利用報告書一覧

利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学 微細加工プラットフォーム]　
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名 利用装置名
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0001]酸化アルミニウム原子堆積層の水分透過性に関する検討 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0002]半導体量子ドットによるファイバー接触型単一光子発生源の開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0003]二重量子井戸スピンフィルタ実現のための半導体微細加工 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0004]表面微細構造による放射エネルギーの波長制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0005]金ナノ構造体を用いたナノ粒子のプラズモニックトラッピング 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0006]テーパファイバを介した金ナノ構造体のプラズモン励起による2光子励起蛍光 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0007]ZnOナノロッドアレイ構造からのランダムレーザー発振の観測 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0008]機能性材料の利用による次世代電子デバイスの開発 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0009]低融点ガラス間に挟まれたNi78Fe22薄膜の構造・磁気特性 		F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0010]Ni78Fe22薄膜エッジ上のAu/Crナノワイヤの形成 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0011]YBa2Cu3O7-を用いた超伝導体マイクロデバイスの作製 		F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0012]SmFeAsO1-xHyを用いた鉄系超伝導体マイクロデバイスの作製 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0013]超薄膜絶縁体を介したスピン注入 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0014]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0015]ナノギャップ電極の作製と反応活性サイトの検証 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0016]電気化学的手法によるナノギャップ間隙の制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0017]化学増幅型ＥＵＶレジストの高性能化 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0018]酸化物ハーフメタルを用いた磁壁移動素子の開発 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0019]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0020]マイクロ電気化学分析デバイスのための金薄膜微小電極の作製 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0021]ALD酸化膜を用いた高純度グラフェンの成長実験 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0022]ダイヤモンドドリフトディテクターの開発 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-005 真空蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0023]SrTiO3基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0024]リフトオフ方式によるメタルマスク作製 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0025]光学フィルター用透明電極薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0026]ナノ構造体を用いた無標識検出デバイスの構築 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0027]PbS太陽電池の光方向変換層の研究 		F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0028]単細胞の力学特性計測を目指した微小流路デバイスの開発 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0029]新規半導体材料素子の作製と評価 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0030]膵癌細胞における癌細胞集合体の細胞間相互作用への影響 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0031]半導体表面における弾性表面波によるキャリア輸送 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0034]マイクロ流路基板の開発 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0035]マイクロ・ナノパターン上での細胞培養 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0036]和周波発生分光法によりカーボン膜表面における溶媒吸着の研究 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0037]p-i-n接合型バックゲート構造を用いたスピン信号のゲート制御に関する研究 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0038]パルス状コヒーレントX線溶液散乱法用溶液試料ホルダの作製 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-023 超高真空5源ヘリコンスパッタ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0039]LED高輝度化を目的としたナノインプリントプロセスによるサファイア基板加工 		F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0040]シュリンク剤を用いた、ZEPレジストパターンのシングルナノ達成 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0041]新規高効率光機能デバイスの創成 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0042]DNAブラシ基板に固定化した金ナノロッドの観察 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0043]機能性金属酸化膜の形成 		(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0044]高効率太陽光利用に関する研究 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0045]Surface sensitivity studies and applications of label-free nanostructure-based biochips 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0046]プラズモン水分解系の助触媒効果 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0047]表面増強テラヘルツ分光によるアミノ酸分子誘導体の分光特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0048]プラズモン誘起アンモニア合成の助触媒効果 		F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0049]金ナノ構造／酸化チタン電極表面のSTEM解析 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0050]プラズモン薄膜太陽電池の構築 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-031 太陽電池評価システム
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0051]Plasmon-enhanced photocurrent generation with a controlled semiconductor thin film for perovskite solar cells. 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-031 太陽電池評価システム
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0052]界面ダイポール制御による高効率プラズモン電荷分離状態の形成 		F-HK-031 太陽電池評価システム
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0053]Spectral properties of nanogap dimer structures showing dipole-dipole interaction and charge transfer plasmon 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0054]Surface-enhanced Raman single molecule spectroscopy using nano-engineered silver particles 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0055]四重極子プラズモンの位相緩和ダイナミクス 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0056]金属サンドイッチを用いたプラズモン誘起ポリスチレンビーズの捕捉 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0057]フーリエ分光法を利用した近接場光学イメージングの高空間分解能化の実現 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0058]Improvement of Plasmon-Enhanced Photocurrent Generation by Femtosecond Laser Surface Modification of TiO2 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0059]Optical properties of MIM dimer nanostructures with nanogaps 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0060]Fabrication of a nanostructured photoelectrode with titania inversed opal photonic crystals 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0061]酸化チタンナノホールアレイ電極を用いたプラズモン光電変換系の構築 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0062]酸化チタンナノチューブ電極を用いたプラズモン光電変換系の構築 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0063]プラズモン―励起子ハイブリッド状態のダイナミクス 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0064]アルミニウムナノロッドの作製とエキシトンポラリトンの光学特性 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0065]Carrier-Envelope Phase Control of Plasmonic Nanostructures using ToF-PEEM 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0066]Tuning Plasmon-Enhanced Photocurrent Generation by the Interference in TiO2 Thin-film 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0067]GaN基板を用いたプラズモン人工光合成系の構築 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0068]Biomolecule-Modified Au Nanoislands Decorated TiO2 Photoelectrode for in situ　Measurement of Biotin-Streptavidin Binding Kinetics under Visible Light Irradiation 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0069]引張り負荷下における腱細胞間ギャップ結合コミュニケーションの経時変化 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0070]医療画像診断装置の高度化のためのGaAs放射線検出器のエネルギー分解能の改善 		F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0071]ナノ構造によるラマン散乱増強場の構築 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0072]酸化物コーティングしたカタツムリ殻の濡れ性 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0073]超硬合金によるナノ・マイクロ精密金型作製 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0074]超撥水微細構造のための鋳型作製 		F-HK-011 ICPドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0075]ALDを用いたAl2O3薄膜の製膜 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0076]ALD法による超平滑HfO2皮膜の作製 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0077]ハーフメタルCo2MnSi薄膜とAg中間層を用いたGMRデバイスの製作 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0078]メタサーフェスによる熱輻射制御 		(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0079]光電磁界センサに用いる結晶への誘電体多層膜の成膜 		F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0080]金薄膜ナノ構造体における伝播型表面プラズモンの動的可視化 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0081]微小管の動的自己組織化における空間的制約効果の影響 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0082]細胞折り畳み技術を用いた3次元立体組織の構築 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0083]MnGa垂直磁化膜からGaAsチャネルへのスピン注入 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0084]概日時計を創る：1細胞計測と操作による細胞ネットワークの再構築 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0085]LDLの吸着に最適な金基板の作製 		F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0086]細胞メカニクス計測のための細胞パターニング基板の開発 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-025 スパッタ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0087]ALD法による高温加熱保護膜の作製の試み 		F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0088]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0089]湾曲ロッドと直線ロッドのハイブリッドアルミニウムナノ構造の作製 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-15-HK-0090]金属成膜手法の違いによるナノ構造の比較 		F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0001]超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成のためのシリコンデバイスの作製 		F-TU-042 ブランソン アッシング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0002]ITO塗布膜のエッチングおよびパターンニング形成技術の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0003]ナノインプリントプロセスにおけるダスト管理 		F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0004]貫通穴形状を持ったＭＥＭＳ構造物の製造方法と高段差ウエハのダイシング方法開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0005]微細構造の機能研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0006]磁歪薄膜MEMSセンサ開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0007]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0008]基板上への0.6 µm L&SのAl電極作成と基板の評価 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0009]MEMSグレーティングの試作 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0010]微細構造の形成とその評価 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0011]触覚デバイスの開発と材料技術の検討 		F-TU-058 ダイサ
F-TU-067 メタル拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0012]ウェハレベルパッケージング 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0013]ワイヤレスMEMSデバイスの研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-086 アルバック アッシング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0014]接触力センサの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0015]窒化膜誘電体によるキャパシタ形成 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0016]粘着剤(ポリアクリル酸エステル)表面の成分分布状態の解析 		F-TU-109 TOF-SIMS
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0017]MEMSデバイスの開発 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0018]紫外オプトデバイス製造プロセスの研究開発 		F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-110 AFM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0021]コンデンサマイクロホンの作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0022]UVフォトディテクター試作・評価 		F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0024]フォトマスク開発　/　大型マスク製造のためのレーザー描画用レジストの選定 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0025]MEMS技術を利用した超高精度2次元穴アレイの開発 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0026]Ｘ線・中性子回折格子干渉計のためのSi回折格子モールドの作製 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0027]微小角入射小角Ｘ線散乱イメージング法の開発 		F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0028]MEMSデバイスの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-082 DeepRIE装置#4
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0029]ワイヤーアレイ構造のシリコン太陽電池に関する研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0030]近赤外用ナノフォトニック・デバイスの研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0031]Siウェーハの欠陥解析 		F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-111 大口径AFM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0032]先端融合領域イノベーション創出拠点形成プログラム「マイクロシステム融合研究　開発「光マイクロシステムの研究」 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0033]音響多層膜構造広帯域共振子の開発 		F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0036]新規LIFTプロセスによるサブミクロン微細構造の形成 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0037]音響光学素子フィルタの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-095 4インチウェハ研磨装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0038]Auバンプ切削平坦化を用いた触覚センサの開発 		F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0039]薄膜の応力制御 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0040]ステンシルマスクの作成など 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0041]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0042]マイクロ流路構造の作製検討 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0043]次世代センサの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0044]磁気共鳴力顕微鏡の開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-058 ダイサ
F-TU-059 CO2超臨界乾燥装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0046]中性粒子ビームを用いた微細加工 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0048]三次元LSIの試作研究開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0051]Bit patterned recording media 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0052]メタマテリアルの作製と評価 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0054]センサ試作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0055]量子ホール系におけるエッジ状態間の相互作用の測定 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0056]MEMSデバイス加工 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0057]熱輻射スペクトル制御によるサーマルマネジメント技術に関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0058]電子デバイスの微細加工 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
F-TU-100 エキシマ洗浄装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0061]ダメージフリー薄膜を用いたナノデバイスに関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0062]エレクトレット素子の作成 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0063]多層膜貫通穴加工方法の開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0064]ウェハレベル低温接合の評価 		F-TU-111 大口径AFM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0066]光通信波長帯に適した光導波路用の窒化シリコン薄膜形成 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-106 卓上型エリプソ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0067]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0068]2次元シートデバイス開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0069]金属薄膜の高精度ドライエッチング工法検討 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0070]ウェハレベル真空パッケージに関する研究 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0072]フォトダイオード上のカラーフィルタ製作 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0073]全方向スキャナ 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0074]Si Nano Wall の異方性エッチングによる形成 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0075]素粒子実験用素材の表面汚染の測定 		F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0077]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0079]MEMS デバイスの作製 		F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0081]圧電薄膜物性の材料依存性評価 		F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0082]微細周期構造の作成 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0083]波長選択エミッタを用いた化学反応促進効果における反応機構解析 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0084]IOC(Integrated optical circuit )の研究開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0085]Si 深堀エッチ加工 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0086]銀ナノワイヤメッシュの溶断現象の解明 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0087]電気化学発光のスペクトル制御 		F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0088]高効率-裏面電極型結晶シリコン太陽電池作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0089]機能性材料の微細加工 		F-TU-043 サンドブラスト
