利用報告書一覧

利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学 微細加工プラットフォーム]　
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名 利用装置名
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0001]赤外線連続照射による気液界面での分子内振動の緩和と溶剤乾燥に効果的な吸収帯の解明 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0002]微細光半導体デバイス向けプロセス技術の研究 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-014 ドライエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0003]機能性無機材料の微細加工による新原理電子デバイスの開発 		F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0004]セラミックス粉末の耐水性向上を目的としたALDコーティング 		F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0005]フォノニック結晶・フォノニックメタマテリアルの作製 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0006]スピン軌道トルク磁化反転を利用したスピン機能素子の作製 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0007]表面弾性波を用いたヤング率に基づく細胞選別技術 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0008]1細胞・多細胞計測用のマイクロ加工基板の作製 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0009]臨床診断用電気化学バイオセンサーの開発 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0010]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製 		F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0011]マイクロ加工基板による細胞立体培養 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0012]Co基ホイスラー合金を用いた巨大磁気抵抗素子の作製 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0013]強磁性共鳴を利用した磁場計測用カンチレバの作成 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-100 ダイシングソー
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0014]グラフェン基板への金属原子クラスターの作製 		F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0015]高速非線形ラマン散乱イメージングの装置の性能検証 		F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0016]Fe3O4を用いたトンネル磁気抵抗素子の開発 		F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0017]Effect of Titanium Film on Plasmon Induced Photocurrent Generation 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0018]hotocurrent Generation on Gold Nanoparticles Loaded Ga2O3 . 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0019]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0020]GaN-based Microdisk Cavity Laser with Plasmonic Enhancement 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0021]CoFe2O4/Pt膜の磁気近接効果 		F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0022]Study the Plasmonic Topological Photonics using Photoemission Electron Microscopy 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0023]HfSiOxゲート絶縁膜を有するAlGaN/GaN HEMTの作製と評価 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0024]赤外 Purcell効果を用いた蛍光法による振動分光分析システムの開発 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0025]金ナノプレートの近接場二光子発光計測 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0026]プラズモン光アノードへのコバルト助触媒の位置選択的担持と水酸化反応への利用 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0027]金属ナノピラーアレイへの酸化チタン・金ナノ粒子の担持とその光電気化学特性評価 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0028]金属格子構造体を利用した分子励起子‐プラズモン強結合系の構築 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0029]原子層堆積膜のMEMS応用のための特性解析 		F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0030]医用イメージングのための半導体検出器の開発 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0031]Near-Field Engineering for Boosting the Photoelectrochemical Activity to a Modal Strong Coupling Structure 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0032]超伝導デバイスの作製 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0033]Developing a versatile surface-enhanced Raman scattering chips using modal strong coupling 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0034]Self-organized nanogratings on the surface of the SF10 glass induced by femtosecond laser pulses 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0035]ELF電界による赤血球運動解析 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0036]プラズモニクナノ構造を用いたミセルの光トラッピング 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0037]原子層堆積法を用いた赤外光ファイバーセンサーへの機能性ナノ薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0038]電極作製のための表面加工 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0039]モード超強結合電極の構築とそのホットエレクトロン移動挙動の観測 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0040]スメクチック相をテンプレートに用いたAlナノラインパターニングとその可視光ワイヤーグリッド偏光子への応用 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0041]円偏光プラズモン場を用いたキラル結晶化の制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0042]Near-perfect absorption of light by coherent plasmon-exciton states 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0043]Revealing the Chiroptical Response of Plasmonic Nanostructures at the Nano-Femto Scale 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0044]Coherent-interaction-enhanced hot-electron generation under modal strong coupling conditions 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0045]歪み印加での変調を可能とする量子ドット発光デバイスの作製 		F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0046]0046X線レーザーイメージングのための低バックグラウンド試料ホルダ作製 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0047]ナノ構造体を用いたエクソソームの分離 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0048]強磁性酸化物積層構造における電流誘起有効磁場 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0049]リセスゲート構造を有するAlGaInN/AlGAaN HFETの作製と評価 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0050]微細構造による接触界面と摩擦力の制御 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0051]MALDI用新ソフトイオン化源の開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0052]使用済みセンサー素子の再生・再利用 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0053]プラズマCVDによるBCN膜の成膜と評価 		F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0054]0054ナノ構造物近傍における液体の動的挙動のその場観察 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0055]半導体用薄膜の原子層堆積法 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0056]光学デバイス用回折格子の作製 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0057]増強光電場下における一分子蛍光デフォーカスイメージング 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-20-HK-0058]ナノギャップ金2量体構造に誘起されるプラズモン誘起光圧の解析 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0001]基板上への微細Al電極作成と基板の評価 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0002]TMAHによるSi貫通エッチ 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0003]エンドトキシン測定用くし型電極の開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0004]微細構造への薄膜形成② 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-068 LPCVD
F-TU-069 熱CVD
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0006]MEMS技術の応用による反射防止構造の加工 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-098 UVインプリント装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0007]メタルグリッドの製作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0008]医療用マイクロデバイスの開発 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0009]対称性を制御した光メタマテリアルの作製 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0011]微細加工によるトポロジカルジョセフソン接合の作製 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0012]誘電体ナノ構造体を駆使した鏡像体選択的カイラリティ勾配力によるキラル結晶化制御 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0013]ミリ秒X線トモグラフィのための光学素子の作製 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0014]量子ビーム格子の開発と作製 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0016]MEMSデバイスの加工 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0017]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0018]マイクロナノ構造加工技術 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0019]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0020]微細構造の試作検討 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0021]半導体プロセス基礎実験 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0022]マイクロポンプの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0023]微細構造体の作製技術開発 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0024]曲面デバイスの内部観察 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0025]マイクロレンズアレイ加工 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0028]材料開発評価とデバイス評価 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0029]圧電駆動型MEMSデバイスの耐久性の向上および長期安定性の向上 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0030]HDD新高集積化方法による環境負荷低減技術確立 		F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0031]強靭で高性能なPZT単結晶薄膜の研究 		F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-128 XRD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0032]MEMS/NEMSの作製 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0033]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0035]情報環境（インフォスフィア）調和型 自己組織化ヘテロ集積システムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0036]ポジ型化学増幅レジスト･FEP-171のサブミクロンサイズパターンへの応用 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0038]安全とセキュリティのためのIoT 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0039]マイクロウェルの試作 		F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0040]触覚デバイスの開発と材料技術の検討 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-128 XRD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0041]Sapphireウェハ加工 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0042]多段回折光学素子の試作開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0043]シリコン光結合デバイスの開発 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0044]シリコン光カプラの開発 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-073 W-CVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0045]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細構造形成 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0046]ファンデルワールス材料物理 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0047]アルカリイオンエレクトレットを用いた振動発電素子の開発 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0048]薄膜の元素分析 		F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0049]薄板型熱発電機の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0050]薄型バイパスダイオード内蔵太陽光発電モジュールに関する研究 		F-TU-107 超音波顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0051]MEMSデバイス加工 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0052]太陽電池セル作製プロセスの開発 		F-TU-069 熱CVD
F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0053]MEMSフォースセンサとIoTモジュールの試作実習 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0054]始原隕石の実験的有機物除去 		F-TU-121 プラズマクリーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0055]MEMSフォースセンサとIoTモジュールの試作実習 		F-TU-060 シンター炉
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-093 ワイヤボンダ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0056]金属と酸素イオン伝導体(OIC)の固相接合可能な表面粗度の検証 		F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0057]サブマイクロ構造光学素子の試作 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0058]高真空ウェハレベルパッケージング 		F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0059]衛星搭載を目指す宇宙用X線望遠鏡の Si 高温アニールと化学機械研磨を複合した新プロセスの確立 		F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0060]Vapor HF エッチング装置による超伝導量子回路でのSiO2エッチング 		F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0061]パーティクル測定 		F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0062]CGH製作 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0063]微細流路を持つマクロデバイス作成のためのモールド作り 		F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0064]Si基板上GaN系デバイスのプロセス開発 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0065]ナノインプリントに資するマイクロ－ナノ構造体の造形 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0066]PZT単結晶薄膜およびバッファ層のエピタキシャル成長の研究 		F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0067]圧電MEMSデバイスの研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-048 膜厚計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0068]MEMS device technology development 		F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0069]めっき技術を用いた基板上の厚膜金属パターン形成に関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0070]唾液内ストレスマーカーを検出するシリコン導波路型バイオセンサ 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0071]Siの垂直貫通加工 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0072]W-Cu接合界面の健全性評価 		F-TU-107 超音波顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0073]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0074]サセプターの洗浄 		F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0076]いわて半導体アカデミー大学生1年次、及び社会人向けプロセス実習 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0077]3DCP積層体の層間への金属繊維の挿入に起因する空隙の定量的解析 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0078]光波センシングのためのフォトニック・ナノ構造の創製 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0079]高真空ウェハレベルパッケージングを適用したMEMSセンサーの研究開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0080]三次元微細構造をインプリント加工した金属ガラスのリチウム二次電池集電体への応用 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-058 ダイサ
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0081]マイクロ流体デバイスをベースにした水質モニタリング用センサの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0082]原子力電池用表面電極蒸着用メタルマスクの作製 		F-TU-124 ウォーターレーザ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0083]バクテリア集団の揺らぎと応答の測定 		F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0084]セラミックス空気1-3コンポジット超音波探触子の開発 		F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0085]2次元シートデバイス開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0086]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0087]MEMSデバイス開発試作 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0089]カーボンナノチューブ１本レベルの熱動態計測のためのMEMSヒータ作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0091]レーザ描画を用いたDOEの製作 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0093]高信頼性MTJデバイスの開発 		F-TU-073 W-CVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0094]エレクトレットMEMS振動・トライボ発電 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-043 サンドブラスト
