研究
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0031]FT-IR用ミラーの内作
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0032]発光性薄膜材料の開発
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0033]回折格子の作製
|
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0036]銅（I）錯体の薄膜化検討
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F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0037]マイクロヒ－タの作製
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F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0038]テラヘルツデジタルホログラフィー用サンプルの形状解析
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0001]熱交換用マイクロ流路構造の作製
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0003]誘電体多層膜1次元フォトニック結晶の作製
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F-GA-322 LP-CVD
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0004]金属-誘電体多層膜メタマテリアルの作製
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0005]テラヘルツ帯金属ロッドメタマテリアルの作製
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F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0006]電子線露光装置により光導波路型回折格子作製
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0007]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEBレーザーによるフォトマスクの作製
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0008]超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の多重スリット製作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0009]大面積の磁気ライン・メモリーの作製と電流駆動磁壁移動の検証
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F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0010]金属材料との安定した接合抵抗を持つMEMSデバイスの作製
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F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0011]オプトジェネティクス用細胞解析マイクロデバイスの開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0012]金属材料の微細加工
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0014]MBEで作製した半導体薄膜の研究
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F-GA-328 ダイシングマシン
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0015]Si基板上のGaN、GaAs薄膜の評価
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F-GA-322 LP-CVD
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0016]金属製品傷検査
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F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0017]デバイス加工用マスクの形成
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F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0018]マイクロ電極による生体分子操作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0019]液晶性半導体を用いたフレキシブルデバイスの作製と評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0020]遺伝子導入デバイスの作製
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F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0021]バイオMEMS向け厚膜レジストの開発
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0023]環状DNA計測に向けたマイクロ流路デバイス開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0025]プラズモニックデバイスの製作
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0026]マイクロ流体撹拌素子の製作・改良
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0027]染色体伸張解析デバイスの開発
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F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0028]植物生体情報計測用の温度センサの製作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0029]植物生体情報計測に向けたマイクロ流路構造の製作
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0031]ナノスケール構造体の引張試験のためのMEMSデバイス開発
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0032]NEMSを用いたプラズモン変調器の作製
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F-GA-329 電子測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0033]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0034]2物体の接触面の表面性状の変化
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F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0035]プラズマ処理を利用した特殊樹脂の接合
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F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0037]パン粉の表面形状の研究
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F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0038]太陽電池の開発
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F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0039]板反りおよびシュー成形を利用した小径管の新成形法
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F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0040]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-GA-322 LP-CVD
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0041]UVナノインプリントを用いたセンサ基板の作製
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F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0042]単分子膜を用いた金属微粒子配列法の開発とその応用
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F-GA-322 LP-CVD
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0043]医療用センサの製作
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0045]光学デバイスにむけたアクチュエータの製作
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0046]高感度センサに向けた微小可動構造形成
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F-GA-330 マスクレス露光装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0047]アライメントレスフォトリソグラフィーにおける位置合わせ精度の改善
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F-GA-328 ダイシングマシン
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0048]熱CVDによる窒化シリコン薄膜の作製
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F-GA-322 LP-CVD
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0001]金属材料との安定した接合抵抗を持つMEMSデバイスの作製
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F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0002]CVDによるシリコン窒化膜の作製とRIEによる微細加工
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-322 LP-CVD
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0003]超小型軽量赤外分光イメージング装置開発を目的とした薄型高反射率ミラーの作製
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F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-328 ダイシングマシン
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0004]ICP-RIEによる回折格子の作製
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F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0005]液晶性半導体を用いたフレキシブルデバイスの作製と評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0006]金属-誘電体多層膜メタマテリアルの作製
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0007]誘電体多層膜1次元フォトニック結晶の作製
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0008]香り発生デバイス用のバイメタル型マイクロバルブの製作
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F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0010]遺伝子導入デバイスの作製
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F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-331 スプレーコーター
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0011]MEMS技術を用いた超小型師管流モニタリングセンサの研究（２）
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F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0012]ナノスケール構造体の引張試験のためのMEMSデバイス開発
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F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0013]FPC上に搭載した超小型道管流センサ
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F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0014]MEMSデバイス製造のためのフォトリソグラフィ技術の検討
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F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0015]光導波路型デバイス
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F-GA-317 電子線描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0016]テラヘルツ帯金属ロッドメタマテリアルの作製
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0017]バイオMEMS向け厚膜レジストの開発
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F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-331 スプレーコーター
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0019]表面プラズモン共鳴センサ基板の製作
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F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0020]GaN系トランジスタ用電極の作製
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0021]反強磁性層を挿入したトンネル接合に関する研究
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0022]GaN系半導体光・電子デバイスの開発
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0023]細胞マイクロウェルの作製
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F-GA-331 スプレーコーター
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0024]パン粉のＳＥＭ画像
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F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0025]半導体微細領域の電気特性
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0027]グリースの金属新生面による分解挙動に関する潤滑性能評価のための表面形状測定
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F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0028]磁性多層膜ラインパターン素子の作製と電流駆動磁壁移動の検証
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0030]光学デバイス性能向上に向けた細線形成
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0031]高感度センサに向けた微小可動構造形成
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0032]医療用センサの可動構造形成
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0033]シリコン加工用マスクの形成
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F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-319 マスクアライナ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0034]オプトジェネティクス用細胞解析マイクロデバイスの開発
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F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0035]アライメントレスフォトリソグラフィーにおける位置合わせ精度の改善
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-328 ダイシングマシン
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0036]面内高さ分布を付与した無痛剣山形マイクロ微小針の製造法の開発
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F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0038]シリコンナノブレードアレイの製作
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0039]光学デバイスにむけた回転アクチュエータの形成
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F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0040]大変位センサに向けた表面マイクロマシニング構造形成
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0041]センサ検出回路の試作・評価
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0042]シリコン加工用マスクのマスターマスク描画
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F-GA-318 マスク描画装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0043]液晶性混合伝導体の薄膜化
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F-GA-324 触針式表面形状測定器
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0001]MEMSプロセスの加工精度のバラつき評価
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F-GA-322 LP-CVD群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0002]高強度テラヘルツ光源用異方性メタマテリアルの製作
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F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-322 LP-CVD群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0003]誘導結合プラズマ反応性イオンエッチング装置による回折格子の作製
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F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0004]単一細胞薬剤刺激デバイスの開発
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F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0005]ドライエッチングによるフォトマスクの作製(2)
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F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0006]植物生体情報計測用道管流センサの製作・評価
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F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0007]大変位センサに向けた表面マイクロマシニング構造形成
|
F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0008]単一細胞切断用マイクロデバイスの開発
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F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-328 ダイシングマシン
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0009]オプトジェネティクス用細胞解析マイクロデバイスの開発
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F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0010]チオフェン系化学吸着単分子膜を用いた透明導電膜の導電性能の向上
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F-GA-322 LP-CVD群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0011]大変位センサに向けた表面マイクロマシニング構造形成
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F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0012]微細構造を有した表面プラズモン共鳴センサチップの開発
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F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-326 非接触三次元形状測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0014]磁気ライン埋め込み型メモリーデバイスの作製と評価
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F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-324 触針式表面形状測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0015]細胞内抗体導入法による細胞機能計測の評価
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F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0016]高感度センサに向けた微小可動構造形成
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F-GA-317 電子線描画装置群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0017]MEMS技術を用いた超小型師管流モニタリングセンサの研究
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F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-329 電子測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0018]植物細胞固定のためのマイクロオリフィスアレイを有するマイクロ流体デバイスの開発
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F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0019]重合性シクロテトラシロキサン部位を有する液晶性半導体薄膜の構造評価
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F-GA-324 触針式表面形状測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0020]プレス加工による剣山形マイクロ微小針金型孔形形状評価
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F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0021]電子線直接描画法を用いたハイブリッドフォトマスク作製プロセス
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F-GA-317 電子線描画装置群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0022]バイオMEMS 用低自家蛍光レジストの開発
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F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0023]人工原子配列を制御するシリコンウエハ表面形状の作製
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F-GA-324 触針式表面形状測定器群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-318 マスク描画装置群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0024]五感情報通信用香り発生デバイスの製作と評価
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F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0025]グリースの金属新生面による分解挙動に関する潤滑性能評価のための表面形状測定
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F-GA-326 非接触三次元形状測定器群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0026]学デバイスにむけた回転アクチュエータの形成
|
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0027]イオンシャワー装置を利用したマイクロチップデバイスの表面改質
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F-GA-325 走査電子顕微鏡群
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0028]マイクロ鋳型を用いたマイクロ流体撹拌素子の製作
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F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0029]板材の複合ひずみ経路による成形限界の測定
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F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0030]顕微鏡用の微小流路の作成
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F-GA-325 走査電子顕微鏡群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0031]高アスペクトなＳｉエッチングパターンに関する研究
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F-GA-317 電子線描画装置群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0032]ナノワイヤ引張用Si-MEMSデバイスの作製
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F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0035]高精度ひずみ計測プラズモニックデバイスの開発