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0090]差圧センサデバイス試作 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0091]MEMS-LSI集積化技術 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0092]貫通電極構造太陽電池における不純物ドープと窒化膜形成 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0093]TFT層間膜と各種メタル、無機膜との密着性評価 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0095]AFMによる生分解ポリマー構造解析 		F-TU-111 大口径AFM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0097]学生のMEMS試作実習 		F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0099]Micron pattern devices for THz image system 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-103 熱電子SEM
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[F-15-TU-0100]ナノスケール表面平坦化のためのドライ研磨プロセスの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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[F-15-TU-0103]量子ビーム格子の開発と作製 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
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[F-15-TU-0104]絶縁膜の形成 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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[F-15-TU-0105]ウェットエッチングによるAFM用基板の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
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[F-15-TU-0106]水素が及ぼすシリコンの機械特性への影響 		F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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[F-15-TU-0108]MEMS構造体の試作 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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[F-15-TU-0110]MEMSカンチレバーデバイスの形成 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
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[F-15-TU-0111]胃液保持MEMS電池の開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-058 ダイサ
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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[F-15-TU-0112]THzメタマテリアルに関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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[F-15-TU-0113]a-Siを用いた発電可能な構造色利用カラーフィルタ 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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[F-15-TU-0114]マイクロ構造体の形成 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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[F-15-TU-0116]高屈折材料を用いた熱放射促進技術の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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[F-15-TU-0117]シングルナノを実現するナノインプリント用モールドの開発 		F-TU-053 EB描画装置
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[F-15-TU-0118]次世代のエレクトロニクスデバイスの試作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
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[F-15-TU-0120]Agナノ粒子を用いたガラス基板の接着 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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[F-15-TU-0121]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-106 卓上型エリプソ
F-TU-048 膜厚計
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[F-15-TU-0122]RF-MEMSスイッチの作製及び評価 		F-TU-077 めっき装置
F-TU-091 イオンミリング装置
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[F-15-TU-0125]SON熱処理実験 		F-TU-050 デジタル顕微鏡
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[F-15-TU-0126]ピエゾ抵抗デバイスのプロセス条件の検討 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
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[F-15-TU-0127]応力センサの特性評価に関する研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
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[F-15-TU-0129]MEMS構造体の試作 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-15-TU-0130]片持ちはりの深堀Siエッチング 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
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[F-15-TU-0135]太陽光発電セルの貫通穴加工技術に関する研究 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-082 DeepRIE装置#4
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0001]流れ方向に温度勾配を持つ流路における化学的消炎効果に関する研究 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0002]n+Ge/pGe ダイオード構造パターン試料の作製及び評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0003]中赤外光アンテナと有機EL 中のプラズモン散乱に関する研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0004]線維芽細胞を活性化する培養用基材の創製 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0005]Fe3O4 ナノ粒子スピントランジスタ用三端子電極形成 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0006]グラフェン-基板間の界面水評価に向けたグラフェンの剥離 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0007]シリコン上のグラフェン素子の形状観察 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0008]サファイアエッチング用ＵＶ硬化レジスト開発のためのエッチング方法の確立 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0009]低次元物質を用いた単電子トランジスタの開発用基板の作製 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0010]層状化合物の電気伝導特性 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0011]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0012]幹細胞を大量に培養する基材の開発 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0013]二次元物質BiS2 のFET 構造の形成 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0014]CNTFET における放射線照射効果 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0015]高アスペクト比微細溝加工 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0016]超高真空スパッタ装置を用いた金属超薄膜の形成 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0017]電子ビーム描画による新規EUV レジストの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0018]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストの評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0019]厚膜SiO2 のディープエッチング 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0020]グラフェン/超伝導体接合に対する光照射効果 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0021]ナノインプリントによる三次元樹脂レンズマスクの作製 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0022]電子ビーム描画装置によるEUV レジストの材料・プロセス開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-15-NM-0023]二波長で機能する回折ビームスプリッタの研究 		F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0024]電子ビーム描画装置によるEUV レジストのPEB 温度最適化評価 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0025]Si 光導波路の作製 		F-NM-089 ダイシングソー
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[F-15-NM-0026]EB 描画機を使用した微細パターンの作成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-15-NM-0027]フェムト秒レーザーアブレーション形成されたホウ酸塩ガラス及びアルミノケイ酸塩表面のナノホールのモルフォロジー変化 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0028]樹脂表面の粗度と銅めっきとの密着強度の相関に関する研究 		F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
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[F-15-NM-0029]FIB-SEM ダブルビーム装置によるTEM 試料の作製 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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[F-15-NM-0030]レーザー露光装置を用いた高速分極反転特性評価のための微細キャパシタ作製 		F-NM-072 レーザー露光装置
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[F-15-NM-0031]ガラス基板撥水処理 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-15-NM-0032]シリコン深堀エッチング装置を用いたナノピラー形成 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-15-NM-0033]高速マスクレス露光装置による3D パターンの描画 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-15-NM-0034]金ナノ構造体を用いたナノ光トラッピング 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-15-NM-0035]リソグラフィーと反応性イオンエッチングによるダイヤモンド表面の微細加工 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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[F-15-NM-0036]バックエンド工程へのALD プロセス適用の検討 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-15-NM-0037]n+Ge/pGe ダイオード構造試料の作製及び評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-15-NM-0038]Ge サラウンディングゲートトランジスタを含む評価素子の立ち上げ 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-15-NM-0039]電気的浮遊構造をもつキャパシタにおける閾値制御技術の評価手法の立ち上げ 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-15-NM-0040]Ge nMOSFET 試作 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-15-NM-0041]上部コンタクトの微細加工 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-15-NM-0042]カルコゲナイド化合物Sb2Te3-Bi2Te3 のメモリー用材料に向けた調査 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0043]エッチング処理後のパターン形状の観察 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0044]電子線描画装置によるナノピラーレジストの創成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0045]パリレン薄膜上における高品質HfO2 絶縁膜の作製 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-15-NM-0046]ＵＶ硬化型樹脂のナノインプリント性とプラズマエッチング特性評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0047]近接場熱輻射を利用した高開口率MEMS ラジエータの高性能化に関する研究 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-15-NM-0048]電気二重層と超伝導Nb との接合 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0049]ダイヤモンド中窒素空孔中心生成制御のためのダイヤモンド微細加工 		F-NM-072 レーザー露光装置
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[F-15-NM-0050]含フッ素レジストマスクを用いたサファイアのドライエッチング検討 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-15-NM-0051]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0052]ガラスのRIE における加工直進性の金属ドープ量依存性評価 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-15-NM-0053]FIB アシスト蒸着タングステン超伝導薄膜による超伝導接合のための電極作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0054]微細構造作製の検討 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0055]高感度バイオセンサ開発のための集積化基板の作製 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0056]メサ型Mg2Si pn 接合フォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-15-NM-0057]多波長量子ドットおよび分割電極による広帯域SLD 素子作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-15-NM-0058]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工 		F-NM-079 プラズマCVD装置
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[F-15-NM-0059]強磁性Fe4N 薄膜の細線加工と磁区観察 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0060]リソグラフィ法と蒸着装置を用いたAu マイクロパターンの作成 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0061]微細幅低温成長グラフェン配線の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-15-NM-0062]原子層堆積を用いたグラフェン上へのAl2O3 絶縁層の形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0063]積層膜形成基板の断面観察 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0064]微細加工プロセス用非破壊光断層イメージングシステムの開発 		F-NM-090 自動スクライバー
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[F-15-NM-0065]ドライエッチングによるメサ型Mg2Si pn 接合フォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0066]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた生体物質センシングデバイス作製プロセスの開発 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0067]Fabrication of structures for iPCM 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-15-NM-0068]電子線描画装置によって露光されたEUV レジストのCH パターン形成の評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0069]走査電子顕微鏡（FE-SEM）による白金薄膜の観察 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-15-NM-0070]マスクレス露光装置及び超高真空蒸着装置を用いた超伝導検出器の開発 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0071]微小SQUID 局所磁化測定システムを用いた異方的超伝導中の磁束渦状態の研究 		F-NM-094 ワイヤーボンダー
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[F-15-NM-0072]MOS ゲートスタック構造の作製及びMOSFET 評価 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-15-NM-0073]超格子材料の光誘起相転移と光学変調素子への応用 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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[F-15-NM-0074]ダイヤモンド検出器の開発 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-15-NM-0075]MEMS デバイス向けコンタクトホール加工検討 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-15-NM-0076]全自動スパッタ装置を用いたシリサイド半導体への金属薄膜形成 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0077]グラフェン中での交差アンドレーエフ反射検出 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0078]ナノ構造体を用いた反射防止膜の開発 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0079]プロセス条件（ガス種類、流量など）の違いによる基板エッチングレートの比較検討 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0080]レーザーリソグラフィ装置を用いたマイクロスケールAu パッチパターンの製作 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0081]硬脆材料の微細曲面切削加工に関する研究 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0082]FIB で製作するナノ光陰極型電子光源の開発 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0083]SiO2 薄膜のドライエッチング検討 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0084]アンチドット型超伝導量子渦セルの試作 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0085]放射線生物実験用卓上誘電体イオン加速システムの研究 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0086]リアクティブイオンエッチングによるSiO2 膜への表面凹凸加工検討 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0087]小口径半導体ウエハへの微細パターン作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0088]超格子型相変化材料に適する評価用デバイスの開発 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0089]シングルナノを実現するナノインプリント用モールドの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0090]微細櫛形電極を利用した自己発電型バイオセンサの開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0091]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0092]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0093]ICP-RIE によるGaAs2 次元フォトニック結晶の形成 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0094]熱フィラメントCVD 法で合成した単結晶ダイヤモンド薄膜の微細構造解析 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0095]TES アレイのデバイス作製プロセスの開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0096]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製と電気特性評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0097]新規熱硬化性レジストを用いたエッチングレートの評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0098]マイクロSQUID を用いたメゾスコピック超伝導Al-disk の磁化測定 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0099]NV センター量子センシング応用に向けた超伝導ダイヤモンドジョセフソン接合特性評価 		F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0100]パリレンHT ライナーのスルーシリコンビアの検査 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0101]ITO ドライエッチングのための新規レジスト開発 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0102]半導体ドライプロセスによる光短パルス発生レーザー素子の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0103]シリコン深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0104]HEMT 作製技術の開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0105]電子ビーム描画装置を用いた微細金属パターン形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0106]電子線描画によるインピーダンス制御回路系を含む微小ジョセフソン接合列回路の作製 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0107]SQUID 配列を用いたSr2RuO4 の磁化の空間分布の計測 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0108]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0109]温度特性評価による抵抗変化メモリ(ReRAM)フィラメントの形状評価 		F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0110]自己形成In 量子ドットの輸送特性 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0111]シリコン貫通電極のための貫通穴の作製 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0112]窒化チタン周期ナノ粒子アレイの可視・近赤外光学応答 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0113]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0114]メタルレジストのEB 露光評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0115]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製 		F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0116]反応性イオンエッチングプロセスを用いたTiN パターンの作製 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0117]Cl2/Ar/O2 混合ガスによるIr 薄膜エッチング条件の検討 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0118]熱刺激電流測定用試料の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0119]クロスバー型構造の抵抗変化メモリ素子の開発 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0120]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0121]電子線描画装置を用いたグラデーションパターンによるレジスト材料評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0122]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0123]超伝導トンネル接合Ｘ線検出器のためのシリコンピクセル吸収体の加工法の研究 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0124]TSV 