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0095]センサ素子の試作 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0096]MEMSデバイスの開発 		F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0097]微細構造を用いた熱輻射のスペクトル制御 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0098]ALDを用いた酸化チタンナノチューブ薄膜への貴金属成膜 		F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0099]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用 		F-TU-044 酸化拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0100]セラミックスのプラズマ耐性評価 		F-TU-049 Tenchor 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0101]メタマテリアルのための金属ナノパターン形成 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0102]感染症ウイルス検査用マイクロ流路チップの作製 		F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0103]微小サイズ薄膜蒸着に向けたCrマスクの作製 		F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0104]ナノ粒子/ポリマーコンポジット薄膜の空間構造制御 		F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0105]電気化学セル部品の微細加工 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0106]半導体ナノ構造の作成 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0107]PZT 単結晶薄膜を用いた超音波デバイスの研究 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0108]MEMSアレイ触覚デバイス開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0109]新カット水晶Lamb波レゾネータの開発 		F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0110]表面増強ラマン散乱を利用した超高感度バイオケミカルセンサーチップの開発 		F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0111]超薄型光入出力部品の開発 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0115]固体微細構造デバイスの作製 		F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0116]メタマテリアル製作のための微細加工技術 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0117]極細径光ファイバ圧力センサの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-20-TU-0118]Deep RIEによるSiの加工評価 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0001]新規材料における微細パターン形成評価 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0002]高速マスクレス露光装置を用いた窒化ガリウム自立基板上電極パターン形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0003]高耐圧酸化ガリウムパワーデバイス開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0004]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電素子の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0005]複合プラズマ法を用いた燃料電池電極触媒の開発 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0006]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0007]電子ビーム描画装置を用いたline-and-spaceパターンの作成 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0008]フォトニック結晶のためのEB・RIEによる石英微細加工および多層膜スパッタリング 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0009]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0010]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサアレイの開発 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0011]半導体シリコン素子，2次元電子材料を用いた新機能デバイス作製とパッケージング 		F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0012]ALDを用いたGaN SBDの理想係数nの改善 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0013]RIE処理によるプラズモニックアレイ加工と転写 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0014]微細デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0015]AFM characterization of small-sized particles generated on the surface of niobium superconducting high-frequency acceleration cavity 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0016]シリコン光導波路及び微小光共振器の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0017]二硫化モリブデン電界効果トランジスタの分子センサー応用 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0018]窒化ガリウム半導体へのフォトニック結晶構造形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0019]SiO2マスクを用いたGaN基板のドライエッチング 		F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0020]20 mm角アドレスマーク付きSiO2/Si基板の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0021]スピンホールナノオシレーター微細加工試料の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0022]金属膜のドライエッチング検討と評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0023]赤外線フォトダイオードの作製 		F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0024]イットリアの微細組織構造が耐プラズマ性に及ぼす影響 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0025]多目的ドライエッチング装置を用いたMg2Si基板の表面加工 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0026]ガラス基板上へのスパッタ装置による酸化物膜の成膜 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0027]熱電発電デバイスの熱伝導層材料の研究 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0028]赤外線フォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0029]半導体プロセス用レジスト材料の各種性能評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0030]電子線描画装置を駆使したトポロジカル物質微細素子の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0031]AlInGaP系LED素子のエッチング形成 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0032]半導体微細加工による微小集積光学導波路作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0033]半導体基板のアニール処理 		F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0034]ポリマー材料加工技術の検討 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0035]熱電発電素子への導熱路構造の開発 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0036]グラフェンFETの保護膜プロセス適正化及びウエハ大口径化の検討 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0037]グラフェン・ナノリボン電子デバイスの研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0038]Development of next generation memory devices 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0039]成膜プロセスを考慮した基板表面のクリーニング 		F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0040]100kV電子ビーム描画装置を用いた金属表面処理 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0041]抵抗測定TEG試作 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0042]熱電素子テスト構造の試作 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0043]ダイヤモンドSQUIDの特性向上に向けたジョセフソン接合微細化の検討 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0044]電子ビームリソグラフィによるNi電極の微細加工検証 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0045]化合物ドライエッチング装置によるAlGaAsエッチング形状の評価 		F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0046]グラフェンセンサデバイスの試作及びその溶液成分への応答評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0047]露光装置や全自動スパッタリング装置を用いたMg2Si pn接合フォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0048]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0049]プラズマCVD装置を用いたTEOS膜形成と膜厚測定 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0050]Si-nanowire microTEG devices development 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0051]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応とその性質 		F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0052]イオン注入GaN基板におけるドーパント活性化の為のウエハRTA装置利用 		F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0053]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0054]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発に関する研究 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0055]ドライエッチング装置を用いたAlエッチングおよびSiO2エッチング 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0056]シリコンフォトニクスデバイスの作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0057]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0058]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0059]高機能半導体レーザー開発プロセスに関する研究 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0060]金属二次元半導体接合をもつ電界効果トランジスタ構造の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0061]液体窒素プローバーシステムを用いた元素ドーピング二層グラフェンの電気特性の調査 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0062]プラズマCVD膜のウエットエッチング検討 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0063]分子認識界面構築における評価用金基板の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0064]ナノシリコンワイア型熱電発電デバイス関する作製と研究 		F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0065]Ni異方性エッチングを用いたダイヤモンド基板上の微細加工 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0066]フォトリソグラフィーを使用したダイヤモンド表面へのパターン生成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0067]露光装置、全自動スパッタ装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0068]露光装置やスパッタ装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0069]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンドプローブの作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0070]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応 		F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0071]導電性ブリッジメモリ(CBRAM)を用いたニューロモルフィックデバイスの開発 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0072]導電性ブリッジメモリのデバイスプロセス開発 		F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0073]平行平板電極による免疫センサの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0074]原子層堆積装置を用いた金ミラー上への誘電体薄膜の成膜 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0075]金属-MoS2接合界面における界面状態の検証を目的としたデバイスの最適化 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0076]細胞分離診断技術の開発 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0077]集束ヘリウムイオンビーム法によるダイヤモンドジョセフソン接合の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0078]超高速ジョセフソン接合素子の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0079]MoS2-FETの電子物性を用いた流体環境下高感度分子センサの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0080]単層カーボンナノチューブを架橋する際のライン＆スペースの作成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0081]ネガ型電子線レジストを用いた30nmサイズ脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0082]電子線リソグラフィによって作製されたグラフェン熱電素子のナノスケール測定 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0083]Alドライエッチング加工 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0084]カルコゲン系太陽電池における界面修飾法の検討 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0085]金属ナノシリンダーアレイの熱改質 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0086]光-物質強結合実験のための高反射誘電体多層膜の作成 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0087]リフトオフ電子ビームリソグラフィによるナノ磁性体配列構造の製作 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0088]電子ビームリソグラフィー法を用いたプラズモニック結晶試料の作製 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0089]高品質酸化ガリウムエピウエハの開発 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0090]Si基板へのパターン形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-20-NM-0091]1.03 μm 波長帯の半導体レーザーのプロセス開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0001]Au電極上へのSU-8パターニングの検討 		F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0003]酸化ガリウムを用いた共鳴トンネルダイオードの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0004]熱処理温度による電極/n型窒化アルミニウムへの電気抵抗への影響 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0005]酸化アルミニウムのドライエッチング 		F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0006]α-Al2O3ホモエピタキシャル薄膜の結晶構造評価 		F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0007]食品添加物コハク酸のX線回折分析 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0008]XPSによるルテニウム薄膜の分析 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0009]塗布型半導体カーボンナノチューブの移動度向上とICタグへの応用 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0011]Pd系アモルファス合金の構造安定性評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0012]炭化鉄ナノ粒子のキュリー点測定 		F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0013]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0014]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0015]基板上への微細Al電極作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0016]偏光素子開発 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0017]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0018]超電導パラメトロン素子上に配置したエアブリッジの作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0019]GaNへのドライエッチングダメージ除去手法の検討 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0020]ALD-AｌN膜中酸素の抑制検討 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0021]p型GaN-金属コンタクト特性の電極形成前表面処理条件依存性 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0022]p型GaN-金属コンタクト特性の熱処理条件依存性 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0023]硫化スズのエピタキシャル成長における成長初期過程の検討 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0024]AlGaNのCV評価におけるコンタクト抵抗の温度依存性 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0025]ガス電子増幅用ガラス基板の開発 		F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0026]原子層堆積法を用いた金属成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0027]レーザーラマン分光法を用いた毛髪タンパクの構造解析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0028]フォトリソグラフィ特性評価 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0029]Y2O3を用いたGe系デバイス試作 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0030]Si基板上のTEOS-SiO2の絶縁耐圧評価 		F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0031](K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成 		F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0032]加工用レジスト材料の分析評価 		F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0033]Si基板上の薄膜a-Siの膜厚測定 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0034]薄膜の膜厚測定 		F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0035]Pt合金膜の開発 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0036]イオンミリングによる断面解析 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0037]アルミを成膜したウエハ上でのリソグラフィの合わせ検査 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0038]Ta2O5膜評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0039]磁性薄膜試料作製および特性評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0040]ドライエッチングを用いたシリコン深堀り加工 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0041]シリコン表面のパターン形成 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0042]原子層堆積装置を用いたSi基板上への酸化膜の形成 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0043]MIM構造試作と強誘電性の熱処理依存 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