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F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0036]撥水撥油防汚フィルムの基礎開発
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F-GA-322 LP-CVD群
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0038]片持ち梁構造と回折格子の製作
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F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-323 イオンシャワー
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0039]教育用アライメントレスフォトリソグラフィープロセス
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F-GA-328 ダイシングマシン
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0002]五感情報通信用香り発生デバイスの製作と評価
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0003]植物生態情報計測用センサデバイスの製作・評価
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0004]SU-8 を用いた超厚膜樹脂構造体の製作と評価
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0005]電子線描画装置を利用したシリコンナノ構造体の作製
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0006]マイクロ構造を有したSPR バイオセンサチップの開発
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0007]生体分子操作用ナノ構造体の開発
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0008]イオンシャワー装置を利用したマイクロチップデバイスの表面改質
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0009]静電櫛歯を用いたマイクロ発電機の作製
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0010]医療センサに向けたシリコンのマイクロ加工
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0011]電子線描画装置による回折格子マスクの作製
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0012]単一磁区ライン記憶デバイスの作製と評価
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0013]微小センサにむけた微小スプリングの形成
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0015]高反射金属膜形成
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0016]微細デバイスに向けた細線の形成
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0017]ナノ機械物性計測のための引張MEMS デバイスの開発
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0021]ドライエッチングによるフォトマスクの作製
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0023]スピンコート法による液晶性一軸配向薄膜の作製
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0024]高強度テラヘルツ光源用異方性メタマテリアルの製作
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0025]板材の張出し成形における破壊限界ひずみの測定
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0026]LED 光源向け反射構造の微細加工
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0027]全方位分光イメージングの鮮明度改善
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0028]植物生体情報計測用マイクロプロ－ブの製作
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0034]高増殖能力を有する海産微細藻類の種同定
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0036]金属新生面によるグリースの分解挙動におよぼす基油と添加剤の影響
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(登録なし)
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0037]シリコンゴムの転写精度評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0001]不純物をドーピングしたフェリ磁性体Mn4N膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0002]チタンメンブレン粘膜表面側へのコラーゲンコーテイング方法の確立
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0003]電気化学的な金薄膜への銅の拡散現象の解析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0005]ナノピクセルとハイメサ導波路によるセンシング光集積回路
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0006]強誘電体Hf1-xZrxO2 の融合による多結晶シリコン薄膜トランジスタの高性能化
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F-RO-383 Rapid Thermal Anneal装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0007]MeV イオンビームによる単結晶 SiO2の表面形態変化
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0008]SiC ウェハのダイシング
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F-RO-375 ダイサ―
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0009]PECVD 膜への単結晶薄膜トランジスタ形成
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0010]太陽電池の製作
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0011]イオン照射によるプラスティック上導電性 DLC 形成技術の研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0013]ダイヤモンド薄膜への高濃度色中心の作製に関する研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0015]非晶質合金膜中に含有された希ガス原子の存在状態の解明
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0018]SiC 結晶中に生成された欠陥分布の測定
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0019]多結晶シリコンゲルマニウム薄膜トランジスタのゲルマニウム濃度依存性の解明
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0020]High-k ゲート絶縁膜を利用した４T CLC poly-Si TFT の CMOS 展開
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0021]太陽電池の製作と基礎実験
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0022]CMOS R-S Flip-Flop回路
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-356 デバイス測定装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-385 ウェル拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0023]RFスパッタ法で堆積したZnGe膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0025]低エネルギー化を指向したセレン化銅系薄膜の作製と熱電特性
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F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0026]細菌が合成した化合物半導体結晶のキャラクタリゼーション
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0027]CMOS Ring Oscillator（17段）回路の作製と特性
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-356 デバイス測定装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-385 ウェル拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0028]Design and performance evaluation of n-type, Co-Doped Transistor and PN Diode Circuits
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-356 デバイス測定装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-385 ウェル拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0029]二次元原子層物質 MoS2薄膜トランジスタの開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0030]電流駆動磁壁移動に向けた Co ドープ Mn4N 膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0031]ナノ構造を用いた環境センサーの研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0032]SiCへのチャネリングイオン注入
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0033]水素添加酸化インジウム薄膜の水素濃度評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0034]CoV2O4 薄膜の組成比分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0035]多孔体高分子表面に集積した合金ナノ粒子の構造解析
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0036]金属ナノパターン による光波制御
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0037]電子線露光によるライン＆スペースパターンの作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0038]カーボン薄膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0039]厚膜レジストパターンの形成と剥離テスト
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0040]ポーラス薄膜の相対密度評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0042]スピンデバイス開発に向けた横型スピンバルブ素子の作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0043]絶縁膜の信頼性評価用パターン作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0045]同時スパッタ法により形成した薄膜太陽電池材料の組成比評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0046]3 次元パワーSoC 実現に向けてのプロセス技術の開発
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F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0047]アモルファスカーボンの高品質化に関する研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0048]有機トランジスタの試作
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0049]低温成長 G aAs 系半導体における熱処理後の結晶性の観察
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0050]InAs(Bi) 量子ドットの表面形状の観察
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F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0051]酸化ニッケル電極での電池反応の調査
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0052]2次元薄膜窒化ホウ素へのイオン注入法による室温スピン操作可能な新規スピン欠陥の創製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-377 レイアウト設計ツール
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0053]Siナノワイヤバイオセンサーの作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-376 真空蒸着装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0055]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製
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F-RO-375 ダイサ―
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0056]ｐ型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0001]RTAを用いた強誘電体Hf1-xZrxO2の形成と評価
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F-RO-383 Rapid Thermal Anneal装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0004]酸化ニッケル膜で起こるフォトクロミズム現象の分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-369 表面段差計
F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0006]p型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
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F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-343 リン拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0007]ラザフォード後方散乱測定装置を用いたSi 系蒸着膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0008]圧電MEMS による超音波トランスデューサの研究
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-367 干渉式膜厚計
F-RO-368 分光エリプソメーター
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0009]酸化チタンの元素分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0010]イオン照射によるプラスティック上導電性DLC形成技術の研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0011]イオン照射によりプラスティック上に形成される DLC 層の構造解析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0012]イオン照射によるプラスティック上でのDLC層形成メカニズムの解明
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0013]YSZの元素分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0014]絶縁膜の信頼性評価用パターン作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0015]SiCの オーミック接触形成
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-375 ダイサ―
F-RO-377 レイアウト設計ツール
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0017]電子線露光によるライン＆スペースパターンの作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0020]厚膜レジストのリソグラフィテスト
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0021]低温成長GaAs系半導体の点欠陥評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0023]C-MOS SRAM回路の設計と性能評価
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F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-385 ウェル拡散炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0024]MOSFETS, CMOS Inverter & Junctionless Transistors
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-385 ウェル拡散炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0025]高速軽イオンビームによるSiO2の表面改質と発光分光
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0026]SiCの オーミック接触評価
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0027]n-chダブルゲートpoly-Ge TFTの開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0028]中性子センサの研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0029]薄膜太陽電池応用に向けたスパッタ法で作製したBaSi2膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0030]2次元薄膜窒化ホウ素へのイオン注入法による室温スピン操作可能な新規スピン欠陥の創製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0031]スパッタプロセスによるSi薄膜トランジスタ
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0032]電子線露光によるラインパターンの作製（2方向パターン）
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0036]金属グレーティングによるテラヘルツ波光伝導アンテナの性能向上
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0039]Fe電析膜の膜密度測定
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0041]蛍光体の照射
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0042]大面積プラズモニック基板の作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-377 レイアウト設計ツール
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0043]SiC結晶中に生成された欠陥分布の測定
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0044]High-kの導入により高性能化した４端子CLC poly-Si TFTのEE、EDインバータ応用
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0045]太陽電池の製作と基礎実験
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0047]PECVD膜をチャネル層に用いた単結晶帯Si薄膜トランジスタ
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0048]金属ナノ粒子の形成を目指した、脂質膜を反応場とする化学還元法の開発
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0049]InAs系 積層 量子 構造の構造解析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0051]細菌による重金属イオンの回収およびその副産物の構造解析・組成分析
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0052]ダイシングマシンを利用した半導体デバイスの作製
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F-RO-375 ダイサ―
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0053]薄膜太陽電池作製に向けた無アルカリガラス基板上におけるBaSi2膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0054]シリコンナノ電子デバイスの作製
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-368 分光エリプソメーター
F-RO-350 インプラ後アニール炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0055]細菌が合成した化合物半導体結晶のキャラクタリゼーション
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0056]Investigate the characteristic of crystalline silicon film induced by micro thermal plasma jet
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0057]ゲルマニウム薄膜の電気特性に関する研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0058]大気圧熱プラズマジェットアニールを用いた4H-SiC MOSFET作製技術の研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-380 リモートPECVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0059]メニスカス力を用いた薄膜転写プロセス開発に関する研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0060]ナノワイヤバイオセンサーの作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0061]Siの異方性エッチングを用いた100ミクロンスケールの微小孔の作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0062]光学干渉非接触温度測定(OICT)を用いたSi-nMOSFET動作時の温度変化の測定
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0063]a-Si:H薄膜を用いた脈波センサーに関する研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-369 表面段差計
F-RO-377 レイアウト設計ツール
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0064]プラズマ CVD によるアモルファスシリコン堆積時の瞬間加熱に関する研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-375 ダイサ―
F-RO-377 レイアウト設計ツール
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0065]石英基板上へのアモルファスシリコン薄膜堆積
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F-RO-378 ICP-CVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0066]自己整合型ボトムゲート TFT 作製プロセスの 研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0067]大気圧マイクロ熱プラズマジェットを用いた微量SiドープGe膜の結晶化に関する研究
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F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0068]SOI 層を用いたイオン感応性電界効果トランジスタの作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-377 レイアウト設計ツール
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0001]Ar ガスを用いた プラズマ エッチング量調査
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F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0002]ラザフォード後方散乱測定装置を用いた無機系の蒸着膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0003]ダブルゲート・ジャンクションレスn-ch 多結晶ゲルマニウム薄膜トランジスタの開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0004]負性容量４端子 poly Si TFT の開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0008]分子性金属酸化物をコートした SiO 2 薄膜の電気化学特性の評価および製造プロセスの検討
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0009]太陽電池の製作
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0010]太陽電池の製作と基礎実験
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0011]半導体薄膜接合技術の応用研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0012]金属ナノパターンによる光波制御
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0013]有機トランジスタの試作
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-376 真空蒸着装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0014]金属ナノ粒子標的に対するスパッタリング収率の入射イオンエネルギー依存性
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0015]p 型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
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F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0016]微生物を分離培養する新規なデバイスの開発
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F-RO-373 PDMS加工装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0018]低温成長 GaAs 系混晶半導体の熱処理前後の評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0019]連結したスクエアリング形状によるメタマテリアル完全吸収体の研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0020]低温成長GaAs系混晶半導体の表面形状の観察
