利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学ナノテク融合技術支援センター微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学微細加工プラットフォーム]　
[東京大学超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名	利用装置名
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0001]赤外線カメラを用いた微細流路内の沸騰熱伝達の非定常測定	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0002]ヘテロ接合半導体ダイオードの製作と評価	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0003]ドット型脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0004]レーザー光電子顕微鏡性能評価用試料	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0005]多元スパッタ装置(i-miller)を用いたSiO2スパッタ膜の酸素分圧と絶縁性の関係	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-101 自動エリプソメータ F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0006]イオン液体供給型物理リザバー素子の微細加工プロセスに対するCuの耐性評価	F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0007]GaN PNDのVF改善	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-106 ICP原子層エッチング装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置 F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0008]高品質酸化ガリウムエピウエハの開発	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0009]高耐圧酸化ガリウムパワーデバイス開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0010]EBリソグラフィを用いた新磁性デバイスの試作	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0011]フォトニック結晶のためのEB・RIEによる石英微細加工および多層膜成膜	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0012]高耐圧デバイスの試作	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0013]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電素子の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0014]熱電素子テスト構造の試作	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0015]赤外線フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-112 触針式プロファイラ F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0016]窒化ガリウム半導体へのフォトニック結晶構造形成	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0017]熱電発電素子への導熱路構造の開発	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-103 イオンスパッタ F-NM-111 水蒸気プラズマ洗浄装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0018]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電集積デバイスの開発	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0019]ポリマー材料加工技術の検討	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0020]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0021]強磁性トンネル接合の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0022]EB描画装置を用いた高周波ダイヤモンドFETのゲート電極用微細パターンの描画	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0023]半導体プロセス用材料の性能評価	F-NM-108 多機能型原子層堆積装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0024]ダイヤモンドジョセフソン接合の微細化手法検討	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0025]CF4ガスを用いたMg2Si基板の反応性イオンエッチング特性	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0026]SiN光導波路の作製	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0027]二硫化モリブデン電界効果トランジスタの分子センサー応用	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0028]マイクロ流路付きMoS2-FETセンサーにおける電気特性の溶液依存性観測	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0029]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0030]Nano/Micro機能付加による高性能伝熱面に関する研究	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-112 触針式プロファイラ F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0031]金属-MoS2接合における界面状態の直接的な測定を目的としたデバイスの最適化	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0032]125kV電子ビーム描画装置を利用したナノ構造体の形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0033]半導体プロセス用材料の性能評価	F-NM-108 多機能型原子層堆積装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0034]Ni異方性エッチングやFIB、RIEを用いたダイヤモンド基板上の微細加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0035]イットリアコーティングのプラズマ腐食形態SEM観察	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0036]ジョセフソン接合へのエッチングダメージ低減によるダイヤモンドSQUIDの特性向上	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0037]シリコン微細素子，2次元電子材料を用いた新機能デバイス作製とパッケージング	F-NM-089 ダイシングソー F-NM-094 ワイヤーボンダー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0038]窒化物パワーデバイス	F-NM-106 ICP原子層エッチング装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0039]量子コンピューティングのハードウェア研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0040]TiO2 ナノ構造の作製と光学特性	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0041]SOI を用いた Si 光導波路およびリング共振器の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0042]SiCダイオードの耐放射線性研究	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0043]赤外線フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡 F-NM-092 室温プローバーシステム F-NM-107 ６連自動蒸着装置 F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置 F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0044]電子線描画法を用いた微小ジョセフソン接合の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0045]Micro-LED with highly directional emission	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0046]1.03 m波長帯パルス幅可変半導体レーザーの開発	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0047]シリコン細線導波路の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0048]熱計測システムのためのセンサ膜開発	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ F-NM-111 水蒸気プラズマ洗浄装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0049]電子線露光を用いたシリコンフォトニクスデバイスの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0050]露光装置やスパッタ装置、蒸着装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0051]電子ビーム描画装置を用いた微細加工	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0052]グラフェン/hBNヘテロ構造を用いた並列2重量子ドットの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0053]量子コンピューティングハードウェアの研究	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0054]AlGaAs/GaAs系発光素子におけるオーミック電極作製プロセスの確立	F-NM-106 ICP原子層エッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0055]化合物ドライエッチング装置によるAlGaAsエッチング形状の評価	F-NM-106 ICP原子層エッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0056]電子線描画装置を駆使したトポロジカル物質微細素子の作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0057]高温領域を測定可能なクーロンブロッケード温度計の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0058]AZ5214を用いたライン形状の形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0059]AZMiR703を用いたライン形状形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0060]露光装置およびスパッタ装置を用いたMg2Si pn接合フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0061]強誘電体ゲートFET開発のための電子ビーム描画条件の最適化	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0062]シリコン量子ビットの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0063]熱拡散法によるNb3Sn成膜における核生成時の表面観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0064]電子線リソグラフィによって作製されたグラフェン熱電素子のナノスケール測定	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0065]物理リザバー素子開発に向けた触針式プロファイラによるイオン液体中における銅の反応性評価	F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0066]電子線描画装置を用いた単層カーボンナノチューブ架橋用のライン＆スペースの作成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0067]電子ビームリソグラフィによるNiナノリボン電極の微細加工検証	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0068]超伝導体と二次元半導体との接合作製による界面状態の研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0069]分子認識界面構築における評価用バイオセンサ基盤の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0070]プラズマCVDにおけるSiO2膜厚の均一性	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0071]12 連電子銃型蒸着装置におけるSiO2 膜厚面内分布	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0072]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0073]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0074]フォトリソグラフィーを使用したダイヤモンド表面へのパターン生成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0075]GaN HEMTのP-GaN選択性エッチング	F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0076]唾液中コルチゾールを検出するEIS型バイオセンサの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0077]バッファードHFを用いたALD-Al2O3膜のエッチングレート評価	F-NM-108 多機能型原子層堆積装置 F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0078]ハーフインチSiウェハ上へのTEOS絶縁膜の成膜	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0079]ウェットエッチングによるTi/Al電極の加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0080]電子分光分析用イオン液体物理リザバーデバイスの試作	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0081]p-GaN / AlGaN 選択エッチングの評価	F-NM-106 ICP原子層エッチング装置 F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0082]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0083]金属⁻MoTe2接合における研究のためのデバイス作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0084]SiO2のCHF3ガスによるドライエッチングレートに与えるフォトレジスト塗布された基板の影響	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0085]シリコン量子ビットの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0086]シリコントランジスタの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0087]微細シリコン段差パターンの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0088]SiO2膜の形成	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0089]RTA加工によるプラズモニックアレイの高性能化	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0090]Operando XAFS観察用微細メッシュパターン金属塗布型極薄ポリイミド膜電極の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0091]グラフェンへのひずみ導入による電気伝導制御	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0092]スパッタ装置を用いた距離計測のための光位相変調器の製作	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0093]低損失かつ高耐圧な縦型パワーダイヤモンドMOSFETの作製	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0094]1.03 m波長帯の半導体レーザーのプロセス開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0095]単層カーボンナノチューブの熱電測定	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0096]量子センサによるカーボンナノチューブ熱電計測	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0097]NVセンタの電流計測に向けたナノギャップ作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0098]高速動作半導体レーザーの製作プロセスに関する研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0099]ダイヤモンドデバイスのためのプロセス技術開発	F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0100]細胞の膜機能を評価するマイクロパターン基板の作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0101]メタレンズの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0102]プロセス条件変更検討	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-106 ICP原子層エッチング装置 F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0103]グラフェンFETの保護膜材料およびプロセス適正化の検討	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-21-NM-0104]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサアレイの開発	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0001]新規材料における微細パターン形成評価	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0002]高速マスクレス露光装置を用いた窒化ガリウム自立基板上電極パターン形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0003]高耐圧酸化ガリウムパワーデバイス開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0004]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電素子の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0005]複合プラズマ法を用いた燃料電池電極触媒の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0006]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0007]電子ビーム描画装置を用いたline-and-spaceパターンの作成	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0008]フォトニック結晶のためのEB・RIEによる石英微細加工および多層膜スパッタリング	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0009]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0010]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサアレイの開発	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0011]半導体シリコン素子，2次元電子材料を用いた新機能デバイス作製とパッケージング	F-NM-089 ダイシングソー F-NM-094 ワイヤーボンダー F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0012]ALDを用いたGaN SBDの理想係数nの改善	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0013]RIE処理によるプラズモニックアレイ加工と転写	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0014]微細デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0015]AFM characterization of small-sized particles generated on the surface of niobium superconducting high-frequency acceleration cavity	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0016]シリコン光導波路及び微小光共振器の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0017]二硫化モリブデン電界効果トランジスタの分子センサー応用	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0018]窒化ガリウム半導体へのフォトニック結晶構造形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0019]SiO2マスクを用いたGaN基板のドライエッチング	F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0020]20 mm角アドレスマーク付きSiO2/Si基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0021]スピンホールナノオシレーター微細加工試料の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0022]金属膜のドライエッチング検討と評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0023]赤外線フォトダイオードの作製	F-NM-089 ダイシングソー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0024]イットリアの微細組織構造が耐プラズマ性に及ぼす影響	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0025]多目的ドライエッチング装置を用いたMg2Si基板の表面加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0026]ガラス基板上へのスパッタ装置による酸化物膜の成膜	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0027]熱電発電デバイスの熱伝導層材料の研究	