利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学 微細加工プラットフォーム]　
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名 利用装置名
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0001]水中結晶光合成による特殊材料開発への精密加工 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0002]THz 用特殊ビームスプリッタの作製 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0003]固体レーザーの高効率化のための反射防止ナノ周期構造体の形成 		F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0004]Co基ホイスラー合金を用いた巨大磁気抵抗素子の作製 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0005]スピン軌道トルク磁化反転を利用したスピン機能素子の作製 		F-HK-100 ダイシングソー
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0006]X線レーザーイメージングのための試料ホルダ作製 		F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0007]Si基板へのALD成膜 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0008]サブミクロン1次元半導体スピン輸送チャネルの作製 		F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0009]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0010]機能性無機材料の微細加工による脳型コンピューティング機能の探索 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0011]創薬スクリーニングに向けた腫瘍立体組織構築用96well基板の作製 		F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0012]リポタンパク質の物性評価のための基板作製 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0013]生細胞物性計測用のマイクロ加工基板の作製 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0014]SiN/SiO2薄膜の形成 		F-HK-006 プラズマCVD装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0015]細胞折紙技術と計算折り紙による立体構造の最適化 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0016]現場分析用超小型分析装置に組み込む微小電極の作製 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0017]微細加工技術を用いた溶液TEM観察用試料の作製 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0018]触媒/光捕集機能強化を基盤とした高効率可視光水分解光電極の創出 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0019]Al2O3膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0020]Development of label-free nanoplasmonic biosensing platforms for commercial 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0021]基板上での三角形金ナノ粒子の自己集合化の評価 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0022]Hot Charge Carrier Dynamics on plasmonic WO3/AuNP photoanodes. 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0023]MEMS向けALD保護膜検討 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0024]Fabrication of Metalens Array for Hyper spectrum 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0025]Al2O3/TiO2積層膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0026]Influence of Particle Density on Modal Strong Coupling between Localized Surface Plasmon and Fabry–Pérot Nanocavity Modes 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0027]酸化物積層構造における電流誘起有効磁場 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0028]Fluorescence of perovskite nanocrystals under modal strong coupling conditions 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0029]原子炉計装の革新に向けた耐放射線・高温動作ダイヤモンド計測システムの開発とダイヤモンドICの要素技術開発 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-024 ALD製膜装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0030]磁性酸化物超薄膜をもちいたスピントロニクス素子の開発 		F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0031]モード強結合を利用した選択的空中窒素固定による光アンモニア合成 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0032]Observation of Near-Field Enhancement in Topological SSH Model 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0033]半導体試料における微細金属開口部の作製 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0034]Fabrication of plasmonic nanostructures for ultrafast EUV-PEEM experiments 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0035]窒化物半導体トランジスタの作製と評価 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0036]Nanogratings induced by the femtosecond laser pulse in SF10 glass 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0037]リソグラフィーへの応用を目指したブロック共重合体の薄膜構造解析 		F-HK-032 エリプソメータ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0038]プラズモン／ファブリ・ペローナノ共振器モード強結合電極の製造法の探索 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0039]金ナノリングの近接場イメージング 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0040]銅合金材料へのアルミナの成膜 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0041]酸化コバルト薄膜をp型半導体として用いたプラズモン光電変換系の構築 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0042]表面プラズモン振動モードのEELS解析 		F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0043]モード強結合を示す基板上に配置した物質の発光測定 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0044]電極作製のための表面加工 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0045]モード強結合に基づく高光吸収電極を用いた有機還元反応の開拓 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0046]ナノ構造体を用いたエクソソームの分離 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0047]GaN-based Microdisk Cavity Laser with Plasmonic Enhancement 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0048]プラズマCVDによるBCN膜の成膜と評価 		F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0049]Efficient Energetic Electron Transfer in Modal Strong Coupling Regime 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0050]粉体塗工した金属基板へのALD成膜検討 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0051]Near-field circular dichroism property of rectangular plasmonic structures probed by PEEM 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0052]スメクチック相をテンプレートに用いたドライエッチングによるナノパターニングの研究 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0053]金銀合金ナノ微粒子を用いたモード強結合光電極の作製とその光酸化反応 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0054]リソグラフィーによるSrTiO3/BaCe0.8Y0.2O3基板へのパターン電極形成 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0055]Enhanced plasmonic photocatalysis with molecular co-catalysts 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0056]超伝導デバイスの作製超伝導デバイスの作製 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0057]In-situ Surface Enhanced Raman Scattering Observations of Water Oxidation Reactions Enhanced by the Modal Strong Coupling 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0058]医用イメージングのための半導体検出器の開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0059]突起構造を有する加硫ゴム表面の摩擦特性 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0060]光学デバイス用回折格子の作製 		(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0061]赤外モード強結合構造の作製と光学特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0062]PZTカンチレバーへのAl2O3薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0063]電子線描画装置による加工技術検証 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0064]繊維芽細胞の初期配向が創傷癒合に与える影響 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0065]円偏光プラズモン場を用いたキラル結晶化の制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0066]蛍光相関分光法によるプラズモンオプティカルトラッピングの評価 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0067]機能性ポリマーへのAl2O3薄膜の形成及び分析 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0068]質量分析用新ソフトイオン化源の開発 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0069]Ni78Fe22/Erq3/Ni78Fe22ナノ接合素子の作製とその電気磁気特性 		F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0070]セラミックス粉末の耐水性向上を目的としたALD コーティング 		F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-19-HK-0071]マイクロフルイディクスデバイスを用いた一次繊毛の力学特性測定 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0001]ワイヤボンディング強度不足要因の調査と対策 		F-TU-109 TOF-SIMS
F-TU-121 プラズマクリーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0002]基板上への微細Al電極作成と基板の評価 		F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0003]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0004]不斉プラズモン近接場デザインに立脚したキラル核形成制御と電磁場パリティの開拓 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0005]フォトニック結晶を用いたフィルタアレイの開発 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0006]紫外線領域オプトデバイスの研究開発 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0007]Deep RIE装置によるSi etch 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0008]医療用マイクロデバイス加工技術開発 		F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0009]対称性を制御した光メタマテリアルの作製 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0010]MEMSデバイスの加工 		F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0011]シリコン光結合デバイスの開発 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0012]Metamaterial for THz-wave photonic devices 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0013]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0014]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細構造形成 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0015]微細構造体の作製技術開発 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0016]マイクロポンプの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0017]Deep RIE加工時のレジストダメージ対策 		F-TU-082 DeepRIE装置#4
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0018]ミリ秒Ｘ線トモグラフィのための光学素子の作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0019]MEMSの試作 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-060 シンター炉
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0020]量子ビーム格子の開発と作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0021]大規模アレイテスト回路を用いた抵抗可変材料の統計的測定に関する研究 		F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0022]Sapphireウェハ加工 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0023]エピサセプターの酸洗浄 		F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0024]光波センシングのためのフォトニック・ナノ構造の創製 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0025]圧電MEMSデバイスの開発 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0026]準粒子状態観測に向けた微細ジョセフソン接合の作製 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0029]ALDによって成膜したPt膜 		F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0030]MEMS/NEMS fabrication 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0031]微細構造の形成とその評価 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0032]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-105 マイクロX線CT
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0033]MEMSデバイス開発試作 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0034]圧電駆動型MEMSデバイスの耐久性の向上および長期安定性の向上 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0035]高真空ウェハレベルパッケージング 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0036]半導体プロセス基礎実験 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0037]多層グラフェン上へのW-CVD成膜評価 		F-TU-073 W-CVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0038]材料開発評価加工とデバイス評価 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0039]医療用MEMSデバイス プロセス開発 		F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0040]IoT for Safety and Security 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0041]Si格子構造の作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0042]次世代電子線レジスト開発のための描画条件（ビーム電流値）の影響調査 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0043] UVフォトディテクタ試作・評価 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-061 UVキュア装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0044]情報環境（インフォスフィア）調和型 自己組織化ヘテロ集積システムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0045]エピタキシャルポリPZTの成膜 		F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0047]MEMS集積加工による小型磁気センサの作製と特性評価 		F-TU-043 サンドブラスト
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0048]極細径光ファイバ圧力センサの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0049]集積化MEMSセンサの開発 		F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0050]熱駆動MEMSアクチュエータの開発 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0051]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0052]水素アニールを用いたスルーシリコンビアのスキャロップ平滑化に関する研究 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0053]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0054]シリコン光カプラの開発 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0055]MEMSによる固体蓄電池の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0056]Si 基板への微細加工技術に関する基礎研究 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-111 大口径AFM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0057]狭線幅面発光レーザに向けた薄膜光フィルタの試作 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0058]単結晶ニオブ酸リチウム積層探触子の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0059]モータコイルの内部構造解析 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0061]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-058 ダイサ
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0062]PZT気相1-3コンポジットの開発 		F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0063]Siの微細構造加工 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0064]キラル磁性体における量子輸送現象の研究 		F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0065]ビア穴底へのPE-CVD SiN成膜テスト結果 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0066]SiC基板の低温水素処理 		F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0067]光センサの構成部品であるIOC（Integrated optical circuit）の研究開発 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0068]リフトオフ法による金属配線形成 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0069]ワイヤレスMEMSの研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0070]Si 高温アニールと化学機械研磨を用いた宇宙用X線望遠鏡の鏡形状の平坦化の研究 		F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0071]2次元シートデバイス開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0072]CO2超臨界乾燥プロセスの検証 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0073]リソグラフィによる微細光学素子作製手法の開発 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0074]マイクロレンズアレイ加工 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0075]エレクトレットMEMS振動・トライボ発電 		F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0076]ポリカーボネート基材上への透明導電膜の成膜とパターニング加工条件について 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0077]ワイヤーボンディング 		F-TU-093 ワイヤボンダ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0078]システム機器診断のための超小型ハーネスフリーセンサシステム実現の基盤研究（JAXAイノベーションハブ研究） 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-069 熱CVD
F-TU-077 めっき装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0079]櫛歯アクチュエータの作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0081]医療画像診断装置用の放射線検出器の開発 		F-TU-093 ワイヤボンダ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0082]Siウェーハの欠陥解析 		F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0083]サブマイクロ構造光学素子の試作 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0084]ウォーターレーザーによるシリコンウェハのくり抜き加工 		F-TU-124 ウォーターレーザ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0085]バクテリア集団の揺らぎと応答の測定 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0086]ファンデルワールス材料物理 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0087]MEMSアレイデバイス開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0088]SiO2ウェハ上の薬品処理残渣パーティクル測定 		F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0090]アルカリイオンエレクトレットを用いた振動発電素子の開発 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0091]摩擦撹拌接合部の健全性評価 		F-TU-107 超音波顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0093]SiCパワーデバイスのWプラグ形成 		F-TU-073 W-CVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0095]いわて半導体アカデミー大学生2年次向けMEMS製作実習 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0096]いわて半導体アカデミー大学生1年次、及び社会人向けプロセス実習 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0097]金属と酸素イオン伝導体(OIC)の陽極接合を応用した接合開発 		F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0098]Si基板へのテーパーエッチング 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0099]MEMSグレーティングの試作 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0100]低損失Si導波路の作製 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0101]フェムト秒レーザ微粒子集積固化法で作製した機能性配線の特性評価 		F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0102]光半導体用パッケージの開発 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0103]ナノビームW-RHEEDによるSi基板の表面構造解析 		F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0104]微細構造への薄膜形成 		F-TU-068 LPCVD
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0106]受動部品の研究開発 		F-TU-067 メタル拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0107]薄膜材料の機械的特性評価技術の開発 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0108]低直流電圧で駆動するMEMSアクチュエータに関する研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-093 ワイヤボンダ