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F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0021]GeコアSi量子ドット発光デバイスの開発
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F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0022]電子顕微鏡による含水サンプルの観察のためのDLC 薄膜の開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0023]低温で成長した数原子層 As 系化合物半導体の組成解析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0024]スピンデバイス開発に向けた横型スピンバルブ素子の作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0027]低温成長GaAs系混晶半導体の導電性制御
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0029]フォトクロミック金属酸化物の蓄電性能の確認
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F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0030]ビチオフェンジオン系ポリマーにおける構造異性体が電荷輸送特性に与える影響
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F-RO-375 ダイサ―
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0032]非加熱プロセスでの酸化ニッケル膜の作製
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0034]CMOS NAND回路による半加算器
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0037]CMOS 論理回路
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F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0038]大面積プラズモニック基板の作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0039]スパッタ法で形成した薄膜太陽電池材料の組成比制御
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0040]ナノワイヤバイオセンサの作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0042]ダイヤモンド薄膜の色中心に関する研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0043]SIMS分析によるGeのCu金属誘起固相成長のメカニズムの解明
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F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0044]高空間分解能イオンセンサーの開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0045]イオン照射によるプラスティック上導電性DLC形成技術の研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0048]セレン化銅薄膜の熱電特性
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F-RO-369 表面段差計
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0049]化学液相法による硫化銅系薄膜の合成と熱電特性
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F-RO-369 表面段差計
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0050]単結晶粒 Si/Ge 薄膜トランジスタの作製
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0051]分子性金属酸化物を用いたキャパシタ型デバイスの開発および特性評価
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-376 真空蒸着装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0052]金属ナノ粒子の形成を目指した，脂質膜を反応場とする化学還元法の開発
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0053]透明基板上GeSn発光・受光素子の開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0054]細菌による重金属イオン回収およびその副産物のキャラクタリゼーション
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0055]RTAによる強誘電体HfZrOxの形成
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0056]イオン注入による炭化ケイ素への単一光子源の生成
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F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0057]MEMSプロセスの技術面，教養面の支援
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-373 PDMS加工装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0058]薄膜評価用チップの作製を目的とした電子線描画装置の検討
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0059]アレイ化光リング共振器チップの光学特性評価
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F-RO-374 光学スペクトル測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0001]溶射膜の高信頼化に関する研究
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F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0002]単結晶粒Si/Ge 薄膜トランジスタの作製
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F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0003]Geコア Si 量子ドット発 光デバイスの開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0005]単分子誘電体を組み込んだFET型トランジスタのプロトタイプ作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-376 真空蒸着装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0006]酸化膜の深さ方向組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0007]フォトクロミック金属酸化物の作製とその特性評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0008]金属ナノ粒子を用いたペロブスカイト太陽電池の高効率化
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0009]金属テストパターンによる高空間分解能光電子分光装置の分解能評価
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F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0010]有機電界効果トランジスタを指向した半導体ポリマー開発
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0011]イオン衝撃による金属ナノ粒子のスパッタリング
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0012]Etching装置を利用したSi waferのDry加工評価
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0013]High-kを利用した4端子連続発振レーザラテラル結晶化低温poly-Si TFT CMOSインバータの開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0014]微生物を分離培養する新規なデバイスの開発
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F-RO-373 PDMS加工装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0015]凝集鉱物の不純物濃度の制御
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0016]不純物をイオン注入した InGaAs の不純物濃度の評価
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F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0017]スピントラジタ開発に向けた横型バルブ素子よる拡散長の調査
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0018]イオン注入した半導体基板の結晶欠陥制御
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F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0020]低温成長InGaAsの局在準位の評価
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F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0021]格子歪によるコバルトフェライ薄膜の磁気異方性制御
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0022]半導体薄膜発光素子接合技術の研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
F-RO-369 表面段差計
F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0023]メニスカス力を用いたSOI膜のフレキシブル基板上への局所転写プロセスの構築
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0024]細菌が合成した半導体の結晶性評価
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0025]大気圧熱プラズマジェット照射による表面反応の制御
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0026]p型シリコンへのリンの拡散
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F-RO-343 リン拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0027]ラザフォード後方錯乱測定装置を用いたDLC並びに無機系の蒸着膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0028]シリコンカーバイド（SiC）・デバイスにおけるイオン注入制御
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0029]ナノワイヤバイオセンサの作製
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F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-368 分光エリプソメーター
F-RO-333 酸化炉
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0030]電界効果型マイクロウォール太陽電池の構造・プロセス検討と基板加工
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F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0031]デバイス応用に向けて成膜したLPCVD-SiO2の性能評価
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F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0032]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-334 LPCVD装置(poly-Si用)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0033]p 型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0034]低温成長 GaAs 系混晶半導体の熱処理前後の結晶性評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0035]低温成長GaAs 系混晶半導体の表面形状の観察
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F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0036]電子線検出型イオン分布イメージング用イオンセンサーの開発
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-368 分光エリプソメーター
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0037]金属ナノパターンによる光波制御
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0038]単結晶シリコン薄膜を用いた繰り返し転写技術の確立とデバイス応用
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0039]ペロブスカイト太陽電池によるフレキシブル基板上の単結晶シリコンCMOS論理回路のバッテリーレス動作
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0040]SiC-MOSトランジスタのセルフアラインプロセス開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0041]大気圧熱プラズマジェットによる4H-SiCウェハ中不純物の高速活性化とデバイス作製プロセスへの応用
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F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0042]シリコンキャップアニールを行ったn型4H-SiCのコンタクト特性に関する研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0043]３次元パワーSupply on Chipのプロセス技術の開発
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F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0044]金属ナノ粒子の形成を目指した脂質膜を反応場とする化学還元法の開発
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0046]金属担持触媒の劣化特性と金属物性の関係の評価
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0047]バイオセンサー用酸化チタン光導波路の形成
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F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0048]バイオセンサー用途マイクロバルブの作製条件探索
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0049]大面積プラズモニック基板の作製
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0050]GaAs基板上新規構造の結晶学的特性評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0051]有機トランジスタの試作
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0052]特殊メタルマスクを用いたミクロン寸法半導体デバイスの形成
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0053]金属酸化物薄膜の形成と評価
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F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0054]DNA Si-MOSFETの作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0002]凝集鉱物の熱処理前後の構造評価
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0003]SiN一次元フォトニック結晶導波路と分子鋳型ポリマーの融合による新規バイオセンサの開発
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F-RO-374 光学スペクトル測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0004]酸化膜の深さ方向組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0005]電子線励起イオンセンサデバイスの製作
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0006]微生物を分離培養する新規なデバイスの開発
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F-RO-373 PDMS加工装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0007]低温成長ⅢⅤ族半導体の成長とその電気的特性の評価
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F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0008]X線回折法による低温成長ⅢⅤ族半導体の結晶内の欠陥評価
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0009]ホール効果測定装置による低温成長ⅢⅤ族半導体のキャリア密度温度依存性の測定
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F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0010]高速イオンビームによるガラスの表面改質
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0011]シリコンエッチングプロセス再現性向上のためのシリコン基板表面形態の観察
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F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0012]イオン注入による縦型n-i-p層形成の検討
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0013]電界効果型マイクロウォール太陽電池作製のためのSiドライエッチング
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0015]CLC poly-SiGe TFTの開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0016]Ag-TiO2ナノ粒子混合堆積膜の作製と光触媒活性の評価
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0017]メタルアニール無 SiCコンタクト抵抗低減実験
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0018]エアホール導波路センサと分子鋳型ポリマーの融合による新規バイオセンサの開発
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0019]硫酸還元菌を用いた凝集鉱物の電気的特性の評価
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F-RO-356 デバイス測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0020]硫酸還元菌を用いた凝集鉱物の構造評価による生成条件依存性の解明
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0021]横型スピンバルブ素子の作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0022]X線回折法による固相成長InxGa1-xAsの結晶性評価
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0023]多結晶シリコン薄膜トランジスタ作製のためのイオン注入
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0024]Si膜およびAl膜の堆積速度測定
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F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0026]スパッタ法で形成した薄膜太陽電池材料の組成比制御
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0027]Nd: YVO4レーザーで表面処理したポリエーテルエーテルケトン（PEEK）の表面性状の解析
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0029]レーザ照射による太陽電池の特性改善技術の開発
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F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0030]低温成長GaAs系半導体混晶の導電性制御
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F-RO-384 ホール効果測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0031]高い伝導性を有する酸化亜鉛透明膜の合成
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F-RO-369 表面段差計
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0032]スピンバルブ素子創製のためのナノダイヤモンド膜の2次イオン質量分析
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F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0033]フォトクロミック粒子簿膜のラザフォード後方散乱分光分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0034]SOIウエハの細線加工
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0035]DNAトランジスタのためのSi加工と低抵抗化
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0036]DNA Si-MOSFETの作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0037]Formation of SiN membrane on Si wafer by LPCVD
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0039]フォトクロミック粒子簿膜のX 線光電子分光分析
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F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0040]ハイパワー大気圧プラズマジェットを用いた急速熱処理によるSiCウェハ中の不純物の活性化率の向上
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0041]シリコンキャップアニールを用いたn型4H-SiCのオーミックコンタクト特性に対する昇温レートの影響
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0042]メニスカス力を用いたSOI膜の転写におけるフレキシブル基板上での単結晶シリコンCMOS回路の作製プロセスの構築
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0043]中空構造SOI層の低温転写技術を用いたフローティングゲートメモリ作製プロセス技術に関する研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0044]ワイドギャップ半導体デバイス作製のためのドライエッチング加工
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0045]Si基板とワイドギャップ半導体基板の貼り合わせ技術
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F-RO-371 汎用熱処理装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0046]ナノスケールチャネルを有するTFT作製のためのpoly-Si加工
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0047]不純物原子のイオン打ち込みによる化合物半導体の欠陥導入制御
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F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0048]超伝導ナノワイヤ光子数検出器を用いた蛍光相関分光システム
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0049]幹細胞を大量に培養する基材の開発
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F-RO-365 エッチング装置(汎用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0052]ラザフォード後方散乱測定装置を用いたDLC並びに無機系の蒸着膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0053]シリコンリング光共振器回路の作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0054]光バイオセンサーにおける受光素子と信号増幅回路の集積化
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0055]単分子誘導電体を組み込んだFET のプロトタイプ作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-361 エッチング装置(ICP Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0058]半導体薄膜の接合技術の研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0059]CMOSトランジスタ・IC作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-17-RO-0066]流路付加バイオセンサーの作製・測定
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-373 PDMS加工装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0001]ガラス基板上の4 端子低温poly-Si TFT CMOS インバータの開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0002]生体反射板ガイダンス溝の作成
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0004]電子ビーム描画装置による先端露光プロセスの検討
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0005]３次元パワーSoC(Supply on Chip)用積層基板構成技術の研究
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F-RO-343 リン拡散炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0006]金属上での有機フレームワーク接触形成と小分子活性化還元電極への展開
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0008]イオンビーム誘起ナノ・ミクロン複合パターン形成による超撥水性ガラスの創製