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0028]赤外線フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0029]半導体プロセス用レジスト材料の各種性能評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0030]電子線描画装置を駆使したトポロジカル物質微細素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0031]AlInGaP系LED素子のエッチング形成	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0032]半導体微細加工による微小集積光学導波路作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0033]半導体基板のアニール処理	F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0034]ポリマー材料加工技術の検討	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0035]熱電発電素子への導熱路構造の開発	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0036]グラフェンFETの保護膜プロセス適正化及びウエハ大口径化の検討	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0037]グラフェン・ナノリボン電子デバイスの研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0038]Development of next generation memory devices	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0039]成膜プロセスを考慮した基板表面のクリーニング	F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0040]100kV電子ビーム描画装置を用いた金属表面処理	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0041]抵抗測定TEG試作	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0042]熱電素子テスト構造の試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0043]ダイヤモンドSQUIDの特性向上に向けたジョセフソン接合微細化の検討	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0044]電子ビームリソグラフィによるNi電極の微細加工検証	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0045]化合物ドライエッチング装置によるAlGaAsエッチング形状の評価	F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0046]グラフェンセンサデバイスの試作及びその溶液成分への応答評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0047]露光装置や全自動スパッタリング装置を用いたMg2Si pn接合フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0048]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0049]プラズマCVD装置を用いたTEOS膜形成と膜厚測定	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0050]Si-nanowire microTEG devices development	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0051]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応とその性質	F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0052]イオン注入GaN基板におけるドーパント活性化の為のウエハRTA装置利用	F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0053]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0054]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発に関する研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0055]ドライエッチング装置を用いたAlエッチングおよびSiO2エッチング	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0056]シリコンフォトニクスデバイスの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0057]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0058]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0059]高機能半導体レーザー開発プロセスに関する研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0060]金属二次元半導体接合をもつ電界効果トランジスタ構造の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0061]液体窒素プローバーシステムを用いた元素ドーピング二層グラフェンの電気特性の調査	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0062]プラズマCVD膜のウエットエッチング検討	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0063]分子認識界面構築における評価用金基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0064]ナノシリコンワイア型熱電発電デバイス関する作製と研究	F-NM-089 ダイシングソー F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0065]Ni異方性エッチングを用いたダイヤモンド基板上の微細加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0066]フォトリソグラフィーを使用したダイヤモンド表面へのパターン生成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0067]露光装置、全自動スパッタ装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0068]露光装置やスパッタ装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0069]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンドプローブの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0070]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応	F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0071]導電性ブリッジメモリ(CBRAM)を用いたニューロモルフィックデバイスの開発	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0072]導電性ブリッジメモリのデバイスプロセス開発	F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0073]平行平板電極による免疫センサの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0074]原子層堆積装置を用いた金ミラー上への誘電体薄膜の成膜	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0075]金属-MoS2接合界面における界面状態の検証を目的としたデバイスの最適化	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0076]細胞分離診断技術の開発	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0077]集束ヘリウムイオンビーム法によるダイヤモンドジョセフソン接合の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0078]超高速ジョセフソン接合素子の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0079]MoS2-FETの電子物性を用いた流体環境下高感度分子センサの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0080]単層カーボンナノチューブを架橋する際のライン＆スペースの作成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0081]ネガ型電子線レジストを用いた30nmサイズ脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0082]電子線リソグラフィによって作製されたグラフェン熱電素子のナノスケール測定	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0083]Alドライエッチング加工	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0084]カルコゲン系太陽電池における界面修飾法の検討	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0085]金属ナノシリンダーアレイの熱改質	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0086]光-物質強結合実験のための高反射誘電体多層膜の作成	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0087]リフトオフ電子ビームリソグラフィによるナノ磁性体配列構造の製作	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0088]電子ビームリソグラフィー法を用いたプラズモニック結晶試料の作製	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0089]高品質酸化ガリウムエピウエハの開発	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0090]Si基板へのパターン形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-20-NM-0091]1.03 μm 波長帯の半導体レーザーのプロセス開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0001]フォトニック結晶のためのEB 描画およびRIE による石英加工検討	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0002]微細デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0003]微細パターンの解像度調査	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0004]シリサイド薄膜のエッチング加工およびデバイスの試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0005]シリコン深堀エッチング装置を用いた高速かつ高効率な超伝導転移端センサの作製	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0006]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発に関する研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0007]酸化ガリウムn型MOSFETの試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0008]ダイヤモンド結晶欠陥および無欠陥のデバイス特性に及ぼす影響評価	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0009]シリコン光導波路・ナノ材料ハイブリッドデバイスの作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0010]層状化合物を用いた超伝導素子の開発	F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0011]125kV電子線ビーム描画装置によるプラズモニック光駆動ナノモーターの開発	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0012]酸化膜エッチング装置を用いた耐プラズマ部材の評価	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0013]ダイヤモンド基板上の貫通転位がデバイス特性に及ぼす影響評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0014]化合物ドライエッチング装置によるCrエッチング	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0015]MoS2-FETの電子物性を用いた流体環境下高感度分子センサの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0016]ダイヤモンド結晶上の転位のデバイスに及ぼす影響評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0017]GaAsウエハの反応性イオンエッチング	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0018]シリコンナノワイヤ構造を導入した熱電発電素子の開発	F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0019]金属膜のドライエッチング検討と評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0020]金属膜のドライエッチング検討と評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0021]イオン注入GaN基板におけるウエハRTA装置及び12連電子銃型蒸着機の利用	F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0022]ZrNナノシリンダーアレイの耐熱性の向上	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0023]シリコン光導波路及び微小光共振器の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0024]化合物ドライエッチング装置によるY-O-F系セラミックスの耐プラズマ特性の評価	F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0025]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応	F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0026]二次元レイアウトに於けるリソグラフィ解像性調査	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0027]ドライエッチングによる金属ナノ周期構造の加工と光学特性	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0028]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0029]各種ガラス基板のドライクリーニング	F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0030](111)超伝導ボロンドープダイヤモンドのみで構成されるジョセフソン接合の検討	F-NM-094 ワイヤーボンダー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0031]アルミニウムナノ構造の作製と光学特性	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0032]全自動スパッタ装置を用いた酸素が欠乏したITO膜作製	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0033]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスに関する開発研究	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0034]架橋ビーム作製における金マスクのドライエッチング耐性評価	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0035]ネガ型電子線レジストを用いた脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0036]シリコンナノワイヤを用いた熱電素子の開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0037]反応性イオンエッチングによる微細トレンチ形成条件の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0038]グラフェンセンサデバイスの試作プロセスにおけるグラフェン表面観察	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0039]単層カーボンナノチューブを架橋する際のライン＆スペースの作成	F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0040]金属ナノシリンダーアレイのRTA処理による高性能化	F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0041]Au薄膜を用いた共振器の作成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0042]フィルム基板上のポリイミド絶縁膜パターニング検討	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0043]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0044]センサ応用向け二次元層状物質トランジスタに関する研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-089 ダイシングソー F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0045]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0046]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0047]イットリアコーティングの微細組織とプラズマ腐食挙動	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0048]原子層堆積装置によるHfO2薄膜の作成	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0049]熱電発電デバイスの熱伝導層材料の研究	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0050]新規材料における微細パターン形成評価	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0051]RIE処理によるプラズモニックアレイ加工と転写	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0052]サーモリフレクタンス法を用いた温度計測のための試料微細加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0053]ポリマー材料加工技術の検討	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0054]プラズモニック・メタサーフェスを用いた光電子デバイスの開発	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0055]幹細胞を抽出培養するためのマイクロパターン基材の開発	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0056]125kV電子ビーム描画装置を用いた金属表面処理	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0057]原子層堆積法によるSi-MOSの界面評価	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0058]３次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0059]液体窒素プローバーシステムを用いた真空雰囲気下での金属有機構造体の電気的特性評価	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0060]真空雰囲気下におけるPt/CoO/ITO素子の電気的特性評価	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0061]β型酸化ガリウムのドーピング	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0062]液体窒素プローバーシステムを用いた金属有機構造体の電気特性評価	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0063]半導体用レジスト材料の評価及びプロセス検討	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0064]グラファイト電極の還元雰囲気下における熱処理効果	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0065]Ga2O3上でのEB露光パターニング	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0066]グラフェン・ナノリボンのデバイス応用の研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0067]シリコン光導波路デバイスの作製	F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0068]マイクロデバイスを用いた新規ナノ構造材料のナノスケール電気・熱伝導率計測	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0069]スコッチテープ法により劈開したMoS2の層数判別	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0070]微細シリコン段差パターンの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0071]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0072]分子認識界面構築評価用イリジウム基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0073]レーザー光電子顕微鏡用評価試料	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-103 イオンスパッタ F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0074]EB描画装置とエッチング装置を使用した構造色加飾のための型製作	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0075]プラズモニックナノ構造による第二高調波の一方向放射制御	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0076]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0077]熱電素子テスト構造の試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0078]平行平板電極による免疫センサの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0079]櫛形電極ミオグロビンバイオセンサの再生技術の探索	F-NM-089 ダイシングソー F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0080]半導体微細加工による微小集積光学導波路作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-090 自動スクライバー F-NM-091 