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0109]Siフォトニック結晶の可視光制御 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0110]Ga2O3薄膜のパターニング 		F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0111]放射線検出器用シンチレータアレー作製技術の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0112]MEMS加速度センサの試作 		F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-060 シンター炉
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-086 アルバック アッシング装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-058 ダイサ
F-TU-093 ワイヤボンダ
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0113]プラズマガス種による耐プラズマ特性調査 		F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0114]透過型電子顕微鏡を用いた液中試料観察用カプセルの作製 		F-TU-068 LPCVD
F-TU-048 膜厚計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0115]Transport in topological magnetic insulator devices 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0116]振動発電素子の耐湿性向上 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0117]MEMSセンサの試作 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-048 膜厚計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0118]二層構造厚み滑り振動子の基板接合強度に関する研究 		F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0119]Siの垂直深掘り加工 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-049 Tenchor 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0120]センサ素子の試作 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0121]バイパス回路内蔵太陽光発電モジュールに関する研究 		F-TU-107 超音波顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0122]薄膜樹脂接合 		F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0123]Ir錯体薄膜の成膜法の検討 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0124]Si酸化による屈折率分布レンズの製作 		F-TU-067 メタル拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0125]PZT resonator 		F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0126]φ8inchウェハー上のレジストパターンの線幅測長 		F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0127]エンドトキシン測定用くし型電極の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-19-TU-0128]ナノ粒子/ポリマーコンポジット薄膜の作製 		F-TU-058 ダイサ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0001]フォトニック結晶のためのEB 描画およびRIE による石英加工検討 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0002]微細デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製 		F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0003]微細パターンの解像度調査 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0004]シリサイド薄膜のエッチング加工およびデバイスの試作 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0005]シリコン深堀エッチング装置を用いた高速かつ高効率な超伝導転移端センサの作製 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0006]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発に関する研究 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0007]酸化ガリウムn型MOSFETの試作 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0008]ダイヤモンド結晶欠陥および無欠陥のデバイス特性に及ぼす影響評価 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0009]シリコン光導波路・ナノ材料ハイブリッドデバイスの作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0010]層状化合物を用いた超伝導素子の開発 		F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0011]125kV電子線ビーム描画装置によるプラズモニック光駆動ナノモーターの開発 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0012]酸化膜エッチング装置を用いた耐プラズマ部材の評価 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0013]ダイヤモンド基板上の貫通転位がデバイス特性に及ぼす影響評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0014]化合物ドライエッチング装置によるCrエッチング 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0015]MoS2-FETの電子物性を用いた流体環境下高感度分子センサの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0016]ダイヤモンド結晶上の転位のデバイスに及ぼす影響評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0017]GaAsウエハの反応性イオンエッチング 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0018]シリコンナノワイヤ構造を導入した熱電発電素子の開発 		F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0019]金属膜のドライエッチング検討と評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0020]金属膜のドライエッチング検討と評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0021]イオン注入GaN基板におけるウエハRTA装置及び12連電子銃型蒸着機の利用 		F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0022]ZrNナノシリンダーアレイの耐熱性の向上 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0023]シリコン光導波路及び微小光共振器の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0024]化合物ドライエッチング装置によるY-O-F系セラミックスの耐プラズマ特性の評価 		F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0025]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応 		F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0026]二次元レイアウトに於けるリソグラフィ解像性調査 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0027]ドライエッチングによる金属ナノ周期構造の加工と光学特性 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0028]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0029]各種ガラス基板のドライクリーニング 		F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0030](111)超伝導ボロンドープダイヤモンドのみで構成されるジョセフソン接合の検討 		F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0031]アルミニウムナノ構造の作製と光学特性 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0032]全自動スパッタ装置を用いた酸素が欠乏したITO膜作製 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0033]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスに関する開発研究 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0034]架橋ビーム作製における金マスクのドライエッチング耐性評価 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0035]ネガ型電子線レジストを用いた脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0036]シリコンナノワイヤを用いた熱電素子の開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0037]反応性イオンエッチングによる微細トレンチ形成条件の検討 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0038]グラフェンセンサデバイスの試作プロセスにおけるグラフェン表面観察 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0039]単層カーボンナノチューブを架橋する際のライン＆スペースの作成 		F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0040]金属ナノシリンダーアレイのRTA処理による高性能化 		F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0041]Au薄膜を用いた共振器の作成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0042]フィルム基板上のポリイミド絶縁膜パターニング検討 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0043]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0044]センサ応用向け二次元層状物質トランジスタに関する研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0045]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0046]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0047]イットリアコーティングの微細組織とプラズマ腐食挙動 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0048]原子層堆積装置によるHfO2薄膜の作成 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0049]熱電発電デバイスの熱伝導層材料の研究 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0050]新規材料における微細パターン形成評価 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0051]RIE処理によるプラズモニックアレイ加工と転写 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0052]サーモリフレクタンス法を用いた温度計測のための試料微細加工 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0053]ポリマー材料加工技術の検討 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0054]プラズモニック・メタサーフェスを用いた光電子デバイスの開発 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0055]幹細胞を抽出培養するためのマイクロパターン基材の開発 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0056]125kV電子ビーム描画装置を用いた金属表面処理 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0057]原子層堆積法によるSi-MOSの界面評価 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0058]３次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0059]液体窒素プローバーシステムを用いた真空雰囲気下での金属有機構造体の電気的特性評価 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0060]真空雰囲気下におけるPt/CoO/ITO素子の電気的特性評価 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0061]β型酸化ガリウムのドーピング 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0062]液体窒素プローバーシステムを用いた金属有機構造体の電気特性評価 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0063]半導体用レジスト材料の評価及びプロセス検討 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0064]グラファイト電極の還元雰囲気下における熱処理効果 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0065]Ga2O3上でのEB露光パターニング 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0066]グラフェン・ナノリボンのデバイス応用の研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0067]シリコン光導波路デバイスの作製 		F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0068]マイクロデバイスを用いた新規ナノ構造材料のナノスケール電気・熱伝導率計測 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0069]スコッチテープ法により劈開したMoS2の層数判別 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0070]微細シリコン段差パターンの作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0071]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0072]分子認識界面構築評価用イリジウム基板の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0073]レーザー光電子顕微鏡用評価試料 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0074]EB描画装置とエッチング装置を使用した構造色加飾のための型製作 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0075]プラズモニックナノ構造による第二高調波の一方向放射制御 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0076]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0077]熱電素子テスト構造の試作 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0078]平行平板電極による免疫センサの開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0079]櫛形電極ミオグロビンバイオセンサの再生技術の探索 		F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0080]半導体微細加工による微小集積光学導波路作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-091 CMP研磨装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0081]スパッタ装置を用いたMg2Siリニアアレイフォトダイオードの作製 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0082]Development of next generation memory devices 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0083]液体窒素プローバーシステムを用いた真空下での金属有機構造体の電気伝導率測定 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0084]遷移金属ダイカルコゲナイド系層状物質と金属との接合に対するアニール効果の研究 		F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0085]単一段差構造によるダイヤモンドSQUIDの開発 		F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0086]グラフェン・ナノリボンのデバイス応用の研究 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0087]原子層二硫化モリブデンを用いた超伝導接合の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0088]酸化亜鉛チャネルを持つ電気二重層トランジスタ構造の作製 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0089]プラズモニック構造によるアップコンバージョン発光の制御 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0090]液体窒素プローバーシステムを用いたCu/Ta2O5/Pt 素子のインピーダンス測定の大気の影響 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0091]微細ゲート電界効果トランジスタの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0092]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0093]導電性ブリッジメモリのデバイスプロセス開発 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0094]液体窒素プローバーシステムを用いたReRAMの真空・低温抵抗保持特性の解明 		F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0095]高速マスクレス装置等を用いたMg2Siフォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0096]ブロードエリア半導体レーザーの作製 		F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-101 自動エリプソメータ
F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0097]金属ブリッジ型メモリCBRAMのデバイスプロセス開発 		F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0098]MIM容量特性評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0099]微細ゲートトランジスタの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0100]集束イオンビーム法によるボロンドープダイヤモンド超伝導量子干渉計の作製及び最適化 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0101]Multiferroic effects in iPCM 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0102]多孔質シリコン熱音響素子の特性改善と対応する微細構造の観察 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0103]1.03μm波長帯の半導体レーザーのプロセス開発 		F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0104]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0105]シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスの開発 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-19-NM-0106]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応とその性質 		F-NM-084 急速赤外線アニール炉
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0001]ナノプローバを用いたナノ構造カーボンの電気特性評価 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0002]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0003]Au薄膜を用いた共振器の作成 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0004]FIBによるルテニウム薄膜の加工観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0005]FE-SEMによるルテニウム薄膜の観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0006]金属薄膜ドライエッチングによる微細構造体の形成および射出成形による微細構造体の転写 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0007]マスクレス描画による石英パタン形成 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0008]ウエットエッチングを使用したガラスの貫通孔加工 		F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0009]フォトリソグラフィを用いた、薄膜材料の微細加工検証 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0010]SiO2基板上への窒化シリコン薄膜の形成 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0011]紫外光電子分光を用いたペロブスカイト多結晶層の仕事関数の決定 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0012]リフトオフプロセス用レジストパターンの作製とリフトオフ性の評価 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0013]Si基板上のSiO2膜の膜厚と組成の評価 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0014]医療用MEMSデバイス プロセス開発 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0015]医療用MEMSデバイス開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0016]医療用MEMSデバイス プロセス開発 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0017]SiC基板上に成膜したAl2O3膜の膜厚と屈折率 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0018]FeSiB磁性薄膜と各種絶縁薄膜との多層構造の作製および評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0020]Si、SiN膜に対するSiO2高選択比エッチング 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0021]Si、SiN膜に対するSiO2高選択比エッチング 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0022]プラズマCVD法によるフィルム上への酸化シリコン成膜 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0023]超伝導バンプに用いられるPb-In合金膜の表面粗さに関する研究 		F-AT-107 ウェハー酸化炉
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0024]サファイア基板上GaNへの周期エアホール構造の作製 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0025]コンタクトプラグ間の電気特性評価 		F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0026]積層デバイス向けTSV用レジストの断面観察 		F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0027]高純度オゾンを用いた室温CVDによるSiO2膜の絶縁性評価 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0028]高純度オゾンとエチレンガスを用いた室温ドライプロセスによるアッシングプロセス 		F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0029]高純度オゾンを用いた室温CVDによるSiO2膜の成膜速度 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0030]高純度オゾンを用いた室温ALD Al2O3膜のトレンチ溝被覆 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0031]Al成膜ボイド確認結果 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0032]GaAs基板の深ビア加工 		F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0033]サブミクロン構造形成 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0034]プラズモニック・メタ表面による放射冷却素子の作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0035]原子層堆積装置を用いたSi(111)表面へのAlN膜形成 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0036]有機・無機ハイブリッド膜上への薄膜形成 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0037]レーザーラマン分光法を用いた毛髪タンパクの構造解析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0038]フォトリソ条件最適化およびFe合金のスパッタ成膜 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0039]i線露光条件によるイオンミリング加工時間の制御 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0040]GaNへのナノスケールNdイオン注入パターン形成 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0041]Auめっき膜の斜入射X線回折 		F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-113 メッキ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0042]金属電極パターンの加工 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0043]プラズマCVDでのTEOS- SiO₂成膜 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0044]層間膜を有しない2層電極形成 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0045]ベンジルアルコールでエステル化されたグラフェン量子ドットのXPS分析 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0046]高密度・高速応答熱電対アレイの試作 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0047]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の大電流化 		F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0048]磁気力顕微鏡法による絶縁体に埋もれた金属の検出 		F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0049]平面型グラフェン電子源の作製 		F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0050]化学的処理によるセルロースナノファイバーの形態観察 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0051]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0052]ステッパーを利用したフォトリソグラフィー工程の実験 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0053]SiO2中のCuパターンの段差測定 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0054]金属膜への他元素添加評価 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0055]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0056]酸化ガリウムを用いたメサ型ショットキーバリアダイオードの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0057]金属/AlN界面のショットキー障壁高さの解析 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0058]M面窒化ガリウムを用いたMOSFETの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0060]Si基板上のTEOS-SiO2膜の応力 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0061]Pt電極膜とTEOS-SiO2層の間に挿入するALD-Al2O3層の密着性に関する調査 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0062]X線光電子分光分析を用いたメタロ超分子ポリマーの解析 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0063]ナノインプリント後の残渣処理 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0064]薄膜のX線反射率、回折測定 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0065]電子ビーム蒸着によるカーボン膜への金属コーティング 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0066]カーボン薄膜へのALD成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0067]ポリマーマイクロミラーの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