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0009]2 インチ シリコンウエハ上へのシリコン窒化膜の形成
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0010]CVD酸化膜のエッチング評価
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F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0013]低温成長InxGa1-xAsの成長とその電気的特性の評価
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0014]鉱物形成能を有する細菌のスクリーニング
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0015]細菌が生成する鉱物の構造評価
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0016]凝集鉱物の熱処理前後の構造評価
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0017]SOIチップ上へのSiNの成膜
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0018]プラズモン共鳴を利用した光伝導型テラヘルツ波検出素子の高効率化
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0019]円形溝への反磁性微小物の導入
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0020]イオンビーム照射によるSi, SiC 結晶の欠陥生成の研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0021]標準シリコン酸化膜の厚測定 (2)
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0022]イオン注入法による窒化ガリウムのドーピング技術の開発
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0023]SiN光方向性結合器と分子鋳型ポリマーの融合による新規バイオセンサの開発
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0024]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製と評価（くし形Siウォールの形成）
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0025]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製と評価（ドーピングによる太陽電池の作製）
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0026]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製と評価（Alスパッタによるアノード・ゲート電極の形成）
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0027]メニスカス力を用いたSOI膜の転写における転写率向上の研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0028]PH3プラズマ処理および大気圧熱プラズマジェット熱処理によるシリコン薄膜の不純物ドーピング
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0029]SiC-MOSFETの作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0030]ワイドバンギャップ半導体基板への高温イオン注入と短時間高温活性化アニールの研究
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0031]PECVD装置によるSiO膜のドライエッチング処理方法の検討
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F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0032]窒化物薄膜LEDの開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0033]CDE装置によるSiO膜のドライエッチング処理方法の検討
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F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0034]低温成長InxGa1-xAsのショットキー接合の形成とその容量電圧特性の評価
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0035]超微細DNAメモリートランジスタの研究
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0036]リング共振器バイオセンサのための流路形成
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0037]学習機能をもつ光ニューラルネットワークの基礎研究
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0001]超臨界二酸化炭素雰囲気下における微細空間中のポリイミド蒸着機構の解明
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F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0002]次世代デバイス向け先端露光プロセスの検討
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0003]一方向成長を促進した非晶質シリコンのレーザーアニール結晶化
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F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0004]微細流路を用いた流路抵抗測定
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F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0005]量子ドット固定領域制御技術のための微細加工パターン作成
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0006]ラザフォード後方散乱法を用いたInP基板上低温成長InxGa1-xAs内の結晶欠陥の評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0007]InP基板上低温成長InxGa1-xAsの成長とX線回折法を用いたその結晶性の評価-格子整合系と不整合系のデバイス特性の差異の起源-
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0008]微細結晶粒を有する低温poly-SiトンネルTFTのデバイス形成に関する研究
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0009]自己整合4端子メタルダブルゲートCLC低温poly-Si TFTの制御性に関する研究
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0010]高性能薄膜トランジスタの実現に向けた非晶質シリコンのレーザーアニール結晶化
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F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0011]金属誘起固相成長とhigh-k膜を利用した自己整合４端子低温poly-Si TFTの開発に関する研究
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0012]高圧蒸着法における成膜特性とトレンチサイズの関係
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F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0013]次世代デバイス向け極微細パターニングの検討
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0015]多量子ビーム検出用超伝導トンネル接合素子
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0016]ミストCVD法によるCu2ZnSnS4薄膜のRBSを用いた組成評価に関する検討
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0018]方向性結合器型干渉素子を用いたバイオセンシングデバイスの構築
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0019]InP基板上アモルファスInxGa1-xAsの熱処理による結晶化とX線回折法を用いたその結晶性評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0021]4インチウエハのエリプソメトリによる酸化膜の測定
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0022]細菌に凝集させた化合物の構造評価
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F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0023]高感度プラズモニックセンサーの開発を目指したナノ粒子表面修飾
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0024]バイオセンシング用分子認識タンパク質の簡便な性能評価のためのSi酸化膜基板の作製
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F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0025]電子ビーム露光を用いた室温動作Si単電子トランジスタ＆薄膜トランジスタの設計・製作・評価
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0026]電子ビーム露光を用いた室温動作Si単電子トランジスタ＆薄膜トランジスタの設計・製作・評価
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0027]局在プラズモン共鳴を利用した光伝導型テラヘルツ波検出素子の高効率化
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0028]アルカリ土類金属によるSiC-MOSFETsの界面制御
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0029]窒化シリコン方向性結合器バイオセンサによるアプタマー分析
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F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0030]塗布技術を用いて形成したhigh-kゲート絶縁膜の評価
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0031]ホール効果測定を用いたInP基板上低温成長InxGa1-xAsの欠陥準位の評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0032]表面粗さによる微小管速度制御技術の開発
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0033]窒化物半導体層のエッチング加工
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0034]リフトオフによるメタルパターン形成
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0035]塗布膜のパターン加工
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0036]生体反射板ガイダンス溝の作成
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0037]超臨界蒸着法によるフッ素－カプトン系ポリイミドの成膜特性とトレンチサイズの関係
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0038]Ge中にイオン注入したAsの高効率活性化と化学状態分析
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0039]電圧印加XPSを用いた熱酸化SiO2/Si 構造の内部電位評価
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F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0040]狭間隔スロット光導波路のレジストパターン形成
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0041]リッジ型光導波路実現のためのドライエッチング条件の探索
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F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0042]スポットサイズ変換器用中間クラッド層の形成
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F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0043]シリコンチッ化膜のプラズマ中表面計測についての相談
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0044]炭化ケイ素基板への高温リンイオン注入と短時間高温活性化アニールの研究
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0045]Si/SiCヘテロ接合によるオーミックコンタクトの形成
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0047]メニスカス力を用いたSOI膜の転写における転写率向上の研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0001]ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための微細流路
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0002]ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための試験デバイス開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0003]新太陽電池及びその製造方法
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0004]酸化物半導体/絶縁膜界面制御に関する研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0005]ラザフォード後方散乱法を用いた低温成長InxGa1-xAsの結晶構造の作製及び解析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0006]自己整合メタルダブルゲート低温poly-SiトンネルTFTの開発
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0007]マイクロ流量制御に向けたシリンジポンプの作製及び特性解析
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0008]金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0009]積層構造に依存したグラフェンの電子構造の研究
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0010]BN多層グラフェン素子の作製と電子構造の研究
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0011]原子層膜の表面電気伝導の研究
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0012]高移動度グラフェン素子の作製と量子輸送現象の研究
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0013]BN上の多細孔グラフェン素子の量子伝導の研究
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0014]シリコンのドライエッチング速度に関する基礎検討
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F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0015]THz波デバイスの作製
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0016]電子ビーム描画による単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0017]単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0019]モアレ縞を用いたひずみ可視化デバイスの開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0020]石英基板上への非晶質シリコン薄膜堆積
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F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0021]超臨界蒸着により作製した金属薄膜の表面抵抗の測定
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0022]超臨界二酸化炭素を利用した微細空間内へのポリイミドの成膜・埋め込み法の開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0024]DNA/Siメモリートランジスタの基板作製・評価 (イオン注入処理によるSiアイランドの低抵抗化)
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0025]DNA/Siメモリートランジスタの基板作製・評価(EB描画を用いたDNAチャネルの微細加工)
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F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0026]DNA/Siメモリートランジスタの基板作製・評価 (DNAトランジスタ作製)
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0027]ナノ平坦表面接合技術の応用研究
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0028]紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si型作製）
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0029]紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si型観測）
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0030]LPCVD法による多層膜PIN太陽電池の試作
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F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-334 LPCVD装置(poly-Si用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0031]低温成長InxGa1-xAsの成長とX線回折法を用いたその結晶性の評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0032]フィルム基材を用いたフレキシブル色素増感太陽電池デバイスを安定的に作製するための断面解析
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0033]RBSによる硫化物薄膜のストイキオメトリー評価
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0034]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（トンネル絶縁膜）
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0035]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ）
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F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0036]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（薄膜形成）
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F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0037]熱酸化SiO2と結晶シリコン界面の原子構造観察
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F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0038]アルミニウムの表面積増大法の研究
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F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0039]低温poly-SiトンネルTFTのデバイス解析に関する研究
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0040]電子ビーム描画装置による微細パターン形成
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0041]超臨界蒸着法によるCoFe2O4磁性薄膜の作製
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0042]超臨界蒸着法によるリンドープコバルト薄膜の作製
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0043]超臨界蒸着法により作製したCoFe2O4磁性薄膜の膜組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0044]ラザフォード後方散乱測定装置を用いたＤＬＣ膜の組成分析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0045]電子ビーム描画装置によるL&Sパターンの作製
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0046]青色LED薄膜のナノ転写技術の開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0047]超臨界蒸着法によって作製されたコバルト－鉄複合薄膜の結晶構造解析
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F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0048]ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための、濾過膜断面パターンを反映したデバイス開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0049]金ナノパターンのプラズモン共鳴におよぼす配列効果の研究
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F-RO-347 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0050]Cat-CVD SiNx/a-Si積層膜で覆われた結晶シリコンの界面準位密度測定
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F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0001]ガラス上単結晶シリコンTFTの開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0002]シリコンのドライエッチング速度に関する基礎検討
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0003]単結晶シリコンの疲労を評価するデバイスの試作
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0004]III-V族半導体薄膜の分子線エピタキシャル成長と新規光学デバイスの製作
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0005]薄膜トランジスタ開発のためのイオン注入条件の最適化
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0006]p-i-n接合シリコンナノワイヤの形成と光学特性評価
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F-RO-334 LPCVD装置（poly-Si用）
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0007]金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0008]微細なトレンチを有するシリコンウエハへのポリイミド薄膜の作製
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F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0009]ポリイミド微細加工における蒸着温度の影響
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0010]グラフェン量子ドットを基盤とした機能性物質群の創製
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0011]EBによる微細ホール加工
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0012]厚膜酸化膜を有した基板の微細エッチング加工
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0014]真空を利用したＳｉウェハ上への無気泡フィルム接着装置の開発
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0015]マイクロ流路内を流れる赤血球の形状特性の実時間計測
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0016]多量子ビーム検出用超伝導トンネル接合素子
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F-RO-335 LPCVD装置（SiN用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0019]マイクロ波超伝導共振器アレイを用いた放射線検出器の開発
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F-RO-335 LPCVD装置（SiN用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0020]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（イオン注入）
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0021]Geを活性層とする薄膜トランジスタ（Ge薄膜の形成）
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F-RO-333 酸化炉
F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0022]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ）
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0023]Geを活性層とする薄膜トランジスタ（SiN薄膜の形成）
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0024]窒化物薄膜の構造と物性
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0025]空間光変調器用ドライバ分離領域の形成
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-335 LPCVD装置（SiN用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0026]空間光変調器用ドライバ回路閾値電圧制御用イオン注入
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0027]空間光変調器用ドライバ回路作製工程（トランジスタ前工程）
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-334 LPCVD装置（poly-Si用）
F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0028]空間光変調器用ドライバ回路配線工程
