利用報告書一覧

利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学 微細加工プラットフォーム]　
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名 利用装置名
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0001]微細光半導体デバイス向けプロセス技術の研究 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0002]複層グラフェン基板への金属原子クラスター作製と透過電子顕微鏡による観察 		F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0003]溶液中AFMによるリポタンパク質の物性評価のためのAu膜の作製 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0004]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0005]マイクロナノパターンの細胞培養への影響 		F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0006]磁性酸化物超薄膜をもちいたスピントロニクス素子の開発 		F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0007]ALDによるカーボンブラックへのTiO2被覆 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0008]新原理電子デバイスの開拓に向けた機能性無機材料の微細加工プロセス開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0009]ALD MoOxプリカーサー膜を用いた2D材料MoS2膜の作製 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0010]粉体ALDを活用した中空シリカ粒子表面の高機能化 		F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0011]ダイヤモンドデバイスの開発 		F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0012]燃料電池触媒層の性能向上を目指した，ナフィオン膜形成過程の解析 		F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0013]水中結晶光合成法を用いたSi太陽電池の性能向上 		F-HK-100 ダイシングソー
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0014]酸化アルミニウム基板を使った微粒子アセンブル技術 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0015]メタレンズの開発 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0016]歪み印加での変調を可能とする量子ドット発光デバイスの作製 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0017] Preparation of PDMS microchamber to determine the ATPase activity of the swarming of biomolecular motor system 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-105 レーザー描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0018]Au粒子配列基板上へのTiO2薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0019]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製 		F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0020]原子層堆積法を用いた赤外光ファイバーセンサーへの機能性ナノ薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0021]Efficient Hot-Electron Generation under Strong Coupling Condition via Interfacial Modulation 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0022]スピン軌道トルク磁化反転を利用したスピン機能素子の作製 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0023]Near-field Distribution under Modal Strong Coupling with Coherent Interaction 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0024]ナノギャップを有する金属ナノ構造二量体の作製 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0025]赤外プラズモン構造を用いた蛍光やラマン散乱シグナルの制御 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0026]金ナノ微粒子を担持した遷移金属ダイカルコゲナイド層状化合物の合成と評価 		F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0027]金ナノトライマー構造を用いたナノダイヤモンド捕捉と回転運動 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0028]Photocurrent Generation on Gold Nanoparticles Loaded Ga2O3 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0029]結合系プラズモニックナノ構造の寿命と近接場増強効果 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0030]Developing a electrochemical SERS measurement system to investigate the distinct spectral characteristics of water oxidation intermediates 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0031]細胞形態観察用マイクロパターニング 		F-HK-016 真空紫外露光装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0032]粉末のALD成膜 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0033]金属ナノピラーアレイへの酸化チタン・金ナノ粒子の担持とその光学特性評価 		F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0034]Fe3O4ナノ粒子配列体における磁気キャパシタンス効果 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-105 レーザー描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0035]自己組織化法により高密度に担持した金ナノ粒子のプラズモンとナノ共振器とのモード強結合構造の作製とその表面増強ラマン散乱特性 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0036]微細構造を利用した着霜防止材料の開発 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0037]プラズモン光アノードへのコバルト助触媒の位置選択的担持と水酸化反応への利用 		F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0038]リセスゲート構造を有するGaN HFETの作成と評価 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0039]超伝導デバイスの作製 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0040]磁気共鳴のための2 次元電子系ナノ構造デバイス作製 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-105 レーザー描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0041]Study the Plasmonic Corner States using Photoemission Electron Microscopy 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0042]微小球共振器モードを示すマイクロ粒子への金ナノ微粒子担持 		F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0043]原子層堆積膜によるMEMS立体構造製作のための加工特性研究 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0044]フォノニック結晶・フォノニックメタマテリアルの作製 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0045]多層金ナノ粒子構造を用いたプラズモン－ファブリ・ペローナノ共振器強結合電極における光電気化学特性 		F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0046]光電場の局在とプラズモンの寿命がプラズモン誘起光圧に与える影響 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0047]銀ナノプレートに励起される高次プラズモンと分子の相互作用の解明 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0048]Al蒸着による光共振器の作製 		F-HK-005 真空蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0049]Co基ホイスラー合金Co2MnX (X = Al, Ga)における異常ホール効果の評価 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0050]医用イメージングのための半導体検出器の開発 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0051]異なるプラズモン場によりキラル結晶化の制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0052]マイクロ構造電極の作成 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0053]遷移金属ダイカルコゲナイド層状化合物とプラズモンとの相互作用の解明 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0054]局在光電場によるナノ空間分子反応場の構築 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0055]結合系プラズモニックナノ構造の近接場分光特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0056]結合条件下におけるプラズモン誘起フォトクロミック反応 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0057]マイクロ加工基板による細胞立体培養 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0058]プラズモン誘起2光子フォトクロミック反応の定量測定 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0059]ボトムゲート型透明酸化物半導体薄膜トランジスタの作製 		F-HK-104 原子層堆積装置（粉末対応型）
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0060]プラズモン誘起マイクロリアクターシステムの構築 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-105 レーザー描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0061]X線レーザーイメージングのための低バックグラウンド試料ホルダ作製 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0062]金格子構造体による分子励起子‐プラズモン強結合系の発展 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0063]ナノギャップへの蛍光分子の選択的配置とその蛍光増強特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0064]酸素プラズマを用いたエッチング処理によるナノポーラス材料の簡便合成法 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0065]振動モードと光共振器モードとの相互作用の分光特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0066]プラズモン－フォトニック結晶結合系の分光特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0067]MALDI質量分析用ソフトイオン化基板の開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-102 シリコン深掘りエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0068]金属/層状化合物ナノ構造体の非線形分光特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0069] 微細構造がフジツボ付着期幼生の着生挙動に与える影響 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0070]アルミナ層を数層堆積させた金ナノ構造の音響フォノンダイナミクス 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0071]中赤外域にプラズモン共鳴を示すグラフェンナノ構造の創製と分光特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0072]磁壁に作用する電流誘起有効磁場 		F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0073]半導体向け薄膜の成膜 		F-HK-103 多元スパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-21-HK-0074]電子ビーム露光を使ったダブルパターニングによるナノインプリントモールド作成 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-024 ALD製膜装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0002]プラズマクリーナーによるレジスト除去 		F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0003]基板上への微細Al電極作成と基板の評価 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0004]新カット水晶Lamb波レゾネータの開発 		F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0005]ヘテロ接合半導体ダイオードの製作と評価 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-133 JEOL FE-SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0006]シリコン導波路型光フォトニックバイオセンサの研究 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0007]ウェット酸化による熱酸化膜 		F-TU-048 膜厚計
F-TU-044 酸化拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0008]エンドトキシン測定用くし型電極の開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0009]触覚デバイスの開発と材料技術の検討 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-128 XRD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0010]極細径光ファイバ圧力センサの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0011]多段回折光学素子の試作開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0012]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0013]マイクロポンプの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0014]微細構造の試作検討 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0015]MEMSデバイスの加工 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-048 膜厚計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0017]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0018]セラミックス空気1-3コンポジット超音波探触子の開発 		F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0019]感染症ウイルス検査用マイクロ流路チップの作製 		F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0021]メタマテリアル製作のための微細加工技術 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0022]圧電MEMSデバイスの研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0023]高真空ウェハレベルパッケージング真空度計測リゾネータ 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0024]熱輻射制御用微細構造の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-093 ワイヤボンダ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0025]中性子回折格子作製を目的としたGd基金属ガラス微細加工への挑戦 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0026]光ナノインプリント技術による微細構造形成 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0027]MEMS/NEMS fabrication 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0028]固体微細構造デバイスの作製 		F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0029]PZT単結晶薄膜を用いた高性能超音波デバイスの研究 		F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-128 XRD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0031]レーザ描画を用いたDOEの製作 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0032]Si表面荒らし加工 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-104 FE-SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0033]シリコン光カプラの開発 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0034]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0035]太陽電池セル作製プロセスの開発 		F-TU-068 LPCVD
F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0036]超長時間アニールを用いた宇宙用X線全反射鏡の平滑化の研究 		F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0037]表面増強ラマン散乱を利用した超高感度バイオケミカルセンサーチップの開発 		F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0038]微細構造体の作製技術開発 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0039]いわて半導体アカデミー社会人向けプロセス実習 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0040]ミリ秒X線トモグラフィのための光学素子の作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0041]半導体ナノゲート構造の作成 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0042]炭化珪素基板の新規生産技術開発、デバイス試作とその特性評価 		F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0043]高真空ウェハレベルパッケージングを適用したMEMSセンサーの研究開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0044]半導体ナノ構造の作成 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0045]感光性接着材料の接合評価 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0046]MEMSガスセルの開発 		F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0047]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0048]情報環境（インフォスフィア）調和型 自己組織化ヘテロ集積システムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0050]Silicon wafers making 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0051]ナノポーラス構造の作製と評価 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0053]薄膜の元素分析 		F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0055]マイクロレンズアレイ加工 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0056]超高周波SAWデバイスの開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0057]カーボンナノチューブ１本レベルの熱動態計測のためのMEMSヒータ作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0058]高精細発光素子のパターニング技術開発 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0060]MEMSデバイスの作製 		F-TU-096 EVG ウェハ接合装置
F-TU-097 EVG ウェハ接合用アライナ
F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0061]サブマイクロ構造光学素子の試作 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0062]i線ステッパによるAl配線パタン形成 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0065]圧電MEMSデバイスの応用研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-1000 アルバックICP-RIE#2
F-TU-048 膜厚計