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[F-19-AT-0068]回路基板上へのミラーの作製 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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[F-19-AT-0069]再配線形成 		F-AT-091 マスクレス露光装置
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[F-19-AT-0070]GaN薄膜の原子層堆積 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0071]加工用レジスト材料の分析評価 		F-AT-086 分光エリプソメータ
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[F-19-AT-0072]微細バンプ形成プロセスの開発 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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[F-19-AT-0073]プラズマCVDによるSiN成膜時の面精度変化 		F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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[F-19-AT-0074]SiN膜のドライエッチングにおける反応生成物の抑制 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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[F-19-AT-0075]反応性スパッタによる金属薄膜の形成 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
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[F-19-AT-0076]金埋め込み電極作製に向けた酸化膜・バリアメタルの成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0077]浮遊触媒CVD法によるカーボンナノチューブ成長における触媒担持層の影響 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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[F-19-AT-0078]H2SまたはNO2被毒されたPd合金表面の熱処理による回復評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
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[F-19-AT-0079]フォトリソグラフィーによる微細金属配線作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-091 マスクレス露光装置
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[F-19-AT-0080]SPMによる基板上のナノ粒子測定 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
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[F-19-AT-0081]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜による多層MIMダイオードの開発 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0082]食品製造プロセス安定化における結晶化有無の影響 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
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[F-19-AT-0083]分光エリプソメータによる薄膜a-Si膜の膜厚測定 		F-AT-086 分光エリプソメータ
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[F-19-AT-0084]Nano/Micro構造を付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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[F-19-AT-0085]シリコン太陽電池表面へのサブミクロンパターン形成 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
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[F-19-AT-0086]光導波路の三次元通信に必要な集光レンズの観察 		F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
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[F-19-AT-0087]Allイオン注入プロセスを用いた縦型GaNプレーナMOSFET 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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[F-19-AT-0088]イオン注入により形成したGaN MOSFETのチャネル特性のMgドーズ量依存性 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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[F-19-AT-0089]SiO2厚膜の成膜検討 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
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[F-19-AT-0090]Pt微細配線のバリ取りプロセスの検討 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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[F-19-AT-0091]近赤外域における酸化物半導体ナノ粒子薄膜の光学制御 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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[F-19-AT-0092]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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[F-19-AT-0093]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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[F-19-AT-0094]感光性樹脂組成物の微細パターニング評価 		F-AT-067 i線露光装置
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[F-19-AT-0095]MEMSのフォトリソ工程最適化 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
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[F-19-AT-0096]窒化物半導体デバイスの開発 		F-AT-091 マスクレス露光装置
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[F-19-AT-0098]三次元積層型集積回路に関する研究 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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[F-19-AT-0099]窒化物半導体デバイスの開発 		F-AT-091 マスクレス露光装置
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[F-19-AT-0100]製品層内に付着した汚れ・異物の分析 		F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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[F-19-AT-0103]光触媒担持フィルム作製 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0104]ナノプローバによるTSVの電気特性の計測 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
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[F-19-AT-0105]Ge系デバイス試作 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
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[F-19-AT-0106]グラフェンをチャネルとしたFETデバイスの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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[F-19-AT-0107]高速X線トモグラフィのための単焦点距離マルチビーム光学素子の開発 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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[F-19-AT-0108]ICPドライエッチングを用いた厚膜SiO2の加工 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
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[F-19-AT-0109]他社製マスクアライナとの露光解像度比較 		F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
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[F-19-AT-0110]原子層堆積法を用いた金属成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0111]フォトニック結晶型フィルタアレイのためのRIE検討 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
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[F-19-AT-0112]II-VI族磁性半導体(Zn,Fe)Te中の窒素濃度の定量分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
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[F-19-AT-0113]TiO2/AZO/Cu2O多層光電極の作製 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0114]グラフェンバイオセンサーのIV特性測定 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
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[F-19-AT-0115]石英ガラス上への真空紫外光を透過する高抵抗薄膜の開発 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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[F-19-AT-0116]AR-XPSによるダイヤモンド半導体のICPエッチング表面の評価 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
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[F-19-AT-0117]電子デバイスで使用する絶縁膜検討 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0118]サーモリフレクタンス測定のための金属薄膜パターン作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
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[F-19-AT-0119]Niリフトオフ 		F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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[F-19-AT-0120]Niリフトオフ 		F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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[F-19-AT-0121]エッチングによるカーボン電極表面の構造化と燃料電池触媒用電極への応用 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
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[F-19-AT-0122]カーボンナノチューブの分散 		F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
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[F-19-AT-0123]蛍石上へのALDによるSiO2成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
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[F-19-AT-0124]Design and Fabrication of Photomask for Microneedle Pad Production 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0125]Design and Fabrication of Photomask for Microneedle Pad Production 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0126]窒化チタンナノシリンダーアレイへの誘電体層の被覆による耐熱性の向上 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0127]シリコン加工に向けたi線スッテパによるナノパターン形成 		F-AT-067 i線露光装置
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[F-19-AT-0128]MEMSセンサの試作 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
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[F-19-AT-0129]ダイヤモンド半導体デバイスにおけるRu電極の形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0130]ダイヤモンドFETの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0131]基板上への微細Al電極作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0132]回折光学素子開発 		F-AT-067 i線露光装置
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[F-19-AT-0133]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0134]プラズマエッチング後AlGaN/GaN表面のデバイス性能に与える影響評価 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0135]FIB加工装置のナノプローブを用いた金属材料片のマイクロ引張試験 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0136]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0137]高純度オゾンとエチレンガスを用いたドライプロセスによるポリエチレンフィルムの表面改質 		F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
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[F-19-AT-0138]EB露光パターンの形成 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0139]半導体デバイスの特性評価 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
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[F-19-AT-0140]AFMによるGaNテンプレート基板上エッチピットの計測 		F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0141]鉄系超伝導体薄膜の微細加工 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0142]MIM構造の試作 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0143]光学素子用途の単結晶シリコン微細加工 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0144]ガラス管へのコーティング 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0145]超伝導デバイスの作製 		F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-107 ウェハー酸化炉
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[F-19-AT-0146]2層構成のマスクパターンによる、RIEでのSiO2厚膜の垂直加工 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0147]酸化ニッケルのエピタキシャル成長における成長初期過程の検討 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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[F-19-AT-0148]LaB6光電面の成膜 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0149]プラズマエッチング後AlGaN/GaN表面のデバイス性能に与える影響評価 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0150]原子層堆積装置を用いたSi基板上へのAl2O3薄膜の形成 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0151]リフトオフに依るサブミクロン電極の形成 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0152]多層膜フィルター作製 		F-AT-067 i線露光装置
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[F-19-AT-0153]アルミ金属のナノスパイク構造の作製 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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[F-19-AT-0154]アニールによるドーパントのシリコン中の拡散評価 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
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[F-19-AT-0155]FIBを用いた磁性デバイス加工 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
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[F-19-AT-0156]石英基板製マイクロ流体デバイスでの抵抗加熱用途に向けた、TaN薄膜形成と評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
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[F-19-AT-0158]Ga2O3-SBD開発用ALD装置利用 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0159]原子層堆積法を用いた金属成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0160]ALD法を用いた微細L/Sパターンへの均一なSiO2成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0161]超臨界流体薄膜堆積された銅薄膜を種層とした電解めっきによる高アスペクト比ビアの埋め込みの実現 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
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[F-19-AT-0162]マスクレス露光装置における露光量条件出し 		F-AT-091 マスクレス露光装置
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[F-19-AT-0163]プリンテッドエレクトロニクス用EL印刷装置開発 		F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
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[F-19-AT-0164]トンネルトランジスタの試作・評価 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
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[F-19-AT-0165]基板表面上に付着した鉄粒子の形状・分布の分析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
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[F-19-AT-0166]MIM構造作製プロセスの検討と試作 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0167]ITOのエッチングレート 		F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0168]ITO薄膜のシート抵抗評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
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[F-19-AT-0169]細線状の遷移金属カルコゲナイドの電気伝導特性の評価 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0170]フッ素エラストマーに対するプラズマ耐性評価のための加速試験 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0171]Feナノ粒子の磁気測定 		F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0172]SrTiO3キャパシタの作製及び評価 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0173]強誘電体薄膜の電気特性評価（薄膜技術実践セミナーV） 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0175]誘電体DBRリフトオフプロセスの確立 		F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0179]Y安定化ジルコニア薄膜のX線反射率測定 		F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-19-AT-0182]電子線蒸着法によるAu薄膜の形成 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0001]FIB SEM による Al 2 O 3 ウエハーの 加工と観察 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0002]走査型プローブ顕微鏡を用いた樹脂材料の表面機械特性評価 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0003]原子間力顕微鏡による毛髪キューティクル微細構造の観察 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0004]FIB装置を利用したトポロジカル絶縁体電気伝導特性評価用試料の作製 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0005]窒化物半導体デバイスの開発 		F-BA-104 半導体特性評価システム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0006]甲虫の微細構造の観察 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0007]FIB装置を利用したTEM観察用試料の作製 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0008]EB描画装置を利用した光集積デバイスの作製 		F-BA-097 電子線描画装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0009]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0011]電界放出型走査電子顕微鏡によるナノロースの薄膜及び紙の表面構造観察 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0012]MEMS技術を用いたミリ波レクテナ回路の製作 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-105 触針式表面形状測定器