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-339 Alスパッタ装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0029]ＢＣＮ膜のエッチング評価
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F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0030]NiGe層中へのリン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調機構の解明
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F-RO-344 イオン注入装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0031]DNAをチャネルとするSi半導体MOSFET（Siアイランド形成）
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F-RO-331 マスクレス露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0032]DNAをチャネルとするSi半導体MOSFETの作製（薄膜形成）
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F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0033]DNAをチャネルとするSi半導体MOSFETの作製（Siのドライエッチング）
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0034]自己組織化形成Ｓｉ系量子ドットの選択成長
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-333 酸化炉
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0035]高移動度グラフェン素子の作製と量子輸送現象の研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0036]原子層膜の表面電気伝導の研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0037]BNの表面凹凸がグラフェン素子の移動度に及ぼす影響の研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0038]BN多層グラフェン素子の作製と電子構造の研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0039]BN上の多細孔グラフェン素子の量子伝導の研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0040]微細構造シリコンにおける増強ラマン散乱効果の研究
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0041]微細な空間へのポリイミド薄膜作製における蒸着時間の影響
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F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0042]低温成長GaAs系半導体薄膜の結晶構造評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0043]RBS/PIXEを用いた低温成長GaAs系半導体薄膜の結晶構造解析
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0045]光デバイス用スポットサイズコンバータの研究
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F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0046]金属ナノパターンにおけるプラズモン共鳴のデバイス応用
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0047]SiCパワーデバイスのための不純物活性化の研究
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F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0048]LPCVDを用いた多層トンネル接合型PIN太陽電池基板の特性解析
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F-RO-334 LPCVD装置（poly-Si用）
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0049]光八木宇田アンテナによる量子ドット発行の指向性制御
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0050]SiC基板へのイオン注入、熱処理、および注入された基板の注入分布および電気的特性評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0051]集積回路の検査に用いられるイリジウムメッキしたタングステンプローブの特性評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0052]GaN基板表面の組成評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0001]ナノ空間による生体高分子１分子の疑似２次元解析
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0002]単結晶シリコンの強度を評価するデバイスの試作
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0003]単結晶シリコンの疲労を評価するデバイスの試作
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0004]光デバイス用スポットサイズコンバータの研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0005]磁気光学材料を用いた光スイッチの研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0006]巨大線状Siグレインを用いた高性能薄膜トランジスタの研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0008]LPCVDを用いた多層トンネル接合型PIN太陽電池基板の試作
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0009]LPCVD法による一貫薄膜Si/SiO2多層膜形成法の検討
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0010]LPCVD法による試作多層膜のTEM評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0011]表面プラズモン共鳴を用いたノロウイルスセンサの開発
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0012]マイクロパターン化PDMSスタンプの作製
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0013]デバイスシミュレータ（TCADツール）を用いたSi MOSFETのシミュレーション環境の構築
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0014]高速視覚を用いたマイクロデバイスの実時間流速計測システム
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0015]リン添加Niのジャーマナイド化で形成したNiGe/Ge界面ショットキー障壁評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0016]NiGe層中へのリンイオン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0017]Ni/Ge界面へのリンイオン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0018]Ge基板への極浅リン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0019]マイクロピラーを持つマイクロ流路における実時間非定常流れ計測
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0020]デバイスシミュレータTCADツールを用いたSi MOSFETとSiC MOSFETのシミュレーションと最適化
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0021]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ）
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0022]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（薄膜形成）
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0023]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（要素）
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0024]超臨界二酸化炭素を利用したポリイミド微細加工技術の開発（XPS）
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0025]超臨界二酸化炭素を利用したポリイミド微細加工技術の開発(Alスパッター)
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0026]前方散乱分析法による硬質CrMo合金めっき皮膜中の水素の分析
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0027]RFスパッタ法を用いた高品質ゲート絶縁膜の形成と評価
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0028]リモート水素プラズマ支援によるFeおよびFeシリサイドナノ構造の高密度形成
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0029]ソフトリソグラフィーを用いた平面パッチクランプ用電極の量産化
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0030]窒化物薄膜の構造と物性
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0031]マイクロ流路内の流速変化に伴う粒子の形状特性の実時間計測
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0032]光入射位置および入射角度検出可能なセンサデバイスの作成
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0033]PIXE法（イオン加速器）を用いる軽元素の定性･定量分析
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0034]微細構造シリコンにおける増強ラマン散乱効果の研究
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0035]金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0036]マイクロ流路内の流速分布及び粒子特性の実時間計測
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0037]半導体デバイスにおける薄膜形成プロセス開発に関する相談
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(登録なし)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0038]半導体デバイスにおける高誘電率薄膜形成プロセス開発に関する相談
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0001]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0003]ナノ物質ネットワークを計算資源とした情報処理の実現
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0004]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0005]超音波振動液滴室温マイクロコンタクトプリントによるDLCマイクロギヤの作製
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0007]水分解触媒電極のための製膜と膜厚測定
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0008]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0009]複合材料を用いた微小管運動制御デバイスの開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0010]リチウム硫黄電池正極における硫黄含有中間体のin situ 解析
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F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0011]ダイアモンド半導体上の電子ビームリソグラフィー
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0012]金属含有 DLC の研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0013]新規組成ネガ型レジストの露光評価
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0014]新しい漏れ検査技術の基礎検討
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0015]有機金属分解法により作製したガーネット薄膜の加工と評価
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0016]強磁性薄膜・微粒子とスピン流の相互作用に起因する磁化ダイナミクスに関する研 究
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0017]感光性樹脂の研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0018]埋立廃棄物中の塩濃度を低減するためのバイオレメディエーション技術の開発
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0019]カルコゲナイド系相変化材料に関する研究
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0020]バイオマイクロデバイスの製作
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F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0021]陽極酸化処理したアルミニウム合金の真空特性評価
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0022]透明ポリイミドフィルムの開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0023]機械加工面形状測定用MEMSデバイスの開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0024]耐水素脆化オーステナイト系鋼の開発
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0025]スパッタリングによる金属酸化物/窒化物薄膜の形成
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F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0026]酸化鉄ナノ粒子の磁化測定
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F-YA-364 振動試料型磁力計
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0001]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0002]超音波振動を利用した液滴室温ナノインプリントによるDLCマイクロギヤの作製
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0003]透明ポリイミドフィルムの開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0004]電気二重層キャパシタから発生するガスの分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0006]水分解触媒電極のための製膜と膜厚測定
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0007]新規半導体材料の開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0008]アルカリ現像型非化学増幅電子線レジストの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0009]複合材料を用いたマイクロヒータの開発
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0010]赤外光を用いたCu薄膜上での電解質分解挙動の解明
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0011]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0012]磁性流体のゲル化に伴う磁力変化
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F-YA-364 振動試料型磁力計
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0013]粗面化したステンレス鋼の放熱特性評価
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0014]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0015]多様な物性測定のための電極作製と評価
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0016]感光性樹脂の研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0017]NiとFeを組み込んだ酸化タングステンの酸素発生活性
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0018]金属含有DLCの研究
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0019]ガーネット薄膜のパターニング及び断面TEMによる評価
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F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0020]強磁性薄膜・微粒子とスピン流の相互作用に起因する磁化ダイナミクスに関する研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0021]竹粉末燃焼時に生じるクリンカー生成メカニズムの解明
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0022]カルコゲナイド系相変化材料に関する研究
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F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0023]ヘテロ構造磁性膜の光学定数スペクトル測定
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0024]各種フェライト粉末の磁化測定
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F-YA-364 振動試料型磁力計
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0025]機械加工面形状測定用MEMSデバイスの開発
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0026]種々の表面処理したアルミニウム合金の表面特性
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0027]薄膜太陽電池応用に向けてSiO2基板上に作製したBaSi2膜の光学特性分析
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0028]ピエゾ抵抗式圧力センサの開発
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0029]陽極酸化処理したアルミニウム合金の真空特性評価
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0030]新しい漏れ検査技術の基礎検討
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0031]スパッタリングによる金属酸化物/窒化物薄膜の形成
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F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0032]エリプソメータによる膜厚測定
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0033]ダイヤモンドダイオードの電極作製
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0001]新規半導体材料の開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0002]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0003]新規ポリマー型レジストのドライエッチング耐性評価
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0004]スパッタ装置を用いた W 基板への W 堆積層形成
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0005]各種金属の真空用表面処理の開発
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F-YA-354 ガス放出速度測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0006]超音波振動液滴室温ナノインプリントによるDLCマイクロギヤの作製
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0007]透明ポリイミドフィルムの開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0008]新規機能性樹脂の開発
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0009]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0010]水性亜鉛イオン二次電池のためのフレキシブル層状 MnO 2 正極の開発
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0011]電気二重層キャパシタから発生するガスの分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0012]金属含有DLCの研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0013]宇宙空間 におけるオルガノイドの長期 維持法の確立
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0014]複合材料を用いたマイクロヒータの開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0015]水分解触媒電極のための製膜と膜厚測定
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0016]感光性樹脂の研究
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0019]強磁性薄膜・微粒子とスピン流の相互作用に起因する磁化ダイナミクスに関する研 究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0020]イオン注入を利用した新しいスピンホール効果材料の開発
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0021]電子線描画装置によるナノパターンの作製
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0022]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0023]新規組成ポジ型レジストの露光評価
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0024]新型ガス分析器の基礎特性の調査
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0025]焼却灰を使用したジオポリマー硬化体から放散される揮発性有機化合物(VOC)の測定
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0026]アルミニウム合金の真空特性
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F-YA-354 ガス放出速度測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0027]分子フローコントローラーによる真空計校正の検証
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0028]O/Nb 比を変えて製膜した非晶質酸化ニオブ薄膜中に存在する水素原子の比率
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0029]機械加工面形状測定用 MEMS デバイスの開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0030]陽極酸化処理したアルミニウム合金の真空特性評価
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F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0031]微細構造による濡れ性制御
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0032]GeAu 同時蒸着金誘起層交換成長法で作製した結晶性Ge 薄膜の電気伝導特性
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0033]シリコンおよびジンクセレン半球への銅スパッタ
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0034]水素チャージ処理による金属表面状態変化に関する検討
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0035]伸線加工を施した磁性材料の磁気特性変化の観察
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0036]ZnSe系ハイブリッドAPDの開発
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0001]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0002]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0004]イソプロピリデン基を２つもつノボラック樹脂の合成とレジスト材としての応用
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0005]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0006]超音波液滴室温ナノインプリントプリントによるDLCドットアレイの作製
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F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0007]Ti, Cuの2層スパッタ成膜、絶縁層キュア処理
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0008]複合材料を用いたマイクロヒータの開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0009]分光測定用薄膜の作製
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0010]各種金属の真空用表面処理の開発
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-354 ガス放出速度測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0011]低温成膜可能で安定性の高い感光性ポリイミドの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0012]感光性樹脂の研究
|
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0013]有機半導体薄膜太陽電池の作製と半導体層の物性評価