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0066]MEMS device technology development 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0067]IoT for Safety and Security 		F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0068]水質モニタリング用センサーに関する研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0069]Siメタ表面の作製とKerker効果 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0070]光無線給電用の近赤外感度を有する超薄型透明太陽電池の研究開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0071]Pt-ALD成膜 		F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0072]対称性を制御した光メタマテリアルの作製 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0073]MEMSデバイス開発試作 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0074]3次元構造シリコンデバイス・プロセスに関する研究 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0075]FAIS人材育成事業に活用するMEMS フォースセンサ作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0076]3D-IC用高アスペクト比ビアへの絶縁層形成に関する研究 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0077]MEMSフィジカルセンサ構造の作製プロセスの構築 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0078]ファンデルワールス材料物理 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0079]低直流電圧で駆動するMEMSアクチュエータに関する研究 		F-TU-093 ワイヤボンダ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0080]LIDAR用MEMSマイクロミラーに関する研究 		F-TU-127 マスクレスアライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0082]W-Cu接合界面の健全性評価 		F-TU-107 超音波顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0084]ヘテロ整合界面を有するSiCエピタキシャル成長技術開発とそれを用いたインテリジェントパワーICの実証 		F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0085]イオン照射によるナノ・マイクロ構造創成 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0086]プリンタブルエレクトロニクス技術を活用した放射線センサの開発 		F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0087]コンクリート3Dプリンタの層間補強に関する研究 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0088]磁歪Fe-Co粒子分散ソフトポリマー複合材料の粒子分散状態の確認 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0089]回折光学素子の作製 		F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-130 コータデベロッパ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0090]酸化ニオブ薄膜におけるO/Nb増加のための研究 		F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0091]加工基板作成 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0092]トポロジカル物質微細素子の作製 		F-TU-132 ECRロングスロースパッタ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0093]MEMSプロセスプラットフォーム開発 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0094]ALDを用いた酸化チタンナノチューブ薄膜への貴金属成膜 		F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0095]低損失微小共振器の作製 		F-TU-129 i線ステッパ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0096]いわて半導体アカデミー大学生向けプロセス実習 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-074 アネルバ スパッタ装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0097]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0098]重水酸化膜の特性評価 		F-TU-044 酸化拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0099]電鋳用グレイスケール露光実験 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0100]Siの垂直深掘り加工（ダメージ抑制） 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-048 膜厚計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0101]フローセンサの作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0103]プラズモニックナノ構造を用いた赤外線センサに関する研究 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0104]シリコン基板上での表面プラズモンの制御とその応用に関する研究 		F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-130 コータデベロッパ
F-TU-133 JEOL FE-SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0105]薄板型熱発電機の作製 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0106]ウェットエッチング用ウェハコーティング剤の開発 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-106 卓上型エリプソ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0107]メタレンズの作製 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0109]MEMS microphone 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0111]レーザー直接描画を用いたグレイスケールリソグラフィにおける厚膜レジストの塗布方法の確立 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0112]固体酸化物形電解セル（SOEC）を用いた共電解における燃料極 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0113]DLC膜の微細エッチング加工 		F-TU-123 アルバックICP-RIE
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0114]シリコンエミッタへのイオン注入 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0115]人工細胞による細胞ー細胞間力学環境の探求 		F-TU-127 マスクレスアライナ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0117]MEMSフォースセンサ応用IoTモジュール試作実習 		F-TU-060 シンター炉
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-129 i線ステッパ
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-209 エッチングチャンバー
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-093 ワイヤボンダ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0118]熱リン酸処理 		F-TU-209 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-21-TU-0119]有機電気化学トランジスタ用電極基板の作製 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0001]赤外線カメラを用いた微細流路内の沸騰熱伝達の非定常測定 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0002]ヘテロ接合半導体ダイオードの製作と評価 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0003]ドット型脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0004]レーザー光電子顕微鏡性能評価用試料 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0005]多元スパッタ装置(i-miller)を用いたSiO2スパッタ膜の酸素分圧と絶縁性の関係 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-101 自動エリプソメータ
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0006]イオン液体供給型物理リザバー素子の微細加工プロセスに対するCuの耐性評価 		F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0007]GaN PNDのVF改善 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0008]高品質酸化ガリウムエピウエハの開発 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0009]高耐圧酸化ガリウムパワーデバイス開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0010]EBリソグラフィを用いた新磁性デバイスの試作 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0011]フォトニック結晶のためのEB・RIEによる石英微細加工および多層膜成膜 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0012]高耐圧デバイスの試作 		F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0013]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電素子の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0014]熱電素子テスト構造の試作 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0015]赤外線フォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-112 触針式プロファイラ
F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0016]窒化ガリウム半導体へのフォトニック結晶構造形成 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0017]熱電発電素子への導熱路構造の開発 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-111 水蒸気プラズマ洗浄装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0018]CMOSプロセスを用いたSi熱電発電集積デバイスの開発 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0019]ポリマー材料加工技術の検討 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0020]3次元パワーSoC実現に向けてのプロセス技術の開発 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0021]強磁性トンネル接合の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0022]EB描画装置を用いた高周波ダイヤモンドFETのゲート電極用微細パターンの描画 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0023]半導体プロセス用材料の性能評価 		F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0024]ダイヤモンドジョセフソン接合の微細化手法検討 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0025]CF4ガスを用いたMg2Si基板の反応性イオンエッチング特性 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0026]SiN光導波路の作製 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0027]二硫化モリブデン電界効果トランジスタの分子センサー応用 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0028]マイクロ流路付きMoS2-FETセンサーにおける電気特性の溶液依存性観測 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0029]二硫化モリブデン電界効果トランジスタを応用した分子センサーの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0030]Nano/Micro機能付加による高性能伝熱面に関する研究 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-112 触針式プロファイラ
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0031]金属-MoS2接合における界面状態の直接的な測定を目的としたデバイスの最適化 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0032]125kV電子ビーム描画装置を利用したナノ構造体の形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0033]半導体プロセス用材料の性能評価 		F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0034]Ni異方性エッチングやFIB、RIEを用いたダイヤモンド基板上の微細加工 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0035]イットリアコーティングのプラズマ腐食形態SEM観察 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0036]ジョセフソン接合へのエッチングダメージ低減によるダイヤモンドSQUIDの特性向上 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0037]シリコン微細素子，2次元電子材料を用いた新機能デバイス作製とパッケージング 		F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0038]窒化物パワーデバイス 		F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0039]量子コンピューティングのハードウェア研究 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0040]TiO2 ナノ構造の作製と光学特性 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0041]SOI を用いた Si 光導波路およびリング共振器の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0042]SiCダイオードの耐放射線性研究 		F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0043]赤外線フォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-109 赤外線ランプ加熱装置
F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0044]電子線描画法を用いた微小ジョセフソン接合の作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0045]Micro-LED with highly directional emission 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0046]1.03 m波長帯パルス幅可変半導体レーザーの開発 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0047]シリコン細線導波路の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0048]熱計測システムのためのセンサ膜開発 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
F-NM-111 水蒸気プラズマ洗浄装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0049]電子線露光を用いたシリコンフォトニクスデバイスの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0050]露光装置やスパッタ装置、蒸着装置を用いたMg2Siフォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0051]電子ビーム描画装置を用いた微細加工 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0052]グラフェン/hBNヘテロ構造を用いた並列2重量子ドットの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0053]量子コンピューティングハードウェアの研究 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0054]AlGaAs/GaAs系発光素子におけるオーミック電極作製プロセスの確立 		F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0055]化合物ドライエッチング装置によるAlGaAsエッチング形状の評価 		F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0056]電子線描画装置を駆使したトポロジカル物質微細素子の作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0057]高温領域を測定可能なクーロンブロッケード温度計の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0058]AZ5214を用いたライン形状の形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0059]AZMiR703を用いたライン形状形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0060]露光装置およびスパッタ装置を用いたMg2Si pn接合フォトダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0061]強誘電体ゲートFET開発のための電子ビーム描画条件の最適化 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0062]シリコン量子ビットの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0063]熱拡散法によるNb3Sn成膜における核生成時の表面観察 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0064]電子線リソグラフィによって作製されたグラフェン熱電素子のナノスケール測定 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0065]物理リザバー素子開発に向けた触針式プロファイラによるイオン液体中における銅の反応性評価 		F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0066]電子線描画装置を用いた単層カーボンナノチューブ架橋用のライン＆スペースの作成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0067]電子ビームリソグラフィによるNiナノリボン電極の微細加工検証 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0068]超伝導体と二次元半導体との接合作製による界面状態の研究 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0069]分子認識界面構築における評価用バイオセンサ基盤の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0070]プラズマCVDにおけるSiO2膜厚の均一性 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0071]12 連電子銃型蒸着装置におけるSiO2 膜厚面内分布 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0072]電子ビーム描画装置による新規レジスト材料・プロセスの研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0073]電子ビーム描画装置によるレジストプロセスの研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0074]フォトリソグラフィーを使用したダイヤモンド表面へのパターン生成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0075]GaN HEMTのP-GaN選択性エッチング 		F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0076]唾液中コルチゾールを検出するEIS型バイオセンサの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0077]バッファードHFを用いたALD-Al2O3膜のエッチングレート評価 		F-NM-108 多機能型原子層堆積装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0078]ハーフインチSiウェハ上へのTEOS絶縁膜の成膜 		F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0079]ウェットエッチングによるTi/Al電極の加工 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0080]電子分光分析用イオン液体物理リザバーデバイスの試作 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0081]p-GaN / AlGaN 選択エッチングの評価 		F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0082]走査型熱電顕微鏡のためのナノプローブ作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0083]金属⁻MoTe2接合における研究のためのデバイス作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0084]SiO2のCHF3ガスによるドライエッチングレートに与えるフォトレジスト塗布された基板の影響 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-101 自動エリプソメータ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0085]シリコン量子ビットの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0086]シリコントランジスタの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0087]微細シリコン段差パターンの作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0088]SiO2膜の形成 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-112 触針式プロファイラ
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0089]RTA加工によるプラズモニックアレイの高性能化 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0090]Operando XAFS観察用微細メッシュパターン金属塗布型極薄ポリイミド膜電極の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0091]グラフェンへのひずみ導入による電気伝導制御 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0092]スパッタ装置を用いた距離計測のための光位相変調器の製作 		F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-110 顕微式自動膜厚測定システム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0093]低損失かつ高耐圧な縦型パワーダイヤモンドMOSFETの作製 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0094]1.03 m波長帯の半導体レーザーのプロセス開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0095]単層カーボンナノチューブの熱電測定 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0096]量子センサによるカーボンナノチューブ熱電計測 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0097]NVセンタの電流計測に向けたナノギャップ作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0098]高速動作半導体レーザーの製作プロセスに関する研究 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0099]ダイヤモンドデバイスのためのプロセス技術開発 		F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-099 多元スパッタ装置（i-miller）
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0100]細胞の膜機能を評価するマイクロパターン基板の作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0101]メタレンズの作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0102]プロセス条件変更検討 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-106 ICP原子層エッチング装置