形成用ハードマスク材料の評価 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0125]ナノスケール高感度電圧電流計測のための導電性プローブ顕微鏡システムの構築 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0126]原子層堆積法による有機ポリマー材料上への酸化物精密堆積プロセスの検証 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0127]窒化シリコンウィンドウ上への磁性ドット形成 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0128]スパッタリング成膜したAg 合金の評価 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0129]ポリマー材料の検討 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0130]電子ビームリソグラフィによる強誘電トンネル接合素子の試作 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0131]吸引プラズマエッチング加工されたSi 基板の加工痕形状計測 		F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-15-NM-0132]超高真空スパッタ装置を利用したBaSi2 薄膜の形成 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0001]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ2,3） 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0002]干渉露光で作製したパターンの評価 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0003]磁気特性測定システム (MPMS) を用いたホール効果測定 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0004]Micro-holes and metal marks for EB lithography 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0005]半導体材料の評価 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0006]薄膜の分析 		F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0007]絶縁層上シリコン(SOI)基板の反応性イオンエッチングによるトレンチ形成 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0008]原子層堆積装置による成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0009]電極構造の作製(4) 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0010]紡糸したカーボンナノチューブの断面形状観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0012]自己検知型AFMカンチレバーの金属コート 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0013]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用 		F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0014]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0015]カルコゲナイド超格子薄膜のプロセス開発 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0016]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0017]微細パターンの作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0018]微粒子の顕微ラマン分光分析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0019]極薄ガラス基板への高精度フォトリソグラフィー 		F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0020]金属酸化物の研究 2 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0021]次世代エレクトロニクスデバイ スの試作・評価（PJ1） 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0022]電子線用光学素子の開発 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0023]イオンミリングによる、側壁デポの除去 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0024]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0025]矩形ガラス管へのITO膜スパッタリング 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0026]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0027]二次元材料のデバイス応用 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0028]有機超薄膜を用いたバイオ・分子素子基板の開発 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0029]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0030]シリコンカーバイドパワー半導体デバイスの研究 		F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0031]インプリントモールド作製 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0032]薄膜の分析 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0033]グラフェン薄片の導電率測定 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0034]真空蒸着を用いた電極の作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0035]ストライプ状グラフェン形成 		F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0036]近赤外酸化物表面プラズモン励起構造の作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0037]4インチサファイヤ基板のステッパー露光 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0038]超伝導転移端センサの試作 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0039]立体マイクロ光学素子の集積化技術 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0040]FIB加工微小試験片によるセラミックス材料の機械的特性評価 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0041]薄膜の膜厚・結晶性等の評価 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0042]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0043]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0044]Au膜のエッチング方法 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0045]アルミナ基板へのチタニア膜形成 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0046]固体型色素増感太陽電池の作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0047]冷陰極アレイデバイスの開発 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0048]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0049]ハイブリッド対向スパッタによるリフトオフプロセスITO成膜 		F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0050]液晶シリコンフォトニクスに関する研究 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0051]ミニマルファブ装置の開発 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0052]GaN基板を用いたデバイス作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0053]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0054]低温成長グラフェン用金属触媒層の形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0055]ミニマルファブ技術に関する研究開発 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0056]酸化物ドット集積構造の原子制御 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0057]ピエゾ抵抗型ひずみセンサ開発 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0058]CNT/SOG基板の研磨及び観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0059]炭素薄膜の開発について 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0060]高品質ScAlN薄膜の実現 		F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0061]フェロセン導入分子インプリント電極の表面元素分析 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0062]窒化物系光導波路の加工技術 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0063]GaN基板のキャリア濃度の測定 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0064]高アスペクトCu配線形成 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0065]マイクロチャンネルの作製とメンブレンの取り付け 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0066]原子層堆積装置を用いたTiNゲート電極の成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0067]インプリントモールドの作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0068]エネルギー関連材料 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0069]SiO2基板上に分散させたSWCNTバンドルの電気抵抗特性の評価 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0070]グラフェンの電気特性評価 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0071]カーボンナノチューブ分散 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0072]トランジスタ試作 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0073]金属ナノ構造体の試作 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0074]ECRスパッタによるAlN膜の耐圧評価 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0075]ポリイミド塗布Siチップ表面の精密研磨 		F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0076]ドライエッチングによるSiO2加工形状制御 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0077]レーザー表面修飾を行ったセラミックの機械強度試験後の表面観察 		F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0078]レーザーにより微細加工したセラミック表面の観察 		F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0079]すずはんだ材料の有機樹脂中拡散特性 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0080]新しいex vivo微小血管モデルにおける白血球活性化の指標の検討 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0081]中性粒子用STJ検出器用NbN膜の成膜温度依存性 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0082]顕微ラマン分光法によるシリコンの応力評価 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0083]超伝導ナノデバイス応用に向けた単結晶YBCO薄膜の作製と評価 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0084]深堀構造を持ったSi基板への金属蒸着 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0085]ルテニウム薄膜のX線反射率測定 		F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0086]炭素系材料の構造評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0087]生物試料微細加工の最適条件検討および加工断面の微細構造の観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0088]微生物培養マイクロアレイ 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0089]自己検知型AFMカンチレバーのFIB-SEMによる断面観察 		F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0090](K,Na)NbO3薄膜上へのP-CVDによるSiO2薄膜形成 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0091]ナノインプリントとALD法によるSub-20nmナノ造形 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0092]シリコン貫通ビアの湿式エッチング加工 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0093]Au-Ge代替ダイアタッチ技術の構築 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0094]多層薄膜評価用デバイス作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0095]SiC上グラフェンの電気特性評価 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0096]Bi1-xSbx薄膜構造・組成解析 		F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0097](Fe,Co)SiのFIB加工 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0098]Ga-FIBを用いた有機膜の断面観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0099]シリコンへのイオン注入によるオーミック電極形成 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0101]超低抵抗ナノカーボン配線の開発 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0102]ポリマー積層体の断面分析 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0103]樹脂材料加工表面の平滑化 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0104]カーボンナノチューブ観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0105]高アスペクトCu配線形成（Arミリングによるシード層除去） 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0106]GaN基板を用いたデバイス作製 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0107]ポリイミド付Si基板の研磨 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0108]ゲルマニウム基板へのPイオン注入 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0109]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3） 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0110]エピタキシャル薄膜の結晶方位分布測定 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0111]電極構造の作製(４) 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0112]トポロジカル絶縁体メモリの試作 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0113]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0114]カーボンナノチューブ複合材料の評価 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0115]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0116]微細流路をもつ伝熱実験のテストベンチの製作 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0117]PLD法による酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0118]プラズモニック量子回路の作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0119]ナノプローブによる微細幅グラフェン配線の抵抗測定 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0120]グラフェンの電気特性評価 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0121]CNTの磁化特性の分散処理による影響 		F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0122]Ru-Mn二元金属薄膜のXPS測定 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0123]電子線描画を用いたレジストパターニング 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0124]生体分子の観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0125]すずはんだ添加元素の有機樹脂中拡散特性 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0126]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ7） 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0127]厚い電極形成に向けた厚膜レジストを用いたパターニング 		F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0128]超低抵抗ナノカーボン配線の開発 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0129]次世代エレクトロニクスデバイ スの試作・評価（PJ3） 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0130]3d遷移金属添加Ⅲ族窒化物の基礎物性研究 		F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0131]グラフェンへのひずみの印加と電気伝導測定 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0132]デバイスの欠陥解析 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0133]シリコンウェーハ中のホウ素の定量分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0134]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価PJ003 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0135]InSb系チャネル材料の研究 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0136]水素センサーの断面観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0137]薄膜実践セミナー　実習コース 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0138]中性粒子用STJ検出器用NbN膜の超伝導転移温度の膜厚依存性 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0139]Nanopore Patterning using Electron Beam Lithography 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0140]Nanopore fabrication 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0141]中性粒子ビームを用いたエッチング技術開発 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-15-AT-0142]厚膜レジストにおけるハードベーク条件及び確認方法の検討 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0003]三次元細胞組織の再生医療実現に向けた血管構造作製技術の確立 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0004]Nd-Fe-B系磁石材料の構造解析 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0005]半導体ナノデバイスの降伏（スナップバック）領域における電流・電圧の挙動の解析と最適デバイス動作条件および構造の検討 		F-BA-091 デバイスシミュレータ
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0006]冷陰極アレイデバイスの開発 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0007]グラフェンの電気伝導の研究 		F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0008]Fabrication of nanostructures for plasmonic devices 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0009]グラフェンの合成と電気特性評価 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0010]超伝導ナノコンタクトおよびＣＶＤグラフェンの極低温電気伝導特性の研究 		F-BA-097 電子線描画装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0011]多孔質MIPを用いた微小・集積化バイオセンシングデバイスの構築 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0012]高温超伝導体Bi2Sr2CaCu2O8+δを用いたテラヘルツ波発振素子の開発 		F-BA-093 レーザー描画装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0013]全反射減衰計測のための金属蒸着プリズムの製作 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0014]ポリマー球体の作製 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0015]二次元電子系試料ホールバーの作製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0016]バルク水の異常ポッケルス効果の電極依存性の評価 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0017]マイクロメートルスケールのNi製マスク 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0018]スピネル型酸化物薄膜の電気伝導特性評価 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0019]1.55um帯フェムト秒表面プラズモンの時間分解イメージング 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0021]金属誘起成長IV族半導体薄膜の結晶性評価 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0022]走査型プローブ顕微鏡による剥離グラフェンの層数分布評価確立 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0023]バブル型マイクロモーターの構築 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0024]集積回路用金属薄膜の特性評価 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0025]PLAによる窒化ガリウム(GaN)基板の転位低減効果 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0027]量子ビームによる超高張力鋼(ハイテン)の水素脆性研究 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0028]スパッタ銀薄膜の特異低温内部摩擦 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0029]金属誘起成長IV族半導体薄膜の結晶性評価 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0030]カルコゲン超格子多層膜構造を用いた表面プラズモン素子の製作 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0031]P型4H-SiCの固有欠陥のESR測定 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0032]CUPAL FIB実践技術トレーニングにおける金属多層膜の解析 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0033]3次元微細構造を用いたテラヘルツ導波路の作製 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0034]遷移金属ダイカルコゲナイド系層状物質の観察 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0035]ブリッジ成長法により合成したカーボンナノファイバーの特性評価 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0036]低次元物質を用いたナノデバイスの開発 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0037]酸化マグネシウム鋳型多孔質炭素の細孔構造解析 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0038]FIB-SEMを用いたPt細線のパターニング 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0039]Bio＆計測実践セミナーの一環としてのマイクロバイオセンシングデバイス作製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0040]コバルト錯体を用いた水の酸化反応 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0043]FIB実践セミナーの一環としての操作実習 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0044]FIB-SEMによるSiO2薄膜の断面加工観察 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0045]Bio＆計測実践セミナーの一環として、マイクロバイオセンシングデバイス作製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0046]炭化ケイ素（SiC）中の結晶欠陥を利用した単一光子源用の試料作製 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0047]甲虫の微細構造の観察 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0048]準結晶パターンによるX線集光素子の開発 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0049]シリコン薄膜トランジスタの欠陥解析 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0050]全内部反射VSFG分光にむけた金属薄膜の製作 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-15-BA-0051]生物試料微細加工の最適条件検討および加工断面の微細構造の観察 		F-BA-094 FIB-SEM
