利用報告書一覧

利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学 微細加工プラットフォーム]　
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名 利用装置名
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0001]超高圧顕微鏡用環境セルの開発 		F-HK-005 真空蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0002]医療用X 線計測応用を目指したTb ドープGd2Si2O7 の合成と発光特性評価 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0003]炭化ケイ素ドライエッチング 		(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0004]SiC流路型の作製 		F-HK-014 ドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0005]表面微細構造を用いた放射エネルギーの波長制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0006]酸化物ハーフメタルを用いた磁壁移動素子の開発 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0007]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0008]グラフェンナノディスク作製プロセスの開発と光学評価 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0009]テーパファイバを介した金ナノ構造体のプラズモン励起による2光子励起蛍光 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0010]ZnOナノロッドアレイ構造からのランダムレーザー発振の観測 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0011]細胞メカニクス計測のための細胞パターニング基板の開発 		F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0012]次世代ナノ電子デバイスに関する研究 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0013]酸化金属膜のエリプソメータによる膜厚測定 		F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0014]次世代人工聴覚器のための神経電極およびポリイミド製ケーブルの開発 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0015]バイオセンサーの開発―固定分子の状態分析 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0016]可視光領域におけるスプリットリング共振器のGHz音響変調 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0017]半導体表面における弾性表面波によるキャリア輸送 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0018]炭化ケイ素（SiC）マイクロ流路金型で成形したガラスマイクロ流路 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0019]炭化ケイ素（SiC）マイクロ流路金型で成形したガラスマイクロレンズ 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0020]ナノ粒子を用いた量子デバイスの構造検討 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0021]一細胞質量分析を用い細胞内から採取した脂肪滴の解析 		F-HK-025 スパッタ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0022]有機デバイス用の透明電極の微細加工 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0023]超伝導発光素子の開発 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0024]金属埋め込み半導体微小光共振器の開発 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0025]化学増幅型レジストの高感度化 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0026]電子スピン注入を用いた全電気的核磁気共鳴の検出 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0027]GaAsにおける四端子非局所スピンバルブ信号とHanle信号のゲート制御 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0028]細胞力学実験用PDMS製マイクロデバイスの作製 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0029]ナノ構造体を用いた無標識検出デバイスの構築 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0030]イオン照射に伴う金属材損耗評価のための分子シミュレーションコードの開発 		F-HK-015 イオンミリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0031]メタマテリアル構造を用いた放射スペクトルの制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0032]ナノ構造体を用いたHottest spot 構造体の作製 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0033]ALD装置を用いたナノ構造体 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0034]細胞培養用の基材として用いられる三次元パターンの作製 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0035]原子層堆積装置によるAl2O3/TiO2(HfO2)膜の作製 		F-HK-024 ALD製膜装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0036]単一浮遊細胞のハンドリング、固定可能なマイクロ流路デバイスの作製 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0037]SrTiO3基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0038]ドライエッチングによる石英基板へのマイクロ溝加工 		F-HK-014 ドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0040]自然免疫のナノ領域での機能解明 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0041]二次元パターンをもつDNAブラシの作製 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0042]緻密な酸化チタン薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0043]化合物半導体を用いた新規の医療画像スキャナー用放射線計測システムの基礎開発 		F-HK-005 真空蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0044]新規高効率光機能デバイスの創成 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0045]高分子型レジスト（ZEP）と化学増幅型レジストの解像性、LWR比較 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0046]多糖類フィルムへの無機薄膜の成膜 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0047]擬似植物細胞モデルにおける微小管の力学応答特性 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0048]FIBによる針状カーボン作製 		F-HK-028 FIB加工装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0049]局在表面プラズモン－色素励起子強結合系の電気化学顕微分光計測 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0050]金ナノ構造担持酸化チタン電極を用いたプラズモニック光電変換電極の構造・特性制御 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0051]結晶表面の形態観察 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0052]パルス状コヒーレントX線溶液散乱法用環境セルアレイの作製 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0053]二重量子井戸スピンフィルタ実現のための半導体微細加工 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0054]耐久性超撥水ゴム材料を作るための鋳型作成 		F-HK-011 ICPドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0055]Li-ion 電池用 正極電極のALD coatingによる改善検討 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0056]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0057]自己集合量子ドットのためのＧａＡｓバッファー層の検討 		F-HK-005 真空蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0058]可視域にストップバンドを持つ3次元フォトニック結晶の作製 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0059]プラズモニック光電気化学触媒を用いた窒素の固定化 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0060]Improvement of Plasmon-Enhanced Water Splitting using Gold Nanostructured SrTiO3 Single Crystal Photoelectrode with TiO2 Thin Film Heterojunction 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0061]制御された金ナノ微粒子とレーザーの相互作用に基づく光熱変換プロセスに関する研究 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0062]Surface-enhanced Raman scattering of a single molecule on silver nanodisk structure with single-nanometer gap 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0063]Single molecule study of DNA/DNA interactions by using controlled gold nanostructures 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0064]Surface-enhanced Raman scattering of crystal violet induced from gold nanocylinder arrays 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0065]金ナノ構造体における局在プラズモンを用いた近赤外領域の蛍光増強 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0066]ナノパターン化した酸化チタン単結晶電極を用いたプラズモン誘起光電変換 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0067]金ナノ粒子を担持した酸化チタン／FTO電極の光電変換特性 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0068]Fabrication and optical characterization of optical antennae in THz frequency 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0069]鉄イオンドープ酸化チタン単結晶電極を用いたプラズモン増強光電変換 		F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0070]Surface-plasmon-mediated nanofabrication of oriented silver nanoplates 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0071]Dynamics of exciton-plasmon strong coupling system of J-aggregate and metal hybrid nanostructure 		F-HK-011 ICPドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0072]化学成長金ナノ粒子によるプラズモン共鳴波長及び光電変換応答波長制御 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0073]相補的金属ナノ構造における近接場分光特性 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0074]銀－コバルトナノロッド構造を担持した酸化チタン薄膜の光電変換特性 		F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0075]Spectral properties of single nanogap gold structure 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0076]窒化物ナノ構造によるプラズモンデバイス作 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0078]ALD法による超平滑HfO2皮膜の作製 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0080]生薬分析のためのマイクロカラム作製 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0081]改良した非対称構造によるマイクロパーツ輸送 		F-HK-006 プラズマCVD装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0082]厚膜フォトレジストSU-8を用いた細胞培養用微小細胞培養ウエルの開発 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0083]LED高輝度化を目的としたナノインプリントプロセスによるサファイア基板加工 		F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-14-HK-0084]光学フィルター用透明電極薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0001]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0004]機能性薄膜を用いたセンサーおよびアクチュエーターの研究 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0005]シリコンウェハ上の微細流路作製 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0006]基板上への1 µm L&SのAl電極作成 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0007]磁歪薄膜MEMS センサー開発 		F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0009]中性粒子ビームを用いた微細加工 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0010]Vapor-HF エッチング技術を用いた3D 構造形成 		F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0011]金属薄膜の高精度ドライエッチング工法検討－２ 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0012]コンデンサマイクロホンの作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0013]ステンシルマスク作成ほか 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0015]光電子制御プラズマを用いた超精密ドライ研磨プロセスの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0016]ダイアフラム構造の作製 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0017]機能性材料の微細加工 		F-TU-043 サンドブラスト
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0019]MEMS デバイスの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-106 卓上型エリプソ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0020]皮膚添付型生体成分センサの開発 		F-TU-043 サンドブラスト
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0021]MEMS 素子の加工 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0022]コンデンサマイクロホンの作製 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0023]触覚デバイスと材料技術の検討 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-077 めっき装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0024]熱酸化膜成膜 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0025]波長選択エミッタを用いた化学反応促進効果における反応機構解析 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0026]2 次元シートデバイス開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0027]グラフェンテラヘルツレーザーの創出 		F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0028]グラフェントランジスタの開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0029]MEMS 構造体における薄膜制御 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0030]MEMS とメタマテリアルの融合による動的発光制御の実現 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0031]マイクロシステム融合のための低温金属封止接合の研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0032]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0033]TFT 層間膜と各種メタル、無機膜との密着性評価 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0034]熱放射制御技術を用いた電子デバイス冷却に関する研究 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0035]極細径光ファイバ圧力センサの開発 		F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0038]シリコン基板上への高性能圧電トランスデューサ薄膜の開発 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0039]音響光学フィルタの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-067 メタル拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0040]チューナブルフィルタの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0041]ウェハレベルパッケージング 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0042]MEMS を利用した超高精度2 次元穴アレイの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-097 EVG ウェハ接合用アライナ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0043]超並列電子線直接描画 (MPEBDW) 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0044]機能性材料を用いたMEMS/NEMS 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0045]三次元LSI の試作研究開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0046]Bit patterned recording media 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0047]電子デバイスの微細加工 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-069 熱CVD