F-NM-107 ６連自動蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0103]グラフェンFETの保護膜材料およびプロセス適正化の検討 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-21-NM-0104]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサアレイの開発 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0001]強誘電体膜（KNbO3）の誘電圧電特性の評価 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0002]Pd合金の水素吸蔵特性 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0003]微細構造観察のためのNiCo2O4薄膜の加工 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0004]GaNへのOイオン注入により形成したn型領域のDLTS評価 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0005]サムコ製ALD装置(AD-100LP)を使った成膜時のパーティクルの低減検討 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-144 原子層堆積装置〔AD-100LP〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0006]窒化ガリウムN極性面の電極コンタクト検討 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0007]界面遷移層厚の成膜手法依存性 		F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0008]ダスト除去機能を有する放熱面の試作 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0009]ダスト除去機能を有する放熱面の試作 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0010]ナノプローバによるCu-Cuハイブリッド接合界面の電気特性の計測 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0011]偏光素子開発 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0012]YIG薄膜の成膜と評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0013]窒化ガリウム縦型PN構造を用いたα粒子検出器 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0014]P-CVD TEOS-SiO2の段差被覆性 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0015]Si基板上p-GaNゲートHEMTの試作 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0016]Si基板上p-GaNゲートHEMTエピウエハのSIMS評価 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0017]光学式膜厚計によるp-GaN / AlGaN選択エッチングの評価 		F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0018]感光性樹脂材料のパターニング評価 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0020]半導体デバイスの特性調査 		F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0021]電子線描画を用いて作製したジョセフソン接合の寸法評価 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0022]表面弾性波共振器を用いた極低温環境における水晶基板の欠陥評価 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0023]微小部蛍光X線分析装置によるCu膜の膜厚測定 		F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0024]高純度オゾンを用いたALD SiO2膜のI-V特性 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0025]高純度オゾンガスを用いたALDにて成膜したTiO2表面粗さ 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0026]分光エリプメータによるSi基板上SiO2膜の膜厚測定 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0027]PAMBE成長α-(AlxGa1-x)2O3薄膜の結晶構造評価 		F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0028]微細磁気デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0029]光触媒表面特性解析 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0030]ポジトロニウム生成のための極微細キャビティ反応器の作製 		F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0031]窒化シリコンスパッタ膜の成膜レート 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0032]SOGおよびSiO2膜厚の光学式膜厚計(K-MAC)による計測 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0033]新磁性素子試作 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0034]窒化シリコンスパッタ膜の成膜レート 		F-AT-102 触針式段差計
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0035]厚膜レジストを用いたパターン形成 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0036]Ta2O5膜熱処理評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0037]p-GaPとITOのコンタクト抵抗評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0038]プラズマCVD薄膜堆積装置のBHF LAL 200ウェットエッチレート 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0039]評価用素子構造の特性への影響 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0040]金属有機構造体における陽極反応の評価 		F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0041]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0042]XPSによるルテニウム薄膜の分析 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0043]InPへのオーミックコンタクト電極の形成 		F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0044]CNT赤外線センサーの電極作製 		F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0045]印刷したはんだペーストのリフロー後の表面観察 		F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0046]高抵抗TEGの不良解析 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0047]WOW積層メモリ向けプローブ痕対策 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0048]導電性高分子の磁場下での電気伝導度測定 		F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0049]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0050]製品層内に付着した汚れ・異物の分析 		F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0051]ミリングレート安定性評価 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0052]PAD法により形成した酸化物膜の電子状態の観察 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0053]ガス電子増幅用ガラス基板の開発2 		F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0054]ICPドライエッチングを用いたAl電極の加工 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0055]PECVDと蒸着を用いて成膜したSiO2の被覆性の違い 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0056]ダイシング時の保護膜の有用性 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0057]超電導量子回路に向けた高Q超電導共振器の開発 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0058]アルミ薄膜の微細加工 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0059]原子層堆積装置を用いたSnO2薄膜の形成、およびその光学特性評価 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0060]櫛歯型レジストパターンをマスクとしたSi基板の垂直加工 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0061]カーボン高精度パタン加工のためのSiO2-Siハードマスクの検討 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0062]原子層堆積法による微細加工シリコン基板上への酸化物薄膜形成 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0063]Si基板上のAl2O3膜の評価 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0064]スチレン系熱可塑性エラストマー超薄膜中のスチレン成分の深さ方向分布解析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0065]ナノチャネル電界効果トランジスタ構造によるPt/Ni薄膜の磁気特性制御 		F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0066]共振子のウェハレベル高真空封止技術 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0067]高密度・高速応答熱電対アレイの試作 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0068]ガラス基板上の Alワイヤーグリッド偏光子の形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0069]金埋め込み電極作製に向けた高アスペクト比トレンチ内における薄膜成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0070]PEDOT：PSSの断面解析 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0071]基板上への微細Al電極作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0072]MOCVDで成膜されたAlN膜のドライエッチング 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0073]ペロブスカイト太陽電池に用いるペロブスカイト半導体結晶層の価電子帯準位とフェルミ準位の測定 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0074]原子状酸素照射高分子フィルムの FE-SEM 観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0075]原子状酸素照射高分子フィルムの SPM 観察 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0076]ALD技術を利用したケミカルドライエッチング評価用TEGの作製 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0077]油中での摩擦によって露出させた銅母材への潤滑添加剤の吸着と摩擦／摩耗挙動 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0078]エステル基を持つ潤滑添加剤のナノトライボロジー特性評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0079]歯冠修復材料としてPEEK材を応用するための研磨方法の評価 		F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0080]太陽電池中のドーパント濃度の定量分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0082]HIプラズマを用いたGe表面のXPS分析 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0083]GaNのホール移動度測定 		F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0084]酸化アルミニウム薄膜の形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0085]リフトオフ加工によるシリコン基板上のプラチナ微細構造の成膜 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0086]FinSET素子の作製 		F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0087]アンモニア火炎が固体壁に与える影響のモデル化 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0088]YIGエピタキシャル薄膜の成膜と評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0089]磁性酸化物薄膜のイオンミリング加工 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0090]共役高分子ブレンド膜における膜組成の深さ方向評価手法の検討 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0091]回折光学素子の作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0092]ダイヤモンド上の金属積層膜の作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0093]ダイヤモンド上のAl2O3薄膜のエッチング 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0094]検証用Waferの製作 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0095]原子層堆積法を用いた金属成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0096]AlGaAs膜のドライエッチング加工 		F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0097]ALD膜の吸収評価 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0098]高圧ジェットリフトオフ装置を用いたMEMS微細加工 		F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0099]大気圧プラズマによる表面改質 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0100]DLC薄膜分析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0101]カーボンナノチューブバンドルの電気抵抗評価 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0102]i線ステッパーによる2インチウエハ上へのレジストパターン作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0103]TiO2/CaF2薄膜の表面形状観察 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0104]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜による多層MIMダイオードを用いたレクテナの開発及びウェットエッチングで混酸アルミがAl2O3に与える影響について 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0105]i線ステッパーによる回折光学素子のレジストパターニング 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0106]i線ステッパーによるマイクロ流体デバイスへのレジストパターニング 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0107]マスクレス露光装置によるライン＆スペースの形成 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0108]リフトオフ加工によるニオブ酸リチウム基板上の櫛形電極の成膜 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0109]GGG結晶上へのYIG膜のスパッタ成膜 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0110]高純度オゾンを用いたALD SiO2膜の比誘電率 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-110 デバイス容量評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0111]高アスペクトトレンチSiへの高純度オゾンガスを用いたALD 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0112]SiN膜イオンミリング 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0114]XPSによる金属ステントの表面評価 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0115]純V水素透過膜へのPdの成膜 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0116]アルミニウムナノシリンダーアレイへの誘電体層の被覆による耐熱性の向上 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-21-AT-0119]GaN薄膜の原子層堆積 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0001]Dimension Icon装置を利用した分解能、フォースカーブなどの測定　機器特性の確認 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0002]FIB 装置を利用した電気抵抗測定用微細サンプルの作製 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0004]Tiターゲットを用いたDCスパッタリング装置によるサファイア基板上でのTiN薄膜の作製 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-105 触針式表面形状測定器
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0005]銀ナノワイヤーの新規合成手法の開発 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0006]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0007]ヘリウムプラズマータングステン共堆積を施したタングステン試料の表面・断面観察 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0008]ダイシングマシンを利用した半導体デバイスの作製 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0009]パターン投影リソグラフィシステムを利用した金属酸化物へのナノギャップ電極対の作製 		F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0012]デバイスシミュレータを利用したMg2Siショットキーダイオードの評価 		F-BA-091 デバイスシミュレータ
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0014]Auディスク形成に向けた電子線露光実習（実践セミナー） 		F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
F-BA-096 電子線蒸着装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0015]MIMダイオードを用いたレクテナの開発 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0016]SEM装置による環境触媒の観察 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0017]紙及びバイオマスプラスチックの形態の観察と物性の測定 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-21-BA-0018]各種液剤の微細塗布の検証 		F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0001]ミリ波・マイクロ波計測 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0002]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0003]微細構造試料を用いた光音響高速計測技術 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0004]量子センシングのためのマイクロ波アンテナの作製 		F-UT-168 UVレーザープリント基板加工装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0005]ダイヤモンドの表面の洗浄と観察 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0006]ナノビーム共振器中の架橋カーボンナノチューブにおけるPurcell効果 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0007]カーボンナノチューブの決定論的配置によるナノデバイス作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0008]単層カーボンナノチューブ分割ゲート発光素子構造の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0009]Hexagonal boron nitride as an ideal substrate for carbon nanotube photonics 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0010]単層架橋カーボンナノチューブに対するアリルハライドを用いた気相機能化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0011]導波路結合型カーボンナノチューブ光源 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-162 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0012]Quantum Emission Assisted by Energy Landscape Modification in Pentacene-Decorated Carbon Nanotubes 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0013]FeVAl薄膜のドライエッチング 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0014]高解像度誘電体メタホログラムの製作 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0015]電子線描画装置を利用した可視光領域でのアキシコンメタレンズの開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0016]電子線描画装置および反応性イオンエッチング装置を用いた可視光用可変焦点メタレンズの製作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0017]可視光領域におけるシリコンナノ柱を用いた誘電体メタサーフェスホログラムの開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0018]シリコンナノ柱を用いたAlvarezメタレンズの製作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0019]メタサーフェスを用いたガスセンサ素子開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0020]Y3Fe5O12微細構造を用いたスピン波周波数分割多重化デバイス 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0021]Lithographic in-mold patterning for CsPbBr3 nanocrystals distributed Bragg reflector single-mode laser 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0022]GaAs劈開表面の観測 		F-UT-145 SEM
F-UT-162 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0023]MEMS振動発電型エナジーハーベスタ 		F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0024]天文分光用MEMSマイクロシャッタアレイ 		F-UT-158 UVオゾンクリーナー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0025]ＭＥＭＳ波長可変光源 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0026]電子ビーム描画及び深掘りエッチング装置によるシリコンメタレンズの作成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0027]アモルファスSiサブマイクロ構造の試作 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0028]単一細胞捕獲分析用マイクロデバイス作製 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0029]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0030]半永久的に退色しないフルカラー構造色パターニング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0031]高性能高スループット光学デバイス作製プロセス 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0032]金属被覆誘電体テラヘルツ波導波路における伝搬損失メカニズム 		F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0033]光触媒応用に向けた酸化チタン薄膜の形成 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0034]狭隘なトレンチで構成した回折格子を用いた再構成分光のための中赤外ディテクタ 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0035]金キラル構造を用いた反射防止フィルタ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-156 スプレーコーター　兼　自動エッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0036]マイクロロボットを駆動可能な静電モータの作製に関する試行利用 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0037]パリレン薄膜の形成 		F-UT-147 パリレンコーター