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0001]波長選択近接場光輸送促進のためのタングステン製ピラーアレイ構造放射体の創成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0002]金属単層カーボンナノチューブの全長除去 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0003]量子ナノ素子の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0004]Thermal transport property measurement of single-walled carbon nanotubes 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0005]Field effect transistors using single-walled carbon nanotube films 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0006]Field effect transistors using horizontally aligned single-walled carbon nanotubes 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0007]単層カーボンナノチューブの熱物性測定 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0008]CNT-silicon solar cells 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0009]熱処理によるIC特性変動調査 		F-UT-132 イナートガスオーブン
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0010]微細構造による反射特性の制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0011]三次元積層チップへの内装を目指した小型自励振動式ヒートパイプの試作と熱流動解析 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0012]金属ナノ構造による電場増強効果を利用した赤外分光計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0013]"多機能性酸化物薄膜におけるマイクロパターン構造及び電気刺激における細胞応答研究 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0014]エレクトレットＭＥＭＳデバイスの研究 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0015]ナノドットレジストパターンの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0016]高速細胞分取装置開発のための表面弾性波デバイスの開発 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0017]高速ドロップレット分取装置のための誘電泳動デバイスの開発 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0018]超高速イメージングによる高速細胞同定装置のための細胞整列用マイクロ流体デバイスの開発 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0019]アスペクト比1000トレンチを使用したSiC気相化学含浸法(CVI)の反応解析 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0020]物理気相蒸着法（PVD）で作成したCo(W)膜のバリア性の評価 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0021]金属‐絶縁体‐金属構造からなる赤外吸収体 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0022]スピンポンピングを用いたトポロジカル結晶絶縁体SnTeにおける起電力 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0023]エレクトロアクティブマイクロウェルアレイの開発と１細胞解析への応用 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0024]Observation of spontaneous spin-splitting in the band structure of n-type ferromagnetic semiconductor (In,Fe)As 		F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0025]ナノカーボン材料の電気特性評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0026]ICPエッチング装置を用いた圧電素子微細加工 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0027]集束イオンビームを用いた半導体試料の加工 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0028]金属膜の加工 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0029]ドレスト光子を利用したＳｉ受発光素子の開発 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0030]近接場光援用ダイヤモンド受光素子の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0031]2 mm 厚シリコンに成膜されたDLCを用いたSEM測定用試料作製法の研究 		F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0032]e-beam nanopattern fabrication for optical applications 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0033]電界放出源の高出力化の研究 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0034]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0035]ナノインプリントプロセスによる高アスペクトパターンの作製 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0036]ISFETを用いた昆虫嗅覚受容体発現細胞の電気信号測定の評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0037]DRIEを用いた高アスペクト比エッチングの検討 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0038]ポリイミドの等方性ドライエッチング条件の検討 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0039]炭素機能材料の集束イオンビーム加工 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0040]Plasmonic nanochannel structure for sensing application 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0041]架橋カーボンナノチューブにおけるトリオン生成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0042]単一架橋カーボンナノチューブにおける励起子拡散および緩和過程 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0043]カーボンナノチューブにおける暗い励起子の電界活性化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0044]カーボンナノチューブ分割ゲート素子における電界発光 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0045]空気モードシリコンナノビーム共振器の性能向上 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0046]シリコンフォトニック結晶共振器の最適化 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0047]カーボンナノチューブ分割ゲート素子の広帯域化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0048]ゲルマニウムのレーザーアニールの研究 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0049]革新的Si/Geアクティブフォトニクスデバイスの研究開発 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0050]Si上高濃度n型Ge結晶層の研究 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0051]ゲルマニウム受光器の研究 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0052]ナノリソグラフィによる高感度Piezoelectric MUTの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0053]ショートチャンネル有機トランジスタおよび有機電気化学トランジスタの集積回路 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0054]リフトオフ法による金属ナノギャップの作製と観察 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0055]多自由度MEMSスキャナの評価 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0056]天体観測のための超伝導HEBミクサの開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0057]新材料スイッチの形成のための基板作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0058]電子ビーム露光装置F7000SによるInP系光導波路デバイスの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0059]人工淘汰のための大規模タンパク質マイクロアレイの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0060]SiO2上横方向成長Geの速度論 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0061]スピン流注入プローブの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0062]シリコンフォトニクスに向けた量子ドットレーザのプロセス技術開発 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0063]酸化物半導体材料評価用トランジスタの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0064]Si基板の実装 		F-UT-129 精密フリップチップボンダー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0065]マイクロ流体デバイスを用いたクロマチン操作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0066]マイクロ流体デバイスを用いた１対１電気細胞融合とその応用展開 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0067]集積イメージセンサ向け高機能化合物薄膜の微細加工利用 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0068]人体の動きを用いた回転型MEMSエレクトレット発電機 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0069]A Microfluidic Chip Coupled with Magnetophoretic and Dielectrophoretic Forces for Separating Malaria-infected Red Blood Cells 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0070]Flexible Wireless Wall Temperature Sensor for Unsteady Thermal Field 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0071]共有ばねを有する近接場熱ふく射を利用した高開口率MEMSラジエータの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0072]Electric Instability of Cassie Droplets on Super-Lyophobic Pillar Surface: Pull-in Versus Electrowetting 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0073]Liquid-Crystal-Enhanced Electrostatic Vibration Generator 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0074]In-plane Gap-closing MEMS Vibration Electret Energy Harvester on Thick BOX Layer 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0075]大面積ナノ構造のレーザアシストロール成形 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0076]陽極酸化アルミナナノホールアレイの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0077]金属配線のダマシン加工 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0078]セラミクスグリーンシートへのナノインプリント 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0079]沸騰伝熱面の熱伝達率向上のためのアルミ表面へのナノインプリント 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0080]異種材料集積を用いた光電子集積回路プラットフォーム 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0081]卍型梁構造ゲルマニウムの歪みとバンド構造に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0082]高効率化のための裏面散乱層を適用した裏面電極型太陽電池の作製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0083]超高速蛍光画像識別型セルソーターの開発 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0084]MEMS多軸力センサを用いたハエの飛翔力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0085]高感度・高剛性を両立するピエゾ抵抗型3軸力センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0086]蝶の離陸時の飛翔力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0087]ナノピラーを用いたSiによる近赤外検出器 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0088]側壁への細胞の接着を防ぐマイクロピラー 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0089]細胞計測のための力センサを組み込んだ微小流路 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0090]液体のインパクト時の力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0091]液体の滑り時の力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0092]筋音の高周波成分計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0093]表面粗さ変化によるカンチレバー型気流せん断応力センサの感度向上効果 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0094]三次元積層ICチップへの内装を目指したシリコンマイクロ流体素子の作製と封止 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0095]ローレンツ力を用いたばね定数10倍可変の持ち梁 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0096]作用力および摩擦係数の同時計測のための触覚センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0097]カンチレバーを用いた真空計 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0098]MEMSカンチレバーアレイを用いた細胞の振動の計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0099]ショウジョウバエのジャンプ力を計測するフォースプレート 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0100]熱応答を利用した機能材料集積型化学センサ 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0101]広帯域のアコースティックエミッションセンサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0102]可動MEMSスパイラル構造による偏光変調デバイス 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0103]MEMS 3軸力センサを用いた細胞の接着力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0104]液体の振動時の力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0105]光MEMS熱物性センシングデバイスの開発 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0106]マイクロカンチレバー作製と振動特性評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0107]光学デバイスへの応用に向けた自己組織化構造の作製 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0108]ImPACT「セレンディピティの計画的創出による新価値創造」における1細胞多角的次世代解析技術の開発 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0109]ステルスダイサーを利用したシリコンウェハー精密カット2 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0110]電子線描画装置F5112を利用したサブミクロン加工の検討２～OEBR-CAP112～ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0111]センサ試作のための配線パターニングの検討 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0112]リフトオフ法により作成した金ナノ四角柱周期構造における赤外増強吸収 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0113]透過型電子顕微鏡の内部で動かすマイクロマシンの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0114]センサネットワーク用高効率マイクロエナジーハーベスター 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0115]バイオ試料の機械的特性評価のためのシリコンナノピンセット 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0116]モータータンパク質を利用したタウタンパク検出 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0117]側壁電極による陽極酸化を用いた一括ナノリソグラフィー 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0118]ナノスケール熱伝達計測のための温度測定システム 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0119]電子顕微鏡での水中観測を可能にするMEMS液体セル 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0120]昆虫型マイクロロボットのパーツ作製に関する微細加工プラットフォーム試行利用 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0121]縦型スピン電気二重層トランジスタ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0122]反強磁性体の超高速スピン制御に向けた試料作製 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0123]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0124]X線コヒーレント光発生用薄膜試料の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0125]シリコンフォトニクスにおけるMidex(中位屈折率差系)AWGの試作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0126]触覚MEMSデバイス用の成膜評価 		F-UT-119 機械特性評価装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0127]Si/Ge量子細線多接合型太陽電池のためのSi上Ge薄膜pinダイオードに関する研究 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0128]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0129]微細構造の側壁薄膜を電極に用いた局所陽極酸化によるナノパターン転写装置の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0130]光干渉断層計測法装置のための波長可変光源ＭＥＭＳファブリ・ペロ干渉計の開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0131]液晶ディスプレィ用TFTドライバ技術を用いた細胞操作用µTASの開発 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0132]MEMS加速度センサの作成とその特性評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0133]微細加工を用いた切り紙構造 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0134]ブロックコーポリマーPS-PMDSによる10nm以下ハーフピッチ、ラインアンドスペースパターンの形成 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0135]シリコンナノビーム共振器と単一カーボンナノチューブの高効率光結合 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0136]単一カーボンナノチューブを用いたゲート制御式光パルス列生成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0137]光ナノメカニカル振動子の作製MEMS加速度センサの作成とその特性評価 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0138]DLCナノメカニカルスイッチの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0139]SiO2ナノ構造作製のためのVHF高速エッチングに関する研究 		F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0140]表面弾性波(SAW)を用いたオプト・エレクトロメカニクス 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0141]3D nanostructures fabricated by advanced stencil lithography 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0142]腫瘍細胞分離のための2段階誘電泳動デバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0143]神経－心筋マイクロ共培養系の構築 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0144]太陽熱光発電のためのアブソーバ・エミッタの製作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0145]金属ナノスリットアレイによる高効率マイクロ波長板の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0146]熱駆動金属ナノグレーティングを用いた光位相変調素子の製作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0147]マイクロマシン教育のための静電マイクロアクチュエータ設計 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0148]銀ナノ粒子インクを印刷したPETフィルム観察 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0149]金属Mg挿入によるSiベース磁気トンネル接合の電流電圧特性への影響 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0150]オンチップ集積高電圧太陽電池を用いた遠隔光駆動型MEMSの高速動作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0151]電子線重合を利用した機能性高分子薄膜の創製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0152]圧電型MEMS共振器とウェイクアップモジュールに関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0153]低アスペクトL&S構造の作製技術開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0154]高繰り返し高強度コヒーレント光源用ミラーの作製 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0155]ステルスダイサーによるΦ8"/1mm厚Si基板のΦ6"切り出し加工 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0156]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0157]表面の微細構造および電荷による動的濡れ挙動の制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0158]低次元物質を用いたナノデバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-15-UT-0159]微小管の動的自己組織化における空間的制約効果の影響 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0001]Mn基強磁性薄膜/強誘電体へテロ構造の作製 		F-WS-124 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0002]PDMS製マイクロ流体デバイスの作製 		F-WS-124 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0003]PDMS製マイクロ流路チップの成型加工方法 