F-AT-141 単波長エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0044]サーモリフレクタンス測定のための金属薄膜作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0045]Si基板上のSiO2膜の膜厚評価 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0046]GaN薄膜の原子層堆積 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0047]バッファードフッ酸を用いたSiO2のウェットエッチング 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0048]サファイア基板の切削 		F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0049]N面GaNにおけるオーミック接触形成 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-138 マニュアルウェハープローバー(2F)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0050]p-GaNのホール測定のための電極形成 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0051]p-GaN/AlGaN/GaN ダイオードの特性評価 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0052]GaN HEMTのAuフリーオーミック電極の形成 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0053]グラフェンをチャネルとしたFETデバイスの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0055]高精度Ptパタン加工のためのハードマスクプロセス検討 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0056]Mix&Match法にてEB露光した際の位置精度の評価について 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0057]ALD法を用いた微細L/Sパターンへの均一なSiO2成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0058]製品層内に付着した汚れ・異物の分析 		F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0059]原子層堆積法による石英基板上への酸化物薄膜形成 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0060]レジストパターンのマスクでの真円性を考慮したSi基板の垂直加工 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0061]電子線蒸着法によるAu薄膜の形成 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0063]半導体デバイスの特性調査 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0064]高密度・高速応答熱電対アレイの試作 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0065]可視光LEDの微小発光素子形成プロセス開発 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0066]電子部材へのポリイミド応用 		F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0067]有機半導体デバイス型バイオセンサの開発 		F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0068]ダスト除去機能を有する放熱面の試作 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0069]IC解析 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0070]IC解析 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0072]GaAs基板への高アスペクト比のスルービアの形成 		F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0073]GaAs基板への高アスペクト比のスルービアの形成 		F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0074]無電解Niめっき上の微細構造形成 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0075]高純度オゾンを用いたALD Al2O3膜のI-V特性 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0076]高アスペクト比トレンチ溝への高純度オゾンALD Al2O3膜の被覆特性 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0077]デジタルマイクロスコープを用いたフィルムの表面状態観察 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0078]誘電体DBRリフトオフプロセスの確立 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0079]水溶性基板上のPt, Au, Ni薄膜のナノパターン形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0080]マグネタイト薄膜の結晶性評価 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0081]2端子セレクター素子向け導電性酸化物薄膜の成膜条件最適化 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0082]グレイスケール露光を利用したDOE用電鋳モールド作製技術の開発 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0083]窒化物半導体デバイスの開発 		F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0084]クロスセクションポリッシャによるサンプル加工検討 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0085]積層DRAM向けTSVの不良解析 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0086]医療用MEMSデバイス プロセス開発 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0087]Cr/NiPめっきのビット断面観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0088]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0089]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0090]フッ素エラストマーの耐プラズマ性向上を志向したシリカフィラーの効果検証 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0091]印刷サンプルの表面分析 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0092]グラフェンバイオセンサーのiv特性測定 		F-AT-138 マニュアルウェハープローバー(2F)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0093]回路基板上へのアライメントマークの作製 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0094]FIB を用いた銀蒸着テフロンフィルムへの微細構造形成 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0095]HfNナノ構造の作製 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0096]太陽電池中ドーパント濃度の定量分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0097]リフトオフプロセスによる金属パターン形成 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0098]GaN基板表面付近の深さ方向不純物分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0099]平面型グラフェン電子源の作製 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-141 単波長エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0100]PE-ALDのコンフォーマル特性調査 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0101]鉄系酸化物とマグネシウムシリケートのラマンスペクトル測定 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0102]金埋め込み電極作製に向けた高アスペクト比トレンチ内における薄膜成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0103]グラフェンを歪みセンサーとした自己検出型カンチレバーの作製 		F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0104]高速X線トモグラフィのための単焦点距離マルチビーム光学素子の開発 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0105]酸化物半導体ナノ粒子間界面と熱輸送制御 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0106]単結晶試料のFIBの加工表面の観測 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0107]ZnO - SiO2 - Al2O3薄膜による多層MIMダイオードの電極の形状を変化させたときの評価 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0108]遷移金属カルコゲナイド原子細線の電気伝導特性の測定 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0109]ダイヤモンドへの電極形成技術 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0110]ダイヤモンドへの電極形成技術 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0111]ウェハレベル高真空封止技術のためのサブミクロンホールリソグラフィ 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0112]超電導表面弾性波共振器を用いた回路量子電磁気学の研究 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0113]SBS薄膜中のスチレン成分の深さ方向分布解析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0114]コポリマーの作製及び性能評価 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0115]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスとマイクロ粒子の作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0116]金属酸化物の電荷捕獲特性の最適化とメモリ応用 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0117]高密度垂直深堀形状を備えた新規デバイスの開発 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0118]シリコン量子ドットデバイス作製のための電子線露光シミュレーション 		F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0119]超伝導デバイスの作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0120]SiC Trench Dry Etching 評価用パターン作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0121]GaN成長を可能にするGaAs基板の処理検討 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0122]シリコン窒化膜中のトラップ評価と水素による特性変調に関する研究 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0123]真空蒸着によるAu電極膜のトレンチ埋め込みパターニング 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0124]SiNパッシベーション膜およびAu電極膜の成膜分布 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0125]エッチバックによるコンタクトホール形成プロセス開発 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0126]ナノカーボンの抵抗測定 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0127]InPへのオーミックコンタクト電極の形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0128]ナノカーボンランダムネットワーク評価用電極パターンの形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0129]熱式ALD成膜したTiO2とZrO2の膜厚評価 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0130]Mgイオン注入GaNにおける活性化アニール用保護膜の検討 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0131]SiO2、SiN極薄膜のESR測定による欠陥評価の可能性確認 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0132]分光エリプメーターによるSi基板上SiO2膜の膜厚測定 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0133]高純度オゾンを用いたALD Al2O3膜の屈折率 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0134]SPMによるPDMS基板上のナノ粒子測定 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0136]ナノインプリントを使用した樹脂へのナノピラー構造形成 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0137]プラズマ照射による溶液中凝集物の観察 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0138]プラズマを用いた物質の接着に関する研究 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0139]マグネシウムシリサイド/金属接合界面の微小領域電気伝導評価 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0140]ブロードエリア構造の半導体量子ドットレーザの作製 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0141]ポリマー光導波路の作製 		F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0142]次世代MRAMにおける微細な加工マスクの検討 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0143]pMOSデバイスのゲート酸化物としての酸化ケイ素 		F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0144]室温大気中におけるカシミール力のSiO2膜厚依存性測定 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0145]水素生成セル用アナターゼ型TiO2膜上へのRh担持 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0146]農業環境及び農作物におけるPFASsの影響評価 		F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0147]微小部蛍光X線分析装置によるCu膜の膜厚測定 		F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0148]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0149]ダイヤモンドデバイスの開発 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0150]CNT赤外線センサーのレジストパターン作製 		F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0151]特殊樹脂膜のドライエッチングによる微細パターン形状の加工 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0152]スイッチング層におけるReRAM特性の膜依存 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0153]β-Ga2O3　MOSダイオードの容量-電圧特性評価 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0154]トレンチパターン幅の調整 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0155]AlNスパッタ成膜 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0156]SiO2ガラスの変形挙動研究のためのマイクロピラー作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0158]ポジトロニウム生成のための極微細キャビティ反応器の作製 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0159]WS2上の酸化亜鉛薄膜の原子層堆積成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0160]Nb表面酸化層の観察 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0161]感光性樹脂の解像性評価 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0162]MOCVDで成膜されたAlN膜のドライエッチング 		F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0163]導電性高分子の電気抵抗測定 		F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-20-AT-0164]電子ビーム露光による微細パターンの形成・電子線描画実習 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0001]Dimension Icon装置を利用した分解能、フォースカーブなどの測定　機器特性の確認 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0002]セルロースナノクリスタルを用いた紙基板導電配線技術の開発 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0003]シリサイド半導体接合界面の状態観察 		F-BA-094 FIB-SEM
F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0004]デバイスシミュレータを利用した赤外受光センサ開発 		F-BA-091 デバイスシミュレータ
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0005]FIB装置を利用した電気抵抗測定用微細サンプルの作製 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0006]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0007]MIMダイオードの開発と無線電力伝送への応用 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0008]各種液剤の微細塗布の検証 		F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0009]パターン投影リソグラフィーシステムを利用した強磁性材料の単一ドメイン評価 		F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0010]Tiターゲットを用いたDCスパッタリング装置によるTiN薄膜の作製 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-105 触針式表面形状測定器
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0011]Heプラズマに曝されたW表面及び断面観察 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0012]銀ナノワイヤーの新規合成手法の開発 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0013]AFM測定によるPFAチューブ内表面の観察 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0014]ナノスケール加工に向けた電子線露光実習（実践セミナー） 		F-BA-097 電子線描画装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-20-BA-0015]ダイシングマシンを利用した半導体デバイスの作製 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0001]マイクロ加工技術を利用した培養細胞間の相互作用に関する研究 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0002]微細加工技術による機能性材料の物性に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0003]金ナノシートの形成プロセスの検討 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0004]尖塔構造を持つエミッタアレイと引き出し電極の作製 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0005]温度センサ・マイクロヒーターを有する電気浸透流マイクロポンプチップの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0006]一分子検出に基づくDNA 消化酵素評価法 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-145 SEM
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0007]一軸圧縮ひずみGe-on-Insulator pチャネルMOSFET 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0008]FIB によるLSI の設計ミスの修正 		F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0009]0.8 μm CMOSプロセスを用いたMEMS加速度センサ 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0010]マイクロフルイディクスの石英基板のダイシング 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0011]AlGaAs リッジ上の露光アシスト・セルフアライメントによるレジストパターニング 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0012]単層CNTの成長制御効果の同位体ラベル法による分析 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0013]MEMS の試作 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0014]酸化物半導体へのショットキー接合形成プロセス検討 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0015]スパッタリングによる薄膜積層 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0016]電気化学インピーダンス計測のための電極形成プロセス検討 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0017]アモルファスカーボン膜の除去処理検討 		F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0018]バイオアッセイへの応用に向けたシリコン製マイクロ流体デバイスの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0019]高効率輻射光源の製作 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0020]新規開発薄膜のドライエッチレート評価及び電子線描画によるリフトオフレジスト形成 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-152 枚葉式ZEP520自動現像装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0021]シリコンプラットフォームを用いた光集積回路 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0022]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0023]赤外線連続照射による気液界面での分子内振動の緩和と溶剤乾燥に効果的な吸収帯の解明 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0024]エッチングによるマイクロレンズ構造の形成 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0025]絶縁基板上へのMoS2 環境発電デバイス作製 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0026]ナノ粒子計測のためのナノ構造形成とデバイス作製 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-145 SEM
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0027]大面積レーザーアレイのためのペロブスカイト自己集合リソグラフィの研究 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0028]Pt/Y3Fe5O12 ヘテロ構造におけるスピン波伝搬の電流制御 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0029]Siウェハのステルスダイシング 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0030]ＭＥＭＳ振動発電を用いたパーペチュアル・エレクトロニクス 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0031]ＭＥＭＳ波長可変光源 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0032]量子センシングのためのマイクロ波アンテナの作製 		F-UT-142 NCプリント基板加工装置
F-UT-153 精密二次元NC加工装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0033]ダイヤモンドの表面洗浄と試料への接着 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-138 高速ランプアニール装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0034]プラズモニックキラルナノ構造の作製 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0035]Siペレットのダイシング 		F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0036]可変3DキラルTHzメタマテリアルのための機械的変形方法の研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-147 パリレンコーター