CMP研磨装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0081]スパッタ装置を用いたMg2Siリニアアレイフォトダイオードの作製	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0082]Development of next generation memory devices	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0083]液体窒素プローバーシステムを用いた真空下での金属有機構造体の電気伝導率測定	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0084]遷移金属ダイカルコゲナイド系層状物質と金属との接合に対するアニール効果の研究	F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0085]単一段差構造によるダイヤモンドSQUIDの開発	F-NM-094 ワイヤーボンダー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0086]グラフェン・ナノリボンのデバイス応用の研究	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0087]原子層二硫化モリブデンを用いた超伝導接合の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-090 自動スクライバー F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0088]酸化亜鉛チャネルを持つ電気二重層トランジスタ構造の作製	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-090 自動スクライバー F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0089]プラズモニック構造によるアップコンバージョン発光の制御	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0090]液体窒素プローバーシステムを用いたCu/Ta2O5/Pt 素子のインピーダンス測定の大気の影響	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0091]微細ゲート電界効果トランジスタの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0092]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-090 自動スクライバー F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0093]導電性ブリッジメモリのデバイスプロセス開発	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0094]液体窒素プローバーシステムを用いたReRAMの真空・低温抵抗保持特性の解明	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0095]高速マスクレス装置等を用いたMg2Siフォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0096]ブロードエリア半導体レーザーの作製	F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-101 自動エリプソメータ F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0097]金属ブリッジ型メモリCBRAMのデバイスプロセス開発	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0098]MIM容量特性評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0099]微細ゲートトランジスタの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0100]集束イオンビーム法によるボロンドープダイヤモンド超伝導量子干渉計の作製及び最適化	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0101]Multiferroic effects in iPCM	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0102]多孔質シリコン熱音響素子の特性改善と対応する微細構造の観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0103]1.03μm波長帯の半導体レーザーのプロセス開発	F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0104]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0105]シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスの開発	F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller） F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-19-NM-0106]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応とその性質	F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0001]電子ビーム描画装置によるレジスト材料の探索・プロセス評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0002]マスクレス露光機を用いたフィルム基板上の微細パターニング技術開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0003]シリコンバッファフィルムコーティング作業	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0004]４インチＳｉ基板を用いたグラフェンFET 標準フローの構築	F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0005]ドライエッチング装置を用いたYOF 系セラミックスの耐プラズマ性評価	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0006]糸状菌培養のための微小流体デバイスの作製	F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0007]エッチングパターンの形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0008]原子層堆積装置を用いたAl2O3 薄膜の形成	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0009]ドライエッチング装置等を用いたウェアラブルマイクロ流路パッチの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0010]プラズマ環境におけるイットリア焼成体の腐食挙動	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0011]電子線描画装置を用いたhp16nm 以下の微細LS パターン形成技術開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0012]シリコンナノワイヤに基づいた熱電発電素子に関する開発研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0013]シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスのチャネル幅依存性	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0014]薄膜応力測定装置を利用した測定アルゴリズム開発	F-NM-104 薄膜応力測定装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0015]微細デバイスの電気特性および信頼性評価	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0016]マスクレス露光機を用いたフィルム基板上の微細パターニング技術開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0017]GaAsウエハの反応性イオンエッチング	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0018]p型NiO MOSFETの基礎実験	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0019]Ga2O3－N型MOSFETの試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0020]原子層堆積装置を用いた絶縁膜の形成	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0021]半導体デバイスのSEMによる断面観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0022]反応性イオンエッチングによる酸化物半導体へのトレンチ形成条件の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0023]層状物質を用いた分子振動検出デバイスの研究開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0024]シリコンナノワイヤを用いた熱電素子の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0025]CMP装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究	F-NM-091 CMP研磨装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0026]シリコンナノワイヤプロセスを応用した熱電発電素子の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0027]Au/Ni電極を用いたMg2Siフォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0028]プラズモニック光駆動ナノアクチュエータの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0029]ナノインプリントした金属材料のナノ加工	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0030]高輝度レーザー向け新規光学デバイスの開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0031]電子線描画を利用したφ40 nmハードマスクの形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0032]超電導量子回路におけるマスクレス露光装置によるパターニング	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0033]シリコン光導波路・ナノ材料ハイブリッドデバイスの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0034]金属ブリッジ型メモリCBRAMのデバイスプロセス開発	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0035]各種描画、エッチング、成膜装置を活用したレジスト材料の評価及び開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0036]30 nm脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0037]紫外領域で働くプラズモニック構造の作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0038]TiNナノシリンダーアレイの耐熱性の向上	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0039]プラズマ援用AD膜の評価	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0040]浅い段差による超伝導ダイヤモンドジョセフソン接合	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0041]相変化メモリ素子加工するためのリソグラフィおよびドライエッチング技術	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0042]プラズモニックナノ構造による第二高調波の一方向放射制御	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0043]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0044]高選択酸化膜エッチング	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0045]電子ビーム描画装置を用いたトポロジカルプラズモニック結晶構造の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0046]透過型CTR散乱測定試料の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0047]塗膜諸性能に関わる表面形状の把握	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0048]単一内包カーボンナノチューブの電気・熱伝導率計測	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0049]プラズモニックアレイのRTA加工	F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-096 ウエハRTA装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0050]劣化に伴う塗膜表面形状の変化	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0051]シリコン光導波路の作製と劈開による端面の形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0052]ドライエッチングプロセスを用いた高密度光ディスク用原盤の検討	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0053]原子層堆積法による Si-MOS の界面評価	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0054]マスクレス露光機を用いた、フィルム基板上の微細パターニング技術開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0055]先端デバイス開発のためのプロセス検討	F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0056]フォトリソグラフィを用いたMg2Siにおけるオーミック電極の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0057]Si基板へのパターン形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0058]マスクレス加工と反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板の微細加工	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0059]YBCO-Sr2RuO4超伝導接合の作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0060]酸化亜鉛電気二重層トランジスタ構造の形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0061]電子ビーム描画装置を用いた通信用シリコン光回路作製	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0062]Siの深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0063]ダイヤモンドＳＢＤ作製するためのレーザー露光装置と超高真空スパッタ装置の利用	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0064]ナノシートを用いる全酸化物型リチウムイオン二次電池の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0065]1.03 μm波長帯の半導体レーザーのプロセス開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0066]シリサイド薄膜のエッチング加工およびトランジスタ素子の試作	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0067]幹細胞機能を制御するマイクロパターン基材の開発	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0068]トランジスタIV特性の評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-092 室温プローバーシステム F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0069]電子ビーム描画装置とエッチング装置を使用したシリコン基板微細加工	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0070]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応	F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0071]プラズマCVD装置を用いたn型Mg2Si基板へのSiO2膜の堆積	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0072]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0073]集束イオンビームによる超伝導ボロンドープダイヤモンドジョセフソン接合の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0074]分子固定化界面評価用金基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0075]バイオセンシングを行う小型Ir/IrOx基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0076]低群速度・低分散GaAsフォトニック結晶導波路による高効率非線形光学現象	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-091 CMP研磨装置 F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0077]複数の露光方式を組み合わせた半導体レーザー導波路加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0078]高速動作半導体レーザーに向けたオーミック特性の研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-098 UVオゾンクリーナ F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー F-NM-102 触針式表面段差計 F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0079]平行平板電極による免疫センサの開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0080]櫛型電極ミオグロビンバイオセンサの再生技術の探索	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0081]プロトン伝導膜による自己発電型バイオセンサの性能向上	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0082]Multiferroic effects in iPCM	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0083]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製	F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0084]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-093 極低温プローバーシステム F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0085]熱刺激脱分極電流測定用酸化物標準試料の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-097 プラズマアッシャー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0086]プラズモニックデバイス用単結晶薄膜の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0087]ガラス基板のドライクリーニング	F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0088]微細ゲートトランジスタの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0089]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0090]ICP-RIE 装置を用いたアルミナのエッチング	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-070 ナノインプリント装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0091]ALD装置を用いたパリレン薄膜上へのHfO2およびAl2O3の成膜	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0092]層状物質を用いた超伝導接合素子の開発	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置 F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0093]電子ビーム描画装置によるEBレジストの新規材料・プロセス開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0094]電子ビーム描画装置を用いた層状超伝導体の加工と電極形成	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0095]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン・ナノリボンのデバイスの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0096]リソグラフィによる原子層二硫化モリブデンを用いた超伝導接合の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0097]Ti/Au薄膜の形成	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0098]低次元物質を用いたナノデバイス開発のための基板作製	F-NM-097 プラズマアッシャー F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0099]3次元パワーSupply on Chip実現に向けてのプロセス技術の開発	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0100]集束イオンビームを用いたダイヤモンド超伝導量子干渉計の作製・評価	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0101]グラフェン電界効果トランジスタチップの試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0102]アミノ基修飾グラフェンバイオセンサへのプローブの化学修飾	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0103]スパッタを使用したメタルパターンの形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0104]化合物ドライエッチングを用いた Al エッチング及び SiO2エッチング	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0105]グラフェンFETセンサの試作およびその特性評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0106]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト材料及びプロセスの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0107]化合物ドライエッチング装置によるCr