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0048]樹脂モスアイパターンへの金属膜の成膜加工 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0049]接触力センサの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0050]高屈折率差光導波路の開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0051]MRFM 用Si ナノワイヤープロブ 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0052]ウェハレベル真空パッケージに関する研究 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0054]3-D IC 作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0055]高機能炭素材料を応用した医療介護用超高感度小型ひずみセンサの開発 		F-TU-044 酸化拡散炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0056]MEMS センサ用配線検討 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0057]生体試料の高感度熱計測 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0059]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0060]メタマテリアルの作製と評価 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0061]貫通穴形状を持ったMEMS 構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0062]ナノインプリント用微細金型の開発 		F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0063]超小型光学式エンコーダ用複合光学素子の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0064]共振振動を用いた焦点可変ミラー 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0066]ウェハへの狭ピッチ穴加工 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0068]MEMSを用いた光デバイス用アクチュエータの開発 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0069]Si ウェハへの窒化膜形成 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0070]撥水評価用Si モールドの試作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0071]UV フォトディテクター試作・評価 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0072]RF-MEMS スイッチの作製及び評価 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-077 めっき装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0073]新規LIFT プロセスによるサブミクロン微細構造の形成 		(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0074]グラフェンの微細パターニング 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0075]紫外線発光素子の光取出し効率の改善 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0076]表面弾性波を用いたナノパーティクル形成の研究 		F-TU-043 サンドブラスト
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0077]赤外線－可視光変換デバイスの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0078]環境振動発電の研究 		F-TU-043 サンドブラスト
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0079]低ダメージ成膜および微細加工プロセス技術に関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0080]MEMS 可変光メタマテリアルの製作 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0081]ナノインプリントプロセスにおけるダスト管理 		F-TU-101 ウェハゴミ検査装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0082]光学デバイス製作の為のメンブレン構造試作 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0083]Ｘ線回折格子干渉計のためのSi 位相格子の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0084]マイクロ流体デバイスに関する検討 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0086]極薄酸化膜の形成とその評価 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-055 エッチングチャンバー
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0087]微小金属錯体結晶の電気測定用電極の作製 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0088]極限量子ビーム微細加工プロセスの創成 		F-TU-073 W-CVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0089]シリコン基板へのEB リソグラフィー 		F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0090]光電気効果により発生する誘電泳動効果を用いた、ナノ流体デバイス内における微小粒 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0091]学生のMEMS 試作実習 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0092]n 型拡散層の不純物密度及び深さの測定 		F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0093]電極構造の異なるMOS キャパシタの信頼性評価 		F-TU-055 エッチングチャンバー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0094]平面微小電極アレイチップの作製と構造解析 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0095]ワイヤーアレイ構造のシリコン太陽電池に関する研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0096]中性子回折格子干計のためのSi回折格子モールドの作成 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0097]ウエハ平坦化用TEOS-CVD 開発 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0098]TSV 加工方法開発 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0099]走査型透過電子顕微鏡用位相板の高度化 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0100]サブ波長構造をもつカラーフィルタ製作 		F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0101]Si ウェーハの欠陥解析 		F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0103]成膜条件がSn 薄膜構造に与える影響の解明 		F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0104]全方向スキャナの開発 		F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0105]金属薄膜サンプルパターン作成 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0106]電気化学発光のスペクトル制御 		F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0107]MEMS カンチレバーデバイスの形成 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0108]熱音響効果の研究 		F-TU-078 MOCVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0109]イオン液体を用いてゲートされたNdNiO3 薄膜のその場顕微ラマン観察 		F-TU-093 ワイヤボンダ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0110]次世代センサの開発 		F-TU-068 LPCVD
F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0111]多層膜貫通穴加工方法の開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0112]MEMS 構造体の試作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0113]粘着剤(ポリアクリル酸エステル)表面の成分分布状態の解析 		F-TU-109 TOF-SIMS
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0114]MEMS グレーティングの試作 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0115]MEMS デバイス開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0116]容量検出型 MEMSフォースセンサの作成実習 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-14-TU-0119]薄型太陽光セルに関する加工技術の検討 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0001]グラフェン電特評価用試料の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0002]極低温プローバーシステムを使用したグラフェン電気特性評価 		F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0003]微細構造体の複製 		F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0004]中赤外光アンテナの作製と特性評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0005]β-FeSi2 を用いたSi フォトニクス素子の作製 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0006]収束イオンビーム装置(FIB)を用いた磁性フォトニック結晶の作製 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0007]SiO2 基板上へのAu ナノ円柱アレイの作製 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0008]Si 基板上へのAu ナノアレイ素子の作製 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0009]β-FeSi2 を用いたSi フォトニクス素子の表面状態の評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0010]An Investigation on the Adhesion of Printed Traces 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0011]分数磁束量子探索用ナノ構造体の作製 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0012]ナノ粒子膜三端子MR 素子用微細電極形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0013]カーボンナノチューブ歪印加素子の開発 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0014]グレーティングカプラを有するシリコン光導波路作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0015]スライド型ナノアクチュエータ開発に向けた異方的V 字パターンの作成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0016]アドレス基板の作製 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0017]MEMS ワイヤレス温度センサの開発 		F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0018]レーザーアブレーション及びFIB エッチングによりホウ酸塩ガラスおよび結晶表面に形成されたナノホールのモルフォロジー 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0019]電子線描画を用いた強磁性窒化物薄膜の微細加工 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0020]炭素材料を利用した電界効果型トランジスタの作製と電気特性の制御 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0021]サファイアエッチング用ＵＶ硬化レジスト開発のためのエッチング方法の確立 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0022]難エッチングSiO2 ガラスの成膜・加工 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0023]カーボンナノチューブトランジスタにおける環境効果 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0024]グラフェンの電子状態における環境効果 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0025]塩素ガス反応性イオンエッチングによる強磁性窒化物薄膜の微細加工 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0026]酸化膜ドライエッチング装置によるSiO2 ガラスのエッチング 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0027]n+/p ダイオード構造パターン試料の作製 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0028]マスクレス・リソグラフィを用いた微細構造の形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0029]薄膜形成、リソグラフィ、エッチング等を用いた微細構造の形成 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0030]X-point TEG(Test Element Group)の試作 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0031]ゲート前処理を実施したGe MOS Capacitor の試作 		F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0032]原子層堆積装置を用いた高品質絶縁膜の形成 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0033]極薄High-k 膜を用いたGe MOSFET 試作 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0034]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストおよびフォトレジスト周辺材料開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0035]高誘電率ゲート絶縁膜/メタルゲート電極スタックを有するGe MOSCAP 評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0036]電子ビーム描画装置によるEUV 用フォトレジストの評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0037]シリサイド赤外受光素子の開発 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0038]2 次元機能性原子薄膜半導体を用いたデバイス試作 		F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0039]スパッタリングなどを用いた層構造形成 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0040]電子ビーム描画装置によるEUV レジストの材料・プロセス開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0041]金属ピラーにおける上部コンタクトの微細加工 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0042]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製とその光応答性 		F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-093 極低温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0043]新規レジストの高選択性ドライエッチング条件の検討 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0044]グラフェンナノリボンの電気特性評価 		F-NM-093 極低温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0045]走査プローブ顕微鏡のための多機能プローブの作成 		F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-085 シリコン酸化・熱処理炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0046]DMD 露光装置を用いたマイクロレンズ作製に関する研究 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0047]電子線リソグラフィによる超格子相変化薄膜を用いたデバイス作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0048]軟材料の断面加工・観察 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0049]電子ビーム描画装置等を用いたグラフェン／超伝導体接合を持つデバイスの作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0050]光学ガラスのエンドミル切削において切れ刃稜線の粗さが脆性損傷に及ぼす影響 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0051]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト及びプロセスの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0052]宇宙用太陽電池の局所断面観察 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0053]Ga イオンビームエッチングによる微細構造ミラーの作製検討 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0054]GaN ナノワイヤーの位置調節選択成長と異意系発光ダイオード応用 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0055]加速度センサー要素技術 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0056]プラズマドーピングサンプルに対する対薬品耐性の評価 		(登録なし)