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0037]Siウエハ上におけるL&S構造の形成 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0038]ガラスエッチング用保護膜の開発 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0039]ガスセンシングデバイスの作製 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0040]Si深堀エッチング用保護膜の開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0041]微細加工技術の開発 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0042]ガリウム砒素融着SOI基板のレーザーダイシング 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0043]新規固体熱工学材料のナノスケール熱伝導測定 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0044]マイクロデバイスを用いたナノ構造材料の階層的熱伝導測定 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0045]メタルマスクとICP-RIEによるナノホール構造を有した石英モールドの製作 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0046]マイクロ・ナノ流体デバイスの開発と化学・バイオへの応用 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0047]空間周波数分解シュリーレン装置用空間バンドパス・ハイパスフィルタの作成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0048]火山噴出物シラスを原料とする親水性薄膜の形成 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0049]NMOSまたはPMOSのみのリングオシレータを搭載した集積回路の配線修正 		F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0050]経年劣化を抑制するスターブ型リングオシレータを搭載した集積回路の配線修正 		F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0051]sapphire基板への微細凹凸加工 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0052]ナノビーム共振器中の架橋カーボンナノチューブにおけるPurcell効果 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0053]カーボンナノチューブの決定論的配置によるナノデバイス作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0054]架橋カーボンナノチューブ発光ダイオード 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0055]Substrate effects on molecular adsorption onto individual carbon nanotubes 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0056]Hexagonal boron nitride as an ideal substrate for carbon nanotube photonics 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0057]単層架橋カーボンナノチューブに対するアリルハライドを用いた気相機能化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0058]導波路結合型カーボンナノチューブ光源 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-162 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0059]Directional exciton diffusion in pentacene-decorated carbon nanotubes 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0060]Porous carbon nanowire array for surface-enhanced Raman spectroscopy 		F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0061]単層カーボンナノチューブの電気伝導特性評価 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0062]孤立単層カーボンナノチューブのオンチップイメージングおよび分光 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0063]Device applications of 1D hetero-nanotubes 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0064]単層カーボンナノチューブの電気伝導計測へ向けたデバイス作製 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0065]ヘテロナノチューブの元素分析と電気伝導特性評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-150 オージェ分光分析装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0066]アモルファスSiサブマイクロ構造のパターン試作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0067]アクア・プラズマ表面改質装置を用いたデバイス基板とダイヤモンド放熱基板の直接接合 		F-UT-164 プラズマ表面改質装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0068]金回折格子型プラズモンを利用した超小型分光器の研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0069]シリコン上のナノホールアレイを用いた背面照射型赤外検知法 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0070]送受相補型PMUTによる超音波プローブの試作 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0071]単一分子薄膜電極準備 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0072]光学測定用超伝導体薄膜に大電流を注入するためのプリント基板の作製 		F-UT-142 NCプリント基板加工装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0073]静電モータで駆動するマイクロロボットの作製に関する試行利用 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0074]生体調和型有機・バイオMEMSデバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0075]静電回転ステージ製作のための反応性イオンエッチング装置の利用 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0076]可変焦点メタレンズ製作のための電子線描画装置および反応性イオンエッチング装置の利用 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0077]イットリア安定化ジルコニアの単一粒界におけるイオン伝導特性の計測 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0078]可視光領域におけるシリコンナノ柱を用いた誘電体メタサーフェスホログラムの開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0079]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0080]非晶質複合アニオン酸化物薄膜をチャネル層に用いた薄膜トランジスタの開発 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0081]THz導波路における伝搬損失のコーティング金属膜厚依存性 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0082]超高アスペクト比トレンチ構造の作製とトレンチ内製膜 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0083]自動成膜・評価・ベイズ最適化の全自動サイクルによる高Liイオン伝導薄膜の探索 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0084]トップダウン加工によるナノ流体デバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0085]濡れ性微細パターン表面におけるインク脱濡れの解析 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-147 パリレンコーター
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0086]蒸発界面を保持するためのナノ細孔アレイの作製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-108 精密研磨装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0087]近接場光精密研磨 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-165 小型原子間力顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0088]金ナノ構造からの電子放出を用いた光電場計測素子の開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-142 NCプリント基板加工装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0089]Vibrational strong coupling in a plasmonic nanogap patch antenna cavity 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0090]水晶振動子を用いたワイドレンジ荷重センサの応用 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0091]グラフェンを用いたシリコンフォトニクス研究 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-145 SEM
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0092]ナノフルイディクスのためのナノ・マイクロチャネル製作 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-148 ニッケルメッキ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0093]亜鉛空気電池における亜鉛電極形状の劣化に与える影響の検証 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-129 精密フリップチップボンダー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0094]Development of Rotational Electret Energy Harvester with Synchronous Circuits 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0095]Development of Push-button Energy Harvester with Soft Piezoelectret 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0096]Development of Liquid-crystal-enhanced Electret Vibration Energy Harvester 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0097]Study on VOC Sensing Properties of Parylene E 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0098]グラフェン・ナノスケール・デバイス作製に向けたSiO2薄膜の微細加工 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0099]表面弾性波による微量液滴撹拌技術とバイオエレクトロニクスの融合プロジェクト 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-158 UVオゾンクリーナー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0100]真空紫外光発生用誘電体ナノメンブレンの作製 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0101]人工ナノ構造を用いた集光素子の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0102]超短周期透過型回折格子の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0103]高効率ホログラムのための電子線描画装置利用 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0104]電子ビーム描画及び深掘りエッチング装置を用いたメタレンズの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0105]可変焦点メタレンズの研究 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0106]電子線描画装置を利用したアキシコンメタレンズ製作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0107]ステルスダイサーのトレーニング 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0108]マイクロポンプ用フォトマスクの作製、SU-8エポキシ樹脂パターンの形成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0109]微細構造を有する中性子遮蔽体の開発 		F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-129 精密フリップチップボンダー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0110]光音響高速イメージングに向けた微細細胞コンテナの作製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0111]テラヘルツ導波管変換器の試作 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0112]生体分子の高感度センシングを目的とした光学基板の創製 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0113]MSCから骨芽細胞への分化制御のためのサブミクロン表面微細構造の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0114]Testing of photonic integrated circuits for OFDR-based sensing system 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0115]超撥水機能を備えた反射防止膜 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0116]電子線描画装置を使用した薄水晶ウェハへのAu電極パターニング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0117]エッチングによる微細加工検討とレーザー顕微鏡を用いた平坦性評価 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0118]テラヘルツ電場誘起電子トンネリング計測用金属ナノギャップデバイスの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0119]ルナドリームカプセルプロジェクト(LDCP)：電子線リソグラフィによる衛星搭載向けシリコン チップの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0120]新規ポリマー薄膜の表面解析 		F-UT-165 小型原子間力顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0121]メタサーフェス型宇宙機用ラジエータの開発 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0122]偏光子集積フォトディテクタに向けた金格子の作製 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0123]線虫の塩走性における感覚・運動情報の統合メカニズムの解明 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0124]流量センサのための石英基板への電極構造の形成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0125]電界放出源の高出力化の研究 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0126]半導体光制御素子の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0127]SnO2ガスセンサデバイスの作製 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0128]DRIEを利用した静電アクチュエータの作製 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0129]超音波振動子と対向面によるポンプにおけるギャップ内圧力測定用センサの開発 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0130]ゼロコンプライアンス式微小力測定装置の開発 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0131]フォトマスク描画 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0132]フレキシブルなMEMS流量センサの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0133]Si 深溝Pattern 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0134]Fabrication of mechanically strong structured superhydrophobic surface using Diamond Like Carbon (DLC) 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0135]M/S/M共振器熱光起電力電池の製作および発電特性に関する研究 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-134 ベルジャー蒸着装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0136]金ナノ粒子7量体をアレイ型配置した近赤外共振器の設計と作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0137]SOIウェハの深掘エッチングによる宙吊り構造の作製 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0138]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0139]金属-絶縁体-金属構造放射体に関する研究 		F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0140]SiC基板上における2次元構造の成長 		F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0141]反磁性体を用いた微細反転素子の形成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0142]超伝導転移端センサ型光子数識別器の開発 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0143]X線画像を用いた画像処理計測による電子パッケージ中のひずみ・応力評価手法の開発 		F-UT-135 金メッキ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0144]磁性体薄膜を用いたマイクロメートル幅細線の形成 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0145]磁気光学効果の飛躍的増大を目指した微細構造の精密制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0146]ガラス製ナノ流路の作製と観察 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0147]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発 		F-UT-127 エポキシダイボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0148]X線自由電子レーザーによるコヒーレント回折イメージングのための 新規マイクロ流路デバイス構造の作製と評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-152 枚葉式ZEP520自動現像装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0149]高速アニールによるシリコンカーバイド膜表面変化 		F-UT-138 高速ランプアニール装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0150]光非相反位相効果の評価用シリコン導波路の検討 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0151]テラヘルツ波伝送デバイスの作製 		F-UT-168 UVレーザープリント基板加工装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0152]常温接合に関する研究 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0153]シリコン深掘エッチングの品質向上 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0154]膜面展開構造物のヘルスモニタリング向けフレキシブルワイヤレスセンサの実現 		F-UT-129 精密フリップチップボンダー
F-UT-128 セミオートボールボンダー
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0155]ナノインプリント金型洗浄 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0156]塗布成膜有機/無機半導体の構造解析 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0157]３D リソグラフィ法により作製した凹凸界面構造を有するトライボ発電デバイス 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0158]熱流入メカニズムに基づく高効率ドライ歯車研削の実現 		F-UT-147 パリレンコーター
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0159]SiベースSpin機能デバイスの研究開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0160]スピンデバイスの作製と評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0161]InAs/(Ga,Fe)Sbの磁気伝導現象特性評価 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0162]スピンバルブ素子の作製及び特性評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0163]横型ジョセフソン接合の作製と評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-20-UT-0164]GaMnAs単層におけるスピン軌道トルク磁化反転の電界制御 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0003]Cr/Au薄膜の形成 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0004]熱酸化法による CuO ナノワイヤ生成における 剥離強度特性に及ぼす Cu 基板表面粗さの影響 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0007]酸化重合によるポリ(フェニレンスルフィド)誘導体の合成と機能性ハイブリッド材料への応 用 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0010]含硫黄芳香族系ポリマーと無機微粒子とのハイブリッド化による高屈折率材料の創製 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0012]純水中の微量金属分析 		F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0013]ストレッチャブル液体 OLEDs の実現に向けた基礎研究 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0016]GaN 系デバイスの信頼性評価 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0018]ダイヤモンドジョセフソン接合の微細化 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0032]酸化重合による芳香族ポリチオエーテルの合成および光学特性 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0036]スーパーキャパシタ電極への適用に向けた，熱酸化法による CuO ナノワイヤの生成 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0037]：ダイヤモンド電解質溶液ゲート FET を用いた海中無線通信の動作検証 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0039]窒素 高濃度 N 型 ダイヤモンド の 作製 および 評価 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0048]伸縮可能な MEMS デバイスシート 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0056]自己組織化単分子膜の状態の評価 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0059]電界効果トランジスタのバイオセンサ機能化のための親水化処理及び半導体特性の測定 		F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0060]電解析出による BiSbTe 系熱電変換デバイスの作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-127 簡易SEM