エッチング	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0108]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスに関する開発研究	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0109]遷移金属ダイカルコゲナイド半導体を用いた分子センサーの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0110]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサと光キャビティの作製	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0111]タングステン金属膜のドライエッチング検討と評価	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0112]ルテニウム金属膜のドライエッチング検討と評価	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-18-NM-0113]強相関電子系層状材料の温度依存電流電圧特性の評価	F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0001]超低損失Ga2O3トレンチMOS型ショットキーバリアダイオード	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0002]バクテリア培養のためのマイクロデバイスの作製	F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0003]アンテナの光電界増強効果を利用した中赤外受光素子の実現	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0004]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスにおける短チャネル効果	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0005]p型シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスのチャネル長依存性	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0006]HfO2/酸化ガリウムによる低リーク電流MOSダイオード	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0007]グラフェンのバイオデバイス応用に向けたアミノ基修飾	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0008]Li含有複合酸化物薄膜の微細加工	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0009]透過型CTR散乱測定用試料の作製	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0010]架橋ナノワイヤー共振器作製における電子線描画用レジストレーションマークの改良	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0011]反応性イオンエッチングによるAl ナノシリンダーアレイの作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0012]SrTiO3の絶縁体金属転移を用いたニューロモルフィック素子の作製	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0013]電子ビーム描画装置を用いた微細幅グラフェン配線の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0014]電子ビーム描画装置によるレジスト材料の探索・プロセス評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0015]電子ビーム描画装置によって露光されたEUVレジストの現像液選定評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0016]金属薄膜蒸着装置を利用した超高速光伝導スイッチ駆動型荷電粒子加速器の研究開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0017]配線抵抗測定モジュールの標準フロー構築	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0018]高密度アレイ電気特性評価のためのプロセス開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0019]裏面ゲート型薄膜トランジスタの試作	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0020]メモリ特性評価用モジュールの標準フロー構築	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0021]半導体デバイスのSEM による断面観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0022]リング状電極Mg2Si フォトダイオードの分光感度特性	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-096 ウエハRTA装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0023]プラズマ化学気相成長を用いたSiO2 の堆積	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0024]EBL 及びシリコン深掘エッチング装置を用いたシリコン光導波路の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0025]脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0026]スパッタ装置による半導体と金属とのオーミックコンタクトの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0027]二酸化バナジウム細線の電極作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0028]CMP 装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究	F-NM-091 CMP研磨装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0029]異なる線幅の超伝導ボロンドープダイヤモンドの特性評価	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0030]酸化膜ドライエッチング装置によるSiO2 ガラスのエッチング	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0031]ナノワイヤ型シリコン熱電デバイスの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0032]シリコン光導波路と共振器の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0033]GaAs 系薄膜の反応性イオンエッチング	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0034]石英ガラスのドライエッチング	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0035]ナノ粒子を用いたナノパターニングに関する基礎的検討	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0036]非コンベンショナルなプラズモニクス材料の選択的ドライエッチング	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0037]微小超伝導体への人工ピン止めの導入と磁束状態	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0038]小口径半導体ウエハへの微細パターン作製と評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0039]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた分子センサデバイスの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0040]フォトリソグラフィを用いたMg2Si-pn 接合ダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0041]メッシュ型電極を持つMg2Si フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0042]シリサイド薄膜のエッチング加工およびトランジスタ素子の試作	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0043]酸化亜鉛電気二重層トランジスタにおける近接効果	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0044]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0045]３次元パワーSupply on Chip のプロセス技術の開発	F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0046]ポリマー材料の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0047]電子ビーム描画装置を用いた微細パターンの形成	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0048]卓上イオン加速システムの研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0049]SiN 膜深掘ドライエッチング加工の基礎的検討	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0050]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0051]超伝導ボロンドープダイヤモンドを用いたランプエッジ構造ジョセフソン接合	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0052]エキシマー光照射を利用した光硬化挙動の解析	F-NM-070 ナノインプリント装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0053]相変化材料を微細加工するための電子ビーム描画およびドライエッチング技術	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0054]電子ビーム描画装置を使用したシリコン基板の微細加工	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0055]電子ビーム描画によるEUV レジスト材料の評価及び開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-070 ナノインプリント装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0056]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト及びプロセスの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0057]原子層堆積装置を用いた層間絶縁膜の形成	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0058]熱刺激電流測定用酸化物薄膜標準試料の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0059]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0060]フォトニック結晶導波路を用いた高効率THz 波発生の提案	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0061]Multiferroic effects in iPCM	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-070 ナノインプリント装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0062]光駆動マイクロマシンの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0063]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0064]オスミウムコータによるハイドロゲルビーズの表面処理とSEM によるその観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0065]反応性イオンエッチングによるナノシリンダーアレイの作製	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0066]ゲート特性の評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0067]マスクレス露光および酸化膜ドライエッチングによるSiO2/Si3N4 積層膜のエッチング加工	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0068]ALD 法及びEB 描画法によるAl2O3 薄膜上Au ナノ構造の作製	F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0069]微細加工技術を用いた高熱拡散有機エレクトロンルミネッセンスの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-070 ナノインプリント装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0070]不均一半導体量子構造を用いた近赤外広帯域光源作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0071]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0072]リチウムイオン電池用電極材料の表面親水化	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0073]機能化界面評価用金基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0074]微細ゲート構造を有するバイオセンサの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0075]バイオセンサを指向したIr/IrOx 基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0076]SAW無線センサの試作	F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0077]光吸収膜の材料検討	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0078]ボトムアップ・グラフェンナノリボンの電界効果トランジスタ特性	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0079]Si の深掘エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0080]シリコン窒化膜を用いた不揮発性半導体メモリの正孔捕獲特性	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0081]SnOx 薄膜の伝導型制御に向けたスパッタ成膜条件の検討（試行的利用課題）	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0082]SnOx 薄膜へのキャリア注入制御に向けたショットキーダイオード試作	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0083]ダイヤモンド半導体素子プロセスの開発	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0084]MONOS 型メモリキャパシタの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0085]近接効果補正シミュレータ（BEAMER）を使用した微細ゲート作製技術の開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0086]配向・位置制御されたダイヤモンド中窒素空孔中心の生成と評価	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0087]電界効果トランジスタの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0088]表面凹凸構造の加工における反射防止効果の検討	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0089]液体He 温度以上の動作を目指した不連続(111)面によるダイヤモンドジョセフソン接合	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0090]中性子反射率測定に基づく接着界面近傍の構造評価	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0091]金属ナノ周期構造を用いた非線形メタマテリアルの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0092]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0093]マイクロ流路式希釈冷凍機の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0094]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0095]ナノ細孔内での物質拡散速度の実験的評価手法の開発	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0096]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製	F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0097]エッチングパターンの形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0098]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0099]電子線リソグラフィーを用いたグラフェンへの周期ひずみの導入	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0100]微細加工プロセスを用いた光励起マルチセクション半導体レーザーの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0101]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0102]Prussian Blue 修飾電極による自己発電型バイオセンサの開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0103]ミオグロビンバイオセンサの選択制向上に関する研究	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0104]原子層二硫化モリブデンを用いた電気二重層トランジスタによる超伝導接合の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0105]電子ビームリソグラフィーを用いたガラス基板上へのナノ構造の形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0106]糸状菌培養のための微小流体デバイスの作製	F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0107]SiN エアホール型光導波路を用いたアフィニティセンサの構築	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0108]トポロジカル絶縁体-超伝導体接合素子の開発	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0109]二層グラフェンを用いた超伝導スイッチの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0110]酸化物半導体デバイス作製方法の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0111]単結晶銀薄膜を用いたフレキシブルSERS 基板の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-17-NM-0112]グラフェン電界効果トランジスタの試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0001]エッチングプロセス後のパターン形状観察	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0002]ダイヤモンド半導体素子の開発	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0003]低次元物質を用いた単電子トランジスタの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0004]中赤外光アンテナに関する研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0005]グラフェン電界効果トランジスタの作製と評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0006]単一金ナノプリズムによる3 方向光散乱制御	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0007]グラフェンへのひずみ導入による電気伝導制御	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0008]ナノウェル型光導波路と分子鋳型ポリマーの融合による新規バイオセンサの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0009]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスにおける短チャネル効果	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0010]プラズモニック周期アレイによる希土類錯体層の発光制御	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0011]感光性樹脂材料のプラズマエッチング耐性評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0012]シリコン深堀エッチング装置を用いたナノピラーアレイつきマイクロ流路の形成	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0013]Pd 合金の応力最適化検討	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0014]SiC 基板加工	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0015]薄膜トランジスタへの放射線照射	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0016]強磁性Fe4N 細線中の磁壁の電気的検出	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0017]金属ナノ構造体の試作	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0018]6nm パリレン上にALD でHfO2 を積層した二層ゲート絶縁膜FET の作製	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0019]多目的ドライエッチングを利用したSQUID 配列の作製法の改善	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0020]メサ構造Mg2Si フォトダイオードの作製と評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0021]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0022]10nm 級微細幅グラフェン配線の作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0023]相変化材料を微細加工するための電子ビーム描画およびドライエッチング技術	