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0057]原子層堆積装置による多糖類フィルムへの酸化アルミニウム膜の成膜 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0058]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0059]ALD 法による酸化膜上への金属薄膜の形成評価 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0060]アルミニウムナノピラー周期アレイ構造の作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0061]ダイヤモンド成長用下地基板のサファイアの加工 		F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0062]高感度バイオセンサ開発のためのセンサ基板の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0063]走査電子顕微鏡（FE-SEM）によるニッケル薄膜の観察 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0064]トップダウン手法によるプラズモニックアレイの作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0065]シリコンナノワイヤ構造の作製 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0066]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング 		F-NM-072 レーザー露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0067]電子線リソグラフィーによる歪Ge 中への量子ドット形成用ゲート電極の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0068]グラフェン用ハードマスク作成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0069]Ge cavity にTi/Au 及び絶縁膜蒸着 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0070]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0071]フォーミングガスアニールがSiO2/Si 界面の熱抵抗に与える影響 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0072]シリコン深堀加工を用いたSi 基板を吸収体とする超伝導トンネル接合検出器の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0073]宇宙機汚染管理を目的としたQCM アレイセンサの作製と評価 		F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0074]ゲートスタック構造の作製 		F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0075]自己形成量子ナノリングにおける伝導特性調査 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0076]電子ビーム描画装置を用いた微小SQUID 局所磁化測定システムの作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0077]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン-第二種超伝導体接合素子作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0078]電子ビーム描画装置を用いた半導体-超伝導微小接合素子作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0079]電子ビーム描画装置を用いた超伝導体／半導体二次元電子系接合作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0080]III-V 族化合物半導体ナノワイヤのAu 触媒形状観察 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0081]インプリント技術による微細パタン転写プロセスに関する検討 		F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0082]SOI センサデバイスの作製に関するユニットプロセス開発 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-073 マスクアライナー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0083]X 線構造解析に適する相変化材料メモリ素子の作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0084]pn ホモ接合InGaN LED 構造のプロセス技術構築 		F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0085]半導体ドライプロセスによる平面型LED 素子の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0086]半導体ドライプロセスによる多セクションダイオード発光素子の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0087]InAs 量子ナノ構造-超電導デバイスの室温測定による評価 		F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0088]EDLFET キャリアドーピング用試料の整形と端子の形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0089]原子間力顕微鏡による中性子ミラーの表面ラフネスの測定 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0090]強誘電体フォトニック結晶作製のためのPLZT/ITO キャパシタの特性評価 		F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0091]パリレン薄膜上におけるALD 高品質酸化物絶縁膜の作製 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0092]グラフェンを用いた交差アンドレーエフ反射検出器の作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0093]ALD 法によるCNT へのアルミナコーティング 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0094]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン超伝導デバイスの作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-087 原子間力顕微鏡
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0095]塩素系ガスを用いたドライエッチングによるITO パターニング条件の検討 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0096]自己発電型Au-Pt 微細くし電極バイオセンサの開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0097]微細くし形電極バイオセンサにおける自己組織化膜の影響 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0098]ナノインプリントモールドの作製とナノインプリント材料の転写性評価 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0099]ＵＶ硬化型樹脂のプラズマエッチング特性 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0100]CVD グラフェン微細配線の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0101]微細幅多層グラフェン配線の形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0102]磁束量子渦検出のための反応性イオンエッチングを用いたnano SQUID の開発 		F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0103]モスアイナノ構造光デバイスの研究開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0104]撥水性Nano/Micro 構造体デバイス研究開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0105]ITO ドライエッチングのための新規レジスト開発 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0106]EDLFET キャリアドーピング用LaNiO3 薄膜試料の整形と端子の形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0107]InAs 量子ナノ構造-超伝導体ハイブリットデバイスの作製と評価 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-087 原子間力顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0108]窒化・酸化シリコン複合膜への貫通孔作製 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0109]原子層堆積法による有機材料上への酸化物薄膜成膜プロセスの検証 		F-NM-078 原子層堆積装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0110]トンネル磁気抵抗素子の微細加工プロセスの確立 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0111]電子ビーム描画装置を用いたNb/Ru/Sr2RuO4 接合の作製 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0112]単一微小ジョセフソン接合の輸送特性の電磁環境依存性 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0113]反応性イオンエッチングを用いたSQUID 配列の開発 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0114]超伝導光子検出器と光ファイバの高効率自己結合技術の開発 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0115]Si の深堀エッチングを用いた超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合技術の開発 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0116]低抵抗単一微小ジョセフソン接合の電磁環境の影響 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0117]Si 犠牲層膜を用いたサブミクロンギャップ平行平板デバイスの製作 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0118]自己形成InAs ナノリングの低温での電気伝導特性の研究 		F-NM-087 原子間力顕微鏡
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0119]高圧電性ScAlN 薄膜を有するダイヤモンドSAW デバイスの研究 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0120]ディープ反応性イオンエッチング (DRIE) を用いてシリコンテーパ側壁エッチング 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0121]医療用OCT への応用を目指した多波長InAs 量子ドット広帯域近赤外SLD 光源作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-090 自動スクライバー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0122]フォトニック結晶導波路と広帯域発光量子ドットを用いた多波長光源の試作 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0123]細胞培養用の基材として用いられる三次元パターンの作製 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0124]イオン注入を施した酸化物半導体トランジスタ試作のためのプロセス開発 		F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-14-NM-0125]グラファイト層間化合物薄膜上への金属電極形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-087 原子間力顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0001]Ge系チャネル材料の研究 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0002]ラマン測定によるカーボンのキャラクタリゼーション 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0003]触媒作用を有する電極の開発と生体分子検出への応用 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0004]Al上TiN薄膜除去について 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0005]電流標準実現に向けた単電子素子の作製 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0006]電流標準実現に向けた並列化単電子素子の作製 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0007]新規磁石材料の磁気特性評価 		F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0008]カーボンナノチューブ観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0009]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0010]シリコン微細加工チップを利用した血液流動性の研究 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0011]Alワイヤーの粒径観察 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0012]ナノイオニクス材料の分析 		F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0013]ミニマルファブ技術開発における分析及び評価 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0014]Fe/Si 2層膜の作製と評価 (2) 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0015]イオン注入技術を応用した3次元光導波路の作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0016]3d遷移金属添加Ⅲ族窒化物のバンド構造解明 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0017]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0018]バブル型ナノロボットを利用したバイオセンシングシステムの構築 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0019]誘電体多層膜ミラーの作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0020]自己検知型カンチレバー 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0021]GaN基板の窒素抜け 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0022]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0023]Curie温度向上に向けたチタン酸バリウムへのメソ細孔導入 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0024]アルミニウム・窒素コドーピング技術を用いた昇華法によるp型4H-SiC成長 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0025]XRDによるエピタキシャル膜の面内方位分布測定 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0026]グラフェン試料加工・評価 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0027]金属アルミ成膜 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0028]電子線用光学素子の開発 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0029]FIB断面解析利用による解析技術力向上 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0030]エレクトレット膜の荷電寿命評価 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0031]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0032]半導体の新規ICチップ開発に伴う、FIB断面調査 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0033]顕微レーザーラマン分光装置を用いた、微少有機化合物の分析方法の確立 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0034]透明薄膜の膜厚測定 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0035]電極構造の作製 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0036]顕微ラマン分光法によるシリコン半導体の応力評価 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0037]均一組成シリコンゲルマニウム合金製造 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0038]金属酸化物薄膜の研究 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0039]生体分子の電気化学検出のためのナノカーボン電極の開発 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0040]液面計素材の検討 		F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0041]固相線温度を制御可能な金系はんだの高信頼化方法 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0042]単層カーボンナノチューブ複合材料の評価 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0043]PLD法で作製した酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0044]近接二重層超伝導素子の開発に向けたマスクレス露光装置の露光量条件だし 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0045]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0046]微粒子の顕微ラマン分光分析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0047]単原子膜ヘテロ接合における機能性一次元界面のエレクトロニクス応用 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0048]ゲルマニウム基板上へのSiO2成膜 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0049]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価PJ001 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0050]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ2） 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0051]ゲルマニウム膜の形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0052]配線付き光デバイスの電極パッド形成 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0053]ALD法によるsub-20 nm径のナノインプリントモールドの作製 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0054]ケミカルループ法における高活性粒子開発 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0055]グラフェンナノディスクの定量的形状評価手法の確立 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0056]EB描画装置校正用マーク作製 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0057]マイクロ加工の基準 		F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0058]微細パターンの作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0059]シリコン薄膜の結晶性評価 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0060]異なる温度で形成したGe-Te合金/Sb-Te合金積層薄膜のXRD観察 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0061]相変化デバイスにおけるICP処理の効果の検討 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0062]半導体レーザ端面保護膜のXPS分析 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0063]半導体レーザ端面のARコーティング 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0064]磁性半導体における強磁性発現機構の解明と制御I 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0065]磁性半導体における強磁性発現機構の解明と制御II 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0066]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0067]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0068]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0069]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0070]XRDによるGaN基板の結晶性改善 