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0004]X線マイクロカロリメータのX線吸収体のためのナノ構造体形成と評価 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0005]フォトリソグラフィーを利用した微細構造体の開発 		F-WS-138 アライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0006]ナノメータの凹凸を有する膜形成による表面エネルギー制御 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0007]極低温下におけるPZT薄膜のリーク電流特性評価 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0008]InAlGaAs/InAlAs光スイッチ用導波路のラフネス補償の検討 		F-WS-124 スパッタ装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0009]熱線流速計小型プローブ作製における問題点の抽出 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0010]ラマン分光器用透過型センサ開発1 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0011]ラマン分光器用透過型センサ開発２ 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0012]熱インプリント装置の使用方法について 		F-WS-130 ICP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0013]金属ガラスの機械的特性評価用銅電析膜形成の検討 		F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0014]ナノポーラス構造を有する構造体の光特性評価 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0015]両性イオン含有ポリマーを表面に偏析したコーティングの断面解析 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0016]300GHz帯導波管型平面アンテナにおけるシリコンウエハーの金メッキと積層ウェハダイシング 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0017]サブミリ波帯アンテナのためのシリコンウエハーの金めっき下地の比較に関する研究 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0018]微小ドロップレット形成チップの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0019]電析ビスマス/銅吸収体TES型X線マイクロカロリメータの表面改質 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0020]グロー放電発光分析による水分解用光触媒アノード電極材料LaTiO2Nの解析 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0021]強誘電体セラミックス薄膜の微細加工および微構造評価 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0022]2次元アンペロメトリックセンサのプロセス開発 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0023]微細加工技術によるバイオセンサ基板の作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0024]金属酸化物の表面分析 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0025]がん培養液中の成分分析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0026]表面弾性波発生のための櫛形電極の作製 		F-WS-127 簡易SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0027]圧電基板上の櫛形電極の周波数特性の測定 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0028]Mn基層状化合物の薄膜試料における組成・基板加熱温度の最適化と磁気特性 		F-WS-124 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0029]金属ナノ粒子形成過程の解析、及び形成した金属ナノ粒子の特性評価 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0031]Roll to Rollインプリント装置によるフィルムレプリカ版の転写評価 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0032]電極電位の測定 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0033]プローブカード製造における高精度エッチング手法の開発 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0034]NCSセラミックスによる除錆・防錆効果の検証 		F-WS-127 簡易SEM
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0035]小型界面活性化装置の仕様検討 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0036]銅の埋め込みシリコン貫通電極の作製 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0037]ドライエッチングプロセスによるSi製マスタの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0038]フォトリソグラフィを用いたパターニングNiめっき 		F-WS-124 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0039]CVDグラフェンを用いたテラヘルツ波検出器の開発 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0040]インプリント装置使用方法習得と転写実験 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0041]MEMS技術を利用した熱線流速計プローブの開発 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-132 Deep-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0042]FeCo系材料を用いた小型発電デバイスの発電メカニズムの解明 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0043]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0044]液中プラズマ処理による白金ナノ粒子担持ナノカーボン材料の創成および電気化学特性評価 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0045]皮膚貼付型歪みゲージとしての応用に向けた導電性高分子ナノシートのパターニング 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0046]CNT/SiC上各種めっき電極膜形成の検討及びコンタクト抵抗の評価 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0047]無電解Au-Niめっき膜の作製及び評価 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0049]MnBi強磁性体の新合成法確立とその磁気特性評価 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0050]強磁性Mn-Bi の磁場中反応の微視的解明 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0051]高強度カーボンナノチューブ無撚糸の創成と強度発現機構 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0053]GaNデバイスの加工 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0054]MEMS技術を利用した熱線流速計プローブ用治具の開発 		F-WS-127 簡易SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0055]マイクロ流体デバイスを用いた超微量生体サンプルの濃縮 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0056]ラマン分光器に用いる反射型プラズモンセンサの試作開発 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0057]深堀構造を持ったSi基板へのレジスト被膜及び露光 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0058]表面修飾したTiO2薄膜とポリマー間におけるラジカル交換反応の進行調査 		F-WS-124 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0059]ナノドットプラズモンセンサの開発 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0060]有機発光層同士貼り合わせOLEDの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0061]高性能OLEDsに向けた平坦化電極構造の作製 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-135 走査型プローブ顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0062]マイクロ流体デバイスを用いた「金属錯体含有タンパク質」の結晶化 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-144 真空光学系赤外分光計
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0063]新規導入ALD (Anric Technologies社製Model: AT-400) の膜厚均一性評価 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0064]圧電性ポリマーを用いた小型発電デバイスの試作 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0065]マイクロ流体デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-127 簡易SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0066]脳内乳酸計測用マイクロ流体デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-127 簡易SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0067]FeCo系材料を用いた小型発電デバイスの発電メカニズムの解明その２ 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0068]重水素化DLCの膜密度の深さ方向分析 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0069]CFRTP／アルミニウム板の接着強度における表面処理の影響 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0070]DLC膜の膜厚評価 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0071]マルチ電極パターンの最適化に関する技術相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0072]マイクロパターン上での培養による興奮性-抑制性神経細胞の非標識判別 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0073]ダイヤモンドMOSFETの作製・評価 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0074]Geの1次元配列を有するMOSトランジスタの室温伝導特性 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0075]波長1500nm帯ポリマー導波路型クレッチマン配置表面プラズモン共鳴センサの高感度化と広測定域化の検討 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0076]SiC上に形成したカーボンナノチューブ上のメタルフリーCVD 成長におけるCNT 端面の検討 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0077]3次元光インターコネクション用ポリマー２層構造4×4光スイッチの特性改善の検討 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0078]真空紫外線処理によるリグノセルロース多孔性炭素ペレットの表面改質効果 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0079]メソポーラスシリカ薄膜表面のメソ細孔を利用したパターン形成 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0080]高密度 3 次元実装に向けたフィラー含有樹脂とバンプのハイブリッド接合 		F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0081]芳香族ポリチオエーテルの光学特性 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0082]3元系Bi-Sb-Te薄膜のパターン電析およびマイクロ熱電変換素子作製 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-15-WS-0083]多結晶ダイヤモンドを用いた電解質溶液ゲートFETの電気的特性評価 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0001]Study of the T-shaped Gate Head Dimension Influence for 90nm InAs HEMTs on InP Substrate Using E-beam Lithography 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0002]薄膜デバイスの金属電極形成 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0003]金属ナノギャップアンテナ構造の光学特性評価 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0004]90-nm EBL for manufacturable gate recess etching 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0005]ライン向け微細周期構造パターン描画の開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0006]ハーフメタル強磁性ナノシートの異方性磁気抵抗効果の観測 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0007]Making test samples for optical assembly technology demonstration 		F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0008]InAs Quantum Well MOSFETs Performance Improvement by Using pre-AlN Passivation Layer and In-Situ PEALD Post Remote Plasma Treatment 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0009]2種類の 直径をもつ金属円柱のプラズモニック結晶 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0010]選択成長傘型構造ダイヤモンドにおけるNVセンタ発光強度の改善 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0011]半導体人工量子系における電子ダイナミクスの研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0012]Si基板上へのアルミナ堆積 		F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0013]III-V CMOSフォトニクスプラッームを用いた光電子集積回路に関する研究 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0014]Si基板上への絶縁物の堆積 		F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0015]Siチャネル・スピン輸送デバイス 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0016]InGaAs薄膜形成 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0017]半導体2次元素子へのスピン注入 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0018]回折格子の作製可能性検討 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0019]微細金2層構造非相反光学素子の下層の試作 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0020]六方配置ホール向け微細周期構造パターン描画の開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0021]Si3N4基板裏面剥離 		F-IT-130 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0022]溶液プロセス作製膜の表面断面構造観察 		F-IT-135 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0023]水素化アモルファスシリコン磁気光学導波路 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0024]Waveguides fabrication on SOI 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0025]半導体人工量子系による朝永-ラッティンジャー流体の実験的研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0026]ナノスケールスピントランジスタにおけるスピン依存伝特性 		F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0027]GaAs オフ基板上への強磁性半導体(In,Fe)Asの結晶成長と磁気特性の評価 		F-IT-127 コンタクト光学露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0028]BiSb系トポロジカル絶縁体の結晶成長とスピンホール効果の評価 		F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0029]強磁性半導体p-n接合の作製とスピン依存伝導特性の評価 		F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0030]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0031]銀ドット配列中の線欠陥導波路 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0032]GaN系ナノ 構造作製 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0033]SiO2上金属微細パターンの作製 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0034]フォトニック結晶を用いた蛍光計測デバイスの開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0035]CVD-SiN の調査 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0036]近接六方配置ホール周期構造パターン描画の開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0037]微細金2層構造非相反光学素子の上層の試作 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0038]電子顕微鏡用ゾーンプレートの作製 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0039]電子顕微鏡用デバイスの作製 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0040]GaNのキャリヤ濃度分布について 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0041]光パルス波形測定 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0042]ワイヤーグリッド式ビームスプリッター 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-15-IT-0043]GaAs薄膜上のフォトニック結晶パターン 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0001]MEMSデバイスの研究開発 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0002]レーザ直接描画法によるMEMSデバイスの研究開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0003]VHF-DC重畳マグトロンスパッタリングにおけるITO膜平坦性向上機構の検討 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0004]微粒子分離用マイクロ構造体の作製 		F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0005]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発 		F-NU-182 スプレーコーター一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0006]細胞アセンブリに関する研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0007]高クヌッセン数流れの総合的理解へ向けた研究 		F-NU-170 段差計
F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0008]モデル生物を応用したマイクロ・ナノ操作技術に関する研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0009]有機ラジカル薄膜の分析 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0010]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究 		F-NU-149 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0011]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0012]機能性磁性積層膜の開発と評価 		F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0013]マイクロセンシングデバイスの開発 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0014]高秩序ナノ構造体の創製と評価に関する研究 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0015]電子線露光装置を用いた金属薄膜の作製 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0016]マイクロリアクタの作成 		F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-182 スプレーコーター一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0017]テンプレート分子を用いたナノカーボン物質の超精密合成 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0018]アルミ誘起成長法を利用したSi薄膜の作製 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0019]プラズマ照射試料の表面構造観察 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0020]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証 		F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0021]人工衛星搭載磁性材料の形状磁気異方性トルクの計測 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0022]亜鉛電析に及ぼす電解液の流れの影響に関する研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0023]キラル金ナノ構造体により誘起されるねじれた光場中でのキラル結晶化制御 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0024]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－分子・バイオCMOS融合デバイス実現に向けた電子ビームリソグラフィを用いた電極形成－ 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0025]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長と接合作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0026]超低摩擦現象解明のための摩擦誘起表界面ナノ構造の分析 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0027]スパッタリング収率の結晶方位依存性 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0028]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0029]感光性樹脂の研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0030]GSR sensor 素子の試作 		F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0031]IV族半導体-金属合金化反応制御による強磁性ナノドットの高密度形成と磁気的特性 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0032]細胞培養マイクロデバイスの開発 		F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0033]楕円振動切削による金属金型の高能率鏡面仕上げ加工 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0034]CFRP熱伝導率測定のための試料製作 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0035]医用複合材料の微細形態と組成の分析 		F-NU-216 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0036]量子ナノ構造デバイスの研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0037]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究 		F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0038]有機電子材料における新しい光・電子応答現象の探索 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0039]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究 		F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0040]マイクロロボットの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0041]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0042]プラナーパッチクランプ基板の開発 		F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0043]出力光ファイバーと接続した導光板に密着させる太陽電池に関する研究 		F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0044]パワーデバイスの作製 		F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0045]a-Si：Ｈ膜の成膜ガス利用効率の検討 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0046]灰付着による脱硝触媒の劣化機構の解明 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0047]超臨界流体を利用した貧溶媒化法による微粒子製造 