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0013]電気化学センサを用いた潜在性乳房炎の検査システムの開発 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0014]Dimension Icon装置による糸状菌の弾性測定 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0015]Dimension Iconを利用した樹脂フィルム断面のナノ構造の観察 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0016]Heプラズマ照射されたW試料の表面構造観察 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0017]人工光合成用InGaN光半導体セルの作製 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0018]FIB-SEM装置を利用した断面TEM観察用試料作製 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0019]各種液剤の微細塗布の検証 		F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-19-BA-0020]パターン投影リソグラフィシステムを利用した機能性材料の単一ドメイン評価 		F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0001]2次元層状SnS圧電特性評価のためのデバイス作製 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0002]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0003]高効率光変調器に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0004]高性能トランジスタに関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0005]単層カーボンナノチューブ熱物性計測のデバイス作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0006]グラファイト上への単結晶単層六方晶窒化ホウ素の合成と分析 		F-UT-150 オージェ分光分析装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0007]孤立架橋ヘテロナノチューブの合成と転写 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0008]Preparing individual SWNT-hBNNT heterostructure for electronic applications 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0009]水平配向単層カーボンナノチューブを用いたリチウムデンドライトの生成と消失の観察 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0010]同位体ラベルによる単一単層カーボンナノチューブの成長過程分析 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0011] １細胞由来染色体の番号識別を行うためのマイクロ流体デバイス開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0012]ナノ粒子計測のためのナノ構造形成とデバイス作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0013]誘電体ナノメンブレンを用いた真空紫外波長変換技術の開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0014]フォトニック結晶ナノメンブレンを用いた円偏光真空紫外波長変換技術の開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0015]Rotational Electret Energy Harvester with Self-powered SSHI 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0016]Liquid-crystal-enhanced Electret Vibration Energy Harvester 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0017]Parylene E-based VOC gas detector 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0018]Triangular Microwells for Cell Trapping 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0019]Hot-electron photodetector with wavelength selectivity in near-infrared via Tamm plasmon 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0020]高出力レーザーの研究開発 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0021]近接場光援用波数励起によるシリコン受光素子の開発 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0022]MEMS振動発電を用いたパーペチュアル・エレクトロニクス 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0023]MEMS波長可変光源 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0024]赤外天文分光器用MEMSマルチスリットアレイ 		F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0025]ハロゲン化金属ペロブスカイト型半導体上の微細電極作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0026]Y3Fe5O12薄膜におけるスピン波伝搬と外場制御に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0027]LSI構造解析技術の研究 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0028]MEMSセンサに向けたTiNマイクロヒータの試作と評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0029]金ナノグレーティングによる光学変調 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0030]電子ビーム描画およびエッチング装置を用いた回転型可変焦点メタレンズの製作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0031]電子線描画及びダイボンダーを用いた光位相差変調素子の製作 		F-UT-127 エポキシダイボンダ―
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0032]TiNスパッタリングを用いた熱電子発電素子の製作 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0033]TiNスパッタリングを用いた赤外輻射光源の製作 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0034]可視域におけるシリコンナノ柱を用いた誘電体メタサーフェスホログラム 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0035]SOI基板への電子線描画と反応性イオンエッチングによる静電回転ステージの製作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0036]金属／誘電体テラヘルツ導波管の作製に向けた金属材料選択 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0037]高アスペクト比トレンチによる超臨界流体薄膜堆積法のプロセス解析 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0038]Si基板上への窒化物半導体成長に向けたSiCバッファ層の形成メカニズム解析 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0039]イオン伝導体セラミックス欠陥におけるイオン伝導特性の計測 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0040]半導体光導波路デバイスの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0041]マイクロ加工技術を利用した神経・心筋細胞の機能評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0042]グラフェンを用いたシリコンフォトニクスの研究 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0043]マイクロロボットに用いる静電モータの作製に関する試行利用 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0044]電界放出源の高出力化の研究 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0045]放射線が引き起こすSiO2中のキャリアダイナミクス 		F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0046]ナノ・マイクロ加工デバイスを利用したナノスケール熱伝導測定 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0047]Si熱電素子の加工と実装 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0048]サブミクロン表面微細構造を用いた間葉系幹細胞から骨芽細胞への分化制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0049]光触媒機能・超親水機能を兼ね備えた反射防止誘電体多層膜 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0050]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0051]P(VDF-TrFE)薄膜とCMOSのモノリシック構造による高感度超音波トランスデューサ 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0052]ナノホールパターン成型のためのナノインプリント原版作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0053]蒸発過程の計測に用いるナノ細孔膜の作成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0054]濡れ性パターン表面における脱濡れの計測 		F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0055]自励振動マイクロヒートパイプの作成と性能評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0056]OrigamiSpeaker: 導電性インクの印刷で作る折り紙スピーカー 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0057]レジスト用ポリマーのドライエッチング耐性試験 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0058]赤外プラズモニクスを活用した振動分光および化学反応制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0059]ナノインプリントプロセスにおけるエッチングレートの比較検討 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0060]銀薄膜の作製 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0061]静電容量式CMOS-MEMS圧力センサの試作 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-147 パリレンコーター
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0062]プラズモニックリニアナノモーター駆動マイクロマシンの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0063]細胞-FET型バイオセンサのためのノイズ低減構造の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-143 半導体パラメータアナライザー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0064]MEMSセンサの試作 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0065]中性子用イメージングセンサーの開発のための硼素成膜と位置分解能評価マスクの製作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0066]機械的大変形可能な 3D キラル THz メタマテリアル 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0067]Au回折格子と背面照射による電流検出型SPR化学量センサの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0068]角度可変MEMSによる検出波長走査可能なプラズモニック金回折格子型光検出器 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0069]尖塔構造を持つエミッタアレイの作製 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0070]有機系浮遊粒子状物質を検出するMEMS形センサの開発 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0071]暗い励起子から明るい励起子への変換機構 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0072]ナノビーム共振器中の架橋カーボンナノチューブにおけるPurcell効果 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0073]カーボンナノチューブの超解像光学イメージング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0074]Photoconductivity spectroscopy of individual carbon nanotube 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0075]Dielectric screening effects on photoluminescence of carbon nanotubes on hexagonal boron nitride 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0076]単層架橋カーボンナノチューブに対するアリルハライドを用いた気相機能化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0077]架橋カーボンナノチューブ発光ダイオード 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0078]導波路結合型カーボンナノチューブ光源 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0079]分子による架橋カーボンナノチューブの光物性チューニング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0080]MEMSの試作 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0081]はんだ接合部におけるCr/Ni/Au、およびCr/Auの溶解耐性と濡れ性 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0082]MEMSガスセンサ開発 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0083]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0084]Siウェハのステルスダイシング 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0085]平滑な金薄膜の形成と大気中低温接合への応用に関する研究 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0086]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0087]異分野融合によるタンパク質探索ツールの開発と応用 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0088]プラズマドライエッチングによるアルミニウムホールアレイの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0089]超短周期透過型回折格子の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0090]宇宙機用極低温ラジエータ材料の開発 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0091]レジストの露光特性 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0092]微細加工技術による機能性材料の物性に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0093]金ナノ粒子の幾何学的構造による近赤外共振デバイスの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0094]レジスト材料の性能評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0095]単分子電流計測技術を用いた生体分子の高感度検出手法の開発 		F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0096]Si深堀エッチング用保護膜の開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0097]境界設計によるバクテリア集団の秩序制御 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0098]ダイサーのトレーニング 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0099]Research on Photonic Integrated Circuits for OFDR sensing system 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0100]塩素系ICPエッチング装置(ULVAC CE-S)　Pt膜エッチングテスト結果 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0101]Rθ露光マスクレスリソグラフィ装置とDRIEを用いた8インチシリコンモールドの作成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0102]PtOx/ZnOショットキーダイオードの作製 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0103]サブマイクロ構造光学素子の試作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0104]大面積理想配列パターンを有するフレキシブルモールドの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0105]電子線描画装置を使用した薄水晶ウェハへのAu電極パターニング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0106]磁気光学効果の飛躍的増大を目指した精密制御微細構造の探索 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0107]ガスセンシングデバイスの作製 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0108]ナノスケール測定デバイスを用いた単一ナノ構造材料の電気・熱伝導性評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0109]トップダウン加工によるナノ流体デバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0110]光学測定用超伝導体薄膜への電極形成 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-138 高速ランプアニール装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0111]心筋細胞の拍動の力の計測 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0112]樹脂基板への金属膜の成膜 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0113]メッシュ型金ゲート電極MOSキャパシタの作製 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0114]亜鉛空気電池電極間反応その場TEM観察 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0115]高純度エッチングガスの評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0116]硬質材料の加工性検証 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-148 ニッケルメッキ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0117] バイオアッセイへの応用に向けたシリコン製マイクロ流体デバイスの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0118]らせん高分子による磁気抵抗率デバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0119]微細加工技術の開発 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0120]グレーティング型バイオセンサーデバイスのモールド作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0121]ゼロコンプライアンス式微小力測定装置の開発 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0122]線虫の塩走性における感覚・運動情報の統合メカニズムの解明 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0123]エッチングおよびステルスダイシングによる微細加工検討 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0124]サブマイクロ構造光学素子のパターン試作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0125]水中マイクロスイマーの精密な重量同定手法 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0126]SiC上Caインターカレート単層グラフェンの作製・電気伝導測定 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0127]Yb修飾グラフェン/SiCの作製・電気伝導測定 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0128]ウルトラクリーン単一カーボンナノチューブトランジスタの作製プロセスの研究 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0129]軟X線分光用不等間隔回折格子の作製と評価 		F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0130]非晶質酸硫化亜鉛をチャネル層に用いた薄膜トランジスタの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0131]樹脂へのナノ構造体形成 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0132]超伝導転移端センサの開発 		F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0133]ナノカーボン材料の電気特性評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0134]光アイソレータ用Si導波路の検討 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0135]光変調器に向けたシリコン格子の作製 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0136]FHEデバイスへのベアチップ実装 		F-UT-129 精密フリップチップボンダー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0137]エッチングによるマイクロレンズ構造の形成 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0138]SnO2ガスセンサの作製 		(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0139] SiO2の高速VHFエッチングの研究 		F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0140]シリコン薄膜メカニカル構造の作製 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0141]Development of a novel silicon nanodisk array for molecular sensing 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0142]GaAs上サブミクロン周期パターンの形成 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0143]微細構造体の機械特性評価 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0144]M/S/M共振器熱光起電力電池の製作および発電特性に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0145]塗布成膜有機/無機半導体の構造制御 		F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0146]熱活性化遅延蛍光薄膜の製膜プロセス最適化 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0147]ガラス製ナノ流路の加工と観察 		F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0148]有機膜の膜厚計測 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0149]微小気泡を用いた血液型診断用マイクロ流体デバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0150]微細加工試料を用いた全光学的光音響イメージング技術 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0151]ナノフルイディクスのための流路製作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0152]内視鏡レンズによる付着物の抑制技術／半導体微細加工(ナノ加工)を用いて防汚技術をインフラ技術へ展開 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0153]高温アニール樹脂膜の物性評価（膜厚、光学定数） 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0154]CYTOP 薄膜の形成 		F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0155]2D/3D微細積層構造からなる3次元細胞共培養基材 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0156]3次元微細構造を有するイオンゲル振動発電デバイス 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0157]プログラマブル微小体向け静電マイクロアクチュエータとワンチップ高電圧太陽電池 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-19-UT-0158]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-127 エポキシダイボンダ―