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0071]FE-SEMによるサファイア・GaN界面の断面歪観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0072]SPMを使ったGaN基板研磨表面の観察 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0073]多層グラフェンのエッチング 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0074]CVDグラフェンの加工 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0075]CVDグラフェン配線の作製 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0076]グラフェン転写プロセスの開発（1） 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0077]グラフェン転写プロセスの開発（2） 		F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0078]電気特性取得のための、リフトオフプロセスの開発 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0079]MIMピラーの2ステップ物理エッチング法 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0080]金属ピラーにおける上部コンタクトの微細加工 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0081]Investigation of the Adhesion of Metal Particles onto a PTFE-based Substrate 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0082]The Adhesion of Ceramic Particles onto a Glass Substrate 		F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0083]高温対応半導体パッケージの検討 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0084]近接場顕微鏡プローブの作製 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0085]FIB加工微小試験片による機械的特性評価 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0086]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0087]ウェットエッチングによるAuリフトオフプロセスの最適化 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0088]EBリソによるL&S構造の作製 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0089]FIBによるTEM試料作製 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0090]グラフェン電特評価用試料の作製 		F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0091]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0092]カーボンナノチューブ複合材料評価手法の開発 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0093]グラフェン電特評価用試料の作製 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0094]高分子材料中の化合物の質量分布測定（2） 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0095]次世代電池材料 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0096]熱電変換薄膜の作製 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0097]加速度センサーの試作（評価用素子の作製） 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0098]高分子薄膜の断面観察 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0099]薄膜特性の評価 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0100]片面電極有機薄膜太陽電池のための電極作製 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0101]Au-Pt くし形電極による自己発電型バイオセンサの表面洗浄に関する影響 		F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0102]フィラーの分散評価 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0103]カーボンナノチューブ複合材料評価手法の開発 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0104]加速度センサーの試作（プロセスの改善） 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0105]Au-Pt くし形電極による自己発電型バイオセンサのXPS/UPSによる評価 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0106]Si SIMS分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0107]InP系超格子構造のSIMS分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0108]シリコン光集積回路の電極パッド開口プロセス 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0109]フィラーの分散評価 		F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0110]Ti薄膜の不純物分析 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0111]片面電極有機薄膜太陽電池のための酸化チタン層を備えた電極作製 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0112]Tiの不純物分析 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0113]グラフェン膜を用いたvan der Pauw素子の作製 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0114]真空蒸着を用いた電極の作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0115]超伝導光子検出器の開発のためのAu薄膜の加工 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0116]超伝導光子検出器の開発のためのTES素子の製作 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0117]超伝導光子検出器の開発のための光キャビティ用ミラーの製作 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0118]2層レジストを用いたAuリフトオフの最適化 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0119]グラフェン薄片の導電率測定 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0120]高圧電性ScAlN薄膜を有するダイヤモンドSAWデバイスの研究 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0121]ニッケル薄膜のX線反射率測定 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0122]EB蒸着によるインジウムの成膜 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0123]グラフェン用ハードマスクパターン作製 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0124]FIBによるTEMサンプル作製 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0125]二次元材料のデバイス応用 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0126]超格子スピントロニクス材料の開発 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0127]カルコゲナイド超格子を用いた不揮発メモリの開発 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0128]カルコゲナイド超格子を用いた不揮発メモリのプロセス最適化 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0129]グラフェンデバイス電極用W薄膜堆積 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0130]グラフェンの電気特性評価 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0131]ニッケルシリサイド薄膜のXPS測定 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0132]ラマン分光分析を用いた基板内応力分布測定 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0133]Pt電極膜を含む積層膜の観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0134]XPS分析装置を用いたTa及びWのエッチングレートチェック 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0135]薄膜の評価 		F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0136]ミニマルファブ技術開発における分析及び評価 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0137]強磁性酸化物薄膜の磁化測定 		F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0138]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0139]コンパウンドチョコレートのファットブルームの観察 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0140]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0141]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3） 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0142]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0143]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3） 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0144]機能性酸化膜中の酸素分布に関するSIMS分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0145]ペロブスカイト太陽電池用バッファー層の開発 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0146]PE-ALD成膜 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0147]光電変換用酸化物薄膜の成膜 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0148]埋め込み型電極構造による有機トランジスタの特性制御 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0149]フィルム基材を用いたフレキシブル色素増感太陽電池デバイスを安定的に作製するための断面解析 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0150]酸化物ドット集積構造の原子制御 		F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0151]二光束干渉露光で作製した百数十nm周期ラインアンドスペースパターンの評価 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0152]次世代電池材料 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0153]二次元材料のデバイス応用 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0154]中性粒子用STJ検出器の開発 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-14-AT-0155]次世代LSI向け成膜プロセス評価用キャパシタ試作 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0001]電気化学分析用電極の形成 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0002]デンプン顆粒の構造解析 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0003]酸化薄膜成長制御のための基板裏面被覆 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0004]結晶欠陥を含むシリコンウェハのESR評価用ダイシング加工 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0005]バルク水の異常ポッケルス効果のメカニズムの解明 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0006]Cellular biomechanical responses 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0007]冷陰極アレイデバイスの開発 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0008]ピーム誘起堆積法による可干渉電子源の作製とその電子放出特性の研究 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0009]超伝導ナノコンタクトにおける電流輸送および熱輸送の研究 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0010]超格子材料の光誘起相転移と光学変調素子への応用 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0011]フォトニクス・プラズモニック素子を用いたバイオセンシングデバイスの構築 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0012]グラフェンFETの作製 		F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-097 電子線描画装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0013]電子ビーム露光による電極形成とFET電気特性評価 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0014]グラフェンの合成と電気特性評価 		F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0015]半導体ナノデバイスの降伏（スナップバック）領域における電流・電圧の挙動の解析と最適デバイス動作条件および構造の検討 		F-BA-091 デバイスシミュレータ
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0016]グラフェンの電気伝導の研究 		F-BA-097 電子線描画装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0017]超伝導量子渦ビットの試作 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0018]表面の親水疎水微細パターン形成 		F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0019]超薄膜型単結晶CVDダイヤモンドデバイスの開発 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0020]マイクロスケールAu二次元パターン試料の製作依頼 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0021]電極チップのダイシング 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0022]電流検出ESR（EDMR）に関する新技術の開発 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0023]ポリマーアロイの機械物性向上の原理追及 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0024]側壁観察用顕微鏡の解像度テストチャートの開発 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0025]圧電効果直接駆動によるFET型高感度・広帯域超音波トランスデューサーの検討 		F-BA-091 デバイスシミュレータ
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0026]セルロースの分解反応の経時変化の可視化 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0027]バブル型マイクロモーターの構築 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0028]Nd-Fe-B系磁石材料の構造解析 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0029]ナノスケールの配線パターン形成 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-097 電子線描画装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0030]走査型SQUID顕微鏡を用いた局所磁束観察のための被測定試料作製 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-095 ワイヤーボンダー
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0031]半導体二次元電子系への THzパルス照射を行うためのGaAs/AIGaAsホールバー作製 		F-BA-097 電子線描画装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0032]電気化学的細胞脱離のための電極作製 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0033]マイクロ波シングルターンコイルの作製 		F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0034]遷移金属ダイカルコゲナイド中のスピン－バレー相互作用の解明 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
F-BA-095 ワイヤーボンダー