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0038]不連続なAu回折格子を用いた電流検出型SPR化学量センサの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0039]バイオアッセイへの応用に向けたシリコン製マイクロ流体デバイスの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0040]リフトオフによるナノ金属構造作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0041]次世代型半導体（ISFET）pHセンサーの開発 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0042]シリコンプラットフォームを用いた光集積回路 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-162 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0043]ポーラスSi薄膜の形成 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0044]軟Ｘ線イメージング用テストチャートの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0045]グラフェン・ナノスケール・デバイス作製に向けた微細加工 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0046]Si深堀エッチング用保護膜の開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0047]カーボンナノチューブ構造制御のための成長速度分析 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0048]Property investigations and Device applications of 1D van der Waals hetero-nanotubes 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0049]微細パターン評価技術開発に向けての電子線描画によるレジストパターン形成 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-152 枚葉式ZEP520自動現像装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0050]単層カーボンナノチューブを用いたヘテロ構造デバイスの作製とその電気計測 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0051]超伝導検出器の開発 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0052]DRIEを利用した静電アクチュエータの作製 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0053]試料のSEM観察 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0054]溝付き尖塔構造を持つエミッタアレイの作製 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0055]電子線描画装置を使用した1GHz OPAW振動子の電極パターニング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0056]シリコン深掘エッチングの品質向上(2) 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0057]熱電素子への成膜と電極基板の作製 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0058]ナノ粒子計測のためのナノ構造形成とデバイス作製 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-145 SEM
F-UT-168 UVレーザープリント基板加工装置
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[F-21-UT-0059]高分解能センサプローブを用いたPDMSビーズの硬さ計測 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
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[F-21-UT-0060]近接場光精密研磨 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-162 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0061]ヘテロナノチューブの電気伝導特性評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0062]MIMプラズモン構造を用いた光電場計測素子の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0063]超伝導転移端センサ型光子数識別器の開発 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0064]音響波によるナノ粒子操作のためのマイクロ流路の作製 		F-UT-155 汎用NLDエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-164 プラズマ表面改質装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0065]プラズモニックナノ構造による光駆動ナノアクチュエータの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0066]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0067]人工ナノ構造を用いた広帯域集光素子の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-155 汎用NLDエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0068]アモルファスカーボン膜の除去処理検討 ２ 		F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-150 オージェ分光分析装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0069]InAs/(Ga,Fe)Sbの磁気伝導現象特性評価 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0070]自立型窒化シリコンナノ薄膜のウエハスケール加工 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0071]マイクロ流体デバイス作製用モールドの作製 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0072]酸化物半導体へのショットキー接合形成プロセス検討 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0073]IrOx薄膜の形成およびエッチング 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0074]グラフェン電界効果トランジスタ作製プロセスの検討 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0075]形態制御可能なカーボンナノ材料のSERSへの利用 		F-UT-145 SEM
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-162 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0076]培養基板表面の微細構造が細胞に及ぼす作用の解析 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0077]金属亜鉛電池のその場観察技術開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-146 レーザー直接描画装置
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[F-21-UT-0078]ZnO薄膜の作製 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
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[F-21-UT-0079]骨伝導振動子の表面加速度の測定 		F-UT-119 機械特性評価装置
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[F-21-UT-0080]Spin-orbit torque magnetization switching 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
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[F-21-UT-0081]磁性体薄膜を用いたマイクロメートル幅細線の形成 		F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0082]Fabrication of Diamond Like Carbon (DLC) based superhydrophobic surface 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0083]熱電対細線へのパリレン薄膜の形成 		F-UT-147 パリレンコーター
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[F-21-UT-0084]シリコン基板における大面積ナノ溝配列構造の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-162 電子顕微鏡
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[F-21-UT-0085]イットリア安定化ジルコニアの単一粒界におけるイオン伝導の計測 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0086]ガスセンシングSnO2デバイスの作製 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0087]NLDエッチングを用いた長尺透過型回折格子の作製 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-155 汎用NLDエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0088]表面弾性波による微量液滴撹拌技術とバイオエレクトロニクスの融合プロジェクト 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-158 UVオゾンクリーナー
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0089]Si基板への微細凹凸加工 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0090]物質の対称性やトポロジーに由来した新しい磁気輸送現象の開拓 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0091]ナノスケール幅のAuナノシート作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0092]マイクロ加工技術を利用した培養細胞間の相互作用に関する研究 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0093]0.8 μm CMOSプロセスを用いたMEMS加速度センサ 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0094]反磁性体を用いた微細反転素子の形成 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0095]MEMSデバイスを用いたTEMその場機械試験システムの構築 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0096]一軸圧縮ひずみGe-on-Insulator pチャネルMOSFET 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0097]圧電MEMSデバイスの開発 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0098]Geウエハ深掘りエッチング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0099]ガラス製ナノ流路の作製と観察 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0100]微細チャネルを用いた横型スピンバルブ素子の作製及び特性評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0101]光学測定用サンプルホルダーにおいて試料位置に生じる磁場を測定するためのプリント基板の作製 		F-UT-142 NCプリント基板加工装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0102]Agナノ層およびポリイミド (基材) との密着状態の観察 		F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0103]マイクロ加工デバイスを利用したナノスケール熱輸送現象の解明 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0104]濡れ性微細パターン表面におけるインク脱濡れの解析 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-147 パリレンコーター
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0105]微細蒸発界面を保持するためのナノ細孔アレイの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-145 SEM
F-UT-162 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0106]カーボンナノチューブの階層的熱伝導測定 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0107]Development of rotational electret energy harvester with synchronous circuits 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0108]Development of push-button energy harvester with soft piezoelectret 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0109]Development of electret-enhanced pyroelectric energy harvester 		F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0110]低消費電力MEMS Knudsenポンプの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0111](100)/(001) 配向PZT薄膜によるPMUTアレイの試作評価 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0112]誘電体ナノメンブレンフォトニック結晶作製技術の開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0113]デジタルホログラフィ光学系評価用のサブミクロンテストチャートの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0114]金属-絶縁体-金属構造の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0115]シリコンウエハ上への金属薄膜の形成 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0116]テラヘルツ電場誘起電子トンネリング計測用金属ナノギャップデバイスの作製 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-144 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0117]楕円筒小型X線ミラーの表面粗さ測定及びその集光性能評価に用いる試料作製 		F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0118]MEMSを用いた波長可変VCSELの開発 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0119]MSCから骨芽細胞への分化制御のためのサブミクロン表面微細構造の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0120]微細加工技術の開発 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0121]自動成膜・評価・ベイズ最適化の全自動サイクルによる高Liイオン伝導薄膜の探索 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-158 UVオゾンクリーナー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0122]原子分解能TEM用駆動デバイスの開発 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0123]金ナノ粒子7量体をアレイ型配置した近赤外共振器の設計と作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0124]リッジ構造を持つAlGaAsダイオード素子の電気特性評価 		F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-138 高速ランプアニール装置
F-UT-157 12インチプローバー
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0125]微細加工技術を利用したX線顕微イメージング手法の高度化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0126]トップダウン加工によるナノ流体デバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0127]高効率輻射光源の製作 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0128]メタサーフェス構造を使った宇宙機用極低温ラジエータの開発 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0129]超伝導量子デバイス開発 		F-UT-150 オージェ分光分析装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0130]灌流培養チップのための電気駆動ポンプの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0131]硼素/チタン薄膜の形成 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0132]ポリマー/金属界面の電子構造 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
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[F-21-UT-0133]MEMSミラーの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0134]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
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[F-21-UT-0135]垂直入射型変調器に向けた薄膜ニオブ酸リチウム基板上金格子の作製 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0136]超音波振動子のキャビティ形成 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0138]電界放出源の高出力化の研究 		F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0139]プラズモニック構造の作製と応用 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0140]Si基板上のショットキー電極開発 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-138 高速ランプアニール装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0141]低温ウェハ接合に関する研究 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0142]イオンスパッタリングによるリソグラフィ用銀薄膜生成 		F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0143]半導体光素子の作製 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0144]デバイスの微細表面形状の非破壊観察法の検討（１） 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0146]The formation of patterned Ni thin film 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0147]Performance evaluation of photonic integrated circuits-based OFDR sensing 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0148]新規ポリマーナノ薄膜の表面解析 		F-UT-165 小型原子間力顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0149]コンフォーマルに製膜された薄膜の応力分布の測定法 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0150]広角ビームスプリッターの開発 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0151]塗布成膜有機/無機半導体の構造制御 		F-UT-162 電子顕微鏡
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0152]サブマイクロスケールパターン表面の効率的試作 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-151 高精細電子顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0153]超流動ヘリウム研究用マイクロスリット構造の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-21-UT-0154]単一分子薄膜-細胞の電極準備 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-146 レーザー直接描画装置