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0063]電界効果トランジスタのバイオセンサ機能化のための親水化処理及び半導体特性の測定 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0070]リチウム金属負極を用いた電池の特性向上に向けた表面形態観察 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0071]リチウムナフタレニドによる硫黄のケミカルリチエーションを利用して作製した Li2S 正極の 観察 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0072]FET バイオセンサの作製 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0073]FET バイオセンサの作製 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0079]端効果に着目したリチウムイオン二次電池電極の表面形態観察 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0080]リチウムイオン電池及びリチウムイオンキャパシタ用負極材料の評価 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0083]ダイヤモンドを用いた電解質溶液ゲート FET(SGFET)による海中通信 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0088]高温で低いサブスレッショルドスイングを実現する C-Si ダイヤモンド MOSFET 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0090]超短周期透過型回折格子の作製 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0091]次世代 5G 通信用 SAW デバイス作製技術の研究 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-136 接合装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0094]蛍光ナノダイヤモンドの観察 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0096]リソグラフィ及びドライエッチングによるナノピラーパターンの作製 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0099]Si およびダイヤモンド基板表面上への有機シラン単分子膜形成 		F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0110]エルビウム添加シリコンナノピラー構造の作製とフォトルミネッセンス評価 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0112]Ｓｉ ナノピラ ー 構造 の 作製 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0117]混相流マイクロチャンネルの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0120]自己修復性層状シロキサン材料の機械的特性の向上 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0121]アルコール分析に用いる吸着シートの表面処理 		F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0122] 生体模倣した培養口腔粘膜作成用に化学架橋を用いてマイクロパターン化したコラーゲ ン足場材の作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0123]アガロースドロップレットを用いた単一細胞解析マイクロ流体デバイスの検討 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0124]圧電フィルムへの電極成膜 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0125]ピラーデバイスを用いた触媒反応の検討 		F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0126]自然由来の木質系活性炭素材料を使用した湿度吸着度検知デバイスの開発及び表面改 質の影響 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0131]電界効果トランジスタのバイオセンサ機能化のための親水化処理及び半導体特性の測定 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0133]電流印加による純銅の疲労特性の向上とそのメカニズムの解明 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0136]薄膜ヒーターの作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0137]原子層体積装置を用いて、異なる表面に白金を薄膜に成膜する研究 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-136 接合装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0139]超伝導遷移端型 X 線マイクロカロリメータで拓く新しい太陽アクシオン探査 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0143]膜微細構造の評価 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0145]ABS 構造物のめっき処理の観察と評価 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0147]シリコンフォトニックバイオセンサの構築 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0149]シングルセルレベル観察によって明らかにする硝化菌増殖速度のばらつき 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0150]不均一に出現する抗菌薬抵抗性細菌のメカニズム解明 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-127 簡易SEM
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0151]窒素終端ダイヤモンドから作製した配向 NV アンサンブル 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0152]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子 、 熱電デバイスおよび神経細胞回路の研究 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0154]Ni 薄膜形成とイオンエッチング 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0156]N i 薄膜 の 形成 S F 6 を 用いた ドライエッチング 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0175]ナノ光ファイバー共振器形成のための位相回折格子の作製 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0178]薄膜物性評価装置による鉄酸化物粒子の付着力測定 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0185]ABS 表面へのめっきの生成と評価 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0187]溶接構造用圧延鋼材の疲労き裂治癒に及ぼす高密度パルス電流印加の影響 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0189]水電解反応用触媒電極の形成と反応機構解析 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0190]ラマン分光法による炭素極劣化の解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0192]X 線吸収体のパターニング Fe 電析 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0193]無電解法 HER 触媒形成 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0194]Zn 負極における電析初期形成過程に対する金属添加剤の影響の解析 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0199]亜鉛-空気電池炭素正極の劣化現象の解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0202]有機溶媒からの電解析出法による Si 薄膜の作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0204]Zn電析 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0205]プラズモンセンサ実装電解セルによる LIB 負極上溶媒種分解の in situ SERS 解析の試 み 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0206]電析による酸素発生反応用触媒電極の形成 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-127 簡易SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0207]ジンケートイオンの拡散が ZnO の形態に与える影響の解析 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0208]表面増強ラマン散乱を用いた LIB 負極上での SEI 形成の解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0209]イオン液体を用いた電析 Si 薄膜の作製 		F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0210]有機溶媒からの電解析出法による Si 薄膜の作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0211]ラマン分光法を用いた亜鉛空気二次電池の空気極劣化メカニズムの解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0213]非磁性 ZnO ナノ粒子へのスピン導入の試み 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0214]サリチリデンアニリン多形結晶による多様なメカニカル運動の創出 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0218]ボロンを堆積させた FET の作製 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0223]延長ゲート型 FET バイオセンサのためのシリコン基板処理 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0224]ALD 装置での TiO2膜の成膜レシピ開発 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0225]フレキシブル木質系炭素フィルムを用いた界面動電現象による環境発電デバイスの開発 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0226]液体有機半導体を用いた色鮮やかな発光素子の開発 		F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0227]水溶液中での有機半導体の電界駆動に関する研究 		F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0230]シリコン終端を用いたダイヤモンド MOSFET の研究 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0232]インプラント上における細胞成長機構解析に向けた Ti 膜の作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0233]さまざまな構成での高感度でコンパクトなブラッググレーティング 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-20-WS-0234]Pt 電極の 作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0001]準ミリ波帯で動作する窒化物半導体トランジスタ増幅器の高耐圧・高出力化に関する研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0002]磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0003]量子ホール Y 接合における量子化された電荷分数化現象 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0004]InP:Si 埋め込みの試作 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0005]プラズモン増強蛍光の STEM-CL マッピング 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0006]AlGaAs 系半導体積層膜の劈開プロセス開発 		F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0007]液中分散非球形粒子の分離用マイクロ流路デバイスの開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0008]SiC 上エピタキシャルグラフェンの超伝導化 		F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0009]Evaluation of Spin Polarization of Half-metallic Full-Heusler Alloy Thin Films with Superconductor 		F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0010]マイクロヒーターの作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0011]高精度細胞マニピュレーションのためのマイクロ流路デバイスの設計開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0012]Au 平板上における SiO2薄膜の形成 		F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0013]学部学生実験 MOS 集積回路作製 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0014]低環境負荷プロセスで作製したセラミックス材料のマイクロ構造観察 		F-IT-135 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0015]BiSb トポロジカル絶縁体を用いたスピン軌道トルク磁気抵抗メモリ 		F-IT-127 コンタクト光学露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0016]YPt 合金のスピンホール効果に関する研究 		F-IT-127 コンタクト光学露光装置
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0017]窒化シリコンメンブレン両面に正方形金属チップを配置した高屈折率低反射メタサーフェ スの電子ビーム露光による作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0018]オンチップマイクロミキサの開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0020]CVD 法により合成したダイヤモンドの評価 		F-IT-161 共焦点ラマン顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0021]Atomic Layer Deposition（ALD）による SiO2 成膜 		F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0022]GaN FinFET 製作のためのゲート絶縁膜堆積 		F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0023]バレープラズモニック結晶のバンド構造解析とエッジモードの観察 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0024]GaAs 上リフトオフプロセスにおける電子ビーム露光近接効果補正 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0025]ガラス上アンテナ作製 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0026]複雑な形状を有するマイクロ流路の製作 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0027]プラズモニックカラーフィルタの開発 		F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0028]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0029]磁壁移動観察のためのデバイスの試作 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-20-IT-0030]貴金属触媒エッチングを用いた縦型薄膜トランジスタの作製 		F-IT-133 プラズマCVD 装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0001]ナノオーダーの周期構造を用いた光学素子作製に関する研究 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0002]半導体フォトカソードへの微細加工に関する研究 		F-NU-167 ICPエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0003]スパッタ絶縁膜作製装置によるAlN, Al2O3成膜の検討 		F-NU-166 スパッタ絶縁膜作製装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0005]Si-Ge-Sn系薄膜熱電材料および素子の創製 		F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0006]非反転対称性磁性体の作製と新規スピン光機能の探索 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0007]マイクロレンズアレイ遮光膜の作成 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0008]ナノバイオデバイスの開発 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0009]アクリル樹脂基材上へのSiO2膜作製検討 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0010]GaNのスパッタリング成膜及びプラズマエッチング手法の開発 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0011]X線を用いた神経操作法の開発 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0012]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-187 ナノインプリント装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0013]Fabrication of micron Light Emitting Diode 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0014]窒化物半導体可視光センサの開発に関する研究 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0015]超小型速度・濃度計測用プローブの開発 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0016]細胞培養マイクロデバイスの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0017]トンネル接合の作製およびトポロジカル物質の評価 		F-NU-224 マスクレス露光装置
F-NU-225 原子層体積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0018]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0019]極薄酸化膜上への高密度ナノドットの一括形成と化学構造評価 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0020]Cs-K-SbによるGaAsのNEA活性化 		F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0021]高純度同位体シリコンエピ基板上の量子デバイス作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-225 原子層体積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0022]カーボンナノチューブスタンプの開発と応用 		F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0023]新規表面活性化接合の開発 		F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0024]超高速オンチップ細胞操作技術のためのロボット統合型マイクロ流体チップに関する研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0025]円筒形状を有する単一FeNiナノ磁性細線の構造と異方性磁気抵抗効果の相関解明 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0026]ニュートラル窒化処理を施したSUS304のX線回折パターンの測定 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0027]ペロブスカイト太陽電池の薄膜構造解析 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0028]フォトニックデバイスに関する研究 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0029]シリコン基板上における周期的金ナノ構造の作製と表面増強赤外分光法への応用 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0030]光共振器導入による高分子及び原子層レーザー素子の作製 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0031]Unidirectional thermal conductivity enhancement in yttrium iron garnet due to the effect of spin waves 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0032]ウェアラブル機器搭載を見据えた超薄型熱輸送デバイスの開発研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0033]Fabrication and evaluation of InAlN/GaN MIS-HEMTs 		F-NU-208 プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0034]コンビナトリアル手法による軟磁性合金の組織傾斜材料の作製とその測定 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0035]新規窒素含有ナノ炭素材料の合成 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0036]スピンペルチェ効果の原理解明に向けた高速熱特性計測 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0037]高効率緑色LEDに関する研究 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0038]AZO膜を用いたLow-Eガラスの日射熱取得率に関する研究 		F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0039]全血対応が可能な細胞分取装置による癌モニタリング 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0040]教育・評価のための眼科手術用リアル患者シミュレータの開発 		F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0041]オンチップ時空間制御による光合成細胞の環境応答機能の解明 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0042]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発 		F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0043]次世代材料のプラズマエッチングの開発 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-223 ラジカル注入型プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0044]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0045]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0046]高密度ラジカル源の機能性・信頼性に関わる要素技術開発及び評価 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0047]ナノグラフェンの研究 		F-NU-208 プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0048]各種材料の反応性プラズマのエッチング特性 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0049]次世代ドライエッチング技術の開発 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0050]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0051]プラズマ中の現状ラジカル解析 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0052]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析 		F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0053]セラミックスナノコンポジット極小曲面の形成 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