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0035]微細配線用金属箔の組織評価 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0036]高温超伝導体を用いたTHz波発振素子の開発 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0037]BaSi2薄膜表面の局所的な電流特性評価 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0038]ボウタイ型アンテナを用いたテラヘルツ波の電場増強 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0039]異方性構造をもつ高強度ハイドロゲルの創製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0040]シクロデキストリンマイクロキューブとその炭素化物の解析 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0041]高絶縁性セラミックス薄膜の電気特性計測用電極形成 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0042]強磁性窒化物の磁区観察 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0043]FIB-SEMによる多孔質複合材料の三次元構造解析 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0044]Si(100)上に蒸着した金属薄膜のRBSにおける膜厚とチャネリングの関係 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-14-BA-0045]リポソームを用いたモリブデンナノ粒子合成法の確立 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0001]単一架橋カーボンナノチューブにおける励起子のシュタルク効果 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0002]シリコンナノビーム共振器と単一カーボンナノチューブの高効率光結合 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0003]単一カーボンナノチューブを用いたゲート制御式光パルス列生成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0004]フォトニック結晶共振器における局在導波モードと共振器モードによる双共鳴 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0005]強磁性体・カーボンナノチューブ二層構造における強磁性共鳴 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0006]単一架橋カーボンナノチューブにおける励起子拡散および緩和過程 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0007]単一架橋カーボンナノチューブの励起分光における電界誘起ピーク 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0008]カーボンナノチューブ分割ゲート素子における電界発光 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0009]空気モードシリコンナノビーム共振器の最適化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0010]架橋カーボンナノチューブにおけるトリオン生成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0011]カーボンナノチューブの化学気相成長用触媒におけるアルミナの影響 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0012]架橋カーボンナノチューブの発光におけるパルス励起強度依存性 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0013]高効率金属ナノ光学素子に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0014]熱駆動可変金属ナノスリットに関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0015]超高速イメージングによる高速細胞分取装置のための表面弾性波発生デバイス試作 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0016]微細構造を有する波長選択性光源の研究 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0017]集積化電極基板による培養細胞活動計測 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0018]マイクロ熱電子発電に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0019]光源と検出器を集積化したプラズモン共鳴センサに関する研究 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0020]ボース・アインシュタイン凝縮体の高分解能非破壊イメージングのための位相板の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0021]銀ナノインクの表面処理および特性評価 		(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0022]細胞内部構造制御用のマイクロ構造基材作製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0023]プラモニックキャビティの製作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0024]バイポーラPBII法によるマイクロトレンチへのDLCコーティング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0025]φ０．３μｍホール形状の大面積シームレス描画 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0026]金属微細構造を用いた赤外光応答制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0027]半導体材料評価用のトランジスタ素子の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0028]光MEMSを用いた熱物性センサの開発 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0029]細胞解析用一細胞アレイ基板作製用フォトマスクの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0030]FIB-CVDによるWCナノワイヤの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0031]櫛形電極作製による酸化物薄膜のインピーダンス測定 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0032]SiO2/Au/SiO2積層構造体の作製 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0033]Au/SiO2/Au積層構造体の作製 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0034]SiO2メッシュ架橋構造の作製 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0035]超高速イメージングによる高速細胞分取装置のための細胞分取用マイクロ流路 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0036]浮遊グラフェンの電気伝導度特性 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0037]金属ナノ構造を用いた赤外域の電場増強と新規光学現象の発現 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0038]周期的チャネル構造表面の光学的特性に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0039]電流注入型濡れ層発光LEDのゲート制御 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0040]金属性単層カーボンナノチューブの全長除去 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0041]単層カーボンナノチューブの合成制御 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0042]グラフェンを用いた電界効果トランジスタ 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0043]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0044]単一浮遊細胞のハンドリング、固定可能なマイクロ流路デバイスの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0045]窒化物半導体用成膜過程の解析用の高精度マスクの作成 		F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0046]Fe/SiO2/Siトンネル接合素子における３端子Hanle効果の起源 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0047]シリコンリブ型導波路の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0048]スピンポンピングによるスピン流の注入と検出 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0049]強磁性半導体GeFeにおける、室温において存在する局所的な室温強磁性と、そのナノスケールでの成長過程 		(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0050]マイクロパターン基板を用いた細胞力学特性の計測に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0051]櫛歯電極を持つMEMSエレクトレット発電器の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0052]軟Ｘ線荷電されたフレキシブルエレクトレット発電器の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0053]回転型エレクトレット発電器の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0054]近接場熱輻射を用いた高開口率MEMSラジエータの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0055]近接場熱輻射計測のためのMEMSデバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0056]超撥液面を用いた液体耐性エレクトレットの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0057]MEMSワイヤレス温度センサの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0058]高性能圧電薄膜とMEMS技術を用いた高感度超音波トランスデューサの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0059]イオン注入機を利用したシリコン基板へのＰ，ＢＦ２打ち込みとその電気評価 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0060]半導体デバイス向けのリソグラフィ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0061]電子線描画装置F5112を利用したサブミクロン加工の検討 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0062]ステルスダイサーを利用したシリコンウェハー精密カット 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0063]微細加工表面の濡れ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0064]くし歯型MEMS共振器の共振特性と蓄積エネルギー 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0065]ドレスト光子を利用したＳｉ受発光素子の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0066]ダイヤモンドパワーデバイス 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0067]レジンコート紙の微少穴測定 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0068]フレキシブル電極の微細形成　極薄有機光検出器の作製 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0069]ナノカーボン材料の電気抵抗測定 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0070]低アスペクトL&S構造の作製技術開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0071]周期的円柱ピラー形状の作製技術開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0072]大面積ナノ構造のレーザアシストロール成形 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0073]陽極酸化アルミナナノホールアレイの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0074]金属配線のダマシン加工 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0075]ナノパターンを有するバイオプレートの射出成形 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0076]セラミクスグリーンシートへのナノインプリント 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0077]沸騰伝熱面の熱伝達率向上のためのアルミ表面へのナノインプリント 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0078]実験実習用MOEMS教材開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0079]リフトオフ法による金ナノ四角柱周期構造の形成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0080]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0081]シリコン導波路型光デバイス開発に向けた高速電子線露光 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0082]光学式測定装置の研究・開発向け微細サンプルの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0083]免疫治療に向けた電界集中型細胞 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0084]１細胞エピジェネティック解析に向けた動物細胞染色体の操作技術の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0085]マイクロメッシュを用いた配向性細胞シートの作製と評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0086]マイクロアレイチップ技術を用いた高速タンパク質進化システムの創製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0087]マイクロ波LC共振器とナノメカニクス薄膜振動子の結合の観測，および振動子のサイドバンド冷却 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0088]深宇宙彫刻DESPATCHの打ち上げ最大加速度を測定するMEMSセンサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0089]ルナ・ドリームカプセルプロジェクトで子供達の夢・メッセージを電子線描画装置・エッチング装置を用いてシリコンウェーハに描画 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0090]酸化チタンナノシートへの導電性付与 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0091]微細ゲートホールの加工検討 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0092]電界放出源の高出力化の研究 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0093]半導体分岐可変多モード干渉カップラ素子の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0094]半導体マイクロリングレーザを用いた全光インバータの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0095]クロストークを低減可能な凸型マイクロセンサアレイ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0096]マイクロ力センサを用いたウェアラブル血圧計測デバイス 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0097]マイクロ3軸力センサによる足底と足側面に加わる力の計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0098]テラヘルツ天体観測のための超伝導HEBミクサの開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0099]ゲルマニウムのレーザーアニールの研究 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0100]格子ひずみ制御によるシリコン上ゲルマニウム受発光デバイスの長波長動作 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0101]マイクロマシン教育のための静電マイクロアクチュエータ設計 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0102]鉄系酸化物半導体トンネル接合素子形成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0103]シリコンプラットフォームによるバイオセンサの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0104]革新的Si/Geアクティブフォトニクスデバイスの研究開発 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0105]ゲルマニウム発光デバイスの検討 		(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0106]単一架橋カーボンナノチューブにおける巨大円二色性 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0107]カーボンナノチューブにおける励起子の自発的解離 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0108]シリコン深掘エッチングガスの開発 		F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0109]咀嚼時における歯の振動の伝播測定 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0110]羽ばたき機を用いた8の字羽ばたき運動時の翼面圧力差計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0111]サイドドープを用いたピエゾ抵抗型気流せん断応力センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0112]音響インピーダンス整合したMEMS筋音センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0113]センサフュージョンによる高感度絶対圧計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0114]運動靴のスパイクピンのための6軸力/トルクセンサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0115]MEMSセンサウェハのステルスダイシングによる分割の検討 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0116]液滴の動的な振る舞いを解明するためのMEMS力センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0117]メンブレン状のSOI構造の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0118]薄膜片持ち梁を用いた脈波計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0119]ステルスダイシング装置によるMEMSセンサのチップ化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0120]小型カテーテルのための超音波センサを利用したドップラー効果による速度計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0121]アザミウマの毛状翼を規範とした差圧センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0122]アリの床裏反力計測のためのMEMSフォースプレート 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0123]ピエゾ抵抗型センサの側面ドープの不純物濃度計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0124]AlNカンチレバーを用いた微小圧力変化検出スイッチ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0125]パリレン膜のガラス転移を利用した3次元構造形成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0126]マイクロヒーターによる細胞の熱的観測 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0127]MEMS心音センサの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0128]イオン液体を用いたCO2ガスセンサの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0129]薄膜 Si 上に形成した MEMS 可変メタマテリアルにおけるフレームの影響 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0130]分光器のための金回折格子による表面プラズモン型ショットキーIRディテクタの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0131]熱伝導率分布センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0132]弾性体中の微小カンチレバーの動的特性解析 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0133]弾性表面波計測センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0134]集積化マイクロアンテナ研究に向けたMEMS振動子設計試作評価基礎技術の習得 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0135]生体適合性高分子によるピラー構造の作製 