F-UT-149 LL式高密度汎用スパッタリング装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0008]細胞培養に向けた電子線グラフト重合法による温度応答性微細加工膜の作製と物性評価 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0010] UV 硬化膜の断面構造解析 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0016]微細構造による Si 熱電発電集積デバイスの開発 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0017]ALD 装置による Al2O3 膜堆積 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0019]可視光応答型光触媒 TiO2/金ナノワイヤーコアシェルアレイの作製 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0021]液晶液滴内の結晶評価 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0024]リチウム金属負極を用いた二次電池の適用に向けたポリマー膜断面観察 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0028] リチウム二次電池用セパレータ上への Al 薄膜の形成 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0030]アミノシランの分子構造が自己組織化単分子膜の形成に与える影響の調査 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0034] FET バイオセンサを用いた RNA の検出 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0037]非荷電の小分子検出を目的とした FET バイオセンサの作製と評価 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0043]FET バイオセンサの作製 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0053]室温強磁性を有する In2O3 薄膜の物性評価 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0054]GaAs/AlGaAs リッジ構造の観測 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0058]導波路作製 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0069]メソ孔の配向制御に向けた波型断面を有する基板の作製 		F-WS-130 ICP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0073]シンガポール企業からの問合せ対応 		F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0076]アンモニア酸化細菌 Nitrosomonas mobilis Ms1 のシングルセル観察 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0077]シングルセルレベル観察によって明らかにする微生物増殖速度のばらつき 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0098]伸縮可能な MEMS デバイスシート 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0101]培養口腔粘膜作製用に向けた三次元MEMS技術と表面状態の基礎研究 		F-WS-153 クリーンルーム環境維持装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0102] ストレッチャブル液体 OLEDs の試作 		F-WS-138 アライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0103]エッジ AI デバイスセキュリティに向けた NAM チップ実装技術 		F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0105]マイクロ流体デバイス作製に向けた流路パターン形成 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0107]TO 電極のパターニング 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0110]フレキシブル木質炭素フィルムを用いた環境発電デバイスの改善に向けた基礎研究 		F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0111]櫛歯型電極の作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0112]蒸着薄膜 Ti の表面評価 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0114] 生分解性材料を用いたセンサ搭載ソフトアクチュエータの開発 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0117] SAW デバイスの作製に向けた LT 基板と水晶基板の接合の研究 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0118]呼気分析に用いる吸着シートの表面処理 		F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0123]CoPtメッキ膜の形成 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0126]TRaf プロセスを用いたナノドットパターンを有する架橋 PTFE 微細加工体の作製と評価 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0127]Zn 電析における微量添加 Pb の析出形態への影響の解析 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0129]PDMS 表面に付着したコラーゲンの観察 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0134]自己修復性層状シロキサン材料の設計 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0140]ABS 構造物へのめっきの観察 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0143]酸化物ナノシートの膜作製とそのスクロールへの転換 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0146]水電解反応用触媒電極の形成と反応機構解析 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0147]In-situ Raman analysis of zinc dissolution-passivation behavior 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0148]プラズモンセンサを用いた溶液 pH 変化の検出 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0149]水電解における酸素発生反応用触媒電極の設計・評価及び解析 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0150]電解析出による BiSbTe 系熱電変換素子の作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0151] Zn 負極の形態制御に向けた Pb 及び Sn 添加種が析出及び溶解に与える影響の解析 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0152]表面増強ラマン散乱を用いた LIB における不働態膜形成の解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0153]表面増強ラマン散乱を用いた射出成形用金型表面の劣化過程の解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0154]TiO2 シェルを有する高耐液性プラズモンセンサの開発 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0155]水電解反応用触媒電極の形成及び性能評価 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0156]有機溶媒からの電解析出法による Si 薄膜の作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-900 電子ビーム蒸着装置
F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0162]SERS 計測を用いた Zn アノード反応における添加剤の作用機構の解析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0165]磁気メモリ応用に向けた CoPt 薄膜の形成 		F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0166]水電解における酸素発生反応用触媒電極の設計・評価及び解析 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0167]亜鉛負極上 ZnO 膜の電気特性に与える電解液添加種効果の解析のための測定手法 の検討 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0170]イオン液体を用いた電析 Si 薄膜の作製 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0174]空間的シングルセル解析実現のための基礎的検討 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0220]再沈法に基づくサイズが均一な結晶作製法の開発 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0221]光熱効果で高速で駆動するフォトメカニカル結晶の開発 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0224]ワイドバンドギャップ半導体用高信頼ゲート絶縁膜技術の開発 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0225]ダイヤモンド表面の酸素終端化 		F-WS-901 プラズマリアクター
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0227]金属酸化膜の光学特性の評価 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0228]電気化学析出技術の研究 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0229]MLA150 の最適露光条件の検討、フォトマスク作製及び二段露光 		F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0231] CoPt メッキ膜の形成(2) 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0237]ダイヤモンド MOSFETs の微細加工 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0238]ワイドギャップ半導体の欠陥エンジニアリングに関する研究 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0244]ガラスの異方性エッチング技術開発 		F-WS-902 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0247]CFRTP・GFRP の接合のための濡れ性向上 		F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0257]ナノ隙間における固液界面分子構造の表面増強ラマン分光解析 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0258]太陽アクシオン探査用 TES カロリメータの吸収体 Fe 成膜 		F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0259]スパッタリング法によるインピーダンス測定用 CeO2ペレットへの Pt 電極形成 及びそれを用いた表面プロトン伝導特性評価 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0264] 電子線グラフト重合による高分子アクチュエータの開発 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0265]パルス電析法によるイオン液体中からの p 型及び n 型 Si 薄膜の作製 		F-WS-901 プラズマリアクター
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0268]ABS 表面へのめっき膜の生成と評価 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0269]ZrO2 膜上の Mo 薄膜の形成 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0272]Cu-Au 合金ナノ粒子によるギ酸分解光触媒性能の研究 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0273]シリコンウェハ貫通 Deep-RIE 		F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0274]酸化亜鉛および金属亜鉛膜の亜鉛負極電池極板への応用 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-21-WS-0277]Zn 負極反応におけるアルカリジンケート浴中への Li 添加が Zn 電析に与える影響の検討 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0001]リッジ構造を持つ AlGaAs ダイオード素子の電気特性評価 		F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0002]有機金属気相成長法によるInP再成長埋め込み 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0003]磁歪フリー層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0004]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0005]磁壁移動観察のためのデバイスの試作 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0006]メタサーフェスの作製に向けたSi 基板を用いた電子ビーム露光とレジスト塗布 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0008]超伝導体を用いたハーフメタル・フルホイスラー合金薄膜のスピン分極率評価 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0009]プラズモニックカラーフィルタの開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0010] マイクロヒーターの作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0011]光レクテナ用幾何学的ダイオードの微細金属パターン 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0013]ダイヤモンド薄膜の CVD 合成と分光評価 		F-IT-161 共焦点ラマン顕微鏡
F-IT-163 マイクロ波プラズマCVD装置
F-IT-164 クライオ共焦点顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0014]ダイヤモンド量子センサの研究 		F-IT-163 マイクロ波プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0015]SiO2とSiN薄膜の形成 		F-IT-149 プラズマCVD装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0016]３層レジストを用いた準ミリ波帯 GaN HEMT 用 EB 露光ゲートに関する研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0017]マイクロ流体デバイスを用いた微粒子変形能計測 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0019]トンネル結合調整可能な二重量子アンチドットの実現 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0020]化合物半導体上への誘電体膜パターン形成 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0021]無機材料ナノポアを用いた単鎖DNAシーケンサーの製作 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0022]ガラス基板上に形成したナノ構造物の断面観察 		F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0023]BiSbトポロジカル絶縁体を用いたスピン軌道トルク磁気抵抗メモリ 		F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0024]トポロジカルハーフホイスラ合金のスピンホール効果に関する研究 		F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0025]InP 基板上の導波路光アイソレータに関する研究 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0026]ダイヤモンド中の NV センターの光学特性評価 		F-IT-164 クライオ共焦点顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0027]シリコンフォトニクス導波路に向けた電子線露光のレジスト形状のウエハ面内依存性検討 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0028]近赤外帯域で可視化されたバレー分極プラズモニックエッジモード 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0029]Si 基板上への正方形積層(Au/SiO2/Au)パッチの作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0030]オンチップマイクロミキサの開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0031]電子ビーム露光によるSiNx メンブレンの表と裏両面への正方形Au パッチの作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0032]光レクテナ用幾何学的ダイオードのための近接大面積電極 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0033]大面積ナノ粒子アレイの直接アセンブリ 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0034]学部学生実験 MOS 集積回路作製 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0035]コンタクトエピタキシャル技術を用いた集積型光非相反デバイスの研究 		F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0036]シリコンフォトニクスを用いたガスセンサに関する研究 		F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-155 ダイシングソー
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0037]アンドレーフ反射を応用したデバイス加工 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0038]高精度細胞マニピュレーションのためのマイクロ流路デバイスの設計開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0039]H2 Plasma を利用した石英ガラスの光学特性 		F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0040]磁気光学結晶-on-Insulator 基板の作製と磁気ナノフォトニクスへの応用 		F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0041]レクテナ用GaAs ショットキーダイオードの開発 		F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0042]縦型シリコンスピンデバイス作製のための基板接合技術の開発 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0043]高分子系高熱伝導コンポジットの開発 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0044]異常ホール効果測定へ向けた SiC 上グラフェンのエッチング 		F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0045]準ミリ波帯で動作する窒化物半導体トランジスタ増幅器の高耐圧・高出力化に関する研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0046]カーボンオニオンによる超精密研磨面の加工変質層評価 		F-IT-161 共焦点ラマン顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0047]磁性細線メモリーの原理検証素子試作 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-21-IT-0048]ナノホールアレイの形成 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0001]マイクロデバイスの作製 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0002]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討 		F-NU-187 ナノインプリント装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0003]複合酸化物の成膜 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0004]新規表面活性化接合の開発 		F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0005]超高速オンチップ細胞操作技術のためのロボット統合型マイクロ流体チップに関する研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0006]ナノオーダーの周期構造を用いた光学素子作製に関する研究 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0007]薄膜表面形状の解析 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0008]光電子分光によるナノ空間材料の金属イオン収着特性評価 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0009]LNO基板上の強磁性/非磁性薄膜におけるスピン軌道トルクの評価 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0010]オンチップ局所環境制御による単一細胞の外部刺激応答特性の解明 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0011]ムーンショット型研究開発事業（目標３）「サイエンス探求マイクロロボットツール」 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0012]半導体質量計測装置に関する研究開発 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0013]ナノバイオデバイスの開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0014]プラズマ照射試料の表面観察 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0015]カーボンナノチューブの観察 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0016]フォトリソグラフィーによる小片基板へのパターン形成 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0017]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0018]半導体フォトカソードへの微細加工に関する研究 		F-NU-170 段差計
F-NU-224 マスクレス露光装置
F-NU-301 ICPエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0019]GaNのスパッタリング成膜及びプラズマエッチング手法の開発 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0020]FePtナノドットの磁化特性評価 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0021]磁性トポロジカル絶縁体の微小接合作製と評価 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0022]Unidirectional thermal conductivity enhancement in yttrium iron garnet due to the effect of spin waves 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0023]ウェアラブル機器搭載を見据えた超薄型熱輸送デバイスの開発研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0025]有機材料・ナノカーボン物質・強相関電子材料における新しい光・電子応答現象の探索 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0026]アルミニウム微細加工表面に対するレーザーアブレーション力積方向特性の調査 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0027]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価 		F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0028]細胞培養マイクロデバイスの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0029]GaNマイクロLEDのためのInGaN/GaNナノディスク作製 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0030]磁性ナノ粒子の特性を活かしたマイクロバルブの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0031]新規高磁歪合金薄膜の作製とその磁気特性評価 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0032]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0033]高密度ラジカル源の機能性・信頼性に関わる要素技術開発及び評価 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0034]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0035]イオンエネルギー照射による多層薄膜の損傷調査 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0036]次世代ドライエッチング技術の開発 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0037]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析 		F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0038]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発 		F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0039]プラズマ中の現状ラジカル解析 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0040]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0041]次世代材料のプラズマエッチングの開発 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0042]半導体電極開発 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0043]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0044]原子層デバイスの創製 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0045]ヘテロ接合半導体ダイオードの製作と評価 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0046]非空間反転対称磁性体の作製と新規スピン光機能の探索 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0047]高純度同位体シリコンエピ基板上の量子デバイス作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