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0001]ALD 装置での TiO2膜の成膜レシピ開発 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0004]無電解メッキによる両面導通狭ピッチパッドアレイの試作 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0009](111)縦型2DHGダイヤモンドMOSFET : 六角形トレンチ構造による大電流動作・低オン抵抗化 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0010]有機高分子薄膜を基材とした電子デバイスの開発 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0014]熱可塑性ポリマー(TPE)の膜厚測定 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0015]XeF2によるシリコンエッチングの検討 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0016]圧電フィルムへの電極成膜 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0018]ALD 装置での TiO2膜材料の加熱温度の検証 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0019]decoy サイトが GFP 振動発現遺伝子回路に与える影響 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0026]熱電発電素子の開発 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0027]電流印加による純銅の疲労特性の改善とメカニズムの解析 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0029]ナノシリコンワイヤ型熱電発電デバイスの作製 		F-WS-130 ICP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0030]トレンチ構造を持つ縦型二次元正孔ガスダイヤモンド MOSFET の作製 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0031]酸化重合による芳香族ポリチオエーテルの合成および光学特性 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0032]アルミニウム合金と炭素繊維強化熱可塑プラスチックの直接接合の評価 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0033]既存の燃焼機器に対し着脱可能な有害物質に対する薄膜触媒の開発 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0039]Li 金属負極におけるリチウム析出形態にコインセル設計が与える影響の調査 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0040]Improvement of sensing capability on SOI platform by modifying the waveguide shape 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0041]FET バイオセンサの再利用化のためのめっき処理 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0042]酸素アニール処理によるダイヤモンドの酸素終端化 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0044]学生実験用のシリコンウェハーダイシング 		F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0045]銅基板表面の酸化の定量 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0048]フレキシブル熱電素子の開発 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0049]液体有機半導体の水溶液中での電界発光（Electro Luminescence）の検討 		F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0054]単結晶石英基板の直接接合による光学ローパスフィルタの作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0055]オンデマンド蛍光検出システムに関する基礎研究 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0056]マイクロパターン化魚うろこコラーゲンを用いた人工培養口腔粘膜の作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0057]木質系活性炭の吸着性と電気特性 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0058]フレキシブル木質炭素フィルムを用いた環境発電デバイスの改善に向けた基礎研究 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0060]Al 膜上におけるコロイダルリソグラフィ 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0062]液体有機半導体を用いた高彩度発光デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0066]一細胞レベルの菌培養デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0067]サブミクロンサイズのドロップレット生成デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0068]エッジ AI デバイスセキュリティに向けた NAM チップ実装技術 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0069]量子コンピュータの小型化に向けたマイクロ流体熱交換器の試作 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-132 Deep-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0073]3 次元ドロップレット生成デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-132 Deep-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0074]マルチシースフローデバイスを用いたファイバーバンドルの形成の基礎実験 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0075]規格化ナノチタン構造による生体反応制御技術の開発 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0079]微小液滴を利用したシングルセルゲノム解析 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0080]ラマン分光法を用いた微生物・細胞・組織の分光解析・遺伝子解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0091]磁気ビーズを用いたメッセンジャーRNA 精製法の検討 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0096]微小液滴を用いた化学反応の効率化、新規反応の探索 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0097]アモルファス中間層を用いた LiTaO3/水晶複合 SAW 基板の作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-136 接合装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0100]ITO 透明電極フレキシブル化のための研究 		F-WS-131 CCP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0101]ダイヤモンド FETs の高周波特性評価 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0103]ダイヤモンド電解質溶液ゲート FET を受信器とした新たな海中無線通信の開発 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0105] 熱酸化法による CuO ナノワイヤの生成メカニズムの解明およびスーパーキャパシタ用電 極への適用 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0109]自己修復性層状シロキサン系材料の機械的特性の向上 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0116]XeF2エッチングによるメカニカル振動子の作製 		F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0117]電極作製およびPEGの修飾評価 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0119]細胞シートの硬度測定 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0120]半導体素子の電気的特性評価 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0121]GaN 系デバイスの信頼性評価 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0122]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子、熱電デバイスおよび神経細胞回路の研究 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0123]シリカ製マイクロレンズアレイ型センサの作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0126]電子ビーム露光による回折格子の作成 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0127]電子線リソグラフィーを用いたダイヤモンド基板表面上でのナノホール規則配列作 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0128]偏光無依存の光スイッチの作製 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0132]ナノコンポジット絶縁薄膜の作製と分析 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0133]太陽アクシオン探査に特化した吸収体を持つ TES 型マイクロカロリメータの開発 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0137]反応性レーザーアブレーション法による貴金属添加酸化物ナノ粒子の生成 		F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0139]X 線吸収体のパターニング Fe 電析 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0140]神経細胞の培養 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0142]共焦点顕微鏡の構築 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0143]針電極を用いた神経細胞回路への電気刺激導入 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0146]生化学応用に向けた可視光応答性酸化チタン薄膜の作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0147]マイクロパターン上の神経細胞の活動計測 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0155]ナノホールレジストマスクの作製 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0158]Er 添加 Si ピラー構造の作製 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0159]神経細胞の活動計測 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0162]リソグラフィによるナノデバイスパターンの作製 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0165]ロボットグリッパ用微小突起の製作 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-132 Deep-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0171]FET バイオセンサによる非荷電分子検出の感度向上を目的とした認識界面の構築 		F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0172]非荷電の低分子検出に向けた半導体センサにおける競合法に関する検討 		F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0173]半導体センサの表面修飾 および特性測定 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0174]多能性幹細胞の安全性スクリーニング検査に向けた半導体センサの開発に関する検討 		F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0179]多孔性ポリオレフィン膜上へのアルミニウム薄膜の形成 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0180]AlN 薄膜の不純物濃度測定 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0183]微生物発酵試料における不溶性成分の分析 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0184]高耐圧化を目指した高周波ダイヤモンド MOSFETs の作製 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0186]高周波ダイヤモンド MOSFETs の作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0188]バライト砕石を用いた放射線遮蔽性能の研究 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0190]pH不感応なダイヤモンド電解質溶液ゲートFETの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0193]X 線吸収体の Fe 電析 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0196]薄膜ヒーターや混相流マイクロチャンネルの作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0199]ダイヤモンドを用いた電解質溶液ゲート FET(SGFET)による海中通信 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0200](111)超伝導ボロンドープダイヤモンドのみで構成されるジョセフソン接合の検討 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0202]リソグラフィ及びドライエッチングによるナノピラーパターンの作製 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-130 ICP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0203]神経細胞回路への局所刺激導入 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0204]マイクロパターン上で培養した神経細胞回路の活動計測と評価 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0205]混相流マイクロチャンネルの作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0207]ナノ光ファイバーの形状測定 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0208]超短周期透過型回折格子の作製 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0209]S/KB 複合化法の検討 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0210]リチウム硫黄電池適用に向けたレドックスメディエーター固定化正極の作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0211]リチウムイオンキャパシタ用電極材料-電析 Sn 負極の評価 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0212]圧電ポリマー用電極の検討 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0213]マイクロ流体デバイスの作製法と観察法の相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0214]マイクロ流体デバイスを用いた細菌一つのピックアップ 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-19-WS-0215]圧電ポリマーの低周波領域での発電特性の検討 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0001]黒リンをチャネルとした電気二重層トランジスタのための6端子作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0002]微小光学素子向け電子ビーム露光の大電流化による高速化に関する検討 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0003]スピン量子ビット実現に向けたIV族半導体量子ドットデバイスの作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0004]プラズモニック結晶における局在モードと格子モードの混成 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0005]低環境負荷プロセスで作製した機能性材料の微細構造観察評価 		F-IT-135 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0006]複雑な形状を有するマイクロ流路の製作 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0007]磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0008]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0009]ナノ構造スピンデバイスの試作に向けた電子ビーム露光装置で作製した位置合わせパターンのマスクレーザー露光機での検出及び位置合わせ技術の開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0010]コロイド型量子ドットとメタマテリアルの結合を用いた単一光子源の開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0011]天文観測用の接合型Ge遠赤外線検出器の高感度化への挑戦 		F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0012]液中分散非球形粒子の分離用マイクロ流路デバイスの開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0013]CVD法によるSiO2薄膜の形成 		F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0014]全自動成膜・評価とベイズ最適化を融合した高Liイオン伝導薄膜の創製 		F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0015]微小光学素子向け電子ビーム露光のビーム電流と露光時間に関しての検討 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0016]トポロジカルプラズモンモードの電子線分光ナノイメージング 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0017]InP:Si 埋め込みの試作 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0018]シリコン基板上の磁性ガーネットの製膜に関する研究 		F-IT-153 スパッタ成膜装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0019]埋め込み MRAM に向けたスピン流源 BiSb の熱耐久性の向上 		F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0020]強磁性半導体(In,Fe)Sb ホールセンサーの出力改善 		F-IT-127 コンタクト光学露光装置
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0021]MnGa 垂直磁化膜を用いた横型スピンバルブデバイスの作製 		F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-135 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0022]高精度細胞マニピュレーションのためのマイクロ流路デバイスの設計開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0023] 準ミリ波帯で動作する窒化物半導体トランジスタ増幅器の高耐圧・高出力化に関する研究 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0024]学部学生実験MOS集積回路作製 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0025]電子線励起によるプラズモニックナノ構造の研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0026]微小量子アンチドットにおける電子輸送 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0027]マイクロダイヤモンドの座標特定のためのパターン形成 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0028]単分子接合の物性計測に向けた微細加工電極の作製 		F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0029]微小光学素子向け電子ビーム露光のレジスト厚膜化に関する検討 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0030]Atomic Layer Deposition（ALD）によるAl2O3成膜 		F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0031]マイクロ液滴並列形成用スリットデバイスの開発 		F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0032]Au平板上におけるSiO2薄膜の形成 		F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0033]半導体レーザーによるSiアニール装置開発 		F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0034]絶縁体上磁気光学結晶基板の作製と磁気ナノフォトニクスへの応用 		F-IT-142 基板貼付け装置
F-IT-143 ウェハ洗浄装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0036]窒化シリコンメンブレン両面への電子ビーム露光による高屈折率低反射メタサーフェスの作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0037]InAsの塩酸エッチング 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0038]FIBエッチングを利用したスロット交差光導波路の製作 		F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0039]Zn2SiO4蛍光膜内包プラズモニック結晶の作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0040]InP系薄膜を用いた光電子集積回路に関する研究 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
F-IT-156 薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置
F-IT-157 フォトルミネッセンス測定装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0041]Si基板上への高屈折率低反射メタサーフェス構造の作製 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0042]光学回折素子のEB露光による作製 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0043]導波路光アイソレータを集積したInPリング共振器の研究 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
F-IT-156 薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置
F-IT-157 フォトルミネッセンス測定装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0044]光集積回路形成-結晶成長 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0046]超音速フリージェットPVD法を利用したSi導波層を有する磁気光学導波路の製作 		F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0047]磁壁移動観察のためのデバイスの試作 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0048]オンチップ光スキルミオン生成器の作製 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0049]FIB加工による電気化学STM探針の機械特性の向上 		F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-19-IT-0050]SiC基板のダイシング 		F-IT-155 ダイシングソー
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0001]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0002]スパッタ薄膜の耐久性改善 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0003]微細構造光学素子の作成 		F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0004]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0005]超臨界流体中でのPtエアロゲルの合成と燃料電池電極触媒への応用 		F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0006]暗黒物質探索用固体型飛跡検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン飛跡検出性能の評価 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0007]極小曲面をテンプレートとするナノ薄膜合成 		F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0008]省エネルギー社会の実現に資する次世代半導体研究開発 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0009]薄膜金属ガラスを用いた超小型高感度静電容量型圧力センサの研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0010]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0011]3d遷移金属添加AIN薄膜の結晶構造の解明 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0012]超小型速度・濃度計測用プローブの開発 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0013]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作 		F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0014]高純度同位体シリコンエピ基板上の量子デバイス作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-225 原子層体積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0015]新規磁区測定手法開発のための金属磁性体薄膜の作成 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0016]樹脂表面の改質効果 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0017]微細加工表面での動的接触角決定機構の解明 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0018]ナノ―オーダーの周期構造を用いた光学素子の作製に関する研究 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0019]高分子材料及び二次元ナノ材料への光共振器導入とレーザー素子の作製 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0020]天文観測用の接合型Ge遠赤外線検出器の超薄層化・高感度化への挑戦 		F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-208 プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0021]新規表面活性化接合の開発 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0022]薄膜金属ガラス製ダイアフラム構造体の応力制御 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0023]カーボンナノチューブ膜へのパリレンコーティング 		F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0024]トンネル接合の作製およびカーボンナノ物質成長制御 		F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0025]真空紫外光を透過する透明高抵抗膜の開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0026]UV硬化型材料の性能評価 		F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0027]磁性/非磁性の多層構造を有する単一磁性ナノワイヤーにおける巨大磁気抵抗効果の観測 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0028]Study of the Synechocystis sp. PCC 6803 cells in response to environmental stress by using on chip space-time control 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-182 スプレーコーター一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-195 SEM用断面試料作製装置