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F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0014]金属含有DLCの研究
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F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0015]加熱発生ガスの分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0016]表面処理したアルミニウム合金のガス放出特性
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0017]ガス放出速度測定装置の真空計の校正
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0018]分子フローコントローラーによる真空計校正の検証
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F-YA-354 ガス放出速度測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0019]高圧液体漏れ検査装置開発のための基礎実験
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0020]新規半導体材料の開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0021]真空蒸着時のフィルムから発生するアウトガス分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0022]新規機能性樹脂の開発
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0023]透明ポリイミドフィルムの開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0024]宇宙空間におけるオルガノイドの長期維持法の確立
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0025]磁化ダイナミクス制御によるコヒーレントスピン波発信源に関する研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0026]水素チャージ処理による金属表面状態変化に関する検討
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0027]水性亜鉛イオン二次電池のためのフレキシブル層状MnO2正極の開発
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0028]カルコゲナイド系磁性半導体に関する研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0029]高感度非化学増幅型電子線レジストの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0030]電気二重層キャパシタから発生するガスの分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0001]SiN薄膜からの脱水素アニールの条件評価
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0002]ビスフェノール類を用いた柔軟性をもつフォトレジスト用樹脂の開発
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0003]昇温脱離ガス分析装置（ダイナミック型）による電子部品の発生ガス調査
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0004]層状マンガン酸化物の酸素発生活性
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0005]多分岐電子線レジストによるBlazed Circleの形成
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0006]UV-PDMSモールドを用いた液滴室温リバーサルマイクロコンタクトプリントによるDLCドットアレイの作製
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0007]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0008]金属含有DLCの研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0009]各種金属の真空用表面処理の開発
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F-YA-354 ガス放出速度測定装置
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0010]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0011]新規半導体材料の開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0012]複合材料を用いたマイクロヒータの開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0013]水素チャージ処理による金属表面状態変化に関する検討
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0014]ガーネット材を用いたスピン流デバイの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0015]ポリウレタンディスパージョンの乾燥過程におけるレオロジー挙動
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0016]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0017]鉄鋼材料に含有する水素量分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0018]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0019]感光性樹脂の研究
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0020]デュアル光コム分光エリプソメーターの開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0021]ミニマルファブシステム装置を利用したC-セミサービス事業の実現可能性の研究
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0022]真空プロセス装置開発のための基礎実験
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0023]バイオリフレクタを利用したデバイス応用に関する研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0024]有機半導体薄膜太陽電池の作製と半導体層の物性評価
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F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0025]省合金型二相ステンレス鋼の真空容器向け使用特性評価
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F-YA-354 ガス放出速度測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0026]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEB、レーザーによるフォトマスクの作製
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0027]新規機能性樹脂の開発
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F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0028]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0029]表面処理したアルミニウム合金のガス放出特性
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F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0031]強磁性ナノ粒子集合体の磁化ダイナミクス評価素子の作製
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0032]ガス放出速度測定装置の真空計の校正
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0033]TiO2の成膜、評価
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0034]分子フローコントローラーによる真空計校正の検証
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F-YA-354 ガス放出速度測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0035]カルコゲナイド系磁性半導体に関する研究
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F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-17-YA-0036]高感度非化学増幅型電子線レジストの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0001]新規半導体材料の開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0002]各種金属の真空用表面処理の開発
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0003]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0004]GaN系半導体光・電子デバイスの開発
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0005]金属含有DLCの研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0006]電気化学法を用いた鉄酸化物薄膜の合成
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0007]ビスフェノール類を用いた柔軟性をもつフォトレジスト用樹脂の開発
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0008]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0009]高解像電子線レジストのプロセス開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0010]感光性樹脂の研究
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0011]粘土鉱物-導電性高分子ハイブリッド膜の電気伝導率の評価
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0012]昇温脱離ガス分析装置（ダイナミック型）によるチップコンデンサの発生ガス調査
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0013]省合金型二相ステンレス鋼の真空容器向け使用特性評価
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F-YA-354 ガス放出速度測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0014]真空プロセス装置開発のための基礎実験
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0015]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0016]液体による微量漏れ検出技術の開発
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0017]複合材料を用いたマイクロヒータの開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0018]液滴室温ナノインプリントによるダイヤモンドライクカーボンエミッタの作製
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0019]酸化物オーミック電極を用いた酸化ガリウムデバイス作製
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0021]カルコゲナイド系磁性半導体に関する研究
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0022]マグネシウム電池用3Dポリマー電解質の開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0023]高感度非化学増幅型電子線レジストの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0024]新規構造を有するスチレン系共重合ポリマーの合成と電子線レジス トへの応用
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0026]表面処理したアルミニウム合金のガス放出特性
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0027]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0028]水素吸蔵金属を用いたセラミックス－金属間の接合
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0029]有機半導体薄膜太陽電池の作製と半導体層の物性評価
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0030]分散系のレオロジーと成膜挙動に関する研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0031]電子線露光による非化学増幅系レジストパターン作製プロセスに関する技術相談
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0032] 標準シリコン酸化膜の膜厚測定 (2)
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0033]酸素分圧を変えて製膜した非晶質酸化ニオブ薄膜中に存在する水素原子の比率
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0034]新規機能性樹脂の開発
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F-YA-360 ECRエッチング装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0035]鉄鋼材料に含有するガス成分分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0036]SiN薄膜からの脱水素アニールの条件評価
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0001]次世代レジスト材料の開発
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0002]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0003]種々の材料の真空分圧測定
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0004]新規機能性樹脂の開発
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0005]反応性スパッタ膜の研究・開発
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0007]昇温脱離ガス分析（TDS）を用いたカーボン粉末の発生ガス分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0008]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0009]感光性樹脂の研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0010]金属含有DLCの研究
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F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0011]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0012]有機化合物によるエレクトロニクス素子の開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0013]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0014]省合金型二相ステンレス鋼の真空容器向け使用特性評価
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F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0015]液体による微量漏れ検出技術の開発
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0016]ウエハへのマイクロビアの作製および銅薄膜
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0018]金属材料の微細加工
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0019]銅合金の真空表面処理の開発
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0020]高感度ネガ型電子線レジストの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0021]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0022]ポリマー型電子線レジストの高度化に関する研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0023]カルコゲナイド系磁性半導体に関する研究
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0024]ビスフェノール類を用いた柔軟性をもつフォトレジスト用樹脂の開発
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0025]不純物ドープ窒化物薄膜の作製と評価に関する研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0026]水素吸蔵合金を用いたセラミックスー金属間の接合
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0027]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の作製
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0028]標準コンダクタスエレメトを用いた種々のガ分析計感度調査に関する研究
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0029]表面処理したアルミニウム合金のガス放出特性
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F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0030]尿酸結晶あるいはグアニン結晶と強磁性物質によるハイブリッド膜の作製
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0031]スピン波デバイス伝搬特性の研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0032]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEBレーザーによるフォトマスクの作製
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0033]ハイブリッド対抗スパッタによる透明導電膜の作製
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0034]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0035]大小混在パターンに対応可能なMEMS向けレジストとプロセスの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0036]Siウエハー上に置ける有機膜からのアウトガス成分分析／ダイナミックTDS測定
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0001]次世代レジスト材料の開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0002]厚膜用電子レジストの合成に関する研究
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F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0003]新規機能性樹脂の開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0004]反強磁性層を挿入したトンネル接合に関する研究
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0005]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0006]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の合成と分析化学的応用
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0007]磁性体を使ったホログラフィーによる３D画像表示の研究
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0008]微細構造による濡れ性制御
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0009]表面処理したアルミニウムのガス放出特性
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F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0010]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0011]金属材料の微細加工
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0012]種々の材料の真空分圧測定
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0013]表面処理したチタンの摺動によるガス放出特性
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0014]電解処理を用いた材料改質に関する研究
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0015]粘土鉱物-導電性高分子ハイブリッド膜の電気伝導率の評価
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0016]金属含有DLCの研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0017]省合金型二相ステンレス鋼の真空容器向け使用特性評価
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F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0018]水素吸蔵金属を用いたセラミックス－金属間の接合
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0019]めっき鋼鈑中の水素測定
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0020]昇温脱離ガス分析（TDS）を用いたカーボン粉末の発生ガス分析
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0021]高感度ネガ型電子線レジストの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0022]GaN系トランジスタ用電極の作製
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0023]スパッタ法によるYIG薄膜の成膜
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0024]多分岐ポリマー電子線レジストの描画・エッチング性能評価
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0025]感光性樹脂の研究
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0026]GaN系半導体光・電子デバイスの開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0027]半導体微細領域の電気特性
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0028]反応性スパッタ膜の研究開発
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0030]標準コンダクタンスエレメントを用いた種々のガス分析計の感度調査に関する研究
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F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0031]液体による微量漏れ検出技術の確立
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F-YA-355 超高真空分圧測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0032]有機化合物によるエレクトロニクス素子の開発に関する技術相談
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0001]次世代レジスト材料の開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0002]チタン材料の光刺激ガス脱離の研究
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F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0003]金属材料の微細加工
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F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0004]静電吸着による付着粒子の除去
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0005]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0006]表面処理したチタンの摺動によるガス放出特性
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F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0007]顕微鏡用の微小流路の作製
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0008]微小磁性体の高周波ダイナミクスの研究
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0009]種々の材料の真空分圧測定
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F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0010]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の作製
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0011]磁性体を使ったホログラフィーによる３D画像表示の研究
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F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0012]有機化合物によるエレクトロニクス素子の開発
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0013]不純物ドープ窒化物薄膜の作製と評価に関する研究
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F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0014]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0015]磁性薄膜と電極の成膜実験
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F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0016]表面処理したアルミニウムのガス放出特性
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F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0017]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