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0136]ショートチャンネル有機トランジスタの製作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0137]可変周波数アンテナのための大変形貫通流路型液体アクチュエータ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0138]静電アクチュエータ設計演習 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0139]モード共鳴回折格子の試作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0140]深宇宙彫刻DESPATCHとともに太陽を回る未来の人類への子供達のメッセージチップ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0141]高濃度n型不純物導入によるGe成長および発光特性に関する研究 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0142]シリコンフォトニクスのためのＭＩＤＥＸ（中程度屈折率差系）光学系の研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0143]選択成長を用いたGe内の歪み制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0144]非交差導波路を用いた光スイッチに関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0145]スパッタSiNによるシリコンフォトニクスプラットフォームに関する研究 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0146]歪SiGe光変調器の研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0147]II-V CMOSフォトニクスプラットフォームを用いた高性能光変調器 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0148]LSI動作解析用磁界プローブの試作 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0149]半導体MEMS-LSI技術を利用したマルチモーダルバイオセンサ 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0150]ナノ・マイクロ光機能デバイスの試作と評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0151]圧電効果直接駆動によるFET型高感度・広帯域超音波受信器の開発 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0152]光放射圧による粒子輸送機能の屈折率差を用いた光スイッチング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0153]ジュール熱および光熱効果を用いた物質輸送による表面反応促進 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0154]エッチング条件だしのためのパタ－ニング 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0155]マイクロドロップレットチャンバーを利用したデジタルバイオロジー 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0156]三次元積層チップへの内装を目指した小型自励振動式ヒートパイプの試作と熱流動解析 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0157]ブロックコーポリマーを用いた自己組織化法によるシングルナノラインアンドスペースパターンの形成 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0158]固体表面の構造および電荷による動的濡れ制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0159]常温接合によるシリコン／ゲルマニウム接合界面の特性 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0160]Ar 高周波プラズマ活性化処理による金薄膜を介したウェハ常温接合 		F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0161]集積イメージセンサ向けの高機能膜微細加工利用の迅速立ち上げと汚染評価 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0162]微細構造の側壁薄膜を電極に用いた局所陽極酸化によるナノパターン転写装置の開発 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0163]ＭＥＭＳ光スキャナを用いたインタラクティブ画像ディスプレィ開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0164]光干渉断層計測法装置のための波長可変光源ＭＥＭＳ光スキャナの開発 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0165]液晶ディスプレィ用ＴＦＴドライバ技術を用いた細胞操作用μＴＡＳの開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0166]電子線リソグラフィのトレーニング 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0167]AlGaAs/Alox反転積層高屈折率差導波路型波長変換素子の開発 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0168]超高速蛍光画像識別型セルソーターの開発 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0169]バックサイドXPSを用いたCoWバリア膜のバリア性の評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0170]超高アスペクト比ミクロキャビティを用いた化学気相含浸プロセスの解析 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0171]三元系化合物半導体の局所組成分析 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0172]多接合太陽電池応用に向けたGaAs/Ge表面活性化接合技術の検討 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0173]ナノスケール熱伝達計測のための温度測定システム 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0174]SmartBlocksIIプロジェクト：自律動作する集積化繊毛アクチュエータによる搬送ブロック 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0175]熱発電素子を目指した集積ナノワイヤーのトップダウン作製 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0176]ナノインプリント用モールド開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0177]電子線制御のための微細構造加工の研究 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0178]フォトニック結晶を用いたバイオセンサーの開発 		F-UT-109 川崎ブランチスパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-14-UT-0179]アルゴンプラズマエッチングを利用した金属ナノ構造体の試作 		F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0001]PDMS製マイクロ流体デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-127 簡易SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0002]多糖類基材へのイオンビームスパッタによるSiO2成膜 		F-WS-124 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0003]PDMS製マイクロ流体デバイスの作製 		F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0004]深さが異なるマイクロ流路チップの作製 		F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0005]：シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究(シリコンウエハー表面への金メッキ) 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0006]強誘電体セラミックス薄膜の微細加工および微構造評価 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0007]2次元アンペロメトリックセンサのプロセス開発 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-124 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0008]伸縮可能なMEMSデバイスシート 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0009]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発 		F-WS-136 接合装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0010]カーボンナノチューブ・フレキシブル電極・配線のパターン形成のための微細加工 		F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0012]誘電体/絶縁体基板上へのグラフェンパターンの直接形成のための微細加工 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0013]SiC JFETのソース電極、ゲート電極のAuめっき 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0014]ICP-RIEを使用したUVナノインプリント用光硬化性樹脂のドライエッチングレート測定 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0015]めっき法による3次元ナノ構造の特性評価 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0016]表面弾性波発生のための櫛形電極の作製 		F-WS-124 スパッタ装置
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0017]小型コンデンサーセンサの開発 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0018]Bi-Te電析膜の微細構造制御およびマイクロ熱電変換素子への応用 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0019]Al電極上のAuめっき 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0020]陽極酸化皮膜（アルマイト）処理方法に関する研究 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0021]X線マイクロカロリメータのX線吸収体のためのナノ構造体形成と評価 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0022]3D-FIBトモグラフィー法によるサブミクロンAu粒子焼結体の微構造と焼結応力解析 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0023]MEMSデバイスの基板接合技術に関する基礎実験 		F-WS-136 接合装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-138 アライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0024]CNT /SiC上へのパターンめっき電極膜形成の検討及び顕微ラマン分光装置を用いたCNTの評価 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0025]ディスプレイ関連技術相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0026]異種材料接合技術 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-136 接合装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0027]特殊ナノインプリント技術構築と特異材料の特定用途へ適用性検討 		F-WS-136 接合装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0028]GaN基板に関する技術相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0029]金属ナノ粒子形成過程における添加剤の影響解析 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0030]配向制御Fe-Co合金薄膜の作製と磁歪MEMSデバイスへの応用展開 		F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0031]プラズマ耐性材料の探索 		F-WS-131 CCP-RIE装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0032]ナノインプリントを用いた間葉系幹細胞培養の研究 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0033]プラズモンセンサのプロセス開発 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0034]ナノメータの凹凸を有する膜形成による表面エネルギー制御 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0035]CMPを利用しためっき膜の平滑性向上 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0036]単結晶サファイアの接合 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-138 アライナ
F-WS-136 接合装置
F-WS-139 高耐圧プローバ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0037]メッキ板の硫化膜厚測定 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0038]微小ゲート構造を有するバイオセンサ用基板の作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0039]Ir/ＩrOxワイヤ酸化被膜剥離の検討 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0040]ラマン分光による面分解能評価パターン作製 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0041]イオンビームスパッタ装置を用いて成膜したNi膜の膜厚計測 		F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0042]イオンビームスパッタ装置を用いて成膜したNi膜のSEMによる表面観察 		F-WS-127 簡易SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0043]赤外無反射構造加工のための微細ニッケルメッキ条件だし 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0044]強磁性Mn-Biの新合成法確立とその物性評価 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0045]炭化ケイ素基板のドライエッチングマイクロレンズ加工 		F-WS-127 簡易SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0046]特殊加工ハイドロ キシアパタイトによる環境負荷低減作用の研究 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0048]イオンビームスパッタ法によるMn層状化合物の薄膜作製 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0050]自己組織化膜（SAM）を用いた電鋳技術 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0051]透明導電性Sn:In2O3 (ITO)薄膜電極の作製 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0052]パッシベーション用アルミナ膜の成膜方法による比較 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0053]アルミナ膜の膜中水素量による比較 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0054]圧電基板上の櫛形電極の周波数特性の測定 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0055]カーボンナノチューブ・フレキシブル電極・配線のパターン形成のための微細加工：カーボンナノチューブ・フレキシブル電極・配線用マスク作製検討 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0056]プローブカードパターン製造におけるレジスト材に関する研究 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0057]金属被覆を施した金属ガラスの機械特性 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0058]微生物発酵産物の柱状解析 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0059]サブミリ波帯アンテナのためのシリコンウエハーの金めっきプロセスに関する研究 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0060]埋め込み型プラズモンセンサの開発 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0061]ネオジム磁石膜を用いたMEMSアクチュエータの研究 		F-WS-118 グロー放電分光分析装置
F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0062]Mn層状化合物の形成と組成分析 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0063]高性能OLEDsに向けたITO上へのナノパターン形成 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0064]マイクロ流体有機ELの作製と電界発光特性 		F-WS-136 接合装置
F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0065]高分子圧電材料を用いた発電デバイスの作製と特性評価 		F-WS-124 スパッタ装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0066]FeCo系合金を使用した磁歪発電デバイスの高出力化 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0067]磁歪発電デバイスの持続的発電構造の検討 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0068]低温用プローバ利用に関する相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0069]マイクロミキサーの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0070]化学反応用マイクロ流体デバイスの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-144 真空光学系赤外分光計
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0071]樹脂製流体デバイス作製指導に関する相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0072]特殊加工ハイドロ キシアパタイト（セラミックス）による防錆・防食・除錆効果 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0073]微小ドロップレット形成チップの作製 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0074]インプリント用モールドの再生方法検討 		F-WS-137 プラズマ処理装置