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0048]Fabrication and Characterization of Metal Oxides Magnetic Nanostructures 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0049]微細加工とロボット技術を基盤とする細胞の機械特性計測 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0050]オンチップ細胞計測を基盤とする光合成細胞の外部刺激応答特性の解明 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0051]振動誘起流れによる非接触三軸姿勢制御を用いた卵細胞の非侵襲活性評価への挑戦 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0052]非侵襲生体センシング技術 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0053]オープンチップを用いた超高速細胞分取システムの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0054]がん細胞分離・濃縮バイオデバイスの技術開発 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0055]繋ぐ技術で拓く弾性型血管の創生とバイオニックシュミュレータ 		F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0056]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0057]ストライプ状鉄カーボン薄膜の熱処理による形態変化の観察 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0058]金属電極表面へのレーザー照射による多孔化 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0059]電子線露光装置における100nm以下微細パタンの形成特性の検討 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0060]Ge系材料へのドーピング品質改善と評価に関する研究 		F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0061]熱処理により形成させたLSAT表面ステップテラス構造のAFM観察 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0062]プラズマ処理によるフッ素樹脂の親水性表面改質 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0063]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0064]ナノ磁気センサを用いた磁性膜の観測 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0065]GeコアSi量子ドットにおける GeコアサイズがPL特性に及ぼす影響 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0066]微粉炭燃焼に及ぼす水素系ガス添加の影響 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0067]赤外線天体観測用フォトニック結晶スーパーレンズの開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0068]磁性細線メモリにおける高速動作に関する研究 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0069]フェムト秒レーザーによるガラス接合の検討 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0070]プラズマ用インジケータの開発 		F-NU-167 ICPエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0071]微細加工形状の評価 		F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0072]白金薄膜抵抗温度計の作製と評価 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0073]FeRh薄膜の静・動的温度変化XAFSによる研究II 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0074]蛍光性ナノ粒子を用いた深部高解像イメージング 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0075]XPSによるメタン燃焼用PdCoアルミナ触媒の構造解析 		F-NU-205 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0076]熱電薄膜発電デバイスの研究開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0077]Laser ablation spot area measurement 		F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0078]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEBレーザーによるフォトマスクの作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0079]ラシュバ型スピン軌道相互作用誘起のFe超薄膜の垂直磁気異方性の研究 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-164 分子線エピタキシー装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0080]SiC基板上グラフェンにおける化学状態分析 		F-NU-149 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0081]Molecular Recognition and Aggregation Control of Distributed DNA Nanorobots 		F-NU-216 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0082]Al/Epoxy間の濡れ性に及ぼす大気圧プラズマ処理の効果 		F-NU-149 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0083]キラル金ナノ構造体により誘起されるねじれた光場中でのキラル結晶化制御 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0084]Magnetic Sensor Fabrication 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0085]ロボット身体化に関する研究 		F-NU-186 光三次元造形装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0086]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0087]テラヘルツ波を応用した識別タグの開発 		F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0088]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射による磁性制御とパターン形成 		F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0089]有機薄膜トランジスタの開発 		F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0090]強磁性垂直磁化膜における人工微小欠陥導入とその磁化反転過程に関する研究 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0091]ガラス基板上へのAZO膜の成膜に関する研究 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0092]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール依存性 		F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0093]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0094]プラズマ医療創成に向けた大気圧プラズマ基本パラメータの解析 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0095]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0096]プラズマプロセス中の基板温度制御に関する研究 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0097]XPSによる燃料電池電極触媒の金属価数評価 		F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0098]プラズマ励起CVD法で成膜したアモルファスカーボン薄膜中の水素含有量の評価 		F-NU-206 フーリエ変換赤外分光分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0099]シリコン単結晶の疲労に関する研究 		F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-15-NU-0100]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト 		(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0001]ラマン分光を用いた非破壊加工ダメージ評価 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0002]FeRh薄膜の温度変化X線回折 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0003]強磁性微小細線中のバブル磁区の電流駆動に関する実験 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0004]単色光用光電変換素子の作製 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0005]カーボンナノウォールの物性と応用 		F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0006]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0007]t-aCのアルゴンガス中での深紫外光照射損傷の観察 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0008]表面ナノ構造の構築および走査ﾌﾟﾛｰﾌﾞ法を用いた科学計測 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0009]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証 		F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0010]CNTナノプローブの用途開発 		F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0011]圧粉磁心の磁区構造解析Ⅱ 		F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0012]MEMSインターフェイスを利用したバイオサンプルへの大気圧プラズマ照射 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0013]化合物半導体デバイスの研究開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0014]劈開グラファイトの微細構造観察 		F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0015]マイクロプラズマ源の開発 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0016]マイクロねじり振動子の開発 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0017]磁性ナノワイヤ用基板の絶縁膜の成膜 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0018]生物埋込センサのための素子配線基礎技術 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0019]ガス封止型真空紫外プラズマ光源 		F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0020]3軸磁場計測のための超小型MIセンサ素子の研究開発 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0021]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究 		F-TT-202 マスクアライナ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0022]微細加工によるハイブリッド回路基板の試作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0023]フィルム状フォトレジストの微細加工応用 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0024]材料評価用ナノギャップ電極形成 		(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0025]シリコン基板上へのパターン加工付きＳｉＯ2マスク作製 		F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0026]n型結晶Si太陽電池の電気特性に対するAg/Alペースト中のガラスフリットの効果 		F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0027]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発 		F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0028]磁性材料の局所構造解析および磁気特性との相関解析 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0029]深い溝の回折格子の試作 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0030]波長選択赤外光源のための表面プラズモン励起用格子の製作 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0031]外場を用いたフェリ磁性体の補償温度・磁気異方性制御 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0032]センサ素子のための不純物イオン注入 		F-TT-207 イオン打ち込み装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0033]フォトリソグラフィ・微細加工　実習・講習会の受講 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0034]ミラーの動的変形量の計測 		F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0035]ナノファイバー状芳香族ポリアミドと溶媒との分子間相互作用の解明 		F-TT-219 多目的X線回折装置
F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0036]強磁性体薄膜における磁壁内のスピンブロッホラインの直接観測 		F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0037]太陽電池用Siウエハの光閉じ込め構造の検討 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0038]広角X線回折と赤外分光法によるポリアクリルニトリルの結晶構造転移に関する研究 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0039]シリコン単結晶の疲労に関する研究 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0040]当社開発のバリ取りツール使用前後における金属表面の微細構造観察 		F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0041]AlGaNを用いた深紫外発光素子およびパワーFETの作製 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0042]スピン偏極キャリヤを利用する排他的論理和ゲートの作製 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0043]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-TT-214 エリプソメーター
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0044]AlGaNヘテロ接合トランジスタの研究開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0045]窒化物半導体ナノ構造の結晶成長メカニズムの検討 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0046]薄膜型マイクロヒータの赤外線光源応用 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0047]極低雑音超伝導パラメトリック増幅器開発に向けた窒化ニオブチタン薄膜コプレーナ線路の作製 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0048]フォトリソグラフィ・微細加工の実習 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-15-TT-0049]Quasi-Bragg grating用ミラー基板の裏面の精密エンボス加工 		F-TT-224 マスクレス露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0001]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開 		F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0002]マイクロ構造を有するPDMS薄膜の作成 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0003]感光性材料の加工技術 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0004]シリコンコロイドから作る多孔質Si膜の電気的性質 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-227 紫外線露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0005]低蒸気圧有機溶媒を利用した新規マテリアル創生に関する研究 		F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0006]GRENE先進環境材料・デバイス創製スクール「フォトニックコース」実習編 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0007]プラズマスパッタによる Si ナノワイヤ形成 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0008]マイクロ構造を有するPDMS薄膜の作成 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0009]異方的な物性をもったコロイド粒子の作製 		F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0010]ポリイミド膜上での微細銅パターンの作成 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0011]薄膜材料の反応生成モデリングおよび電極材料の構造特性評価 その１ 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0012]薄膜材料の反応生成モデリングおよび電極材料の構造特性評価　その2 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0013]単結晶薄膜ACoO3 (A=Ca, Sr)の構造評価 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0014]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0015]高性能圧電薄膜による高感度超音波トランスデューサの開発 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-15-KT-0016]ガラス部材の先端的加工技術開発 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-15-KT-0017]シリコンの機械特性に及ぼす寸法・温度効果 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0018]シリコンの機械特性に及ぼす寸法・温度効果、その２ 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-15-KT-0019]残光性量子ドットの合成と残光機構 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-15-KT-0020]カンチレバーを用いた高周波ESR測定法の開発 		F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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[F-15-KT-0021]金属薄膜の微細加工に関する一考察 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-15-KT-0022]樹脂モールドの耐久性検討 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-15-KT-0023]X線位相イメージング用位相格子の作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-15-KT-0024]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-15-KT-0025]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-235 ウェハ汚染計測装置
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[F-15-KT-0026]半導体および絶縁体のナノ構造評価　その１ 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-15-KT-0027]半導体および絶縁体のナノ構造評価　その２ 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-15-KT-0028]π－π相互作用を介した共役ポリマー間のキラリティ転写 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-15-KT-0029]積層フィルムの断面観察 		F-KT-228 液滴吐出描画装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0030]ポリマーMEMS製作技術の開発 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-15-KT-0031]酸化アルミナを鋳型とした微細表面構造を有するポリマー薄膜の作製 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-15-KT-0032]レリーフ効果のホログラム試作 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-15-KT-0033]各種配水管材質に対する細菌、微粒子の付着特性の検討 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-15-KT-0034]ナノ構造による光制御技術 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-251 レーザアニール装置
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[F-15-KT-0035]ナノテクノロジーによる地球天然物を基にした新多機能性材料の開発 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-15-KT-0036]臨床検査デバイスの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-15-KT-0037]臨床検査デバイスの開発 その２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-15-KT-0038]サブミクロンパターンの試作 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0039]ポリマ光変調器の低消費電力化 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-15-KT-0040]ポリマ光変調器の低消費電力化 その２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-15-KT-0041]ＩＴＯナノドットアレイの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0042]窒化チタンプラズモニックアレイの作製 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-15-KT-0043]メソポーラスシリカ薄膜を利用した異方性プラズモニック構造の作製 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0044]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発 ① 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
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[F-15-KT-0045]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発 ② 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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[F-15-KT-0046]圧電膜を利用した音響センサ作製 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0047]薄膜形成及びドライエッチングによる試料加工技術の開発 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0048]サブミクロンAu粒子による気密封止接合 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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[F-15-KT-0049]塗布型太陽電池の薄膜構造評価 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0050]圧電薄膜の作成 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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[F-15-KT-0051]ファインバブルの無機材料合成への応用 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0052]走査型プローブ顕微鏡を用いた細胞集合体の強度測定 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-15-KT-0053]DNAオリガミ架橋構造のシリコン基板への選択的形成 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-15-KT-0054]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開 (2) 		F-KT-302 ダイシング装置
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[F-15-KT-0055]GRENEフォトニックコース実習 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0056]半導体異種材料接合の研究 		F-KT-257 ダイシングソー
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[F-15-KT-0057]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布の制御 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0058]半導体異種材料接合の研究 		F-KT-257 ダイシングソー