F-NU-225 原子層体積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0048]マイクロギャップ電極の作製 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0049]Magnetic Measurement of the Chitosan-decorated Iron Oxide 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0050]イオン注入法によるシリサイド半導体への不純物のドーピング 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0051]蛍光金属酸化物ナノ粒子の超臨界水熱合成プロセスの開発 		F-NU-226 蛍光りん光分光光度計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0052]ナノホールアレイの形成 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0053]培養型プレ－ナーパッチクランプ装置の開発 		F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0054]導電性高分子デバイスの作製と評価 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0055]細胞および生体モデルを対象とした医療機器開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-222 マルチマテリアル3Dプリンタ
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0056]マイクロロボットを用いた新しいドラッグデリバリーシステムに関する研究 		F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0057]露光検討 		F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0058]メタン合成の触媒研究 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0059]シリコン基板上における周期的金ナノ構造の作製と表面増強赤外分光法への応用 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0060]液化ジメチルエーテルによる藻類からの機能性マテリアルの抽出 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0061]湿式処理により蓮の葉構造をナノレベルで再現する安価な撥水処理技術の研究開発 		F-NU-150 走査型電子顕微鏡
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0062]Green-Synthesis of Iron Oxides-based Magnetic@Semiconductor Nanoparticles using Moringa Oleifera (MO) Extract, Investigation of their Microstructures and Magnetic properties, and their application for Photocatalyst and Biosensors. 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0063]フォトニックデバイスに関する研究 		F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-208 プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0064]フォトニック結晶構造を有するLEDの作製 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0065]固体飛跡検出における低速イオン検出性能の評価と低速イオンにおけるエネルギー損失メカニズム研究 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0066]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0067]含窒素有機共有結合構造体の熱分解による高活性酸素還元触媒の開発 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0068]GaNマイクロLED作製技術 		F-NU-167 ICPエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0069]エラストマー基板の表面改質 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0070]Electrochemical CO2 Reduction 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0071]高濃度オゾン反応による各種材料表面の状態変化調査 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0072]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作 		F-NU-224 マスクレス露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0073]廃棄系プラスチックから機能性材料への変換技術 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0074]X線回折によるめっき膜の結晶構造の解析 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0075]中性子偏極解析用鉄薄膜の膜厚解析 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0076]ビスマス置換希土類磁性ガーネットの磁気特性の評価 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0077]InP微細加工および電極形成 		F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0078]SEMによる材料内部組織観察手法の開発 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0079]線虫の走化性を利用したチャネルのためのパターニングマスク作製 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0080]ハイブリッド光検出器の光電膜の開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0081]表面処理したジルコニアの表面形状及び形態観察 		F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-21-NU-0082]レジスト材料の成膜、露光プロセスの品質確認 		F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0001]微細加工技術による立体サンプル形成と高機能化 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0002]ホイスラー合金薄膜から半導体へのスピン偏極電子の注入に関する研究 		F-TT-233 イオンミリング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0003]三次元微細加工に関する器具・設備類の開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0004]ナノカーボンの構造評価 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0005]半導体型CNTを使用したデバイス作製 		F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0006]水溶性ポリマーシートを用いた微細加工応用の工業化 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-234 走査型電子顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0007]次世代太陽電池技術の開発のためのナノ材料とこれを利用した太陽電池の製作と分析 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0008]強磁性細線の磁壁構造の制御による電流磁壁駆動現象の効率化 		F-TT-223 多機能薄膜作製装置
F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0009]両極性伝導体における無損失スピン流 		F-TT-223 多機能薄膜作製装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0010]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製③ 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0012]溝形成ウエハへのパターニング 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0013]0402/0201サイズチップ部品のはんだ接合状態の観察 		F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0014]プラズマプリンティングのための円筒面の微細パターニング 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0017]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0018]磁気熱電発電効果に関する研究 		F-TT-235 ナノ物性測定用プローブ顕微鏡システム
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0019]パワエレ高周波磁気のための極薄多結晶鋼帯の試作 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0021]フォトレジスト材の検討 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0022]シリコン酸化膜上へのナノカーボンの直接合成 		F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-221 ラマン分光装置
F-TT-234 走査型電子顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0023]細胞培養マイクロシャーレの試作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0024]GaNデバイスの研究開発 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0025]自由曲面フォトマスク及び3D電子機器の作製④ 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0026]酸化物薄膜によるパッシベーションと蛍光 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0027]磁気光学材料への磁区パターン形成技術の研究 		F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0028]単層グラフェン上での強誘電性フィルムの作製 		F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0029]単結晶シリコンの疲労過程における結晶すべり進展の動的その場観察 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0030]光ニューラルネットワーク評価用フォトマスクパターンの作製 		F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0031]宇宙探査機用Volume binary (VB) gratingの製作法の開発 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-210 気相フッ酸エッチング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0032]天文学観測用Trapezoid gratingの製作法の開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0033]インプラント型バイオデバイス向け最小スペース壁面配線 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0034]スペーサ高さの精度確認 		F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0035]SOT書き込み細線を有する希土類細線中の電流誘起磁壁移動の観察 		F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0036]高品質還元酸化グラフェンの作製のための還元手法の最適化 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0037]スチール缶再加工の質向上に向けた天板切断面の観察（Ⅱ） 		F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-234 走査型電子顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0039]微細加工技術によるレンズ曲面へのパター転写 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0040]MEMS技術を用いた機能性表面の創製 		F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0041]電界・電荷による磁性ナノドットの磁化特性変調 		F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0042]PE-ALD-MgO 薄膜のカバレッジ特性とWet 除去性能 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0043]シリコン上のマイクロ流体チップの微細加工 		F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0044]ALD MgO成膜　プロセス開発 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-21-TT-0045]PID評価用ウェハ作製のためのガラスマスク作製 		F-TT-224 マスクレス露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0001]哺乳類細胞移動アッセイ用新規マイクロデバイスの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0002]超高エネルギー密度，本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0003]マイクロ波を用いた有機材料中の電荷・スピン輸送の計測 		F-KT-298 パリレン成膜装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0004]ハイドロゲルのAFM 測定 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0005]ナノ粒子の強誘電体特性評価 		F-KT-306 強誘電体特性評価システム
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0006]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0007]研削工具の計測 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0008]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0009]MEMSデバイスを利用した半導体ナノワイヤの機械・電気連成特性評価 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0010]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0011]圧電デバイスの作製と評価 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0012]微細構造を利用した光学素子の研究 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0013]アクリルアミド系ポリマーフィルムの強誘電性評価 		F-KT-306 強誘電体特性評価システム
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0014]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0015]高分子材料の表面形状観察 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0016]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0017]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0018]マスクアライナーおよびRIE装置を用いたAlパターンの作製及びエッチング 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0019]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0020]テラヘルツ反射ミラーの作製 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0021]ドライ酸化による熱酸化膜 		F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0022]ナノ構造による光制御技術 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0023]感光性樹脂の露光評価 		F-KT-226 両面マスクアライナー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0024]低損失微小共振器の作製 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0025]ナノフォーム 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0026]バイオマス由来微粒子の特性分析 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0027]半導体および絶縁体のナノ構造評価 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0028]生分解性蓄熱マイクロカプセルの作製 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0029]プラズマ暴露による機能性材料の粘弾性特性および電気特性変化の研究 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0030]オンチップ時空間制御による光合成細胞の環境応答機能の解明 		F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0031]配線電極付き石英基板上TEOS厚膜のドライエッチング加工検証 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0032]二次元炭素材料の電気伝導特性解析 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0033]蛍光偏光法を用いたジェル型温度センサの開発 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-21-KT-0034]DOE(回折光学素子)の試作検討／偏光素子開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0035]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0036]無機有機ペロブスカイト膜の構造評価 		F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
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[F-21-KT-0037]ナノ粒子の表面電荷の解析 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-21-KT-0038]ウエハダイシング 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-21-KT-0039]MEMSデバイス 		F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-21-KT-0040]長寿命改質オゾンUFB水のバブル粒径濃度測定 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-21-KT-0041]窒化物半導体のデバイス作製 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-21-KT-0042]構造性媒質と高強度レーザーとの相互作用による準定常強磁場生成の検証-1 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0043]ナノスケール共振器の作製と機械特性評価 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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[F-21-KT-0044]微細穴構造の製造技術 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0045]ナノアンテナによる磁気光学効果の増強 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0046]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析 		F-KT-274 X線回折装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-21-KT-0047]MEMSガスセンサの開発 		F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0048]動的斜め蒸着法による薄膜の形態制御と応用 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0049]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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[F-21-KT-0050]カロテノイド含有ミセル形成に与えるヨーグルトの影響 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-21-KT-0051]PDMSとガラスの結合 		F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0052]カーボンナノチューブ薄膜の基礎物性評価 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-21-KT-0053]培養細胞の力学特性測定 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-21-KT-0054]ナノアンテナシールによる積層ナノアンテナの開発 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0055]ポリマ光変調器の低消費電力化 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0056]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 		F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-21-KT-0057]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 2 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0058]医療用マイクロデバイスのプロセス開発 		F-KT-253 基板接合装置
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[F-21-KT-0059]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-21-KT-0060]CUPAL 電子線描画装置入門コース 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-21-KT-0061]ダイヤモンドデバイスの作製 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
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[F-21-KT-0062]ヒトオルガノイドを用いた重力応答機構の解析 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-21-KT-0063]酸化ガリウム表面におけるヘテロエピタキシー初期過程の研究 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-21-KT-0064]2次元サーモリフレクタンス法を用いたサブマイクロスケールネットワークの温度分布測定 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0065]探針増強ラマン分光用プローブに対するFIB加工 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0066]バイオガスを原料とした水素製造に於けるCO2削減に関する分離技術の開発 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-21-KT-0067]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
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[F-21-KT-0068]コンポジット材料界面の分析技術開発 		F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0069]ガラス上のマイクロピラーの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0070]ダイヤモンド電極パターニング 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0071]半導体のドライエッチング加工と基板貼り合わせ 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0072]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0073]トリチウム増殖材の精密化学分析 		F-KT-235 ICP質量分析装置