F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0075]がん培養液中の成分分析 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0076]分光エリプソメーターを使用したガラス基板上のAPTES単分子膜の測定の検討 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0077]X線光学素子作製のための微細めっき技術 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0078]フレキシブル薄型の力覚センサ 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0080]圧電ポリマーを用いた発電デバイスの検討 		F-WS-122 環境維持・制御装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0081]神経細胞の表面改質法に関する相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0082]ナノスケール微細構造形成の相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0083]ピレニルホスホン酸の選択的固定化に関する相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-14-WS-0084]Si 細線スロット導波路へのカーボンナノチューブの埋め込みの検討 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0001]薄膜デバイスの金属電極形成 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0002]2次元プラズモニック結晶のバンドギャップの表面形状依存性 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0003]エッジマグネトプラズモンのMach-Zehnder 干渉計の開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0004]金属ナノアンテナ構造の曲率がプラズモン共鳴波長におよぼす影響 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0005]EUV露光用レジスト及び周辺材料の開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0006]Study of Tri-Gate In0.6Ga0.4As mHEMTs for Low-Power Logic Applications 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0007]半導体レーザに関する研究 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0008]光変調器に関する研究 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0009]ダイヤモンドFET 		F-IT-147 FIB-SEMデュアルビーム加工観察装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0010]フラーレン含有ZEP520レジストによるEB露光プロセス 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0011]金属マークの形成 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0012]フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの 加速電圧変更時のEB露光での感度評価 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0013]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0014]フッ化グラフェン上のアルミナ膜の作製 		F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0015]シリカzipper型光共振器を用いた光路変換応用の検討 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0016]金属ナノアンテナ構造に誘起されるプラズモン増強場の近接場イメージング 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0018]T-gate EBL for GaAs HEMT MMIC on 4” wafers 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0019]フッ化グラフェン上のアルミナ薄膜の電気的特性評価 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-134 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0020]絶縁樹脂上での微細銅配線形成 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0021]六方格子プラズモニック結晶のSTEM-CL法分析 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0022]化合物半導体を用いた新規の医療画像スキャナー用放射線計測システムの基礎開発 		F-IT-134 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0023]Study of Enhancement Mode In0.65Ga0.35As/InAs/In0.65Ga0.35As HEMTs using Au/Pt/Ti non-annealed Ohmic process for Low-Power Logic Applications 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0026]GaN/InGaNナノコラムLEDの保護膜 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0027]水素化アモルファスシリコン磁気光学導波路 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0028]選択成長法を用いた(111)ダイヤモンド微細構造の作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0029]Bow-tieナノアンテナの表面プラズモン由来の光学特性 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0030]センサ用基板の裏面薄膜剥離 		F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0031]MEMSナノメータサイズ流路 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0032]温度無依存シリコンリング共振器の開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0033]精製フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの EB露光での感度評価 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0034]プラズモニックナノ共振器のモードエネルギーと放射の角度分布 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0035]フォトニック結晶を用いたDNA蛍光測定チップの作製プロセスの簡易化 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0036]X線用FZPの製作のためのレジストパターン形成プロセスの検討 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0037]選択成長法による(100)傘型ダイヤモンドマイクロ構造の作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0038]トポロジカル絶縁体を通したスピン注入およびスピン検出 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0039]Siチャネル・スピン輸送デバイスの試作 		F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0040]一次元電子系の非平衡状態のエネルギー分光 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0041]Effect of oxide quality on the DC Performance of InAs Quantum Well MOSFETs 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-136 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0042]半導体レーザ用誘電体膜の形成 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0043]スパッタ薄膜における堆積初期段階の評価 		F-IT-133 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0044]ALDによる誘電体薄膜形成 		(登録なし)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0045]アリール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのEB露光での感度評価 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0046]X線用FZPの製作のためのSiNメンブレン上へのレジストパターンの形成 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0047]プラズモニックナノ共振器のSTEM-Cathodoluminescence(CL)法分析 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0048]Optimization of Gate Recess-etch Current for Device Performance 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0049]SiNメンブレン上へのレジストパターンの観察 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0050]Study of InGaAs Metamorphic HEMTs for Low Noise Amplifier Applications 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-136 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-14-IT-0051]合成法改良フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのEB露光での感度評価 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0001]FeRh薄膜の静・動的温度変化XAFSによる研究 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0002]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射による磁性制御とパターン形成 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0003]薄膜材料の試作評価 		F-NU-149 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0004]プラズマ照射試料の表面構造観察 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0005]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究 		F-NU-149 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0006]マイクロリアクタの作成 		F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-182 スプレーコーター一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0007]MEMSデバイスの研究開発 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0008]工具用ダイヤモンド材料の高効率加工 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0009]機能性ナノワイヤの創製と性能評価に関する研究 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0010]GaAsを用いたマイクロ波AFMプローブの開発 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0011]機能性磁性積層膜の開発と評価 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0012]VHF-DCマグネトロンスパッタ装置の放電特性 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0013]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0014]IV族半導体-金属合金化反応制御による強磁性ナノドットの高密度形成と磁気的特性 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0015]医用複合材料の微細形態と組成の分析 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0016]プレーナーパッチクランプ基板製作 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0017]マイクロセンシングデバイスの開発 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0018]ナノバイオデバイスの開発 		F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0019]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0020]キラル金ナノ構造体により誘起されるねじれた光場中でのキラル結晶化制御 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0021]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－バイオCMOS融合デバイス実現のためのSEMを用いた電極観察－ 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0022]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0023]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究 		F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0024]有機低次元電子系材料における新しい光・電子応答現象の探索 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0025]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究 		F-NU-149 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0026]細胞アセンブリに関する研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0027]モデル生物を応用したマイクロ・ナノ操作技術に関する研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0028]Magnetoresistive Magnetic Field Sensor Fabrication 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0029]高クヌッセン数流れの計測手法の開発及び総合的理解へ向けた研究 		F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0030]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長と接合作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0031]量子ナノ構造デバイスの研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0032]有機薄膜ラジカルの分析 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0033]磁性薄膜の磁壁を利用したスピン散乱効果の検証 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0034]超臨界流体を利用した貧溶媒化法による微粒子製造 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0035]GaNナノワイヤー成長技術の開発 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0036]金属酸化物ナノロッドの構造解析とその電気的特性 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0037]ポリマーアロイの弾性率マッピング 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0038]テンプレート分子を用いたナノカーボン物質の超精密合成 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0039]有機非線形光学結晶のX線回折による構造評価 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0040]がん細胞分離・濃縮バイオデバイスの技術開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0041]オンチップロボティクスを基盤とする光合成細胞の機能計測 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0042]フロー式細胞力学パラメータ計測システムの構築 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0043]卵細胞の粘弾性の異方性を測る革新的マイクロロボットシステムへの挑戦 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0044]非侵襲生体センシング技術 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0045]細胞解析用マイクロデバイスの作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0046]繋ぐ技術で拓く弾性型血管の創生とバイオニックシュミュレータ 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0047]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0048]超低摩擦現象解明のための摩擦誘起表界面ナノ構造の分析 		F-NU-150 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0049]プラズマ照射済み環境下での細菌活性に関する研究 		F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0050]Ge系材料へのドーピング品質改善と評価に関する研究 		F-NU-152 急速加熱処理装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0051]X線・中性子回折格子干渉計のための光学素子の作製 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0052]機能性光学材料の開発 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0053]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカル生成 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0054]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカルの絶対密度計測 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0055]マイクロロボットの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0056]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究 		F-NU-170 段差計
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0057]強誘電体薄膜の加熱処理 		F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0058]MEMS微細加工及びそれの医用応用に関する研究 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-160 エッチングプロセス一式
F-NU-197 金属スパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0059]MEMSセンサ及びそれの医用応用に関する研究 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-198 パリレンコータ