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[F-15-KT-0059]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-15-KT-0060]二酸化バナジウムを用いたキャパシティブ・インダクティブ特性の切り替え可能なテラヘルツメタ表面の実現 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-15-KT-0061]ガラスの微細加工 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0062]低温陽極接合をもちいたパッケージング技術の封止性能評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-15-KT-0063]GRENEフォトニックコース実習 ２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0064]二酸化バナジウム膜のドライエッチングによるパターニング 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0065]VUV還元酸化グラフェンFETの作製とその電気特性評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-292 半導体パラメータアナライザ
F-KT-289 マニュアルプローバ
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[F-15-KT-0066]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-15-KT-0067]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 (2) 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-15-KT-0068]3D-MEMS加工技術を利用したマイクロ宇宙推進機の抜本的な推進効率の向上 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0069]プラズマ暴露による有機系薄膜の誘電率変化の研究 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0070]感光性ポリイミドを用いた、たんぱく質構造解析用チップの製作 		F-KT-226 両面マスクアライナー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0071]石英ガラスモールドの作製 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0072]プラズマ用インジケータの開発 		F-KT-299 ICP-RIE装置
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[F-15-KT-0073]Ｘ線１分子動態計測用低ノイズマイクロチャンバの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0074]マイクロ流体デバイスの埋め込み型の金属配線パターン作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-300 簡易RIE装置
F-KT-298 パリレン成膜装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0075]イオン液体型圧力センサの作製プロセスの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0076]結晶系太陽電池ウェハの微細表面構造創製 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0077]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0078]メタマテリアルを用いたバイオセンシング 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0079]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0080]浮遊微粒子捕集用マイクロ流路デバイスの作製 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0081]固体中におけるスピン流輸送現象の解明 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0082]固体中におけるスピン流輸送現象の解明、その２ 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0083]MEMSデバイスの温度特性改善 		F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0084]ポーラスシリコン電極への金属めっき 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0085]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0086]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証 ２ 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0087]MEMSセンサ 		F-KT-292 半導体パラメータアナライザ
F-KT-289 マニュアルプローバ
F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0088]ナローバンド吸収特性を有するプラズモニックナノ構造 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0089]メタマテリアルを用いたバイオセンシング, その２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0090]高感度表面増強ラマン分光分析技術のための金ナノ粒子二量体配列の作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0091]INCONEL alloy617 合金の微細析出物の観察 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0092]内部酸化銀の微細酸化物の観察 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0093]架橋構造シリコンナノワイヤのMEMS集積化と引張強度評価 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0094]80 μm角センサの10×10アレイを用いたSOI静電容量型加速度センサ 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0095]自己組織化ナノ細孔を用いたナノポアDNAセンサの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-242 熱酸化炉
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0096]ナノ粒子表面状態と細胞との相互作用に関する研究 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0097]ひずみゲージ集積型単結晶シリコンマイクロ構造の並列引張疲労試験 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-256 レーザダイシング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0098]単層グラフェンの破壊特性評価 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0099]多孔性高分子の構造と物性 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0100]一本鎖DNAを修飾した単層CNTの金ナノ電極への架橋アセンブルと特性評価 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0101]へき開破壊によるナノギャップ創製MEMSデバイス 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0102]DLC薄膜でコーティングしたシリコンマイクロ構造の引張試験 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0103]多孔性高分子の構造と物性　２ 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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[F-15-KT-0104]Siウェハへの微細穴加工の実施 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0105]植物の成長モニタリング用MEMSセンサの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0106]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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[F-15-KT-0107]局所プラズモン共鳴によって誘起されたマランゴニ流における表面の濡れ性の影響 		F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
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[F-15-KT-0108]VO2薄膜のサーモクロミズムによる熱ふく射の波長制御 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-15-KT-0109]金属メタマテリアルによるテラヘルツ電場制御 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-15-KT-0110]新方式アルミ製放熱材の量産技術開発 		(登録なし)
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[F-15-KT-0111]GRENE事業　「高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省エネ照明デバイスの実証」 		F-KT-263 ダイボンダ
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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[F-15-KT-0112]GRENE事業　「高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証」 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-15-KT-0113]GRENE事業　「新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証」 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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[F-15-KT-0114]GRENE事業　「高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省エネ照明デバイスの実証」 		F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
F-KT-263 ダイボンダ
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[F-15-KT-0115]GRENE事業　「高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証」 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
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[F-15-KT-0116]大面積超高精度電子線描画装置を用いたサブミクロンピッチ回折格子金型の製作 		F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-15-KT-0117]ナノポーラスSiO2エレクトレット開発にむけたSi熱酸化膜形成およびその評価 		F-KT-242 熱酸化炉
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[F-15-KT-0118]混合潤滑特性に及ぼす表面ディンプルパターンの影響 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0119]Si微細構造形成の研究 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0120]抗原抗体反応の検出を目的とした横波型薄膜共振子MEMSセンサの創製 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
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[F-15-KT-0121]新規デバイス向けウェハ微細パターニング 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
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[F-15-KT-0122]色素増感太陽電池への自然材料の応用 		(登録なし)
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[F-15-KT-0123]寸法効果を利用したサブミクロンギャップ垂直櫛歯型SOI加速度センサアレイ 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0124]電子線描画装置入門コース（CUPAL） 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0125]細胞内物質導入の基礎研究 その２ 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-15-KT-0126]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-15-KT-0127]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価　その２ 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-15-KT-0128]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発 		(登録なし)
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[F-15-KT-0129]MEMSチップステージの開発 		(登録なし)
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[F-15-KT-0130]せん断型ひずみゲージ集積化単結晶シリコンマイクロ構造並列引張試験デバイス 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0131]新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証　２ 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-251 レーザアニール装置
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[F-15-KT-0132]光学顕微鏡の結像ユニットの作製1 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-15-KT-0133]光学顕微鏡の結像ユニットの作製 ２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-15-KT-0134]メッシュ培養法を用いた高次細胞構造の作製技術 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0135]静電型ピストンアレイ駆動のMEMS可変形状ミラーの開発 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-15-KT-0136]シリコン加工技術を用いた300 GHz帯導波管型平面アンテナの研究 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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[F-15-KT-0137]GRENEフォトニックコース実習 No.3 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-15-KT-0138]創・省エネデバイスコース実習セミナー 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-15-KT-0139]溶液プロセスによる有機薄膜トランジスタの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-15-KT-0140]光学式バイオセンサの研究 		(登録なし)
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[F-15-KT-0141]セルロース系単層カーボンナノチューブ分散材料の開発とトランジスタ応用 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-15-KT-0142]リン脂質含有リポソームの生理機能と物性の相関研究 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-15-KT-0143]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-302 ダイシング装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-15-KT-0144]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析　２ 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0145]セラミック微粒子へのW電極形成 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0146]金属塩含有疎水性イオン液体中の水分 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-15-KT-0147]圧電薄膜の形成 		(登録なし)
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[F-15-KT-0148]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-15-KT-0149]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0150]MEMS技術支援に関する相談 		(登録なし)
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[F-15-KT-0151]MEMS加速度センサの開発 		F-KT-242 熱酸化炉
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[F-15-KT-0152]細胞内物質導入の基礎研究 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-15-KT-0153]サーモバイルデバイスの開発 		(登録なし)
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[F-15-KT-0154]ガラス基板の表面粗さの接合性に及ぼす影響 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-253 基板接合装置
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[F-15-KT-0155]コロイドプローブAFMおよびMEMS創成技術を用いた極限流体潤滑の実現と評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-15-KT-0156]バイオ・MEMS実践セミナー実習コース 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-15-KT-0157]大面積超高精度電子線描画装置を用いたサブミクロンピッチ回折格子金型の製作 2 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-15-KT-0158]キラルネマチック相を示す液晶性イオン液体反応場でのヘリカルPEDOTの電解重合 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0159]SiO2膜の成膜実験 		F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-15-KT-0160]単結晶シリコンマイクロ構造高温機械特性に及ぼす構造寸法と結晶異方性の影響 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-15-KT-0161]SOFC(Solid Oxide Fuel Cell)の実験及び数値解析 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-15-KT-0162]平成２７年度ナノテクノロジープラットフォーム学生研修プログラム 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-15-KT-0163]電子線描画装置中級者コース（CUPAL） 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0164]ナノプローブを用いたマイクロ流路内流体温度計測技術の開発 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0165]生体筋の特徴を有したバイオアクチュエータの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-242 熱酸化炉
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0166]次世代集積ガラスバイオ流体デバイスの開発 		(登録なし)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0167]機能性材料薄膜形成についての技術相談 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-15-KT-0168]有機ポリマー微細加工 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0002]合成したダイヤモンド薄膜の結晶性評価および半導体素子の試作 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0003]１分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0004]高感度ウイルスナノセンサの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0005]ナノカーボン薄膜トランジスタによるセンサー開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0006]希土類イオンとフォトニックナノ構造の融合による発光現象の制御 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0007]２端子確率共鳴素子の開発 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0008]光学式バイオセンサの研究 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0009]ポリマー微細加工技術の構築 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0010]新規金属ロールナノモールドの開発 		F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0011]自己組織化ナノ細孔を用いたDNAセンサの開発 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0012]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
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[F-15-OS-0013]ナノ周期構造作製技術開発 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0014]ガスセンサ用ナノギャップ電極の作製 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0015]ナノブリッジ型プラズモニック導波路における３次元光伝搬特性 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0016]積層フィルムの断面観察 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-15-OS-0017]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
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[F-15-OS-0018]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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[F-15-OS-0019]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
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[F-15-OS-0020]シリコン基板上への多孔質シリコンマイクロチューブ自己組織化技術の開発 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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[F-15-OS-0021]金属薄膜の微細加工に関する一考察 		F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-15-OS-0022]ナノ材料の強度に関する研究 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
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[F-15-OS-0023]擬ゼロホール係数材料を用いた電流－スピン流変換機能 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
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[F-15-OS-0024]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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[F-15-OS-0025]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-15-OS-0026]高Q値ナノ光ファイバ共振器の作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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[F-15-OS-0027]新学術領域「超高速バイオアセンブラ」 		F-OS-314 LED描画システム