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0024]半導体ドライプロセスによるレーザー素子の作製	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0025]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0026]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製と電気特性評価	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0027]真空パッケージング後紫外線荷電された高性能MEMS エレクトレット振動発電器の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0028]二次元電子ガスと超伝導電極間の接触抵抗の測定	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0029]プラズモニック・メタマテリアル用単結晶薄膜の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0030]Si 貫通電極のための貫通穴の作製	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0031]ヘテロ接合型フォトニック結晶導波路と自己組織化InAs 量子ドットによる超小型近赤外多波長光源開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0032]ICP-RIE によるGaAs2 次元フォトニック結晶の形成	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0033]半導体ドライプロセスによる短パルス光発生レーザー素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0034]単結晶ダイヤモンド超伝導量子干渉計の特性評価	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0035]FIB-SEM ダブルビーム装置を用いた光-SPP 結合構造の製作	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0036]脳型推論アナログ抵抗変化素子用下部電極の作製	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0037]ポリマー材料塗布時の表面性の観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0038]微細幅グラフェンへの上層コンタクトによる抵抗評価構造の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0039]ダイヤモンドショットキーバリアダイオードの電気特性	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0040]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0041]ALD-Al2O3 膜の選択成長	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0042]EB レジストを用いたパターン反転プロセス	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0043]n+Ge/pGe ダイオード構造試料の作製及び評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0044]洗浄プロセスの電気特性に及ぼす影響	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0045]サラウンディングゲートトランジスタの試作	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0046]先端デバイス開発のためのプロセス検討	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0047]電荷拡散のキャパシタ周長依存性測定用のTEG 作成	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0048]シリコン時計部品へのコーティング膜の検討	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0049]卓上荷電粒子加速システムの研究開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0050]架橋カーボンナノチューブを用いた超伝導ナノワイヤー共鳴装置の作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0051]電子ビームリソグラフィによる強誘電トンネル接合素子の微細化	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0052]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜へのマイクロパターニング	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0053]折り畳みによる方向性結合器型バイオセンサの平面集積化	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0054]ドライエッチング装置を用いたセラミックス膜の耐プラズマ性評価	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0055]微細加工による表面弾性波デバイスの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0056]Co/Ni 多層膜のスパッタ成膜と垂直磁気異方性の解析	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0057]Si の深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0058]SOI を用いたSi 光導波路の劈開	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0059]プラズマアッシャー処理を施したSiO2/Si 上グラフェンの界面水の挙動	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0060]電子ビームリソグラフィー法によるAu/Al2O3 層上のAu ナノ構造の作製	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0061]微細加工基板上化学気相成長法で生成されたダイヤモンド中窒素空孔中心	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0062]酸化膜ドライエッチング装置による光学素子集積用溝形成	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0063]電子ビーム描画装置、エッチング装置を用いたレーザー駆動誘電加速構造の試作と検査	F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0064]スピンバルブ構造を利用したスピン流の検出	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0065]CMP 装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究	F-NM-091 CMP研磨装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0066]近接場効果を用いたMEMS ラジエータの開発	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0067]SOI を用いたSi 光導波路の作製	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0068]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた生体物質センシングデバイス作製プロセスの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0069]As2 分子線を用いてMBE 成長したInAs 量子ドットの構造評価	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0070]FIB で製作するナノ光陰極型電子光源の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0071]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0072]ポリマー材料の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0073]ナノスケール磁性体中のスピン波制御	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0074]Multifunctional superlattice materials	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0075]Ir/IrOx 及びAg 集積化薄膜電極の製作	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0076]マスクレス露光装置及び超高真空蒸着装置を用いた超伝導検出器の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0077]電子ビーム描画装置を用いたプラズモニック結晶導波路の作製	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0078]超伝導ボロンドープダイヤモンドを用いたマイクロブリッジ構造ジョセフソン接合	F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0079]自己発電型バイオセンサのための微細くし形電極の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0080]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0081]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0082]非コンベンショナルなプラズモニック材料の選択的ドライエッチング	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0083]電子線ビーム描画で製作するDLA 装置	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0084]レーザー駆動誘電加速構造の試作と検査	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0085]金属ナノ周期構造を用いた非線形メタマテリアルの作製	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0086]GaAs 系薄膜の反応性イオンエッチング	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0087]電子ビーム描画装置とドライエッチング装置を用いたパターン形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0088]SiN 薄膜のドライエッチング検討	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0089]窒化シリコンウィンドウ上への磁性ドット形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0090]多層グラフェン配線集積化に向けたグラファイト加工検討	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0091]鉛薄膜センサー素子のダイシング	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0092]Al / MoS2 電気二重層トランジスタ構造 / Al 接合における超伝導電流	F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0093]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン-超伝導体接合光学素子作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0094]二硫化モリブデン/超伝導体接合開発	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0095]微細ゲート作製技術の開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0096]微細構造作製の検討	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0097]メモリキャパシタ作製のためのAl 電極形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0098]テンプレート法を用いた金ナノ構造体によるSERS 効果の発現	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0099]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製	F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0100]Parylene E as a Sensitive Material in Chemicapacitive Gas Sensor	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0101]酸化ガリウム基板の加工変質層評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0102]トレンチMOS 構造を設けたGa2O3 ショットキーバリアダイオード	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0103]プラズマCVD 装置等を利⽤したSiC に対する新規コンタクト技術の開発	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0104]電子ビームリソグラフィーで作製した細孔中への自己組織化単分子膜の形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0105]NV センター応用に向けたボロンドープダイヤモンドSQUID の開発･特性評価	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0106]酸化物メモリのための微細加工	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0107]MIS（金属/絶縁体/半導体）構造作製によるシリサイド半導体のキャリア密度推定	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0108]半整数磁束渦観測に向けたSQUID とSr2RuO4 から成る磁化測定デバイスの作製	F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0109]糸状性藻類の細胞分散化マイクロデバイス	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0110]ウェアラブルデバイスのための回転型エレクトレット発電機の開発	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0111]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0112]表面凹凸構造の加工における反射防止効果の検討	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0113]PMMA 系混合レジストを用いたナノギャップの作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0114]熱刺激電流測定用標準試料の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0115]現像方法改善によるZEP のLS パターン品質の向上	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0116]アナログ抵抗変化素子の電極線幅の評価	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0117]TiN とタンタル酸化物のエッチングレートの比較	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0118]ウェットエッチングによるメサ型Mg2Si pn 接合ダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0119]小口径半導体ウェハへの微細パターン作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-16-NM-0120]ZEP-520A による20nmLs 解像を実現するための現像液の検討	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0001]流れ方向に温度勾配を持つ流路における化学的消炎効果に関する研究	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0002]n+Ge/pGe ダイオード構造パターン試料の作製及び評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0003]中赤外光アンテナと有機EL 中のプラズモン散乱に関する研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0004]線維芽細胞を活性化する培養用基材の創製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0005]Fe3O4 ナノ粒子スピントランジスタ用三端子電極形成	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0006]グラフェン-基板間の界面水評価に向けたグラフェンの剥離	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0007]シリコン上のグラフェン素子の形状観察	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0008]サファイアエッチング用ＵＶ硬化レジスト開発のためのエッチング方法の確立	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0009]低次元物質を用いた単電子トランジスタの開発用基板の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0010]層状化合物の電気伝導特性	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0011]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0012]幹細胞を大量に培養する基材の開発	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0013]二次元物質BiS2 のFET 構造の形成	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0014]CNTFET における放射線照射効果	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0015]高アスペクト比微細溝加工	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0016]超高真空スパッタ装置を用いた金属超薄膜の形成	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0017]電子ビーム描画による新規EUV レジストの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0018]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストの評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0019]厚膜SiO2 のディープエッチング	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0020]グラフェン/超伝導体接合に対する光照射効果	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0021]ナノインプリントによる三次元樹脂レンズマスクの作製	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0022]電子ビーム描画装置によるEUV レジストの材料・プロセス開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0023]二波長で機能する回折ビームスプリッタの研究	F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0024]電子ビーム描画装置によるEUV レジストのPEB 温度最適化評価	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0025]Si 光導波路の作製	F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0026]EB 描画機を使用した微細パターンの作成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0027]フェムト秒レーザーアブレーション形成されたホウ酸塩ガラス及びアルミノケイ酸塩表面のナノホールのモルフォロジー変化	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0028]樹脂表面の粗度と銅めっきとの密着強度の相関に関する研究	F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0029]FIB-SEM ダブルビーム装置によるTEM 試料の作製	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0030]レーザー露光装置を用いた高速分極反転特性評価のための微細キャパシタ作製	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0031]ガラス基板撥水処理	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0032]シリコン深堀エッチング装置を用いたナノピラー形成	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0033]高速マスクレス露光装置による3D パターンの描画	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0034]金ナノ構造体を用いたナノ光トラッピング	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0035]リソグラフィーと反応性イオンエッチングによるダイヤモンド表面の微細加工	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0036]バックエンド工程へのALD プロセス適用の検討	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0037]n+Ge/pGe ダイオード構造試料の作製及び評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0038]Ge サラウンディングゲートトランジスタを含む評価素子の立ち上げ	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0039]電気的浮遊構造をもつキャパシタにおける閾値制御技術の評価手法の立ち上げ	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0040]Ge nMOSFET 試作	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0041]上部コンタクトの微細加工	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0042]カルコゲナイド化合物Sb2Te3-Bi2Te3 のメモリー用材料に向けた調査	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0043]エッチング処理後のパターン形状の観察	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0044]電子線描画装置によるナノピラーレジストの創成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0045]パリレン薄膜上における高品質HfO2 絶縁膜の作製	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0046]ＵＶ硬化型樹脂のナノインプリント性とプラズマエッチング特性評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0047]近接場熱輻射を利用した高開口率MEMS