F-NU-226 蛍光りん光分光光度計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0054]光応答性ブロック共重合体ナノ構造の配向制御と応用 		F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0055]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0056]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0057]イオン照射による多層薄膜の損傷調査 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0058]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0059]プラズマ合成した金属ナノ粒子を含有する複合高分子ファイバーの静電紡糸法による合成 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0060]歯の迅速結晶化 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0061]a-C PECVD膜の成膜過程および膜質決定メカニズム解明 		F-NU-223 ラジカル注入型プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0062]半導体電極開発 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0063]アルミニウム微細加工表面に対するレーザーアブレーション力積方向特性の調査 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0064]AFMおよびイオン電流計測の統合に基づく創薬標的イオンチャネル解析システムの開拓 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0065]大同オリジナルターゲットを用いた薄膜のエッチング性評価 		F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0066]飛翔体搭載用光学素子開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0067]細胞および生体モデルを対象とした医療機器開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0068]スパッタ洗浄による透過型LaB6光電面の量子効率の回復 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0069]遷移金属チオハライド層状結晶の新奇二次元物質の構造決定 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0070]BiドープSiにおけるスピンホール効果の光学的観測 		F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0072]半導体プロセス技術を活用した全固体電池の開発 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0073]眼科モデルの開発 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0074]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作 		F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0075]B4C/SiCコンポジットセラミックスのトライボロジー特性 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0076]有機電子材料・ナノカーボン物質・強相関電子材料における新しい光・電子応答現象の探索 		F-NU-170 段差計
F-NU-226 蛍光りん光分光光度計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0077]X線回折によるアルミナ担持白金ｰスズナノ粒子の構造解析 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0078]グラフェン-基板界面構造の解析 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0079]半導体基板のアニール処理 		F-NU-151 電気炉
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0080]石炭熱分解時化学構造変化の解明 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0081]セラミックス微粒子で修飾された無機基材表面の微構造評価 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0082]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価 		F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0083]線虫の走化性を利用したチャネル作製 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0084]フェリ磁性体を用いた新規スピンデバイス 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0085]光電子分光を用いた有機エネルギー変換材料の電子状態解析 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-20-NU-0086]複合酸化物の成膜 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0001]水溶性ポリマーを用いた微細加工応用の高度化 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0002]磁性膜を利用したグアニン結晶の磁気アシスト法に関する研究 		F-TT-223 多機能薄膜作製装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0003]微細加工技術による立体サンプルの製作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0005]マイクロコイルの試作検討 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0006]ポリカーボネートへの成膜とパターニング加工 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0007]液体分析用センサ電極形成のための金属成膜 		F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0008]ナノカーボンの構造評価 		(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0009]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0010]カーボンナノチューブ成長基板上へのアルミナバッファー層の形成 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0011]GaN などの化合物半導体デバイスの研究開発 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0013]ナノカーボン材料を用いたバイオセンサーのための分子系の開発 		(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0014]三次元微細加工に関する器具・設備類の開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0015]反強磁性結合構造をもつ多層膜細線の磁壁構造に関する調査 		F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0016]インプラント型デバイスのための最小スペース微細配線技術 		F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0017]ターゲットを利用して作成した膜のエッチング試験 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0018]結晶系シリコン太陽電池への拡散ペーストの適合性評価 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0019]細胞培養に適した微細構造を持つSi基板の作製 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0020]スチール缶再加工の質向上にむけた天板切断面の観察 		F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0021]鏡面鋼材への微細構造の加工 		F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0022]MgZnO のALD 成膜 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0023]切削加工面性状の定量的評価 		F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0024]ホイスラー合金/半導体構造におけるスピン注入現象の観測 		F-TT-233 イオンミリング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0025]アミドアルコール誘導体を利用したW/O型乳化物の相同定 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0026]単結晶シリコンの疲労過程における結晶すべり進展の動的その場観察 		F-TT-211 ダイシング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0027]スピントロニクスにおける次世代デバイスの開発 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0028]電流駆動磁壁移動を利用した全個体メモリに関する研究 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0029]プラズマプリンティングの微細化 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-233 イオンミリング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0030]GaNウエハ上へのALDによるSiO2形成 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0031]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製② 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0032]フォトレジスト材の検討 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-20-TT-0033]天文学観測用Volume binary (VB) gratingの製作法の開発II 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0001]窒化物半導体のデバイス作製 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0002]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0003]窒化ケイ素セラミックスの抗菌活効果と骨伝導効果の評価 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0004]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0005]縮環型アゾベンゼンホウ素錯体を用いた非対称湾曲共役系高分子の薄膜状態の調査 		F-KT-274 X線回折装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0006]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0007]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0008]半導体異種材料接合の研究 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-20-KT-0009]運動による細胞集団相分離メカニズムの階層横断的理解 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-20-KT-0010]MEMSアレイセンサを用いた乱流熱伝達の評価手法に関する研究 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0011]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0012]親水疎水細密パターニング 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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[F-20-KT-0013]ナノインデンターによるＳｉフォノニック結晶の機械的特性評価 		F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0014]臨床検査デバイスの開発 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-20-KT-0015]圧電デバイスの作製と評価 		F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-20-KT-0016]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-20-KT-0017]MEMSセンサの開発 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-20-KT-0018]ボールボンディングによるMEMSデバイスの電気的接続 		F-KT-262 ボールワイヤボンダ
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[F-20-KT-0019]セラミックス薄膜被覆金属基板の疲労寿命特性に関する研究 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0020]祖先型パルマ藻の性状解析 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0021]RF-MEMSデバイスの研究 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0022]加工面の表面性状に基づく官能評価指標の定量化 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-20-KT-0023]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析 		F-KT-274 X線回折装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0024]MEMS・マイクロ流路一体化デバイスの開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
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[F-20-KT-0025]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究 		F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0026]高分子材料の表面形状観察 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-20-KT-0027]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0028]ナノフォーム 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-20-KT-0029]微細構造面における伝熱に関する研究 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0030]：テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-20-KT-0031]YIG リング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-20-KT-0032]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0033]：量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-20-KT-0034]バイオマス由来微粒子の特性分析 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-20-KT-0035]新聴覚デバイス作製 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-20-KT-0036]センシング応用に向けた光集積技術開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0037]DOE（回折光学素子）の試作検討 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-20-KT-0038]光学素子の開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-20-KT-0039]コンポジット材料界面の分析技術開発 		F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-20-KT-0040]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0041]シリコン基板のエッチング加工検証 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-20-KT-0042]半導体プロセス基礎実験 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-20-KT-0043]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究 		F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-20-KT-0044]シリコンウエハへの貫通孔形成 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0045]プラズマインジケータの研究開発 		F-KT-299 ICP-RIE装置
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[F-20-KT-0046]半導体レーザーを用いたSi単結晶帯形成アニール装置の開発 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0047]フレキシブルデバイス表面の保護膜形成技術に関する研究 		F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-20-KT-0048]ウエハダイシング 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-20-KT-0049]蛍光偏光法を用いたジェル型温度センサの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-20-KT-0050]微小電極アレイを搭載したボディ・オン・チップの作製プロセス 		F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0051]ナノインプリントを用いた蛍光材料の高性能化 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0052]無機有機ペロブスカイト膜の構造評価 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-20-KT-0053]二次元炭素材料の電気伝導特性解析 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-20-KT-0054]マイクロ流路デバイスを用いたセルロースナノクリスタルの調製・精製・ファイバー形成2　　 		F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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[F-20-KT-0055]X線1分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0056]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性変化および誘電率変化の研究 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-20-KT-0057]光トラップ中における単一原子の高分解能顕微鏡観測 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
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[F-20-KT-0058]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-20-KT-0059]表面及び内部に微構造を形成したガラスの形態観察 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0060]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0061]ボールボンディングによるMEMSデバイスの電気的接続 		F-KT-262 ボールワイヤボンダ
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[F-20-KT-0062]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0063]超高エネルギー密度，本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-20-KT-0064]表面プラズモン共鳴を利用した高周波超音波センサの開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0065]DNAカーテン法を用いてDNA上のタンパク質の動態を明らかにする 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0066]プラズマ照射によるSi系材料の電気伝導特性及び光学特性の変化に関する研究 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-299 ICP-RIE装置
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[F-20-KT-0067]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-20-KT-0068]MEMS デバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0069]運動による細胞集団相分離メカニズムの階層横断的理解 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
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[F-20-KT-0070]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0071]加工面の表面性状に基づく官能評価指標の定量化 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0072]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0073]高分子材料の表面形状観察 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0074]半導体異種材料接合の研究 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-20-KT-0075]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-20-KT-0076]ナノフォーム 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-20-KT-0077]YIGリング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0078]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0079]テラヘルツ反射ミラーの作製 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0080]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-20-KT-0081]テラヘルツ波偏光の高効率制御を可能にする反射型メタマテリアルの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0082]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用 		F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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[F-20-KT-0083]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-20-KT-0084]ガリウム及びインジウム化合物による細胞鉄恒常性の破綻と肺障害発生に関する研究 		F-KT-235 ICP質量分析装置
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[F-20-KT-0085]グレースケールマスクを使用したシリコンエッチング 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-20-KT-0086]Si基板上へのSiC成膜 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-20-KT-0087]細胞の機能解析 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-20-KT-0088]グレイスケール露光を利用した光学デバイス用電鋳モールド作成技術の開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0089]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-20-KT-0090]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