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F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0018]非対称人工ピンを導入する超伝導素子に関する研究
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0019]微細構造による濡れ性制御
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F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0020]新規機能性樹脂の開発
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F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0021]チタン製真空装置の高性能化に係る相談
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0022]真空装置の設計に係る技術相談
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0001]チタン製真空フランジの真空封止性能の検討
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0002]種々の材料の真空分圧測定
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0003]チタン材料の光刺激ガス脱離の研究
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0004]金属材料の微細加工
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0005]不純物ドープAlN膜の作成と評価に関する研究
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0006]UHV10元スパッタ装置を用いたPt電極の成膜実験
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0007]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0008]微小磁性体の高周波ダイナミクスの研究
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0009]磁性体を使ったホログラフィーによる３D画像表示の研究
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0010]色素含有薄膜の二光子吸収機能
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0011]'ｱﾓﾙﾌｧｽｶｰﾎﾞﾝで生成するOHラジカルを利用した高感度生体成分分析システムの開発
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0012]窒化物被膜の機械的特性等の研究
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0013]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の作成、化学法を用いたシリコン薄膜の作製
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0014]静電吸着力による付着微粒子の除去
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0015]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0016]非対称人工ピンを導入する超伝導素子に関する研究
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0017]顕微鏡マイクロリアクターの溶液トラップ作製
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0018]スパッタ法によるYIG薄膜の成膜
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0019]金属材料のガス放出特性に関する技術相談
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0020]真空部品の真空特性に関する技術相談
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(登録なし)
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0021]LED用AｌN下地膜の作製
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0001]マイクロ電極を用いたバイオ応用
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0002]知能デバイス構築のための電極作製
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0003]マイクロ流体デバイスをベースにした水質モニタリング用センサの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0004]血液凝固検出用光センサチップの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0005]バイオ試料の熱物性を計測するセンサの開発
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0006]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製
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F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0007]3 次元パワーSoC 実現に向けてのプロセス技術の開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0008]微小孔アレイデバイスを用いた細胞解析技術の構築
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0009]デバイス試作および試作品解析
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0010]MOS-CAP 構造を利用したゲート酸化膜評価
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F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0011]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0012]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0013]Ni マイクロメッキ接合技術を用いた太陽電池インターコネクションの信頼性の研究
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0014]スライダ用マイクロ溝・パターンの試作
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0015]イオン注入シリコンウェーハ表面における結晶性回復挙動解析
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F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0016]レジストパターンの形状解析
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0017]歯質再生に用いる新規歯科材料の開発
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0018]機械加工面形状測定用MEMS デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0019]沸騰・蒸発伝熱のマイクロスケール計測
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0001]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0002]ウェハパターンめっきの形状、分析
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0003]山形Cu リードを用いた基板埋込型パワーデバイス実装技術の研究
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0004]感光性樹脂の 研究
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F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0005]多様な物性測定のための電極作製と評価
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0006]マイクロ電極を用いたバイオ応用
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0007]弾性表面波デバイスの作製及びグラフェンの物性評価
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F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0008]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製
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F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0009]高感度水晶MEMS センサの開発
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F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0010]微小孔アレイデバイスを用いた細胞解析技術の構築
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0011]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0012]デバイス試作および試作品解析
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0013]機械加工面形状測定用 MEMS デバイスの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0014]ダイヤモンドの高耐圧パワーデバイス応用
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0015]位置検出型ガンマ線マイクロカロリメータの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0016]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0017]バイオマイクロデバイスの製作
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0018]歯科材料の表面分析
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F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0019]マイクロ流体デバイスをベースにした水質モニタリング用センサの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0020]電子ビームによる微細パターンの描画
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0021]ダイヤモンドダイオードの電極作製
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0022]絶縁体ベース誘電泳動デバイスの開発
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0023]三相界線の局所熱流束を計測するMEMS 熱流束センサの開発
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0024]機能性伝熱面の作製
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0025]スライダ用マイクロ溝・パターンの試作
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0026]血液凝固検出用光センサチップの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0001]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0002]微小孔アレイと微小電極アレイを有する細胞解析デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0003]マイクロ電極を用いたバイオ応用
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0004]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0005]多様な形状を有する電極の作製による電気物性評価
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0006]高精度MEMS 傾斜センサの開発
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0007]ウェハパターンめっきの形状、分析
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0008]パワー半導体デバイスの研究
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0009]バイオマイクロデバイスの製作
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0010]位置検出型ガンマ線マイクロカロリメータの開発
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0011]MEMS 熱流束センサーを用いたミニチャネル内流動沸騰の研究
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0012]パワーデバイス用Ni マイクロメッキ接合の高温信頼性の研究
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F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0013]Si メタサーフェスの作製
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F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0014]ペロブスカイト薄膜の熱電特性
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0015]歯科用CAD/CAM コンポジットレジンの接着特性
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0016]３次元パワーSupply on Chip のプロセス技術の開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0017]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0018]MOS 構造サンプルを用いたシリコンウェーハのCV 特性評価
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F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0020]ダイヤモンドトランジスタの微細ゲートとプロセス用フォトマスクの作製
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0021]機械加工面形状測定用MEMS デバイスの開発
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F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0022]水晶を用いた高感度MEMSセンサの開発
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0023]機能性伝熱面の作製
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0024]デバイス試作および試作品解析
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0025]血液凝固検出用光センサチップの開発
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F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0026]イオン注入によるコンタクト形成方法の調査
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0027]Al-SiO2 サーメットの生成
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0028]小角X 線溶液散乱のためのマイクロ流体デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0029]ナノ機能材料の合成及びナノエネルギーデバイスへの応用
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0030]感光性樹脂の研究
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F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0031]ヒータ作製
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F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0032]誘電泳動デバイスの開発
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0033]CMOS 集積回路要素技術実習
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0001]石英基板へのパターンめっき
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0002]パワーデバイス用Ni マイクロメッキ接合の機械的強度と微細組織の研究
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0003]表面放射電波デバイスの作製に関する研究（Ⅱ）
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0004]4×4電極の作製
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0005]マイクロ電極を用いたバイオ応用
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0006]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0007]CMOS試作によるシリコンウェーハの評価
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0008]窒素ドープされたチョクラルスキーシリコン単結晶の酸素析出挙動調査
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F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0009]イオン注入シリコンウェハの熱処理挙動
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F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0010]ナノ機能材料の合成及びナノエネルギーデバイスへの応用
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0011]酸化シリコンの面方向熱伝導率測定
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0012]薄膜積層型MEMS熱流束センサを用いた高分解能沸騰熱伝達計測の研究
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0013]MEMS傾斜センサの開発
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F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0014]位置検出型ガンマ線マイクロカロリメータの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0015]パワーデバイスに関する研究
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0016]超音波カッティング装置による半導体サンプル切断面観察
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0017]露光条件調整におけるレジスト膜厚評価
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F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0018]高感度水素センサの研究開発
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0019]超音波センサ向けTx/Rx回路の開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0020]Siの可視・近赤外ナノフォトニクス応用
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F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0022]ハーフインチFOWLPの試作開発
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0023]機械加工面形状測定用MEMSデバイスの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0024]金銀パラジウム合金に対するアルミナブラスト処理の作用機序
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0025]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0026]ダイヤモンドトランジスタの微細ゲート作製
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0027]微小孔アレイと微小電極アレイを有する細胞解析デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0028]３次元パワーSupply on Chipのプロセス技術の開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0029]マイクロファブリケーションプロセスを用いた材料表面の機能化
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0030]超親水性微細構造を用いたミニチャネル内流動沸騰熱伝達促進
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0031]SiCウェハーのチップ加工
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0032]界面活性剤を添加した水のプール沸騰気泡底部のミクロ液膜厚さの計測
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0033]マイクロストリップ線路上に作成した平行電極による循環腫瘍細胞検出に関する研究
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0034]液体金属駆動による熱スイッチング素子の開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0035]半導体デバイスの腐食評価
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F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0036]歪みセンサーの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0037]SiO2膜付Siウェハ上へのSiN厚膜堆積
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0038]感光性樹脂の研究
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F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0039]ペロブスカイト太陽電池の開発
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0040]ダイヤモンド・パワーデバイスの高耐圧化構造作製プロセスの構築
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0041]電極間に固定化したDNAの電気的特性評価
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0042]機能性伝熱面の作製
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0043]4重極電極の製作
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0044]光MEMS センサの開発
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F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0045]CMOS集積回路要素技術実習
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F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0001]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0002]セラミックス基板へのパターンめっき
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0003]光モードスイッチの試作開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0004]マイクロ電極を用いたバイオ応用
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0005]炭化ケイ素コーティングのＣＶＤ合成
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0006]デバイス試作および試作品解析
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-375 ケミカルプロセス装置群(8.UVクリーナー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0007]超音波カッティング装置による半導体サンプル切断面観察
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0008]ミニマルファブシステム装置を利用したC-セミサービス事業の実現可能性研究
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0009]３次元パワーSupply on Chipのプロセス技術の開発
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0010]酸化シリコンの面方向熱伝導率測定
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0011]デバイス試作および試作品の開発
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0012]細胞解析用微小孔アレイデバイスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0013]マイクロ・ナノ構造を用いたミニチャネル内流動沸騰熱伝達促進
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0014]グラフェンナノリボンを用いた次世代ナノ配線の開発
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0015]ダイヤモンドMOSET作製技術の研究
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0016]プール沸騰におけるミクロ液膜の形成・伝熱特性の研究
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0017]細胞外電位計測デバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0018]細胞の生存環境をコントロールするマイクロデバイスの開発
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0019]高感度水素センサの研究開発
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0020]イオン注入シリコンウェハの熱処理挙動
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0021]MEMS傾斜センサの開発