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[F-15-OS-0028]ナノインプリントリソグラフィー製フォトニック結晶ナノ共振器用鋳型の作製 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-15-OS-0029]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0030]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場のin situモニタリング技術開発 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0031]電子ビームを用いた微細加工型PEFC用高分子電解質膜に関する研究 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0032]偏光イメージング法を用いた流動の可視化による固液界面の評価 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0033]エクソソーム形状解析デバイスの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0034]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0035]面発光レーザー（VCSEL)の特性劣化解析(Ⅱ) 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0036]細胞の足場材料の制御のためのプラズマによる培養皿の改良 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0037]塗布型高移動度有機トランジスタの開発 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0038]サブサーフェス磁気イメージングシステムの高分解能化 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0039]極微細加工材料中の放射線化学の研究 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0040]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡を用いた電子材料、生体材料の二次電子像特性、ダメージ/加工特性の検討 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0041]バイオセンシング用デバイス作製プロセスの開発 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0042]メタマテリアルデバイスによるテラヘルツ波の高度応用 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0043]ナノ材料を用いたガスセンサーの作製と微視的アプローチによる応答メカニズムの解明 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0044]ナノ光ファイバ共振器の作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0045]集束イオンビームを用いた石英基板上での単結晶銀ナノピラーの作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0046]分相性ポーラスガラスの室温ナノインプリントによるプラズモンバイオセンサーの試作 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0047]ナノハイブリッド細線パターンの形成と評価 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0048]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡を用いた半導体プロセス用有機下地膜材料の二次電子像特性及びダメージの検討 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0049]：電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0050]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0051]表面増強ラマン散乱計測に用いるナノ構造基板の形成 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0052]回折格子を用いた金ナノ粒子トラップによるメタマテリアルの作製 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0053]金属基板を腐食する強アルカリ現像液を使用しないMEMS 加工用バイオマスレジスト材料の開発 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0054]フォトニック結晶レーザの開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0055]バイオマイクロデバイスの開発 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0056]サファイヤ基板上金ホールアレイ作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0057]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0058]微粒子の分別収集に向けた多段階粒子輸送法の開発 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0059]ナノ共振器を用いたASE増強デバイスの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0060]Si基板上への微細円筒形キャビティパターンの制作 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0061]金属ナノロッド配列ナノレンズによる超解像イメージング 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0062]ナノ電極を利用したDNA損傷計測 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0063]Si基板の平滑エッチング技術検討 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0001]熱交換用マイクロ流路構造の作製 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0003]誘電体多層膜1次元フォトニック結晶の作製 		F-GA-322 LP-CVD
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0004]金属-誘電体多層膜メタマテリアルの作製 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0005]テラヘルツ帯金属ロッドメタマテリアルの作製 		F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0006]電子線露光装置により光導波路型回折格子作製 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-323 イオンシャワー
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0007]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEBレーザーによるフォトマスクの作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0008]超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の多重スリット製作 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0009]大面積の磁気ライン・メモリーの作製と電流駆動磁壁移動の検証 		F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0010]金属材料との安定した接合抵抗を持つMEMSデバイスの作製 		F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0011]オプトジェネティクス用細胞解析マイクロデバイスの開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0012]金属材料の微細加工 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0014]MBEで作製した半導体薄膜の研究 		F-GA-328 ダイシングマシン
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0015]Si基板上のGaN、GaAs薄膜の評価 		F-GA-322 LP-CVD
F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0016]金属製品傷検査 		F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0017]デバイス加工用マスクの形成 		F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0018]マイクロ電極による生体分子操作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0019]液晶性半導体を用いたフレキシブルデバイスの作製と評価 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0020]遺伝子導入デバイスの作製 		F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0021]バイオMEMS向け厚膜レジストの開発 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0023]環状DNA計測に向けたマイクロ流路デバイス開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0025]プラズモニックデバイスの製作 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0026]マイクロ流体撹拌素子の製作・改良 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0027]染色体伸張解析デバイスの開発 		F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0028]植物生体情報計測用の温度センサの製作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0029]植物生体情報計測に向けたマイクロ流路構造の製作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0031]ナノスケール構造体の引張試験のためのMEMSデバイス開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0032]NEMSを用いたプラズモン変調器の作製 		F-GA-329 電子測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0033]液晶性混合伝導体の薄膜化 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0034]2物体の接触面の表面性状の変化 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0035]プラズマ処理を利用した特殊樹脂の接合 		F-GA-323 イオンシャワー
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0037]パン粉の表面形状の研究 		F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0038]太陽電池の開発 		F-GA-321 真空蒸着装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0039]板反りおよびシュー成形を利用した小径管の新成形法 		F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0040]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-GA-322 LP-CVD
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0041]UVナノインプリントを用いたセンサ基板の作製 		F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0042]単分子膜を用いた金属微粒子配列法の開発とその応用 		F-GA-322 LP-CVD
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0043]医療用センサの製作 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0045]光学デバイスにむけたアクチュエータの製作 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0046]高感度センサに向けた微小可動構造形成 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0047]アライメントレスフォトリソグラフィーにおける位置合わせ精度の改善 		F-GA-328 ダイシングマシン
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-15-GA-0048]熱CVDによる窒化シリコン薄膜の作製 		F-GA-322 LP-CVD
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0001]超臨界二酸化炭素雰囲気下における微細空間中のポリイミド蒸着機構の解明 		F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0002]次世代デバイス向け先端露光プロセスの検討 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0003]一方向成長を促進した非晶質シリコンのレーザーアニール結晶化 		F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0004]微細流路を用いた流路抵抗測定 		F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0005]量子ドット固定領域制御技術のための微細加工パターン作成 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0006]ラザフォード後方散乱法を用いたInP基板上低温成長InxGa1-xAs内の結晶欠陥の評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0007]InP基板上低温成長InxGa1-xAsの成長とX線回折法を用いたその結晶性の評価-格子整合系と不整合系のデバイス特性の差異の起源- 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0008]微細結晶粒を有する低温poly-SiトンネルTFTのデバイス形成に関する研究 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0009]自己整合4端子メタルダブルゲートCLC低温poly-Si TFTの制御性に関する研究 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0010]高性能薄膜トランジスタの実現に向けた非晶質シリコンのレーザーアニール結晶化 		F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0011]金属誘起固相成長とhigh-k膜を利用した自己整合４端子低温poly-Si TFTの開発に関する研究 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0012]高圧蒸着法における成膜特性とトレンチサイズの関係 		F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0013]次世代デバイス向け極微細パターニングの検討 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0015]多量子ビーム検出用超伝導トンネル接合素子 		F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0016]ミストCVD法によるCu2ZnSnS4薄膜のRBSを用いた組成評価に関する検討 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0018]方向性結合器型干渉素子を用いたバイオセンシングデバイスの構築 		F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0019]InP基板上アモルファスInxGa1-xAsの熱処理による結晶化とX線回折法を用いたその結晶性評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0021]4インチウエハのエリプソメトリによる酸化膜の測定 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0022]細菌に凝集させた化合物の構造評価 		F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0023]高感度プラズモニックセンサーの開発を目指したナノ粒子表面修飾 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0024]バイオセンシング用分子認識タンパク質の簡便な性能評価のためのSi酸化膜基板の作製 		F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0025]電子ビーム露光を用いた室温動作Si単電子トランジスタ＆薄膜トランジスタの設計・製作・評価 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0026]電子ビーム露光を用いた室温動作Si単電子トランジスタ＆薄膜トランジスタの設計・製作・評価 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0027]局在プラズモン共鳴を利用した光伝導型テラヘルツ波検出素子の高効率化 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0028]アルカリ土類金属によるSiC-MOSFETsの界面制御 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0029]窒化シリコン方向性結合器バイオセンサによるアプタマー分析 		F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0030]塗布技術を用いて形成したhigh-kゲート絶縁膜の評価 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0031]ホール効果測定を用いたInP基板上低温成長InxGa1-xAsの欠陥準位の評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0032]表面粗さによる微小管速度制御技術の開発 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0033]窒化物半導体層のエッチング加工 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0034]リフトオフによるメタルパターン形成 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0035]塗布膜のパターン加工 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0036]生体反射板ガイダンス溝の作成 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0037]超臨界蒸着法によるフッ素－カプトン系ポリイミドの成膜特性とトレンチサイズの関係 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0038]Ge中にイオン注入したAsの高効率活性化と化学状態分析 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0039]電圧印加XPSを用いた熱酸化SiO2/Si 構造の内部電位評価 		F-RO-333 酸化炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0040]狭間隔スロット光導波路のレジストパターン形成 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0041]リッジ型光導波路実現のためのドライエッチング条件の探索 		F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0042]スポットサイズ変換器用中間クラッド層の形成 		F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0043]シリコンチッ化膜のプラズマ中表面計測についての相談 		(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0044]炭化ケイ素基板への高温リンイオン注入と短時間高温活性化アニールの研究 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0045]Si/SiCヘテロ接合によるオーミックコンタクトの形成 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-15-RO-0047]メニスカス力を用いたSOI膜の転写における転写率向上の研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0001]次世代レジスト材料の開発 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0002]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0003]種々の材料の真空分圧測定 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0004]新規機能性樹脂の開発 		(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0005]反応性スパッタ膜の研究・開発 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0007]昇温脱離ガス分析（TDS）を用いたカーボン粉末の発生ガス分析 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0008]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0009]感光性樹脂の研究 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0010]金属含有DLCの研究 		F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0011]MEMS技術を用いた機能性表面の創製 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0012]有機化合物によるエレクトロニクス素子の開発 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0013]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発 		F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0014]省合金型二相ステンレス鋼の真空容器向け使用特性評価 		F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0015]液体による微量漏れ検出技術の開発 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0016]ウエハへのマイクロビアの作製および銅薄膜 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0018]金属材料の微細加工 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0019]銅合金の真空表面処理の開発 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0020]高感度ネガ型電子線レジストの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0021]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発 		F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0022]ポリマー型電子線レジストの高度化に関する研究 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0023]カルコゲナイド系磁性半導体に関する研究 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0024]ビスフェノール類を用いた柔軟性をもつフォトレジスト用樹脂の開発 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0025]不純物ドープ窒化物薄膜の作製と評価に関する研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0026]水素吸蔵合金を用いたセラミックスー金属間の接合 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0027]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の作製 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0028]標準コンダクタスエレメトを用いた種々のガ分析計感度調査に関する研究 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0029]表面処理したアルミニウム合金のガス放出特性 		F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0030]尿酸結晶あるいはグアニン結晶と強磁性物質によるハイブリッド膜の作製 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0031]スピン波デバイス伝搬特性の研究 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0032]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEBレーザーによるフォトマスクの作製 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0033]ハイブリッド対抗スパッタによる透明導電膜の作製 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0034]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0035]大小混在パターンに対応可能なMEMS向けレジストとプロセスの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-15-YA-0036]Siウエハー上に置ける有機膜からのアウトガス成分分析／ダイナミックTDS測定 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0001]細胞解析用微小孔・微小電極アレイデバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0002]電気化学計測のためのマイクロピラミッドアレイ電極の作製 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0004]炭化ケイ素のＣＶＤ合成 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0005]表面音響光学効果を用いたポイントオブケア向け高感度バイオセンサーの開発 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0006]誘電体ナノ粒子の生成と物性測定 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0007]TES(超伝導転移端温度計)型ガンマ線マイクロカロリーメータの製作と性能評価 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0008]光エネルギー変換デバイスの開発 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0009]MEMS センサを用いたミニチャネル流動沸騰熱伝達 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0010]SiO2 自立薄膜の面方向熱伝導率測定 		F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0011]デバイス試作および試作品解析 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0012]機能性透明人工殻の開発 		F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0013]セラミックスの耐食性評価 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0014]マイクロはんだバンプの形成 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0016]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0018]高感度水素センサの開発 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0019]パワーSoC 用3 次元積層基板構成法の研究 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0021]半導体基板の膜厚減少量評価 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0023]リフトオフ用Wf．の作製 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0025]沸騰熱伝達メカニズム研究用MEMS センサの製作 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0027]高効率インバータ用シリコンパワーダイオードの高速化 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0031]シリコン太陽電池の表面パッシベーションのためのSiN 膜の最適化 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0032]自立膜基板の作成 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0034]パワーデバイス用シリコン基板の開発 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0035]濡れ性こう配の製作 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0039]LED 評価基板のワイヤーボンディングとダイシング 		F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0041]誘電泳動を用いた血液細胞解析のための電極設計 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0042]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0044]部分的金属被覆DNA を用いたDNA 分解酵素センサの開発 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0046]平面測定用5 点法MEMS 変位計デバイスの高精度化 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0047]セラミックサンプル作製 		F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0049]パワーデバイスの作製 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0052]電解エッチング法による微小孔を有するTi 箔の作製 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0058]光モードスイッチの研究 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0059]ダイシング加工によるSiC チップ試料作製 		F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-15-FA-0061]超小型変位センサに関する研究 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)