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[F-20-KT-0091]CUPAL(Nanotec Career-up Alliance) 圧電デバイスコース2020年 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-306 強誘電体特性評価システム
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[F-20-KT-0092]マイクロ流路デバイス作製実習2020 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-20-KT-0093]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0094]フォトリソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とMEMSプロセス開発 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0095]微細穴構造の製造技術 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0096]DOE（回折光学素子)の試作検討 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0097]CUPAL　EB入門コース 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0098]CUPAL EB入門コース実習2020年 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0099]ナノ構造による光制御技術2 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0100]ナノインデンターによるＳｉフォノニック結晶の機械的特性評価 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0101]マイクロデバイス成形用樹脂モールドの開発2 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-20-KT-0102]犠牲層エッチングによる薄膜構造形成 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-20-KT-0103]医療用マイクロデバイスのプロセス開発 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0104]ナノインデンターによるＳｉフォノニック結晶の機械的特性評価2 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0105]グレースケール露光によるPDMS製マイクロバルブ／ポンプの作製 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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[F-20-KT-0106]アルカリ金属生成用三次元構造を一括形成したMEMSガスセル 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-20-KT-0107]プラズマ暴露による機能性材料の粘弾性特性および電気特性変化の研究 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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[F-20-KT-0108]低損失微小共振器の作製 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-20-KT-0109]低損失微小共振器の作製(2) 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0110]セラミックス薄膜被覆金属基板の疲労寿命特性に関する研究 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-20-KT-0111]プラズモニック金ナノ構造集積MEMS共振器の作製と応用 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-20-KT-0112]人口減少社会へむけた上水道システムの持続的再構築に関する総合研究2 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-20-KT-0113]MEMSアレイセンサを用いた乱流熱伝達の評価手法に関する研究 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-20-KT-0114]神経ネットワーク形成デバイスの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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[F-20-KT-0115]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認（2） 		F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-20-KT-0116]レーザー描画による厚膜レジストパターン形成 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
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[F-20-KT-0117]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証（１） 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0118]ポーラスシリコンへの金属めっき 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-20-KT-0119]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-20-KT-0120]圧電デバイスの作製と評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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[F-20-KT-0121]MEMSガスセンサの開発 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0122]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-20-KT-0123]Deep-RIEとダイシングの検証 		F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-20-KT-0124]マイクロ流路デバイス作製実習2020 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-20-KT-0125]半導体および絶縁体のナノ構造評価 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-20-KT-0126]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0127]チップTSV 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0128]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造(2) 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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[F-20-KT-0129]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0130]チップTSV(3) 		F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-20-KT-0131]新方式アルミ製放熱材（メタマテリアル放熱材）の量産技術開発 		F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0132]ミストCVD法を⽤いて形成した⾦属酸化物の新規応⽤展開 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0133]ウエハダイシング(2) 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-20-KT-0134]チップTSV (1) 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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[F-20-KT-0135]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0136]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発(2) 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-20-KT-0137]グレイスケール露光のための形状補正ソフトウエアの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-20-KT-0138]半導体用コーティング材料の開発 		F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0139]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-20-KT-0140]医療用マイクロデバイスのプロセス開発 		F-KT-253 基板接合装置
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[F-20-KT-0141]コンポジット材料界面の分析技術開発 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0142]ダイヤモンド電極パターニング 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-20-KT-0143]ナノスケールの振動子の作製とその電気機械特性 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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[F-20-KT-0144]微小電極アレイを搭載したボディ・オン・チップの作製プロセス 		F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0145]3次元加工性を有するセルロースナノファイバー強化樹脂材料の開発 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
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[F-20-KT-0146]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現(1) 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-20-KT-0147]オルガノイド培養用マイクロ流体デバイス 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-20-KT-0148]微細メッシュ構造基板を用いた細胞接着機能制御 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-20-KT-0149]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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[F-20-KT-0150]表面ナノテクスチャリングの創成による潤滑特性の向上とそのメカニズムの把握 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-20-KT-0151]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証-2 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0152]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証-3 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0153]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発2 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0154]ダイヤモンドデバイスの作製、評価 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0155]メカノバイオロジーを利用した細胞挙動制御法の開発 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0156]熱電子発電のためのへき開面ナノギャップ創製 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0157]ナノ・マイクロ加工技術による細胞機能制御 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0158]シリコンナノ構造を用いた生分解性微小センサの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0159]PDMSとガラスの結合 		F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0160]ダイヤモンドと異種材料の直接接合による高効率デバイスへの応用 		F-KT-299 ICP-RIE装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0161]圧電体による振動発電デバイスの作成 		F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0162]ナノインプリントを用いたナノアンテナシールの開発 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0163]カーボンナノチューブ薄膜の基礎物性評価 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0164]二次元炭素材料の電気伝導特性解析 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-20-KT-0165]金属アレイによるコアーシェル型ナノ粒子のアップコンバージョン増強 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0166]ナノ粒子の表面電荷の解析 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-20-KT-0167]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現2 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0168]ポーラスシリコンへの金属めっき2 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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[F-20-KT-0169]基板上へのAl微細パターンの形成 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0170]スパッタ法による電極薄膜の作製 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
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[F-20-KT-0171]トリチウム増殖材の精密化学分析 		F-KT-235 ICP質量分析装置
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[F-20-KT-0172]酸化ガリウム表面におけるヘテロエピタキシー初期過程の研究 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-20-KT-0173]微小電極アレイを搭載したボディ・オン・チップの作製プロセス2 		F-KT-288 セルテストシステム
F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-20-KT-0174]固体中におけるスピン流輸送現象の解明 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0175]水電解触媒の高性能化に向けた構造解析 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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[F-20-KT-0176]微細構造面における伝熱に関する研究 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0177]X線1分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製2 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0178]動物用心拍数測定デバイスの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-20-KT-0179]生体分子，細胞，組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-20-KT-0180]表面プラズモン共鳴を利用した高周波超音波センサの開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-20-KT-0181]表面及び内部に微細構造を形成したガラスの形態観察 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0182]マイクロ波を用いた有機材料中の電荷・スピン輸送の計測 		F-KT-298 パリレン成膜装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0183]接着接合部における超音波伝搬に対する界面モデリングの検討 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-20-KT-0184]シリコンマイグレーションシール（SMS)ウェハレベルパッケージング 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-20-KT-0185]MEMS真空封止評価技術 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-20-KT-0186]二段電極構造を有するイオン液体エレクトロスプレースラスタの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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[F-20-KT-0187]近位尿細管のオンチップ再構成による臓器機能と腎毒性の評価 		F-KT-226 両面マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0001]主鎖切断型電子線レジストの改良検討 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0002]高結晶性ナノカーボン材料の創成とデバイス応用 		F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0003]光バイオセンサの研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0004]ナノ可視化法の開発による染色体研究 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0005]E B蒸着により作成した銀薄膜におけるエレクトロマイグレーション挙動の研究 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0006]フォトニック結晶レーザの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0007]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0008]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0009]赤血球の変形能の測定 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0010]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0011]電子線リソグラフィにおけるレジストプロセス 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0012]グラフェンデバイスの作製 		(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0013]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0014]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0015]位相差フレネルゾーンプレートの製作 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0016]メタマテリアル構造の観察と評価 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0017]有機半導体中のスピン流計測 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0018]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0019]自立膜を用いた高精度音響減衰測定のためのSi基板エッチング 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0020]赤外メタサーフェス 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0021]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0022]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0023]ワイヤーグリッド型偏光板の作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0024]量子ビーム誘起反応に基づいた微細加工材料の創出 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0025]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0026]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-20-OS-0027]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0028]半導体マイクロ球の内部観察 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
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[F-20-OS-0030]多結晶界面を用いた低熱伝導率酸化亜鉛薄膜の開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0031]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0032]高感度ナノウイルスセンサの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0033]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0036]薄膜の分析 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0037]微細加工技術の援用による固体高分子形燃料電池電極に関する研究 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0038]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製 		F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0039]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0040]二次元結晶膜を用いたナノポアセンシングデバイスの開発 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0041]超伝導ナノデバイスの開発 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0042]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0043]ナノインプリントリソグラフィーを用いたナノフォトニクスデバイス作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0044]細胞毒性分子のリアルタイム計測にむけた原子層デバイスの作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0045]フレキシブルエレクトロニクス実現に資する薄膜デバイス開発 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0046]原子状水素によるドライエッチングの応用に関する研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0047]レジスト材料の感光性試験 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0048]リキッドバイオプシーのための診断技術の開発 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0049]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0050]脂質膜チップの作製とその応用研究 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0051]ナノ・マイクロスケールの構造特性に基づくバイオセンシング基盤に関する研究 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0052]ナノ構造による光制御技術 		(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0053]横型プラズモニックナノポア 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0054]光・電子デバイス応用に向けたガルバニック水中結晶光合成法による表面ナノパターン作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0055]シリコンナノディスクアレイからなる新規メタサーフェスデバイスの開発 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0056]MoS2の架橋構造の作製と光活性化ガス応答の評価 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0057]高感度、超高解像性、低ラフネス性の極端紫外線用レジスト材料の開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0058]反応プラズマエッチングにおけるイオン-固体表面反応解析 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0059]テラヘルツ波偏光の高効率制御を可能にする反射型メタマテリアルのパターニング 		(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0060]金ナノ構造の作製 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0061]ガラス表面への微細加工 		F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0062]電子線描画装置を用いたサブミクロン微細パターンの形成 		F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0063]ウイルス試料観察 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0064]電子顕微鏡観察用MEMSヒータの加工 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0065]ドライエッチングマスク形成 		F-OS-313 マスクアライナー