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0029]新生児生体信号の非侵襲モニタリング 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0030]バイオニックヒューマノイドのシステム統合と眼球モデルの開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0031]CVD成長したWS2原子層を用いた高移動度デバイス作製法の開発 		F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0032]フェムト秒レーザによるサファイア極小径深穴開け加工の研究 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0033]微細加工技術を用いた細胞圧縮用マイクロデバイスの作製 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0034]細胞培養マイクロデバイスの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0035]電極開発 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0036]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0037]飛翔体搭載用素子開発 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0038]生体適合性向上を目指した機能性チタン表面の作製と評価 		F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0039]光励起誘電体ナノ構造の創る磁気増強場でのキラル核形成 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0040]窒化ガリウムパワーデバイスの作製プロセスおよびデバイス構造の研究 		F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0041]急速昇温熱処理によるシリコンウェーハ内部の欠陥形成挙動の調査 		F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0042]マイクロロボットの開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0043]窒化物半導体可視光センサの開発に関する研究 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0044]超臨界流体急速膨張法によるカロテノイドナノ粒子の調製 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0045]テンプレート熱分解法による多孔酸素窒素ドープ炭素材料の合成とスーパーキャパシター電極への応用 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0046]多次元・マルチスケール特異構造の作製と作製機構の解明 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0047]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0048]AZO膜を用いたLow-Eガラスの日射熱取得率 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0049]光応答性液晶側鎖およびアモルファス側鎖ランダム共重合体を用いたサブ10nmパターン形成 		F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0050]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0051]高密度ラジカル源の高信頼性化・高付加価値化のための要素技術開発及び評価 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0052]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発 		F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0053]高精度ガラスエッチングの開発 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0054]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0055]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0056]次世代ドライエッチング技術の開発 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0057]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析 		F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0058]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0059]プラズマ中の原子状ラジカル解析 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0060]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0061]各種材料の反応性プラズマのエッチング特性 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0062]次世代材料のプラズマエッチングの開発 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0063]絶縁膜/ワイドギャップ半導体界面における欠陥評価および欠陥低減プロセスに関する研究 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0064]トップコート膜の作製 		F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0065]細胞および生体モデルを対象とした医療機器開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0066]半導体フォトカソードの微細加工に関する研究開発 		F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0067]Fabrication and Characterization of Gold (Au) & Bismuth (Bi) thin film, CoFeB-based GMR thin film 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-216 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0068]アクリル樹脂基材上へのSiO2膜作製検討 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0069]プラズマ処理した酸化物膜の表面分析 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0070]ガラスマスクの作成 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0071]ガラス基板上の誘電体スラントグレーティングの作製 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0072]セラミックス微粒子を担持した金属・高分子基板表面の3次元形状測定 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0073]骨含有元素との合金化による生体適合性チタン合金の開発 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0074]食品廃棄物からの高付加価値物の回収 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0075]表面改質した炭素繊維の分析 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0076]シリコン光機能デバイスの試作 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0077]熱処理によるSiウェーハへの影響の調査 		F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0078]Ge基板上へのⅢ-V族化合物半導体薄膜の形成 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0079]強誘電体薄膜キャパシタ向け白金電極の作製と評価 		F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0080]Cu合金膜およびTi合金膜のエッチング性評価 		F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0081]半導体電極開発 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0082]酸化物型全固体リチウム二次電池に用いる集電体金属膜の作製 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0083]レーザーによる微細加工の研究 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0084]ダイヤモンド内部への変質線形成 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0085]パワーデバイス用GaN基板の評価 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0086]スパッタリング収率の結晶方位依存性 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0087]高効率LEDに関する研究 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0088]Unidirectional thermal conductivity enhancement in yttrium Iron garnet due to the effect of spin waves 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-166 スパッタ絶縁膜作製装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0089]コンビナトリアル手法による軟磁性合金の組織傾斜材料の作製とその測定 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0091]SiC上グラフェンの界面制御と化学結合状態分析 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0092]液中プラズマと超音波の併用によるナノグラフェンの合成 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0093]シリコン中のドーパントのアニールによる拡散評価 		F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0094]CFRTP/Al合金複合平板の接合強度評価 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0095]強磁性CoPtスパッタ膜の規則化 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0096]SiC結晶中の歪評価 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0097]ナノバイオデバイスの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0099]Si赤外線受光素子に関する研究 		F-NU-208 プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0100]セラミック材料の耐プラズマ性の評価 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0101]Cs-K-SbによるGaAsのNEA活性化 		F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0102]ケイ素鋼板の磁気特性測定 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0103]非反転対称性磁性体の作製と新規スピン光機能の探索 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-19-NU-0104]ウェアラブル機器搭載を見据えた超薄型熱輸送デバイスの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0001]溝形成ウエハへのパターニング 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0002]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0003]微細加工技術による立体サンプル形成と高機能化（マイクロヒータの製作） 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0004]高輝度化された陽極酸化被膜型感圧塗料の応答特性評価 		F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0005]シリコンオプティカルベンチ用レジストプロセス 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0006]走査プローブ顕微鏡を用いた表面科学研究 		F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0007]カーボンナノチューブのパターニング合成による撥水基板の作製と制御 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0008]GaNなどの化合物半導体デバイスの研究開発 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0009]ナノカーボン材料を用いたバイオセンサーのための分子系の開発 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0010]両極性伝導体における無損失スピン流の発生と共鳴ホール効果 		F-TT-223 多機能薄膜作製装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0011]水溶性ポリマーの微細加工応用の高度化 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0012]スピンエレクトロニクスの研究 		F-TT-223 多機能薄膜作製装置
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0013]CVDグラフェン単結晶を用いたゲルマネン合成 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0014]ナノカーボンの構造評価 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0015]多層グラフェンナノリボンの電気特性評価 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0016]塩ビ樹脂の劣化予測指標に関する研究 		F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0017]反強磁性結合構造をもつ強磁性細線の磁壁構造に関する調査 		F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0018]透明電極パターンの試作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0019]サブミクロンパターンを持つ流路デバイス用マスクの作製 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0020]微細パターン加工 		F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0021]カーボンナノチューブ合成におけるシリコン酸化膜厚の影響 		F-TT-211 ダイシング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0022]切削加工面性状の面品位の定量化 		F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0023]新半導体デバイスの熱処理 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0024]可視光型光触媒への応用を目指したCuドープZnSの作製と評価 		F-TT-232 絶対ＰＬ量子収率測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0025]第33回 半導体プロセス実習･講習会の受講 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0026]フォーミングガスアニールによるGaN-MOS界面の改質 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0027]鏡面鋼材への微細構造の加工 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0028]光学センサ応用を指向したナノインプリント用金型の作製 		F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0029]シリカガラス中のＰ周辺構造の探索 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0030]細胞に刺激を与えるためのマイクロ構造付き基板の試作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0031]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究 		F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0032]磁性体の磁区構造観察 		F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0033]シリコン中のドーパントのアニールによる拡散評価 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0034]インプラント型デバイスのための最小スペース微細配線技術 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0035]透明電極パターンの試作 		F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0036]ALD膜の酸化状態に基板表面状態が及ぼす影響 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0037]撥水処理剤の応用検討 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0038]草本系バイオマスのガス化における共存ガスの影響 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0039]ゾルゲルガラスの膜厚測定 		F-TT-214 エリプソメーター
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0041]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(1)Ｘ線構造回析技術の習得」講習会の受講 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0042]Al2O3薄膜の形成 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0043]カー顕微鏡を用いた新奇窒化物スキルミオンの直接観測 		F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0044]マイクロコイルの試作検討 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0045]天文学観測用Volume binary (VB) gratingの製作法の開発 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0046]フォトリソグラフィーによる小片基板へのパターン形成 		F-TT-202 マスクアライナ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0047]PDMSマイクロ流路作製体験コース 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0048]高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(2)赤外ラマン振動解析の基礎と応用講座の受講 		F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0049]細胞に電気刺激を与えるためのマイクロ電極対の試作 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0051]金属のプラズマエッチング 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-233 イオンミリング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0052]センサ電極形成のための金属成膜 		F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0053]磁性膜を利用したグアニン結晶の磁気アシスト法に関する研究 		F-TT-223 多機能薄膜作製装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0054]2019年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0056]プラズマ曝露に対するセラミック材料の耐性評価 		F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0057]新半導体材料の評価 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0058]ダイヤモンドNVセンター生成と計測 		F-TT-232 絶対ＰＬ量子収率測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-19-TT-0059]天文学観測用の新しい回析格子の製作法の開発Ⅲ 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0001]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0002]カーボンナノチューブを用いた極性分子吸着ガスセンサの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0003]キラル置換型ポリメタフェニレンエチニレンの凝集状態でのキラル反転 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-19-KT-0004]Observation of grinding tools 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-19-KT-0005]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究（１） 		F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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[F-19-KT-0006]光応答性液晶エラストマーのナノ構造解析 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0007]表面プラズモン共鳴を利用したポンププローブ分光計測における高感度化の検討 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0008]アパタイト核の複合化による生体活性骨修復材料の開発 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-19-KT-0009]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現（１） 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0010]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用（１） 		F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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[F-19-KT-0011]窒化物半導体のデバイス作製 		F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-19-KT-0012]接触面の形状計測 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-19-KT-0013]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-19-KT-0014]超高エネルギー密度、本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発（１） 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-19-KT-0015]マイクロ流体デバイス 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-19-KT-0016]人口減少社会へむけた上水道システムの持続的再構築に関する総合研究 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-19-KT-0017]プラズマエッチング装置用新規機能部品の開発（１） 		F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0018]誘電泳動力を用いた粒子整列用マイクロデバイス開発（１） 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-19-KT-0019]半導体異種材料接合の研究（１） 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0020]プラズモンによる低光エネルギー駆動スイッチグデバイスの実現 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-19-KT-0021]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（１） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0022]エッチングによる金属表面の形状制御 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-19-KT-0023]ペンタアザフェナレンを含む共役系高分子の膜厚評価 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-19-KT-0024]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-19-KT-0025]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造（１） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
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[F-19-KT-0026]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発（１） 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-19-KT-0027]三相界面における蒸発現象関す実験的研究 		F-KT-227 紫外線露光装置
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[F-19-KT-0028]各種光閉じ込めデバイスへの結合素子および機能基礎研究 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-19-KT-0029]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発（２） 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-19-KT-0030]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究 		F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-19-KT-0031]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0032]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0033]高分子材料の表面形状観察 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-19-KT-0034]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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[F-19-KT-0035]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0036]液体ジェット生成用金属ノズルの開発 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0037]半導体デバイス組立て材料の高温環境試験に関する研究 		F-KT-257 ダイシングソー
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[F-19-KT-0038]YIGリング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測（１） 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0039]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0040]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-19-KT-0041]LiPO3ガラスの熱起電力特性 		F-KT-288 セルテストシステム
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[F-19-KT-0042]バイオマス由来微粒子の特性分析 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-19-KT-0043]半導体および絶縁体のナノ構造評価 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-19-KT-0044]窒化物半導体光集積デバイスの作製 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0045]プラズマエッチング装置用新規機能部品の開発（２） 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-19-KT-0046]MEMSデバイス 		F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-19-KT-0047]シリコンナノグレーティング構造の作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-19-KT-0048]ナノインデンターによるSiフォノニック結晶の機械的特性評価 		F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-19-KT-0049]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性および誘電率変化の研究 		F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