ラジエータの高性能化に関する研究	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0048]電気二重層と超伝導Nb との接合	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0049]ダイヤモンド中窒素空孔中心生成制御のためのダイヤモンド微細加工	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0050]含フッ素レジストマスクを用いたサファイアのドライエッチング検討	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0051]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0052]ガラスのRIE における加工直進性の金属ドープ量依存性評価	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0053]FIB アシスト蒸着タングステン超伝導薄膜による超伝導接合のための電極作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0054]微細構造作製の検討	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0055]高感度バイオセンサ開発のための集積化基板の作製	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0056]メサ型Mg2Si pn 接合フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0057]多波長量子ドットおよび分割電極による広帯域SLD 素子作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0058]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0059]強磁性Fe4N 薄膜の細線加工と磁区観察	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0060]リソグラフィ法と蒸着装置を用いたAu マイクロパターンの作成	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0061]微細幅低温成長グラフェン配線の作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0062]原子層堆積を用いたグラフェン上へのAl2O3 絶縁層の形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0063]積層膜形成基板の断面観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0064]微細加工プロセス用非破壊光断層イメージングシステムの開発	F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0065]ドライエッチングによるメサ型Mg2Si pn 接合フォトダイオードの作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0066]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた生体物質センシングデバイス作製プロセスの開発	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0067]Fabrication of structures for iPCM	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0068]電子線描画装置によって露光されたEUV レジストのCH パターン形成の評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0069]走査電子顕微鏡（FE-SEM）による白金薄膜の観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0070]マスクレス露光装置及び超高真空蒸着装置を用いた超伝導検出器の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0071]微小SQUID 局所磁化測定システムを用いた異方的超伝導中の磁束渦状態の研究	F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0072]MOS ゲートスタック構造の作製及びMOSFET 評価	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0073]超格子材料の光誘起相転移と光学変調素子への応用	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0074]ダイヤモンド検出器の開発	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0075]MEMS デバイス向けコンタクトホール加工検討	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0076]全自動スパッタ装置を用いたシリサイド半導体への金属薄膜形成	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0077]グラフェン中での交差アンドレーエフ反射検出	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0078]ナノ構造体を用いた反射防止膜の開発	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0079]プロセス条件（ガス種類、流量など）の違いによる基板エッチングレートの比較検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0080]レーザーリソグラフィ装置を用いたマイクロスケールAu パッチパターンの製作	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0081]硬脆材料の微細曲面切削加工に関する研究	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0082]FIB で製作するナノ光陰極型電子光源の開発	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0083]SiO2 薄膜のドライエッチング検討	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0084]アンチドット型超伝導量子渦セルの試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0085]放射線生物実験用卓上誘電体イオン加速システムの研究	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0086]リアクティブイオンエッチングによるSiO2 膜への表面凹凸加工検討	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0087]小口径半導体ウエハへの微細パターン作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0088]超格子型相変化材料に適する評価用デバイスの開発	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0089]シングルナノを実現するナノインプリント用モールドの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0090]微細櫛形電極を利用した自己発電型バイオセンサの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0091]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0092]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0093]ICP-RIE によるGaAs2 次元フォトニック結晶の形成	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0094]熱フィラメントCVD 法で合成した単結晶ダイヤモンド薄膜の微細構造解析	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0095]TES アレイのデバイス作製プロセスの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0096]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製と電気特性評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0097]新規熱硬化性レジストを用いたエッチングレートの評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0098]マイクロSQUID を用いたメゾスコピック超伝導Al-disk の磁化測定	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0099]NV センター量子センシング応用に向けた超伝導ダイヤモンドジョセフソン接合特性評価	F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0100]パリレンHT ライナーのスルーシリコンビアの検査	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0101]ITO ドライエッチングのための新規レジスト開発	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0102]半導体ドライプロセスによる光短パルス発生レーザー素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0103]シリコン深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0104]HEMT 作製技術の開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0105]電子ビーム描画装置を用いた微細金属パターン形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0106]電子線描画によるインピーダンス制御回路系を含む微小ジョセフソン接合列回路の作製	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0107]SQUID 配列を用いたSr2RuO4 の磁化の空間分布の計測	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0108]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0109]温度特性評価による抵抗変化メモリ(ReRAM)フィラメントの形状評価	F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0110]自己形成In 量子ドットの輸送特性	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0111]シリコン貫通電極のための貫通穴の作製	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0112]窒化チタン周期ナノ粒子アレイの可視・近赤外光学応答	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0113]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0114]メタルレジストのEB 露光評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0115]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製	F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0116]反応性イオンエッチングプロセスを用いたTiN パターンの作製	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0117]Cl2/Ar/O2 混合ガスによるIr 薄膜エッチング条件の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0118]熱刺激電流測定用試料の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0119]クロスバー型構造の抵抗変化メモリ素子の開発	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0120]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜のパターニング	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0121]電子線描画装置を用いたグラデーションパターンによるレジスト材料評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0122]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0123]超伝導トンネル接合Ｘ線検出器のためのシリコンピクセル吸収体の加工法の研究	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0124]TSV 形成用ハードマスク材料の評価	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0125]ナノスケール高感度電圧電流計測のための導電性プローブ顕微鏡システムの構築	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0126]原子層堆積法による有機ポリマー材料上への酸化物精密堆積プロセスの検証	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0127]窒化シリコンウィンドウ上への磁性ドット形成	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0128]スパッタリング成膜したAg 合金の評価	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0129]ポリマー材料の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0130]電子ビームリソグラフィによる強誘電トンネル接合素子の試作	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0131]吸引プラズマエッチング加工されたSi 基板の加工痕形状計測	F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-15-NM-0132]超高真空スパッタ装置を利用したBaSi2 薄膜の形成	F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0001]グラフェン電特評価用試料の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0002]極低温プローバーシステムを使用したグラフェン電気特性評価	F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0003]微細構造体の複製	F-NM-070 ナノインプリント装置 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0004]中赤外光アンテナの作製と特性評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0005]β-FeSi2 を用いたSi フォトニクス素子の作製	F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0006]収束イオンビーム装置(FIB)を用いた磁性フォトニック結晶の作製	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0007]SiO2 基板上へのAu ナノ円柱アレイの作製	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-070 ナノインプリント装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0008]Si 基板上へのAu ナノアレイ素子の作製	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-070 ナノインプリント装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0009]β-FeSi2 を用いたSi フォトニクス素子の表面状態の評価	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0010]An Investigation on the Adhesion of Printed Traces	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0011]分数磁束量子探索用ナノ構造体の作製	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0012]ナノ粒子膜三端子MR 素子用微細電極形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0013]カーボンナノチューブ歪印加素子の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-089 ダイシングソー F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0014]グレーティングカプラを有するシリコン光導波路作製	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0015]スライド型ナノアクチュエータ開発に向けた異方的V 字パターンの作成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0016]アドレス基板の作製	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0017]MEMS ワイヤレス温度センサの開発	F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0018]レーザーアブレーション及びFIB エッチングによりホウ酸塩ガラスおよび結晶表面に形成されたナノホールのモルフォロジー	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0019]電子線描画を用いた強磁性窒化物薄膜の微細加工	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0020]炭素材料を利用した電界効果型トランジスタの作製と電気特性の制御	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0021]サファイアエッチング用ＵＶ硬化レジスト開発のためのエッチング方法の確立	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0022]難エッチングSiO2 ガラスの成膜・加工	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0023]カーボンナノチューブトランジスタにおける環境効果	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0024]グラフェンの電子状態における環境効果	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0025]塩素ガス反応性イオンエッチングによる強磁性窒化物薄膜の微細加工	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0026]酸化膜ドライエッチング装置によるSiO2 ガラスのエッチング	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0027]n+/p ダイオード構造パターン試料の作製	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0028]マスクレス・リソグラフィを用いた微細構造の形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0029]薄膜形成、リソグラフィ、エッチング等を用いた微細構造の形成	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0030]X-point TEG(Test Element Group)の試作	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0031]ゲート前処理を実施したGe MOS Capacitor の試作	F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0032]原子層堆積装置を用いた高品質絶縁膜の形成	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0033]極薄High-k 膜を用いたGe MOSFET 試作	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0034]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストおよびフォトレジスト周辺材料開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0035]高誘電率ゲート絶縁膜/メタルゲート電極スタックを有するGe MOSCAP 評価	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0036]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストの評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0037]シリサイド赤外受光素子の開発	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0038]2 次元機能性原子薄膜半導体を用いたデバイス試作	F-NM-073 マスクアライナー F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0039]スパッタリングなどを用いた層構造形成	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0040]電子ビーム描画装置によるEUV レジストの材料・プロセス開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0041]金属ピラーにおける上部コンタクトの微細加工	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0042]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製とその光応答性	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-093 極低温プローバーシステム F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0043]新規レジストの高選択性ドライエッチング条件の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0044]グラフェンナノリボンの電気特性評価	F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0045]走査プローブ顕微鏡のための多機能プローブの作成	F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-085 シリコン酸化・熱処理炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0046]DMD 露光装置を用いたマイクロレンズ作製に関する研究	F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0047]電子線リソグラフィによる超格子相変化薄膜を用いたデバイス作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0048]軟材料の断面加工・観察	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0049]電子ビーム描画装置等を用いたグラフェン／超伝導体接合を持つデバイスの作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-092 室温プローバーシステム F-NM-090 自動スクライバー F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0050]光学ガラスのエンドミル切削において切れ刃稜線の粗さが脆性損傷に及ぼす影響	