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0002]SiO2をコアとするチャネル型プラズモニック導波路作製 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0005]超小型赤外分光イメージング装置における干渉鮮明度向上の為の回折格子 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0008]半導体GaAsを用いた強磁性Feパタン埋め込み構造の作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0015]マイクロセンサの製作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-329 電子測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0017]メタマテリアルを含むTHz帯微小共振器の作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0020]医療用センサの製作 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0023]Si のニードル形状加工 		F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0024]半導体の物性評価 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0028]MEMSアクチュエータの研究 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0034]教育用シリコントランジスタの作製及び集積化に関する研究 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0035]選択熱拡散の微細化に関する研究 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0045]構造色変化によるセンシングの研究 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる超硬材料の先鋭化加工 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0057]感水膜パタ－ンの製作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0058]絶縁保護膜の形成 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0059]遺伝子導入に向けた細胞配列用デバイスの開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0069]マイクロリザーバ構造の製作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0071]THz帯メタマテリアルの作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0076]微細ナノ構造のSi金型作製 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0083]ニューラルネットワークに向けたセンサ開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0084]せん断加工用デバイスのサブマイクロメートルの形状変化がせん断品に与える影響評価 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0085]溶接継手試験片の局所ひずみ計測 		F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0086]細胞評価のためのデバイスの開発 		F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0087]ABS樹脂材料の表面形状観察 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0088]立体電極の製作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0089]Auナノ構造を配置したSi導波路の作製技術の確立 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0090]個別細胞評価のためのデバイスの開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0091]有機薄膜の膜厚測定 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-20-GA-0092]マイクロプロ－ブの形状観察 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0001]RTAを用いた強誘電体Hf1-xZrxO2の形成と評価 		F-RO-383 Rapid Thermal Anneal装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0004]酸化ニッケル膜で起こるフォトクロミズム現象の分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-369 表面段差計
F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0006]p型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入 		F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-343 リン拡散炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0007]ラザフォード後方散乱測定装置を用いたSi 系蒸着膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0008]圧電MEMS による超音波トランスデューサの研究 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-367 干渉式膜厚計
F-RO-368 分光エリプソメーター
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0009]酸化チタンの元素分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0010]イオン照射によるプラスティック上導電性DLC形成技術の研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0011]イオン照射によりプラスティック上に形成される DLC 層の構造解析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0012]イオン照射によるプラスティック上でのDLC層形成メカニズムの解明 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0013]YSZの元素分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0014]絶縁膜の信頼性評価用パターン作製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0015]SiCの オーミック接触形成 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-375 ダイサ―
F-RO-377 レイアウト設計ツール
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0017]電子線露光によるライン＆スペースパターンの作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0020]厚膜レジストのリソグラフィテスト 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0021]低温成長GaAs系半導体の点欠陥評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0023]C-MOS SRAM回路の設計と性能評価 		F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-385 ウェル拡散炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-356 デバイス測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0024]MOSFETS, CMOS Inverter & Junctionless Transistors 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-385 ウェル拡散炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-356 デバイス測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0025]高速軽イオンビームによるSiO2の表面改質と発光分光 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0026]SiCの オーミック接触評価 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-356 デバイス測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0027]n-chダブルゲートpoly-Ge TFTの開発 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0028]中性子センサの研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0029]薄膜太陽電池応用に向けたスパッタ法で作製したBaSi2膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0030]2次元薄膜窒化ホウ素へのイオン注入法による室温スピン操作可能な新規スピン欠陥の創製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0031]スパッタプロセスによるSi薄膜トランジスタ 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0032]電子線露光によるラインパターンの作製（2方向パターン） 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0036]金属グレーティングによるテラヘルツ波光伝導アンテナの性能向上 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0039]Fe電析膜の膜密度測定 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0041]蛍光体の照射 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0042]大面積プラズモニック基板の作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-377 レイアウト設計ツール
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0043]SiC結晶中に生成された欠陥分布の測定 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0044]High-kの導入により高性能化した４端子CLC poly-Si TFTのEE、EDインバータ応用 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0045]太陽電池の製作と基礎実験 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0047]PECVD膜をチャネル層に用いた単結晶帯Si薄膜トランジスタ 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0048]金属ナノ粒子の形成を目指した、脂質膜を反応場とする化学還元法の開発 		F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0049]InAs系 積層 量子 構造の構造解析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0051]細菌による重金属イオンの回収およびその副産物の構造解析・組成分析 		F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0052]ダイシングマシンを利用した半導体デバイスの作製 		F-RO-375 ダイサ―
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0053]薄膜太陽電池作製に向けた無アルカリガラス基板上におけるBaSi2膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0054]シリコンナノ電子デバイスの作製 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-368 分光エリプソメーター
F-RO-350 インプラ後アニール炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0055]細菌が合成した化合物半導体結晶のキャラクタリゼーション 		F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0056]Investigate the characteristic of crystalline silicon film induced by micro thermal plasma jet 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0057]ゲルマニウム薄膜の電気特性に関する研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0058]大気圧熱プラズマジェットアニールを用いた4H-SiC MOSFET作製技術の研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-380 リモートPECVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0059]メニスカス力を用いた薄膜転写プロセス開発に関する研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0060]ナノワイヤバイオセンサーの作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0061]Siの異方性エッチングを用いた100ミクロンスケールの微小孔の作製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0062]光学干渉非接触温度測定(OICT)を用いたSi-nMOSFET動作時の温度変化の測定 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0063]a-Si:H薄膜を用いた脈波センサーに関する研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-369 表面段差計
F-RO-377 レイアウト設計ツール
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0064]プラズマ CVD によるアモルファスシリコン堆積時の瞬間加熱に関する研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-375 ダイサ―
F-RO-377 レイアウト設計ツール
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0065]石英基板上へのアモルファスシリコン薄膜堆積 		F-RO-378 ICP-CVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0066]自己整合型ボトムゲート TFT 作製プロセスの 研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0067]大気圧マイクロ熱プラズマジェットを用いた微量SiドープGe膜の結晶化に関する研究 		F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-20-RO-0068]SOI 層を用いたイオン感応性電界効果トランジスタの作製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-377 レイアウト設計ツール
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0001]MEMS技術を用いた機能性表面の創製 		F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0002]超音波振動を利用した液滴室温ナノインプリントによるDLCマイクロギヤの作製 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0003]透明ポリイミドフィルムの開発 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0004]電気二重層キャパシタから発生するガスの分析 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0006]水分解触媒電極のための製膜と膜厚測定 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0007]新規半導体材料の開発 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0008]アルカリ現像型非化学増幅電子線レジストの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0009]複合材料を用いたマイクロヒータの開発 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0010]赤外光を用いたCu薄膜上での電解質分解挙動の解明 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0011]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0012]磁性流体のゲル化に伴う磁力変化 		F-YA-364 振動試料型磁力計
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0013]粗面化したステンレス鋼の放熱特性評価 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0014]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0015]多様な物性測定のための電極作製と評価 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0016]感光性樹脂の研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0017]NiとFeを組み込んだ酸化タングステンの酸素発生活性 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0018]金属含有DLCの研究 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0019]ガーネット薄膜のパターニング及び断面TEMによる評価 		F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0020]強磁性薄膜・微粒子とスピン流の相互作用に起因する磁化ダイナミクスに関する研究 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0021]竹粉末燃焼時に生じるクリンカー生成メカニズムの解明 		(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0022]カルコゲナイド系相変化材料に関する研究 		F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0023]ヘテロ構造磁性膜の光学定数スペクトル測定 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0024]各種フェライト粉末の磁化測定 		F-YA-364 振動試料型磁力計
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0025]機械加工面形状測定用MEMSデバイスの開発 		F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0026]種々の表面処理したアルミニウム合金の表面特性 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0027]薄膜太陽電池応用に向けてSiO2基板上に作製したBaSi2膜の光学特性分析 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0028]ピエゾ抵抗式圧力センサの開発 		F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0029]陽極酸化処理したアルミニウム合金の真空特性評価 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0030]新しい漏れ検査技術の基礎検討 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0031]スパッタリングによる金属酸化物/窒化物薄膜の形成 		F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0032]エリプソメータによる膜厚測定 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-20-YA-0033]ダイヤモンドダイオードの電極作製 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0001]光エネルギー変換デバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0002]ウェハパターンめっきの形状、分析 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0003]山形Cu リードを用いた基板埋込型パワーデバイス実装技術の研究 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0004]感光性樹脂の 研究 		F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0005]多様な物性測定のための電極作製と評価 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0006]マイクロ電極を用いたバイオ応用 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0007]弾性表面波デバイスの作製及びグラフェンの物性評価 		F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0008]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製 		F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0009]高感度水晶MEMS センサの開発 		F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0010]微小孔アレイデバイスを用いた細胞解析技術の構築 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0011]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0012]デバイス試作および試作品解析 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0013]機械加工面形状測定用 MEMS デバイスの開発 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0014]ダイヤモンドの高耐圧パワーデバイス応用 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0015]位置検出型ガンマ線マイクロカロリメータの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0016]MEMS技術を用いた機能性表面の創製 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0017]バイオマイクロデバイスの製作 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0018]歯科材料の表面分析 		F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0019]マイクロ流体デバイスをベースにした水質モニタリング用センサの開発 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0020]電子ビームによる微細パターンの描画 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0021]ダイヤモンドダイオードの電極作製 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0022]絶縁体ベース誘電泳動デバイスの開発 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0023]三相界線の局所熱流束を計測するMEMS 熱流束センサの開発 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0024]機能性伝熱面の作製 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0025]スライダ用マイクロ溝・パターンの試作 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-20-FA-0026]血液凝固検出用光センサチップの開発 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)