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[F-19-KT-0050]熱起電モジュールの作製 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0051]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-19-KT-0052]接触面の形状計測 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-19-KT-0053]DNA上のタンパク質の動態研究 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0054]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-19-KT-0055]平板のゼータ電位測定 		F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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[F-19-KT-0056]COPレプリカモールドでの熱ナノインプリント 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-19-KT-0057]薄膜ピエゾの圧電特性 		F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-19-KT-0058]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造（２） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
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[F-19-KT-0059]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する研究 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-19-KT-0060]装置磁気中性線放電ドライエッチング装置によるSiO2のドライエッチング 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0061]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成（１） 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0062]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-19-KT-0063]半導体プロセス基礎実験（１） 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0064]医療用マイクロデバイスのプロセス開発 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0065]センシング応用に向けた光集積技術開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0066]ECRエッチングプロセスを用いた有機膜の加工 		F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0067]MEMSガスセンサの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0068]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成（２） 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0069]静電駆動型MEMS振動子の周波数制御に関する研究開発 		F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
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[F-19-KT-0070]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製 		F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-19-KT-0071]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0072]半導体プロセス基礎実験（２） 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0073]TEER計測用電極付マイクロ流体デバイスの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0074]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0075]超高エネルギー密度、本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発（２） 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-19-KT-0076]固体中におけるスピン流輸送現象の解明 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-19-KT-0077]細胞接着制御基板の作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0078]新規フッ素化合物電池材料の結晶構造解明 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-19-KT-0079]有機溶媒中のLi-P-S-Clの溶解度測定 		F-KT-235 ICP質量分析装置
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[F-19-KT-0080]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究（２） 		F-KT-253 基板接合装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-19-KT-0081]半導体異種材料接合の研究（２） 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0082]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0083]圧電ミラーデバイスの開発 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-19-KT-0084]250℃耐熱フレキシブル熱電発電モジュールの実用化開発 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0085]ペンタアザフェナレンを含む共役系高分子の膜厚評価 		F-KT-274 X線回折装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-19-KT-0086]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現（２） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-19-KT-0087]量子もつれ光発生のための高精度窒化シリコンリング共振器の実現（１） 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0088]金属構造によるテラヘルツ電場増強と電子状態の解明 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
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[F-19-KT-0089]MEMSアレイセンサを用いた乱流熱伝達の評価手法に関する研究 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0090]センシング応用に向けた光集積技術開発（２） 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0091]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発（２） 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-19-KT-0092]ポーラスシリコン電極への金属めっき 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0093]RF-MEMSデバイスの研究 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0094]運動による細胞集団相分離メカニズムの階層横断的理解 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0095]現場で使える簡易検査用マイクロ流体デバイスの研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0096]高分子材料のXRDスペクトル分析 		F-KT-274 X線回折装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-19-KT-0097]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-19-KT-0098]微細構造面における伝熱に関する研究 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0099]YIGリング共振器を用いたマグノンーフォトン結合の観測（２） 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-19-KT-0100]静的光散乱による線状高分子の慣性半径の評価 		F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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[F-19-KT-0101]生体外における腎機能と腎毒性評価のための近位尿細管チップの製作 		F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-19-KT-0102]高温環境下におけるプラズマ診断用電気素子の研究開発 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-19-KT-0103]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-19-KT-0104]銀膜/焼結銀界面結合強度における銀膜の結晶粒構造の効果 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0105]シリコンの化学エッチングによるレーザー照射用構造性ターゲット作製（１） 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0106]クレッチマン型表面プラズモンセンサにおける金属薄膜の膜厚測定 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0107](100)単結晶シリコンを用いた同調型振動リングジャイロスコープにおける形状補償 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0108]イオン液体エレクトロスプレースラスタの二段電極作製に向けたガラスの貫通加工 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-19-KT-0109]シリコンの化学エッチングによるレーザー照射用構造性ターゲット作製（２） 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0110]ナノインプリントを用いた蛍光材料の高性能化（１） 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-19-KT-0111]厚さを制御した高分子膜被覆による銀ナノ構造プラズモン共鳴のチューニング 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0112]誘電泳動力を用いた粒子整列用マイクロデバイス開発（２） 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-19-KT-0113]DOE（回折光学素子)の試作検討（１） 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0114]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-19-KT-0115]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0116]令和元年度ナノテクノロジープラットフォーム学生研修プログラム 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0117]プラズモニック金ナノ構造集積MEMS共振器の作製と応用 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-19-KT-0118]ナノ粒子二量体配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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[F-19-KT-0119]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製（１） 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
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[F-19-KT-0120]生体分子、細胞、組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発（１） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-19-KT-0121]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-19-KT-0122]微細メッシュ構造を用いた細胞接着制機能制御（１） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-19-KT-0123]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（２） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-19-KT-0124]MHz帯の超音波検出用表面プラズモン共鳴センサの作製 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0125]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-19-KT-0126]ポーラスシリコン電極への金属めっき 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-19-KT-0127]ナノフォーム 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-19-KT-0128]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-19-KT-0129]塗布型太陽電池の薄膜構造評価 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-19-KT-0130]脂質膜リポソーム上プリオン様タンパク質の動態変化 		F-KT-268 高速液中原子間力顕微鏡
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[F-19-KT-0131]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現（３） 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0132]DNAカーテン法を用いてDNA上のタンパク質の動態を明らかにする（１） 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0133]DNAカーテン法を用いてDNA上のタンパク質の動態を明らかにする（２） 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0134]量子もつれ光発生のための高精度窒化シリコンリング共振器の実現（２） 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0135]ナノインプリントを用いた蛍光材料の高性能化（２） 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0136]スパッタ法による電極薄膜の作製 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
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[F-19-KT-0137]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造（３） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0138]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製（２） 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-19-KT-0139]弾性表面波を用いた高精度・高効率アクチュエータの開発 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-19-KT-0140]弾性表面波を用いた高精度・高効率アクチュエータの開発 2 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-19-KT-0141]金ナノギャップ配線の作製と電気的評価 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0142]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-231 スプレーコータ
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[F-19-KT-0143]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成（２） 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0144]RF-MEMSデバイスの研究（２） 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0145]生体分子、細胞、組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発（１） 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0146]二次元ナノ材料に対する局所機械的特性評価方法の開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-19-KT-0147]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用（２） 		F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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[F-19-KT-0148]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス（２） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0149]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価（２） 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0150]生体分子、細胞、組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発（２） 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0151]ポリマ光変調器の低消費電力化 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0152]半導体および絶縁体のナノ構造評価（２） 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0153]接触面の形状計測（３） 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0154]微細メッシュ構造を用いた細胞接着制機能制御（２） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0155]マイクロ流体デバイスを使った非アルコール性脂肪性肝疾患モデルの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0156]マイクロデバイス成形用樹脂モールドの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0157]PECVD-DLC傾斜多層膜を被覆したSi微小構造体の引張強度特性 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0158]固体中におけるスピン流輸送現象の解明（２） 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0159]CUPAL (Nanotec Career-up Alliance) マイクロ流路デバイスコース2019年 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0160]動物用心拍数測定デバイスの作製 		F-KT-298 パリレン成膜装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0161]SiとSOIウエハを用いたSiトーションミラーデバイスの開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0162]メカノバイオロジーを利用した細胞挙動制御法の開発 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0163]新規フッ素化合物電池材料の結晶構造解明（２） 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0164]超高エネルギー密度、本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発（３） 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-19-KT-0165]基板上へのAl微細パターンの形成 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0166]医療用マイクロデバイスのプロセス開発（２） 		F-KT-253 基板接合装置
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[F-19-KT-0167]フォトリソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とMEMSプロセス開発 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0168]フォトリソグラフィによる微細構造を有する光学素子の作製 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0169]DOE(回折光学素子)の試作検討 （２） 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0170]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成（２） 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0171]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製（２） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0172]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-19-KT-0173]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-19-KT-0174]MEMSジャイロ高精度化のための微細加工調整プロセスの試行 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0175]フィブロイン基質上とSAM上における軟骨細胞挙動の比較 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0176]ペプチドナノチューブの電気的特性の解析 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0177]食糧タンパク質の品質に関する研究 		F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
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[F-19-KT-0178]レーザダイシング装置を用いた超小型植物水分動態センサチップの切断 		F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-19-KT-0179]臨床検査デバイスの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-19-KT-0180]フォノニック結晶の温度特性解明に関する研究 		F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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[F-19-KT-0181]3次元加工性を有するセルロースナノファイバー強化樹脂材料の開発 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-19-KT-0182]CUPAL (Nanotec Career-up Alliance) 圧電デバイスコース2019年 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-306 強誘電体特性評価システム
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-19-KT-0183]臨床検査デバイスの開発（２） 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-19-KT-0184]レジストの塗布膜厚と残膜厚の関係 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-19-KT-0185]圧電デバイスの作製と評価 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-19-KT-0186]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する研究（２） 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-19-KT-0187]ボールボンディングによるMEMSデバイスの電気的接続 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-262 ボールワイヤボンダ
F-KT-258 真空マウンター
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[F-19-KT-0188]MEMSへき開創製した間隔制御電極におけ真空電子放出 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-19-KT-0189]ニオブ酸リチウムディスクジャイロスコープ 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-19-KT-0190]光吸収体集積マイクロ振動子を用いた近赤外光センサにおける梁形状の影響 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-19-KT-0191]マイクロプラズマアクチュエータの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0001]位相型フレネルゾーンプレートの製作 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0002]光バイオセンサの研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0003]主鎖切断型電子線レジストの改良検討 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0004]金属・誘電体ハイブリッド型メタマテリアル 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0005]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0006]電子線リソグラフィーにおけるレジストプロセス 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0008]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0009]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0010]ナノ可視化法の開発による染色体研究 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0011]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0012]ワイヤーグリッド型偏光板の作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0013]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0014]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 		F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0015]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0016]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0017]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0018]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0019]高結晶性ナノカーボン材料の創成とデバイス応用 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0020]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0021]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0022]微細金属構造を用いたナノ分光技術の開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0023]微小電極付きマイクロ・ナノ流路の作製 		F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0024]ナノピラーとナノポアを集積化したマイクロ流体デバイスの開発 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0025]半導体マイクロ球の内部観察 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0026]ナノ材料の変形・破壊に及ぼす応力集中の影響 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0027]ヘリウムイオン顕微鏡による試料観察 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0028]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0029]高感度ナノウイルスセンサの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0030]フォトニック結晶レーザの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0031]グラフェンの層数及び、分散状態の評価 		(登録なし)