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0022]機械加工面形状測定用MEMSデバイスの試作
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0023]レジスト膜厚の推移と装置内温湿度との関連性の評価
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0024]熱電マイクロジェネレーター
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0025]表面放射電波デバイスの作製に関する研究（Ⅱ）
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0026]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0027]金銀パラジウム合金に対するアルミナブラスト処理の作用機序
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0028]革新的機能性高分子絶縁材料の開発に関する研究
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0029]位置検出型ガンマ線マイクロカロリメータの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0030]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0031]シリコン基板への深溝構造の作製
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0032]機能性伝熱面の作製
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0033]PECVD 膜形成によるシリコンウェーハ中の元素拡散挙動の解析
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0034]循環腫瘍細胞の誘電特性測定用デバイスの開発
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F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0035]パワーデバイスの研究開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0036]放射光実験用試料のチップ状加工
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0037]ポテンショスタット法のためのオンチップ抵抗の実装方法の開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0038]アルミニウム薄膜のアノード酸化による絶縁層の形成
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0039]シリコンナノピラー群の作製
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-17-FA-0040]歪みセンサーの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0001]循環腫瘍細胞検出のためのマイクロウェルアレイの作製
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0002]細胞解析用微小孔アレイデバイスの製作
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0004]3次元積層パワーSoC用オンチップキャパシタの検討
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0005]マイクロはんだバンプの形成
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0006]陽極酸化法による粗面化処理
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0008]デバイス試作および試作品解析
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0009]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0011]電気ニッケルめっきを用いる電気自動車用SiCパワーモジュールの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0013]炭化ケイ素コーティングのＣＶＤ合成
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0014]Fabrication of single layer graphene nanoribbon field effect transistor and controlling its property
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0015]シリコン太陽電池の裏面パッシベーションのためのSiN膜の最適化
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0016]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0018]OHラジカル水のレジスト剥離
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0019]Ag/Ag2S Core-Shell微粒子配列を用いた回路作製
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0020]水素センサの最適形状検討
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0021]細胞解析用微小孔・微小電極アレイデバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0022]超親水性マイクロ･ナノ階層構造によるプール沸騰限界熱流束促進
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0023]酸化シリコンの面方向熱伝導率測定
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0024]ミニチャネル内流動沸騰実験用MEMSセンサの製作
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0026]血管誘導機能を有する透明人工殻の開発
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0028]ガンマ線検出用位置検出型TES(超伝導転移端温度計)型マイクロカロリメータの開発
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0029]ポリイミド塗れ性確認
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0030]シリコンエッチング
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0034]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0035]パワー半導体素子のボンディングワイヤ密着性の評価
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F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0036]レーザー干渉法による沸騰気泡底部のミクロ液膜厚さの計測
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0038]オペアンプのレイアウト依存製造性評価
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0039]金銀パラジウム合金に対するアルミナブラスト処理の作用機序
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0041]γ‐(AlxGa1‐x)2O3混晶系薄膜の解析
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0042]ポリマー複合材を用いた熱スイッチの研究
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0043]抵抗変化型メモリ素子を用いたニューラル学習回路の開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0044]構造的アプローチによる平面測定用5点法MEMS変位計デバイスの高精度化
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0045]濡れ性こう配の製作
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0047]細胞マイクロパターン技術の開発
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0048]マイクロギャップ電極用マスクの作成
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0001]細胞解析用微小孔・微小電極アレイデバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0002]電気化学計測のためのマイクロピラミッドアレイ電極の作製
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0004]炭化ケイ素のＣＶＤ合成
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0005]表面音響光学効果を用いたポイントオブケア向け高感度バイオセンサーの開発
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F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0006]誘電体ナノ粒子の生成と物性測定
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0007]TES(超伝導転移端温度計)型ガンマ線マイクロカロリーメータの製作と性能評価
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0008]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0009]MEMS センサを用いたミニチャネル流動沸騰熱伝達
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0010]SiO2 自立薄膜の面方向熱伝導率測定
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0011]デバイス試作および試作品解析
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0012]機能性透明人工殻の開発
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F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0013]セラミックスの耐食性評価
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0014]マイクロはんだバンプの形成
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0016]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0018]高感度水素センサの開発
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0019]パワーSoC 用3 次元積層基板構成法の研究
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0021]半導体基板の膜厚減少量評価
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0023]リフトオフ用Wf．の作製
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0025]沸騰熱伝達メカニズム研究用MEMS センサの製作
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0027]高効率インバータ用シリコンパワーダイオードの高速化
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0031]シリコン太陽電池の表面パッシベーションのためのSiN 膜の最適化
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0032]自立膜基板の作成
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0034]パワーデバイス用シリコン基板の開発
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0035]濡れ性こう配の製作
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0039]LED 評価基板のワイヤーボンディングとダイシング
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0041]誘電泳動を用いた血液細胞解析のための電極設計
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0042]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0044]部分的金属被覆DNA を用いたDNA 分解酵素センサの開発
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0046]平面測定用5 点法MEMS 変位計デバイスの高精度化
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0047]セラミックサンプル作製
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F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0049]パワーデバイスの作製
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0052]電解エッチング法による微小孔を有するTi 箔の作製
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0058]光モードスイッチの研究
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0059]ダイシング加工によるSiC チップ試料作製
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F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0061]超小型変位センサに関する研究
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0002]細胞解析用微小孔・微小電極アレイデバイスの開発
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0003]フォトリソグラフィーおよびリフトオフを用いたMTJ素子作製
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0004]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0005]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0006]パワーSupply on Chip用多層積層基板の開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0008]マイクロはんだバンプの形成
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0009]炭化ケイ素の低温合成
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0010]オンチップマイクロロボットを用いた遊泳微生物の刺激応答計測
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F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0011]非接触給電・通信システムで使用するMEMS傾斜角センサの開発
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0012]1 本鎖／2 本鎖DNA 複合体の部位特異的金属被覆
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0013]光モードスイッチの研究
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0014]ナノ構造Si 自立薄膜を用いた熱輸送と電子輸送現象の解明
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0015]ナノ構造化白金触媒を利用した高感度水素センサの開発
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0017]デバイス試作および試作品解析
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0018]ガンマ線検出用TES(超伝導転移端温度計)型マイクロカロリーメータの製作と性能評価
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0019]平面測定用マルチカンチレバー変位計デバイスの製作
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0020]微細構造表面の沸騰熱伝達特性
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0022]パワーデバイスの作製
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0023]リン添加酸化亜鉛薄膜の形成
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0025]電気化学計測のためのマイクロピラミッドアレイ電極の作製
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F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0028]ナノ・マイクロ構造面における固液気三相界面の機能制御と工学的応用
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0030]μバリスタの表面処理および表面観察
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F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0032]機能性伝熱面の創製
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0036]誘電泳動力を用いた細胞の分離技術の開発
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0037]溝付きシリコンウエハーの作製
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F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0039]沸騰熱伝達メカニズム研究用MEMS センサの製作
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F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0042]次世代パワーモジュールの高温・高電圧実装技術に関する研究
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F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0048]ワイドギャップ半導体のレーザー顕微鏡観察
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0001]光エネルギー変換デバイスの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0002]傾斜角センサ作製プロセスの改善
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0004]MEMS技術を応用した多点法走査形状測定用マルチカンチレバーの開発
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0005]局在表面プラズモン共鳴を利用した血液検査マイクロデバイスの開発
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0006]半導体、太陽光発電パネル開発のための成膜加工
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0007]ブロックコポリマーを用いたミクロ相分離構造とポーラスフィルムの作製
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0009]マイクロはんだバンプの形成
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0011]DNAの金属被覆によるナノワイヤの形成
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0013]評価用LEDの組み立て
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0014]超小型電流センサのコイル部作製
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0018]水晶振動子のための新たな励振電極形状の開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0019]KOH溶液によるSiエッチング評価
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0022]ナノ構造Si自立薄膜を用いた熱輸送現象の解明
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0023]細胞解析用微小孔デバイスの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0025]アルミナコーティング粒子の観察・分析
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0027]脳型情報処理回路のためのナノディスクアレイ結合型FinFETの開発
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0028]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0029]酸化亜鉛薄膜へのV族元素のイオン注入
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0030]フォトリソグラフィー用マスクの作製
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0032]3C-SiCを用いたデバイスの開発
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0034]１０トランジスタから構成されたオペアンプの試作
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0036]超伝導渦糸フローチャネルの試作
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0037]シリコンパワーMOSFET作成
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0039]超小型変位センサの特性に関する研究
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0040]ガンマ線検出用TES（超伝導転移端温度計）型マイクロカロリーメーターの製作
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0043]機能性伝熱面の創製
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0045]超高速プラズマエッチング用のテストウエハの試作
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0046]ナノ複合体の高温における反応性
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F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0047]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0050]Siウエハ上へのSiO2層堆積の検討
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F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0052]微細構造による濡れ性制御
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F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0001]光エネルギー変換デバイスの開発
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0002]水晶のドライエッチング加工技術の開発
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0004]SOI基板上グラフェントランジスタ
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0005]アルミナコーティング粒子の観察・分析
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0006]3C-SiC基板を用いたデバイス作製に関する研究
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0007]DNAの金属被覆によるナノワイヤの形成
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0008]局在表面プラズモン共鳴を利用した血液検査マイクロデバイスの開発
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0009]細胞解析用微小孔デバイスの開発
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0011]マイクロバンプめっきの検討
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0012]機能性伝熱面の創製
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0017]Si太陽電池の作製（PBLプロジェクト）
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0018]サブミクロンスパイラル電極を用いた微粒子収集に関する研究
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0019]水晶エッチング速度の測定に向けたエッチング装置の開発
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0021]超小型変位センサの特性に関する研究
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0022]多目的PWMドライバーLSIの試作
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0024]半導体プロセスを利用した変位検出マルチカンチレバーの試作
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0025]超小型電流センサのコイル部作製
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0026]マスク描画装置を用いたカスタムホログラフィック光学素子の製作
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0027]微小アモルファス超伝導体の作製
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0028]水晶ＭＥＭＳ技術を用いた高周波QCMセンサの開発
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0033]MEMS技術に基づいた濡れ制御による機能性伝熱面の創製
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0035]半導体、ソーラー用Siウェハー、ガラス基板の成膜加工
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0038]高感度傾斜センサの生産技術の改善
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0039]イオンビーム照射によるDLCの形成及びその評価
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0041]LED評価基板へのワイヤーボンディング
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(登録なし)
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0045]半導体基板の膜ロス評価
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(登録なし)
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