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[F-21-KT-0074]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-21-KT-0075]水電解触媒の高性能化に向けた構造解析 		F-KT-235 ICP質量分析装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0076]表面プラズモン共鳴を利用した高周波超音波センサの開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0077]シリコン深掘り構造作製における欠陥形成機構の研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-21-KT-0078]MEMSデバイスの作製 		F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
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[F-21-KT-0079]DRIEによるSiエッチング 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0080]ガラス基板へのナノインプリント 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-21-KT-0081]光ナノインプリント用カチオン重合型樹脂の開発 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-21-KT-0082]MEMSや半導体などをセラミック材で支持する構造 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0083]MEMSデバイスの共振モードの実験確認 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-21-KT-0084]SEM観察を通じた各種煤粒子形態の比較 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0085]Janus粒子の合成 		F-KT-239 真空蒸着装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0086]Quartz結晶基板の切断 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-21-KT-0087]高分子材料の表面形状観察 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0088]超微細パターン石英ナノインプリントモールドの作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0089]固体中におけるスピン流輸送現象の解明 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-21-KT-0090]共有結合性有機構造体の結晶性の評価 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0091]細胞上で形成されるアミロイド線維構造のAFM-IRによる解析 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0092]表面及び内部に微細構造を形成したガラスの形態観察 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0093]インプリント転写検討 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-21-KT-0094]半導体用コーティング材料の開発 		F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0095]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0096]半導体異種材料接合の研究 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0097]X線1分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0098]BN薄膜のMEMSデバイス応用へ向けた微細加工試験とカンチレバー試作 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0099]肺癌の病態における間質圧上昇の役割の解明と新たな治療法の開拓 		F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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[F-21-KT-0100]ハイドロゲルのAFM測定2 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-21-KT-0101]VLSボトムアップ成長シリコンナノワイヤの架橋集積技術の開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0102]静電気力を利用した粉体ハンドリング技術の開発とその粉体ダイナミクスに関する研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0103]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス（２） 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-21-KT-0104]静電容量型加速度センサーの設計から試作・評価 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0105]大面積のメタマテリアルの作製 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-21-KT-0106]フィールドエミッタアレイの膜物性評価 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0107]テラヘルツ反射ミラーの作製 （２） 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-21-KT-0108]表面弾性波共振器によるリザーバーコンピューティング 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0109]レーザー描画による厚膜レジストパターン形成 1 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0110]探針増強ラマン分光用プローブに対するFIB加工 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0111]テラヘルツの分光技術を応用した生物・食品検査利用への研究 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0112]歪フォトニック結晶の作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0113]微細メッシュ構造基板を用いた細胞配向性制御 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0114]培養細胞の力学特性測定 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0115]ナノスケール共振器の試作と電気機械特性の研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0116]マイクロ波を用いた有機材料中の電荷・スピン輸送の計測 		F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-21-KT-0117]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析２ 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0118]無機有機ペロブスカイト膜の構造評価2 		F-KT-304 電子線蒸着装置（２）
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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[F-21-KT-0119]熱流束を直接測定する積層センサの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0120]金属酸化物の光学応答特性 		F-KT-251 レーザアニール装置
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[F-21-KT-0121]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成　２ 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0122]原子層二硫化モリブデン作製と特性評価 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-21-KT-0123]生物を模倣したソフトロボットの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0124]ナノセルロース複合材料の物性評価 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-21-KT-0125]酸化ガリウム表面におけるヘテロエピタキシー初期過程の研究2 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0126]高機能酸化物薄膜の作製と評価 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0127]ダイヤモンド表面ナノ加工 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0128]新規高性能半導体ウエハ接合技術の開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-21-KT-0129]遊走ニューロンに関する研究 		F-KT-272 全反射励起蛍光イメージングシステム
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[F-21-KT-0130]歪フォトニック結晶の作製2 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0131]アルカリ金属生成用三次元構造を一括形成したMEMSガスセルの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-253 基板接合装置
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[F-21-KT-0132]ナノ結晶及びポリマー等との複合材料の作製と評価 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0133]メタサーフェスミラーの開発 2 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0134]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0135]ナノスケール共振器の作製および電気機械特性研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0136]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0137]多孔質フィルムの開発 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0138]Genocelの膨潤状態の形状測定 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-21-KT-0139]フォトニッククリスタルを用いた狭角配光ＬＥＤの開発 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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[F-21-KT-0140]ダイヤモンド表面ナノ加工 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0141]微小空間におけるタンパク質のダイナミクス解析 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-21-KT-0142]圧電デバイスの作製と評価 2 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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[F-21-KT-0143]チップTSV 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0144]拡散レーザービームを用いたナノ粒子の高効率微細化 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-21-KT-0145]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0146]基板上へのAl微細パターンの形成 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-21-KT-0147]境界層を介したレーザー駆動準１次元衝撃波形成と新高エネルギー粒子加速法の開拓2 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-21-KT-0148]カーボンナノチューブ薄膜の基礎物性評価 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-21-KT-0149]細胞の機能解析 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-21-KT-0150]心臓拍動を模倣した圧力刺激印加による肝オルガノイド成熟化を目指す流体デバイス 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
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[F-21-KT-0151]ナノフォーム 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-21-KT-0152]メタ表面による磁気光学効果の増強 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0153]プラズマ物理学とナノ工学の融合による極限物質科学への挑戦 (2) 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0154]プラズマ暴露による機能性材料の粘弾性特性および電気特性変化の研究 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0155]メタサーフェスミラーの開発 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-21-KT-0156]原子間力顕微鏡によるナノスケール表面下構造可視化 		F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-21-KT-0157]窒化物半導体のデバイス作製 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0158]微細構造を利用した光学素子の研究 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
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[F-21-KT-0159]境界層を介したレーザー駆動準１次元衝撃波形成と新高エネルギー粒子加速法の開拓3 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-21-KT-0160]シリコン基板を用いた表面プラズモンの制御とその応用に関する研究 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-21-KT-0161]プラズマ物理学とナノ工学の融合による極限物質科学への挑戦 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0162]圧電デバイスの作製と評価３ 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-21-KT-0163]肺癌の病態における間質圧上昇の役割の解明と新たな治療法の開拓 		F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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[F-21-KT-0164]レーザー描画による厚膜レジストパターン形成　２ 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-21-KT-0165]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-21-KT-0166]スパッタリング法を用いて作製した薄膜の構造解析および組成分析 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0167]表面ナノテクスチャリングの創成による潤滑特性の向上とそのメカニズムの把握 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-21-KT-0168]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発-事業化フェーズ　２ 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0169]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発-事業化フェーズ 3 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-21-KT-0170]粒子ハンドリングのための静電デバイスの作製 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0171]リグノセルロースから生産した抗ウイルス活性リグニンの作用機構の解明 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0172]超高エネルギー密度，本質安全および長寿命な鉄－空気二次電池Shuttle Batteryの開発 2 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-21-KT-0173]Siナノアンテナシールの作製 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0174]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究開発 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0175]低損失微小共振器の作製(2) 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0176]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用 		F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
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[F-21-KT-0177]生分解性蓄熱マイクロカプセルの作製　2 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-21-KT-0178]薄膜弾性波を利用した高感度質量センサの創製 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0179]溶融塩およびイオン液体からの金属電析における電析金属の結晶成長メカニズムの解析 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0180]ナノ構造による光制御技術 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-21-KT-0181]DOE(回折光学素子)の試作検討／偏光素子開発 2 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0182]血中循環腫瘍細胞(CTC)の検出及び特性解析に関する共同研究 2 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0183]MEMSセンサの開発2 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0184]プラズモニック金ナノ構造集積MEMS共振器の作製と応用 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0185]ナノ粒子二量体配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-311 水蒸気プラズマクリーナ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0186]半導体異種材料接合の研究 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0187]コンポジット材料界面の分析技術開発 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0188]DOE試作 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0189]表面粗面化形状の形成 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0190]導波モード共鳴を用いた新規光学デバイスに関する研究 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0191]シリコンウェハとガラスウェハの陽極接合 		F-KT-253 基板接合装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0192]1 umギャップ電極作製 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0193]Ｘ線１分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0194]ダイヤモンドデバイスの作製、評価 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0195]酵母を用いた人工的タンパク質脂肪酸修飾システムの構築 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0196]ウェットエッチングによるAlパターニング 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-310 UVオゾンクリーナー・キュア装置
F-KT-253 基板接合装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0197]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認3 		F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-21-KT-0198]導波モード共鳴を用いた新規光学デバイスに関する研究２ 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0001]主鎖切断型電子線レジストの改良検討 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0002]光・電子デバイス応用に向けたガルバニック水中結晶光合成法による表面パターン作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0003]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0004]電子線リソグラフィにおけるレジストプロセス 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0005]化学増幅型レジストの電子線描画パターン評価 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0006]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0007]位相差フレネルゾーンプレートの製作 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0008]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0009]二次元結晶膜を用いたナノポアセンシングデバイスの開発 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0010]赤血球の変形能の測定 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0011]ガラス表面への微細加工 		F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0012]光波帯における電磁クローク媒質の実現 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0013]フォトニック結晶レーザの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0014]ナノ可視化法の開発による染色体研究 		F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0015]光バイオセンサの研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0016]高感度ナノウイルスセンサの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0017]高輝度・高演色性ディスプレイに向けた新規材料の研究 		F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0018]VO2薄膜の金属絶縁体相転移過程の直接観測 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0019]フレキシブルエレクトロニクス実現に資する薄膜デバイス開発 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0021]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0022]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0023]ナノ材料の構造制御合成と電子デバイス応用 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0024]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0025]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0026]有機半導体中のスピン流計測 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0027]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価 		