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[F-19-OS-0032]量子ビームによる次世代微細加工材料の研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0033]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0035]次世代半導体向け極薄Ni配線・拡散防止膜の電気特性評価 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0037]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0038]金属/半導体積層構造を用いた高性能熱電材料の開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0039]光コーティング材のインプリント性試験 		F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0040]ダイヤモンドデバイス研究 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0041]超伝導ナノデバイスの開発 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0042]自立膜を用いた高精度音響減衰測定のためのSi基板エッチング 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0043]赤血球の変形能の測定 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0044]EB照射によるレジスト解像性検証 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0045]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0046]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0047]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡（GIS機能含む）を用いた染色体の構造解析 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0048]薄膜の分析 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0049]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0050]強相関酸化物素子における直流電流誘起された電子相の開拓 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0051]スパッタ装置によるAu成膜形成 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0053]ナノポア型ナノ共振器の作製と評価 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0055]グラフェンデバイスの作製 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0057]高電流密度下でのSn-Agはんだのエレクトロマイグレーション現象 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0058]有機半導体中のスピン流計測 		(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0059]シングルナノメートル以下の超高精密空間光制御技術の開発 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0060]レジスト材料の感光性試験 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0061]雰囲気光電子分光用ノズルの開発 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0002]SiO2をコアとするチャネル型プラズモニック導波路作製 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0005]超小型赤外分光イメージング装置における干渉鮮明度向上の為の回折格子作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0007]GaN系半導体・光電子デバイスの開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0008]半導体GaAsを用いた強磁性Feパタン埋め込み構造の作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0015]Su-8の厚膜レジストを用いた構造体の形成 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0017]THz帯カットワイヤメタマテリアルの作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0020]医療用センサの製作 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0023]Siのニードル形状加工 		F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0024]半導体の物性評価 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0033]マルチスリットの作製 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0034]マイクロ合金トランジスタ作製用デバイスプロセスに関する研究 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0035]選択熱拡散の微細化に関する研究 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0040]臓器の層間滑りを検知する内視鏡用センサの開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0045]構造色変化によるセンシングの研究 		F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0049]金属破断面から金属破壊モードの推測 		F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0051]磁気テープの表面形状の測定 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる超硬材料の先鋭加工 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0054]超硬工具の面粗さ測定 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0057]温度補償に用いる測温抵抗体の形成 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0058]絶縁性基板上への電極形成 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0059]遺伝子導入に向けた細胞配列用デバイスの開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0064]採卵鶏におけるメラトニン摂取が卵殻及び骨組織に及ぼす影響の探索 		F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
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[F-19-GA-0069]薬剤注入用マイクロ流路構造の製作 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0070]分光光学系に用いるSi格子構造の作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0071]THz帯双曲線メタマテリアルの作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
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[F-19-GA-0072]豆粒大中赤外分光器の感度及び干渉鮮明度向上を目指した透過型回折格子作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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[F-19-GA-0073]ミラー一体型SUSリングへのミラー面への高反射膜形成 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0074]漏水検知システム用マイクロ光学部品の作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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[F-19-GA-0075]イオンビーム照射による酸化物半導体ガスセンサの表面改質 		F-GA-323 イオンシャワー
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[F-19-GA-0076]微細ナノ構造の作製 		F-GA-317 電子線描画装置
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[F-19-GA-0077]有機薄膜デバイス作製のための微細加工 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
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[F-19-GA-0078]クロム膜の透過性確認 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
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[F-19-GA-0079]光センサのキー部品であるMEMSシリコン構造体の試作 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0080]位相シフターのミラー面の金の成膜と評価 		F-GA-321 真空蒸着装置
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[F-19-GA-0081]静電触覚ディスプレイの試作 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
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[F-19-GA-0082]ZnSe系ハイブリッドAPDの開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0083]ニューラルネットワークに向けたセンサ開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-19-GA-0084]せん断加工用デバイスのサブマイクロメートルの形状変化がせん断品に与える影響調査 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0001]Ar ガスを用いた プラズマ エッチング量調査 		F-RO-369 表面段差計
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0002]ラザフォード後方散乱測定装置を用いた無機系の蒸着膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0003]ダブルゲート・ジャンクションレスn-ch 多結晶ゲルマニウム薄膜トランジスタの開発 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0004]負性容量４端子 poly Si TFT の開発 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0008]分子性金属酸化物をコートした SiO 2 薄膜の電気化学特性の評価および製造プロセスの検討 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-356 デバイス測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0009]太陽電池の製作 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-371 汎用熱処理装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0010]太陽電池の製作と基礎実験 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0011]半導体薄膜接合技術の応用研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0012]金属ナノパターンによる光波制御 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0013]有機トランジスタの試作 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-376 真空蒸着装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0014]金属ナノ粒子標的に対するスパッタリング収率の入射イオンエネルギー依存性 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0015]p 型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入 		F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0016]微生物を分離培養する新規なデバイスの開発 		F-RO-373 PDMS加工装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0018]低温成長 GaAs 系混晶半導体の熱処理前後の評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0019]連結したスクエアリング形状によるメタマテリアル完全吸収体の研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0020]低温成長GaAs系混晶半導体の表面形状の観察 		F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0021]GeコアSi量子ドット発光デバイスの開発 		F-RO-333 酸化炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0022]電子顕微鏡による含水サンプルの観察のためのDLC 薄膜の開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0023]低温で成長した数原子層 As 系化合物半導体の組成解析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0024]スピンデバイス開発に向けた横型スピンバルブ素子の作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0027]低温成長GaAs系混晶半導体の導電性制御 		F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0029]フォトクロミック金属酸化物の蓄電性能の確認 		F-RO-369 表面段差計
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0030]ビチオフェンジオン系ポリマーにおける構造異性体が電荷輸送特性に与える影響 		F-RO-375 ダイサ―
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0032]非加熱プロセスでの酸化ニッケル膜の作製 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0034]CMOS　NAND回路による半加算器 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0037]CMOS 論理回路 		F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-356 デバイス測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0038]大面積プラズモニック基板の作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0039]スパッタ法で形成した薄膜太陽電池材料の組成比制御 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0040]ナノワイヤバイオセンサの作製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0042]ダイヤモンド薄膜の色中心に関する研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0043]SIMS分析によるGeのCu金属誘起固相成長のメカニズムの解明 		F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0044]高空間分解能イオンセンサーの開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0045]イオン照射によるプラスティック上導電性DLC形成技術の研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0048]セレン化銅薄膜の熱電特性 		F-RO-369 表面段差計
F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0049]化学液相法による硫化銅系薄膜の合成と熱電特性 		F-RO-369 表面段差計
F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0050]単結晶粒 Si/Ge 薄膜トランジスタの作製 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0051]分子性金属酸化物を用いたキャパシタ型デバイスの開発および特性評価 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-376 真空蒸着装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0052]金属ナノ粒子の形成を目指した，脂質膜を反応場とする化学還元法の開発 		F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0053]透明基板上GeSn発光・受光素子の開発 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0054]細菌による重金属イオン回収およびその副産物のキャラクタリゼーション 		F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0055]RTAによる強誘電体HfZrOxの形成 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0056]イオン注入による炭化ケイ素への単一光子源の生成 		F-RO-333 酸化炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0057]MEMSプロセスの技術面，教養面の支援 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-373 PDMS加工装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0058]薄膜評価用チップの作製を目的とした電子線描画装置の検討 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-19-RO-0059]アレイ化光リング共振器チップの光学特性評価 		F-RO-374 光学スペクトル測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0001]新規半導体材料の開発 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0002]MEMS技術を用いた機能性表面の創製 		F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0003]新規ポリマー型レジストのドライエッチング耐性評価 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0004]スパッタ装置を用いた W 基板への W 堆積層形成 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0005]各種金属の真空用表面処理の開発 		F-YA-354 ガス放出速度測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0006]超音波振動液滴室温ナノインプリントによるDLCマイクロギヤの作製 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0007]透明ポリイミドフィルムの開発 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0008]新規機能性樹脂の開発 		F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0009]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0010]水性亜鉛イオン二次電池のためのフレキシブル層状 MnO 2 正極の開発 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0011]電気二重層キャパシタから発生するガスの分析 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0012]金属含有DLCの研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0013]宇宙空間 におけるオルガノイドの長期 維持法の確立 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0014]複合材料を用いたマイクロヒータの開発 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0015]水分解触媒電極のための製膜と膜厚測定 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0016]感光性樹脂の研究 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0019]強磁性薄膜・微粒子とスピン流の相互作用に起因する磁化ダイナミクスに関する研 究 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0020]イオン注入を利用した新しいスピンホール効果材料の開発 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0021]電子線描画装置によるナノパターンの作製 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0022]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0023]新規組成ポジ型レジストの露光評価 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0024]新型ガス分析器の基礎特性の調査 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0025]焼却灰を使用したジオポリマー硬化体から放散される揮発性有機化合物(VOC)の測定 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0026]アルミニウム合金の真空特性 		F-YA-354 ガス放出速度測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0027]分子フローコントローラーによる真空計校正の検証 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0028]O/Nb 比を変えて製膜した非晶質酸化ニオブ薄膜中に存在する水素原子の比率 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0029]機械加工面形状測定用 MEMS デバイスの開発 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0030]陽極酸化処理したアルミニウム合金の真空特性評価 		F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0031]微細構造による濡れ性制御 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0032]GeAu 同時蒸着金誘起層交換成長法で作製した結晶性Ge 薄膜の電気伝導特性 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0033]シリコンおよびジンクセレン半球への銅スパッタ 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0034]水素チャージ処理による金属表面状態変化に関する検討 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0035]伸線加工を施した磁性材料の磁気特性変化の観察 		(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-19-YA-0036]ZnSe系ハイブリッドAPDの開発 		(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0001]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0002]微小孔アレイと微小電極アレイを有する細胞解析デバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0003]マイクロ電極を用いたバイオ応用 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0004]光エネルギー変換デバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0005]多様な形状を有する電極の作製による電気物性評価 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0006]高精度MEMS 傾斜センサの開発 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0007]ウェハパターンめっきの形状、分析 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0008]パワー半導体デバイスの研究 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0009]バイオマイクロデバイスの製作 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0010]位置検出型ガンマ線マイクロカロリメータの開発 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0011]MEMS 熱流束センサーを用いたミニチャネル内流動沸騰の研究 		F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0012]パワーデバイス用Ni マイクロメッキ接合の高温信頼性の研究 		F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0013]Si メタサーフェスの作製 		F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0014]ペロブスカイト薄膜の熱電特性 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0015]歯科用CAD/CAM コンポジットレジンの接着特性 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0016]３次元パワーSupply on Chip のプロセス技術の開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0017]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0018]MOS 構造サンプルを用いたシリコンウェーハのCV 特性評価 		F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0020]ダイヤモンドトランジスタの微細ゲートとプロセス用フォトマスクの作製 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0021]機械加工面形状測定用MEMS デバイスの開発 		F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0022]水晶を用いた高感度MEMSセンサの開発 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0023]機能性伝熱面の作製 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0024]デバイス試作および試作品解析 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0025]血液凝固検出用光センサチップの開発 		F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0026]イオン注入によるコンタクト形成方法の調査 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0027]Al-SiO2 サーメットの生成 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0028]小角X 線溶液散乱のためのマイクロ流体デバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0029]ナノ機能材料の合成及びナノエネルギーデバイスへの応用 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0030]感光性樹脂の研究 		F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0031]ヒータ作製 		F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0032]誘電泳動デバイスの開発 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-19-FA-0033]CMOS 集積回路要素技術実習 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)