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0051]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト及びプロセスの開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0052]宇宙用太陽電池の局所断面観察	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0053]Ga イオンビームエッチングによる微細構造ミラーの作製検討	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0054]GaN ナノワイヤーの位置調節選択成長と異意系発光ダイオード応用	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0055]加速度センサー要素技術	F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0056]プラズマドーピングサンプルに対する対薬品耐性の評価	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0057]原子層堆積装置による多糖類フィルムへの酸化アルミニウム膜の成膜	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0058]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0059]ALD 法による酸化膜上への金属薄膜の形成評価	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0060]アルミニウムナノピラー周期アレイ構造の作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0061]ダイヤモンド成長用下地基板のサファイアの加工	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0062]高感度バイオセンサ開発のためのセンサ基板の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0063]走査電子顕微鏡（FE-SEM）によるニッケル薄膜の観察	F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0064]トップダウン手法によるプラズモニックアレイの作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0065]シリコンナノワイヤ構造の作製	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0066]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング	F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0067]電子線リソグラフィーによる歪Ge 中への量子ドット形成用ゲート電極の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0068]グラフェン用ハードマスク作成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0069]Ge cavity にTi/Au 及び絶縁膜蒸着	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0070]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究	F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0071]フォーミングガスアニールがSiO2/Si 界面の熱抵抗に与える影響	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0072]シリコン深堀加工を用いたSi 基板を吸収体とする超伝導トンネル接合検出器の開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0073]宇宙機汚染管理を目的としたQCM アレイセンサの作製と評価	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0074]ゲートスタック構造の作製	F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0075]自己形成量子ナノリングにおける伝導特性調査	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0076]電子ビーム描画装置を用いた微小SQUID 局所磁化測定システムの作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0077]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン-第二種超伝導体接合素子作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-073 マスクアライナー F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0078]電子ビーム描画装置を用いた半導体-超伝導微小接合素子作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0079]電子ビーム描画装置を用いた超伝導体／半導体二次元電子系接合作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0080]III-V 族化合物半導体ナノワイヤのAu 触媒形状観察	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0081]インプリント技術による微細パタン転写プロセスに関する検討	F-NM-070 ナノインプリント装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0082]SOI センサデバイスの作製に関するユニットプロセス開発	F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0083]X 線構造解析に適する相変化材料メモリ素子の作製	F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0084]pn ホモ接合InGaN LED 構造のプロセス技術構築	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0085]半導体ドライプロセスによる平面型LED 素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0086]半導体ドライプロセスによる多セクションダイオード発光素子の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0087]InAs 量子ナノ構造-超電導デバイスの室温測定による評価	F-NM-094 ワイヤーボンダー F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0088]EDLFET キャリアドーピング用試料の整形と端子の形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0089]原子間力顕微鏡による中性子ミラーの表面ラフネスの測定	F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0090]強誘電体フォトニック結晶作製のためのPLZT/ITO キャパシタの特性評価	F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0091]パリレン薄膜上におけるALD 高品質酸化物絶縁膜の作製	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0092]グラフェンを用いた交差アンドレーエフ反射検出器の作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-090 自動スクライバー F-NM-092 室温プローバーシステム F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0093]ALD 法によるCNT へのアルミナコーティング	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0094]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン超伝導デバイスの作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-087 原子間力顕微鏡 F-NM-092 室温プローバーシステム F-NM-090 自動スクライバー F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0095]塩素系ガスを用いたドライエッチングによるITO パターニング条件の検討	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0096]自己発電型Au-Pt 微細くし電極バイオセンサの開発	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0097]微細くし形電極バイオセンサにおける自己組織化膜の影響	F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0098]ナノインプリントモールドの作製とナノインプリント材料の転写性評価	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0099]ＵＶ硬化型樹脂のプラズマエッチング特性	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0100]CVD グラフェン微細配線の作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0101]微細幅多層グラフェン配線の形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0102]磁束量子渦検出のための反応性イオンエッチングを用いたnano SQUID の開発	F-NM-073 マスクアライナー F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0103]モスアイナノ構造光デバイスの研究開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0104]撥水性Nano/Micro 構造体デバイス研究開発	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0105]ITO ドライエッチングのための新規レジスト開発	F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0106]EDLFET キャリアドーピング用LaNiO3 薄膜試料の整形と端子の形成	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0107]InAs 量子ナノ構造-超伝導体ハイブリットデバイスの作製と評価	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0108]窒化・酸化シリコン複合膜への貫通孔作製	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0109]原子層堆積法による有機材料上への酸化物薄膜成膜プロセスの検証	F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0110]トンネル磁気抵抗素子の微細加工プロセスの確立	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-075 超高真空スパッタ装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0111]電子ビーム描画装置を用いたNb/Ru/Sr2RuO4 接合の作製	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0112]単一微小ジョセフソン接合の輸送特性の電磁環境依存性	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0113]反応性イオンエッチングを用いたSQUID 配列の開発	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0114]超伝導光子検出器と光ファイバの高効率自己結合技術の開発	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0115]Si の深堀エッチングを用いた超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合技術の開発	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0116]低抵抗単一微小ジョセフソン接合の電磁環境の影響	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-072 レーザー露光装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0117]Si 犠牲層膜を用いたサブミクロンギャップ平行平板デバイスの製作	F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0118]自己形成InAs ナノリングの低温での電気伝導特性の研究	F-NM-087 原子間力顕微鏡 F-NM-086 走査電子顕微鏡 F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0119]高圧電性ScAlN 薄膜を有するダイヤモンドSAW デバイスの研究	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0120]ディープ反応性イオンエッチング (DRIE) を用いてシリコンテーパ側壁エッチング	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0121]医療用OCT への応用を目指した多波長InAs 量子ドット広帯域近赤外SLD 光源作製	F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置 F-NM-074 全自動スパッタ装置 F-NM-084 急速赤外線アニール炉 F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0122]フォトニック結晶導波路と広帯域発光量子ドットを用いた多波長光源の試作	F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置 F-NM-081 化合物ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0123]細胞培養用の基材として用いられる三次元パターンの作製	F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0124]イオン注入を施した酸化物半導体トランジスタ試作のためのプロセス開発	F-NM-089 ダイシングソー F-NM-079 プラズマCVD装置 F-NM-071 高速マスクレス露光装置 F-NM-078 原子層堆積装置 F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置 F-NM-080 多目的ドライエッチング装置 F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-14-NM-0125]グラファイト層間化合物薄膜上への金属電極形成	F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置 F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0001]電子線描画による金属ナノギャップ電極のための微細構造の作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0002]PEEM 観察のためのFIB によるナノ加工	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0003]Alignment mark and TSV formation on Si	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0004]高性能GaAs HEMT 簡易評価技術の開発	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0005]プラズモン発光素子の発光メカニズムに関する研究	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0006]ＦＩＢによる微細マスク形成と界面活性剤入りアルカリ水溶液を用いたＳｉマイクロ・ナノ構造体の製作	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0007]FIB 加工による磁性フォトニック結晶の作製	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0008]電子線描画を利用したプラズモンナノキャビティの作製	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0009]SnTe/Sb2Te3 超薄膜超格子	F-NM-059 スパッタ装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0010]バンド間位相差ソリトン回路作製	F-NM-060 金属蒸着装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0011]化合物ドライエッチング装置を用いた化合物半導体のメサ構造の作成	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0012]カーボンナノ材料歪印加素子の開発	F-NM-059 スパッタ装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0013]シリサイド赤外受光素子の開発	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0014]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製（１）	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0015]有機EL のプラズモン散乱と光ナノアンテナの特性評価・応用研究	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0016]電子線描画を用いた強磁性薄膜の細線加工	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0017]バイオセンサーへの応用を目指した集積化基板の作製	F-NM-059 スパッタ装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0018]スパッタリングによるバイオセンサ用金電極パターンの形成	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0019]サブ波長グレーティングの作製	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0020]Si 基板表面への金属触媒蒸着	F-NM-060 金属蒸着装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0021]MR 素子用微細電極形成	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0022]高い選択比を持つRIE 装置を用いたSiO2/Si 基板への微細孔の加工	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0023]走査電子顕微鏡によるAu-TiO2-Ag ナノ粒子の構造評価	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0024]デバイスプロセスを用いた微細構造の作製	F-NM-059 スパッタ装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0025]軟材料の断面加工・観察	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0026]インピーダンス変化を用いたワイヤレス温度測定に関する基礎的研究	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0027]三次元実装に向けた放熱流路評価	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0028]塩素プラズマにおける有機ポリマー材料のエッチング特性	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0029]微細パターンモールドを用いた光ナノインプリントにおける転写性改良	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0030]電子ビーム描画装置を用いた金属ナノ構造の作製	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0031]宇宙用MEMS の試作	F-NM-060 金属蒸着装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0032]パルスアーク放電で生成したOH のPLIF 計測を用いた金属表面上の化学的消炎機構の検討	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0033]液滴エピタキシー法によるInAs 量子ドットの作製とその光学特性評価	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0034]レーザーアブレーション及びFIB エッチングによる酸化物へのナノホールの作製とその形態	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0035]リチウムイオン電池用微細加工シリコン負極の作製	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0036]FIB を用いたTlBa2CaCu3Oz(Tl-1223)の微小リングの作製	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0037]高分子強誘電体薄膜特性評価のための微細キャパシタの作製	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0038]電子線リソグラフィによる新規超格子相変化薄膜を用いたデバイスの作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0039]GaAs:N を用いたマイクロピラー光共振器の作製	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0040]シリコン深堀加工を用いたSi 基板を吸収体とする超伝導検出器の開発	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0041]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0042]真空プローバを用いたグラフェントランジスタの電気伝導特性評価	F-NM-066 電気計測装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0043]気相中の汚染物質検出用温度補償型QCM 素子の作製	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0044]アミロイドをテンプレートとしたグラフェンナノリボンの電気特性評価	F-NM-065 切削・研磨装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0045]高感度CAFM のためのシールド付き導電性AFM プローブの作成	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0046]集束イオンビーム照射によるグラフェンへの欠陥・歪導入と電気特性評価	F-NM-066 電気計測装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0047]InGaN 材料未踏デバイス製作のためのプロセス技術構築	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0048]リソグラフィ装置を用いた量子ナノ構造の超伝導輸送特性	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0049]β-FeSi2 からなるフォトニック結晶の作製検討	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0050]量子ドットデバイス作製のためのSiおよびSiO2基板上Au円孔パターンの作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0051]表面プラズモン効果を用いた素子のためのSi 基板上Au 薄膜の微細加工	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0052]表面修飾ナノグラフェン薄膜を用いた電界効果型トランジスタ（FET）の作成	F-NM-066 電気計測装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0053]β-FeSi2 