(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0028]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0029]赤外誘電体メタサーフェス 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0030]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0031]量子ビーム誘起反応に基づいた微細加工材料の創出 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0032]高感度X線イメージング用のX線光学素子の作製 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0033]グラフェンデバイスの作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0034]微細加工技術の援用による固体高分子形燃料電池電極に関する研究 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0035]ポリオキソメタレート分子デバイスにおけるスパイキング発生とその制御 		F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0036]レジスト材料の感光性試験 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0037]電子線描画装置を用いたサブミクロン微細パターンの形成 		F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0038]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0039]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0040]超伝導ナノデバイスの開発 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0041]高機能エラストマー開発における耐性試験 		F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0042]ヒト及び植物染色体内部の構造解析 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0043]ピコ秒超音波法を用いたエレクトロマイグレーションのリアルタイムモニタリング 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0045]半導体製造プロセス過程において動作する胎動回路 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0046]直接はんだ付けのためのアルミニウム薄膜形成 		F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0047]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0049]組織構築のためのマイクロ流体デバイスの開発 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0051]微細プロセス構築可能なEUVレジストの開発及び次世代材料の探索 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0052]シリコンディスクの作製 		F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0053]レーザー照射実験用ターゲットの加工 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0054]高強度化を目的としたナノ粒子分散ガラスの開発 		(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0055]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0056]ナノインプリントの成形試験 		F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0057]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0058]サファイア基板上微小電極の作製 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0059]優れた物理的機能を有する生物のナノ／マイクロ構造観察 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0061]テラヘルツヘリシティ反転を可能にする反射型メタマテリアルの高機能化 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0062]ヘリウムイオンビーム照射による超電導薄膜のnm領域物性制御検討 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0002]プラズモン励起を利用するオプトエレクトロニック素子作製技術構築 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0005]反射防止構造を有する干渉鮮明度向上マルチスリットの開発 		F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0008]半導体GaAsを用いた強磁性Feパタン埋め込み構造の作製 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0015]ヒ－トパルス型道管流センサの製作 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-329 電子測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0017]メタマテリアルを含むTHz帯微小共振器の作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-321 真空蒸着装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0023]Siのニードル形状加工 		F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0024]半導体の物性評価 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0027]表面形状の測定 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0034]窒化シリコン薄膜基板上におけるシリコン薄膜のエピタキシャル成長に関する研究 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-339 膜厚測定器群
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0035]EBリソグラフィ用薄膜基板に関する研究 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる超硬材料の先鋭化加工 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0057]3線式測温抵抗体の形成 		F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0058]樹脂フィルム上への電極形成 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0069]マイクロプロ－ブ上への薄膜形成 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0071]THz帯メタマテリアルの作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0076]微細ナノ構造の作製 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0083]ニューラルネットワークにむけたセンサの製作と評価 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0084]せん断加工用デバイスのサブマイクロメートルの形状変化がせん断品に与える影響評価 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0086]細胞評価のためのデバイスの開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0087]木材の透明化とその表面形状の観察 		F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0088]マイクロ構造の製作 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0089]プラズモン導波路を用いた高密度光配線技術の基本要素構造の検討 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0091]Dektakによるエッチング速度測定 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0093]医療用センサの製作と評価 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-21-GA-0094]RFスパッタリング法を用いた硬質膜密着性の改善 		F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0001]不純物をドーピングしたフェリ磁性体Mn4N膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0002]チタンメンブレン粘膜表面側へのコラーゲンコーテイング方法の確立 		F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0003]電気化学的な金薄膜への銅の拡散現象の解析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0005]ナノピクセルとハイメサ導波路によるセンシング光集積回路 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0006]強誘電体Hf1-xZrxO2 の融合による多結晶シリコン薄膜トランジスタの高性能化 		F-RO-383 Rapid Thermal Anneal装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0007]MeV イオンビームによる単結晶 SiO2の表面形態変化 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0008]SiC ウェハのダイシング 		F-RO-375 ダイサ―
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0009]PECVD 膜への単結晶薄膜トランジスタ形成 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0010]太陽電池の製作 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-371 汎用熱処理装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0011]イオン照射によるプラスティック上導電性 DLC 形成技術の研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0013]ダイヤモンド薄膜への高濃度色中心の作製に関する研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0015]非晶質合金膜中に含有された希ガス原子の存在状態の解明 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0018]SiC 結晶中に生成された欠陥分布の測定 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0019]多結晶シリコンゲルマニウム薄膜トランジスタのゲルマニウム濃度依存性の解明 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0020]High-k ゲート絶縁膜を利用した４T CLC poly-Si TFT の CMOS 展開 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0021]太陽電池の製作と基礎実験 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-371 汎用熱処理装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0022]CMOS R-S　Flip-Flop回路 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-356 デバイス測定装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-385 ウェル拡散炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0023]RFスパッタ法で堆積したZnGe膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0025]低エネルギー化を指向したセレン化銅系薄膜の作製と熱電特性 		F-RO-384 ホール効果測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0026]細菌が合成した化合物半導体結晶のキャラクタリゼーション 		F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0027]CMOS Ring Oscillator（17段）回路の作製と特性 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-356 デバイス測定装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-385 ウェル拡散炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0028]Design and performance evaluation of n-type, Co-Doped Transistor and PN Diode Circuits 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-356 デバイス測定装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
F-RO-377 レイアウト設計ツール
F-RO-385 ウェル拡散炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0029]二次元原子層物質 MoS2薄膜トランジスタの開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0030]電流駆動磁壁移動に向けた Co ドープ Mn4N 膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0031]ナノ構造を用いた環境センサーの研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0032]SiCへのチャネリングイオン注入 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0033]水素添加酸化インジウム薄膜の水素濃度評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0034]CoV2O4 薄膜の組成比分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0035]多孔体高分子表面に集積した合金ナノ粒子の構造解析 		F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0036]金属ナノパターン による光波制御 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0037]電子線露光によるライン＆スペースパターンの作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0038]カーボン薄膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0039]厚膜レジストパターンの形成と剥離テスト 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0040]ポーラス薄膜の相対密度評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0042]スピンデバイス開発に向けた横型スピンバルブ素子の作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0043]絶縁膜の信頼性評価用パターン作製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0045]同時スパッタ法により形成した薄膜太陽電池材料の組成比評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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[F-21-RO-0046]3 次元パワーSoC 実現に向けてのプロセス技術の開発 		F-RO-342 深堀エッチャー
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[F-21-RO-0047]アモルファスカーボンの高品質化に関する研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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[F-21-RO-0048]有機トランジスタの試作 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
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[F-21-RO-0049]低温成長 G aAs 系半導体における熱処理後の結晶性の観察 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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[F-21-RO-0050]InAs(Bi) 量子ドットの表面形状の観察 		F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-21-RO-0051]酸化ニッケル電極での電池反応の調査 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
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[F-21-RO-0052]2次元薄膜窒化ホウ素へのイオン注入法による室温スピン操作可能な新規スピン欠陥の創製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-377 レイアウト設計ツール
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[F-21-RO-0053]Siナノワイヤバイオセンサーの作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-363 エッチング装置(レジスト Ashing用)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-376 真空蒸着装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-366 ポストメタライゼーションアニール （PMA）炉
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[F-21-RO-0055]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製 		F-RO-375 ダイサ―
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[F-21-RO-0056]ｐ型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-344 イオン注入装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0001]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0003]ナノ物質ネットワークを計算資源とした情報処理の実現 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0004]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0005]超音波振動液滴室温マイクロコンタクトプリントによるDLCマイクロギヤの作製 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0007]水分解触媒電極のための製膜と膜厚測定 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0008]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0009]複合材料を用いた微小管運動制御デバイスの開発 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0010]リチウム硫黄電池正極における硫黄含有中間体のin situ 解析 		F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0011]ダイアモンド半導体上の電子ビームリソグラフィー 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0012]金属含有 DLC の研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0013]新規組成ネガ型レジストの露光評価 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0014]新しい漏れ検査技術の基礎検討 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0015]有機金属分解法により作製したガーネット薄膜の加工と評価 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0016]強磁性薄膜・微粒子とスピン流の相互作用に起因する磁化ダイナミクスに関する研 究 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0017]感光性樹脂の研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0018]埋立廃棄物中の塩濃度を低減するためのバイオレメディエーション技術の開発 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0019]カルコゲナイド系相変化材料に関する研究 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0020]バイオマイクロデバイスの製作 		F-YA-363 マスクレス露光装置 （スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0021]陽極酸化処理したアルミニウム合金の真空特性評価 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0022]透明ポリイミドフィルムの開発 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0023]機械加工面形状測定用MEMSデバイスの開発 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0024]耐水素脆化オーステナイト系鋼の開発 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0025]スパッタリングによる金属酸化物/窒化物薄膜の形成 		F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-21-YA-0026]酸化鉄ナノ粒子の磁化測定 		F-YA-364 振動試料型磁力計
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0001]マイクロ電極を用いたバイオ応用 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0002]知能デバイス構築のための電極作製 		F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0003]マイクロ流体デバイスをベースにした水質モニタリング用センサの開発 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0004]血液凝固検出用光センサチップの開発 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0005]バイオ試料の熱物性を計測するセンサの開発 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0006]ファンアウト型ウエハレベルパッケージ作製 		F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0007]3 次元パワーSoC 実現に向けてのプロセス技術の開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0008]微小孔アレイデバイスを用いた細胞解析技術の構築 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0009]デバイス試作および試作品解析 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0010]MOS-CAP 構造を利用したゲート酸化膜評価 		F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0011]MEMS 技術を用いた機能性表面の創製 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0012]光エネルギー変換デバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0013]Ni マイクロメッキ接合技術を用いた太陽電池インターコネクションの信頼性の研究 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0014]スライダ用マイクロ溝・パターンの試作 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0015]イオン注入シリコンウェーハ表面における結晶性回復挙動解析 		F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0016]レジストパターンの形状解析 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0017]歯質再生に用いる新規歯科材料の開発 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0018]機械加工面形状測定用MEMS デバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-21-FA-0019]沸騰・蒸発伝熱のマイクロスケール計測 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)