からなる二次元スラブ構造フォトニック結晶の設計とプロセス検討	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0054]自己形成量子ナノリングの伝導測定	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0055]ＩｎＡｓ量子ドット及び量子リングを用いたデバイスの作製	F-NM-060 金属蒸着装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0056]極低温プローバーシステムを使用したグラフェン電気特性評価	F-NM-066 電気計測装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0057]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン超伝導デバイスの作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0058]EB 描画装置等を用いたグラフェン／超伝導体接合を持つデバイスの作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0059]電子ビーム描画装置とRIE 装置を用いたグラフェン-超伝導素子作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0060]電子ビーム描画装置を用いた半導体微小構造形成と超伝導素子応用	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0061]電子デバイス温度測定に向けた4 端子金属構造の作製	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0062]発光波長制御されたInAs 量子ドットによる広帯域光源	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0063]OCT 光源への応用を目指したQD ベース近赤外SLD 光源の作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0064]ナノパーティクルデポジション法で形成した微細円錐バンプの検査	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0065]ALD を利用したパリレン薄膜上への高品質HfO2 およびAl2O3 絶縁膜作製	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0066]局所磁場観測のためのアルミSIS によるnano-SQUID の作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0067]単一微小ジョセフソン接合に対する浮遊容量の影響	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0068]自己形成InAs 量子ドット中に光励起されたキャリアへのシュタルク効果	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0069]電子線描画装置と12 連電子銃蒸着装置を用いた微小SQUID の作成とその性能評価	F-NM-066 電気計測装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0070]Si 深堀エッチングを用いたスキャニングSQUID プローブの加工	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0071]SAB 接合界面TEM 観察用試料作製	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0072]レーザー露光装置・RIE 装置を利用した3 次元構造のSQUID の作製	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0073]高品質ゲルマニウム極薄酸化膜の形成	F-NM-066 電気計測装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0074]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0075]ドライエッチング耐性と現像性を両立したITO パターニング用フォトレジストの開発	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0076]塩素ガスによる高選択比ITO ドライエッチング条件の検討	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0077]FIB 加工における保護膜としてのSIS-SQUID 上へのSiO2 膜作製	F-NM-059 スパッタ装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0078]半導体微細加工技術を用いたグラフェン / NbN の素子の作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0079]アモルファスSi とβ-FeSi2 からなるSi 積層素子の評価	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0080]２次元機能性原子薄膜をチャネルとするトランジスタ形成プロセスの検討	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0081]FIB-SEM ダブルビーム装置を用いた光電子融合ナノエレクトロニックデバイスの作製	F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0082]ALD 装置を利用したHfO2 薄膜の作成	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0083]Silicon photonic devices for application	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0084]インプリント技術による微細パタン転写プロセスに関する検討	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0085]電子線描画装置とそれによる重ね合わせを利用した三次元光学異方試料の作製	F-NM-059 スパッタ装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0086]La2O3 / hetero-InAs-on-insulator nMISFET 試作	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0087]1550nm での電界吸収型Ge 光変調器の研究開発	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0088]サファイア用ドライエッチングレジストに関する研究	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0089]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製（2）	F-NM-062 ドライエッチング装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0090]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究	F-NM-059 スパッタ装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0091]超伝導—強磁性体接合(YBCO-LSMO)における輸送現象	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0092]Au-Pt くし型バイオセンサ電極の開発	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0093]AlGaN / GaN HEMT のパワーデバイス応用を目指した研究開発	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0094]流れ方向に温度勾配を持つマイクロチャネルを用いた化学的消炎効果のLIF 計測	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0095]EB リソグラフィによる高感度バイオセンシング用ポリマー導波路構造の作製	F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0096]走査電子顕微鏡（FE-SEM）を用いた薄膜構造の観察と組成分析	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0097]X 線測定に適する相変化材料スイッチング素子の作製	F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0098]シリコン酸化膜形成	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0099]ALD 法による絶縁膜上への金属薄膜の形成評価	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0100]SEM 観察による金属薄膜の膜厚評価	F-NM-064 観察・評価装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0101]酸化物半導体へのイオン注入のための下地・保護層となるALD アルミナ酸化膜の堆積	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0102]ALD による有機無機ハイリッド構造作製に向けての基礎データ取得	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-13-NM-0103]ALD による有機薄膜上への酸化物薄膜堆積	F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0001]電子線描画装置を用いた自己形成InAs 量子リングJosephson 接合の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0002]アルミナ及びハフニア絶縁膜を用いたサブミクロンゲートダイヤモンド電界効果トランジスタ	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0003]電子ビーム描画を用いたグラフェン超伝導量子干渉計の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0004]MoS2 トランジスタの試作	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0005]インプリントリソグラフィ装置を用いたナノ構造の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0006]自己形成InAs 量子ドットジョセフソン接合の伝導特性	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0007]窒化シリコン膜のドライエッチング加工の検討	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0008]MEMSラインを利用した新規試作プロセスの構築	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0009]RIE 装置、EB 描画装置、レーザーリソグラフィ装置を用いたグラフェン/NbN の素子の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0010]電子ビーム描画装置を用いた超伝導体-半導体-超伝導体接合の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0011]バイオセンサー応用のためのエッチング法を利用したホールアレイの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0012]超伝導—強磁性体接合(YBCO-LSMO)における輸送現象	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0013]架橋型グラフェン量子ナノデバイスの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0014]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン／超伝導金属接合の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0015]電子線描画およびドライエッチングによる光波メタマテリアル表面の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0016]電子線描画およびドライエッチングによる光波メタマテリアル表面の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0017]マスクレス露光装置、原子層堆積装置等を用いたリチウムイオン電池用電極材料評価のためのミニセル作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0018]描画・蒸着・エッチング技術を用いて作製したMIS 型Schottky フォトダイオードによる自己形成InAs 量子ドットへの電界効果の研究	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0019]超低電力動作SnXTe100-X/Sb2Te3 希釈系超格子相変化メモリ	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0020]塩素系ガスを用いたドライエッチングによる酸化物半導体の微細加工	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0021]多色量子ドットによる近赤外広帯域光源に向けた微細加工	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0022]リッジペアで構成されるグレーティングによる光制御	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0023]新奇光学現象の探索のための3 次元のナノ構造体作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0024]ホールアレイを用いた透過位相制御	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0025]AlGaN/GaN HEMT パワーデバイスの試作	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0026]平面型超格子相変化材料メモリの試作と測定	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0027]電子線描画装置とドライエッチング技術を用いた近赤外メタマテリアルの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0028]電子ビーム描画を利用したプラズモンナノキャビティの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0029]PSS のためのサファイア基板ドライエッチング処理	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0030]Pt-Au 櫛型電極を用いた過酸化水素センサの開発	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0031]ナノアンテナによる多波長遠赤外線受信	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0032]Ta2O5／SiO2 誘電体多層膜のTEM 観察	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0033]カーボンナノチューブ歪印加素子の開発	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0034]アモルファスSi を用いたナノ光デバイスの研究	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0035]超低電力動作GeXTe100-X/Sb2Te3 希釈系超格子相変化メモリ	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0036]櫛型金電極を用いた非標識免疫センサの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0037]中赤外光アンテナの作製と特性評価	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0038]中赤外光アンテナの作製と特性評価	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0039]環境半導体ベータ鉄シリサイドを用いたナノ光デバイスの研究	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0040]赤外線受信素子のMIM ダイオード部分の酸化膜観察	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0041]原子間力顕微鏡を用いたグラフェン上金属薄膜形態の観察	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0042]電子線描画装置を用いた微細メサ構造、および超伝導接合の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0043]樹脂基材上に原子層堆積法で形成したアルミナ膜の特性確認	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0044]GaAs フォトニック結晶導波路のアップコンバージョン素子の開発	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0045]FIBを用いた二次元フォトニック結晶の作成	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0046]発光波長制御されたIn-flushed 量子ドットサンプルのTEM 観察	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0047]STM-SQUID顕微鏡の磁場校正用試料の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0048]選択成長ナノグラフェン薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作成	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0049]微細加工技術による共振器構造の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0050]ICP装置を用いたサファイアエッチングの検討	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0051]細胞機能を制御する三次元培養基材の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0052]超微小アルミトンネル型接合によるμSQUIDの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0053]赤外線受信素子の高感度構造の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0054]超高速伝送に向けたマイクロＡｕバンプによるインターコネクト技術に関する基礎検討	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0055]金属的導電性ラングミュア・ブロジェット膜を用いた分子接合素子の開発	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0056]水平配向カーボンナノチューブの合成	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0057]走査電子顕微鏡を用いたAu/TiO2 新規ナノ粒子の構造の観察	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0058]基板上への金薄膜の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0059]紫外線照射による光学部品劣化の分析	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0060]Ag薄膜を用いたバイオ電極アレイの製作	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0061]ナノインプリント法による光学素子の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0062]micro-SQUIDによる微小Sr2RuO4 片まわりの局所的磁場観測	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0063]スパッタ装置を用いた銀蒸着シリコン基板の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0064]描画装置および成膜装置を用いた超伝導リングの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0065]新規ゲート構造が適用可能なGaAs トランジスタの試作	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0066]ナノパターニング技術による高分子強誘電体ゲートFET の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0067]レーザー露光装置を用いたパターン付伝導性光学素子の製作	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0068]フェムト秒レーザーアブレーションならびにEB リソグラフィーによるホウ酸塩結晶およびガラスにおけるナノホールの形態観察	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0069]Si深堀エッチングを用いたスキャニングSQUID プローブの加工	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0070]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0071]原子層堆積装置を用いた絶縁酸化物の合金および磁性半導体上への成膜	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0072]三次元実装に向けた放熱流路評価	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0073]GaAsへのノーマル電極の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0074]電極活物質評価のためのマイクロセル作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0075]電子ビーム描画装置を用いた短チャネルグラフェントランジスタの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0076]走査電子顕微鏡を用いたAu/TiO2 新規ナノ粒子の構造評価	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0077]露光用ユニバーサルキャリア技術の検証	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0078]原子層堆積装置を用いた高誘電率・高耐電圧絶縁酸化物層の磁性半導体上への成膜	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0079]急速アニーリングによる選択的量子構造領域の作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0080]パルスアーク放電で生成したOH のPLIF 計測を用いた金属表面上の化学的消炎機構の検討	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0081]MEMS シャッターの宇宙用電子部品放射線試験への応用にむけた試作	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0082]GNR 合成用サファイヤ基板のカット	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0083]フォトリソグラフィー技術による高分子強誘電体微細キャパシタの作製	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0084]インピーダンス変化を用いたワイヤレス温度測定に関する基礎的研究	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0085]原子堆積法による歪みゲルマニウムへのアルミニウム酸化膜の堆積	(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム [F-12-NM-0086]高移動度チャネル材料の研究	(登録なし)