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0060]プラズマインジケータの開発 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-167 ICPエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0061]パワーデバイスの作製 		F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0062]顎関節の器官構築に向けた三次元器官培養法の開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0063]磁性体を使ったホログラフィーによる3D画 像表示の研究 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0064]Fabrication and Characterization of CoFe2O4 and Fe3O4 Magnetic Nanostructures; Fabrication of GMR thin films 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0065]導電率傾斜機能材料を用いたGISスペーサの作製技術に関する研究 		F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0066]基板上のジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン層の膜厚測定 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0067]Si反転層におけるスピン輸送特性の解明 		F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0068]スピン波ロジック回路に向けた単結晶イットリウム鉄ガーネットの形成 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0069]印刷プロセスの開発 		F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0070]強磁性カイラル構造の磁気特性評価 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0071]EB蒸着膜の形成および密着性検討 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0072]アルミ誘起成長法を利用したSi薄膜の作製と固相エピタキシャル成長 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0073]フォトニックバンドギャップファイバーを用いた高エネルギーサブpsパルスの制御 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0074]多元スパッタを用いたスピンゼーベック素子の作製 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0075]細胞培養マイクロデバイスの開発 		F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0076]強酸環境を対象とした金属酸化被膜の開発 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0077]Magnetoresistive Magnetic Field Sensor Fabrication 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0078]モーター蛋白質で駆動するマイクロデバイスのためのマイクロ構造体の作製 		F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0079]ハーフメタル強磁性体を用いたグラニュラー型トンネル磁気抵抗薄膜の作製と評価 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0080]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証 		F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0081]ロックインサーモグラフィを用いた熱拡散率三次元分布測定法の開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0082]機能性ナノワイヤ面ファスナーの形状制御および性能評価に関する研究 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0083]CoPt基合金薄膜の時間分解磁気光学測定法による磁気緩和評価 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0084]プレーナーパッチクランプ基板製作 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0085]As保護膜を使用したCs/GaAs系半導体構造の特性評価 		F-NU-156 8元MBE装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0086]感光性樹脂の研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0087]ラジカル注入型源によるシリコン薄膜 		F-NU-177 60 MHz 励起プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0088]シリコン薄膜太陽電池の開発 		F-NU-177 60 MHz 励起プラズマCVD装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0089]プラズマエッチング中のポリマー表面反応解析 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0090]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0091]プラズマ医療科学にかかわる生体材料表面ラジカル解析 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0092]食品衛生の大気圧プラズマ利用のラジカル解析 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0093]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するRFバイアス印加効果の解明 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-206 フーリエ変換赤外分光分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0094]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するRFバイアス周波数依存性の解明 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-206 フーリエ変換赤外分光分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0095]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するDCバイアス印加効果の解明 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0096]新規下層カーボン膜を用いたエッチングプロセスの開発 		F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0097]新規ガスによるエッチングプロセスの開発「新規ガス1の性能評価」 		F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0098]新規ガスによるエッチングプロセスの開発「新規ガス2の性能評価」 		F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0099]新規ガスによるエッチングプロセスの開発「新規ガス3の性能評価」 		F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0100]非接触ウェハ温度計測に関する研究 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0101]フォトレジスト表面ラフネス形成機構の解析 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0102]太陽電池用微結晶シリコンの膜特性解析 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0103]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するRFバイアス周波数依存性の解明 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0104]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するB2H6ガス添加効果の解明 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0105]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するN2ガス添加の解明 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0106]DC 重畳エッチング表面の解析 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0107]マイクロ放電装置による真空紫外発光量の計測 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0108]大気圧プラズマ放電によるラジカル生成量 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0109]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール依存性 		F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0110]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるヘキサン添加効果 		F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0111]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成における有機白金添加効果 		F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0112]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアイオノマーコート 		F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0113]大気圧ミストプラズマによる絶縁膜製膜におけるガス流量依存性 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0114]大気圧ミストプラズマによる絶縁膜製膜における原料種依存性 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0115]新規ガスによるエッチングプロセスの開発 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0116]新規プロセスガスを用いたエッチング特性の解析 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-14-NU-0117]亜鉛電析に及ぼす電解液の流れの影響に関する研究 		F-NU-209 ダイシングソー装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0001]両面受光n型結晶Si太陽電池の電気特性に対するAg/Alペースト中のガラスフリットの影響 		F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0002]シリコン単結晶のドライエッチング速度に関する基礎検討 		F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0003]プローブ顕微鏡による表面科学計測 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0004]シリコンマイクロ構造体の破壊と疲労に関する研究 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0005]ポリビニルアルコール水溶性フィルムの構造解析 		F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0006]フォトニック・テクスチャダブル構造を利用した太陽電池開発 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0007]ラマン分光による評価技術開発 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0008]微傾斜SiC表面のステップテラス構造の観察 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0009]MEMSノズルを利用したバイオサンプルへの大気圧プラズマ照射 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0010]金属微粒子の幾何学的構造と光学物性の微視的解析 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0011]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発 		F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0012]グラフェンの走査トンネル顕微鏡観察が微傾斜SiCの表面上に成長させた 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0013]ＣＮＴナノプローブの用途開発 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0014]準静条件下で育成された高品質結晶の表面微細構造の実験的検証 		F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0015]磁性ナノワイヤ形成用電子線描画基板の作製 		F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0016]磁性ナノワイヤ形成用電子線描画基板の作製 		F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0017]磁性ナノワイヤ用基板のAFM表面凹凸観察 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0018]カンチレバー酸化によるTERS探針開発 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0019]SiC基板 エッジ面取り後の加工ダメージの測定 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0020]MEMS 犠牲層エッチングのためのプラズマレスSi ケミカルドライエッチング装置の開発 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0021]アップコンバージョン蛍光体の光学特性評価 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0022]強磁性微小細線中のバブル磁区の電流駆動に関する実験 		F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0023]ポリマーの結晶化ならびに破断現象に及ぼす溶媒浸漬・超音波照射効果の検討 		F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0024]省動力動作で高温が得られる薄膜型マイクロヒータの開発 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0025]マスクレス露光装置の限界解像度調査 		F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0026]カーボンナノウォールの物性と応用 		F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0027]深い溝の回折格子の試作 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0028]立体規則性ポリノルボルネンの結晶構造解析 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0029]PDMS結晶における連続構造変化の解明 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0030]スピン偏極キャリヤを利用する排他的論理和ゲートの作製 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0031]MoS2の結晶方位決定 		F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0032]材料評価のためのナノギャップ電極形成 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0033]結晶シリコンの電気的特性のテクスチャサイズ依存性の評価 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0034]平面基板タイプ超小型MIセンサ素子と3軸磁場計測検討 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0035]細胞培養に向けたマイクロ流路デバイスの試作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0036]低エネルギー損失振動型MEMSデバイスの試作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
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[F-14-TT-0037]PP/PE芯鞘繊維の微細構造 		F-TT-219 多目的X線回折装置
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[F-14-TT-0038]結晶基板材料のナノレベル構造解析と最適加工技術 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
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[F-14-TT-0039]PZT薄膜のサブミクロンパターン形成 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
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[F-14-TT-0040]シリコン深堀エッチング 		F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
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[F-14-TT-0041]マスクレス露光装置を用いたTEG作製 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
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[F-14-TT-0042]熱物性評価に向けたナノ半導体架橋構造の作製 		F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-210 気相フッ酸エッチング装置
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[F-14-TT-0043]リチウムイオン電池用シリコン活物質および集電体の構造調査 		F-TT-221 ラマン分光装置
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[F-14-TT-0044]単色光用光電変換素子の作製 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0045]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製 		F-TT-221 ラマン分光装置
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[F-14-TT-0046]外場を用いたフェリ磁性体の補償温度の制御 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0047]二軸延伸ポリ乳酸試料の力学、熱物性と構造との関わり解明 		F-TT-219 多目的X線回折装置
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[F-14-TT-0048]AlGaN系深紫外発光素子の作製 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0049]圧粉磁心の磁区構造解析 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
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[F-14-TT-0050]ナノファイバー状芳香族ポリアミドの相転移挙動の解明 		F-TT-219 多目的X線回折装置
F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0051]量子ドットを用いた共鳴トンネルダイオードの構築 		F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-211 ダイシング装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-14-TT-0052]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証 		F-TT-224 マスクレス露光装置
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[F-14-TT-0053]GaAs(001)基板上におけるInSb薄膜のヘテロエピタキシャル成長 		F-TT-199 分子線エピタキシー装置
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[F-14-KT-0001]固体酸化物形燃料電池コンポジット電極の微細構造解析 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0002]温度反転液晶を用いたらせん状高分子の制御 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
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[F-14-KT-0003]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-14-KT-0004]多結晶シリコンMEMS構造共振特性評価　 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
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[F-14-KT-0005]ナノポーラス金属薄膜の創製と特性評価　その２ 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-14-KT-0006]光学顕微鏡の開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-14-KT-0007]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発　その２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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[F-14-KT-0008]微小化された細胞内膜電位記録用電子回路の作成 		F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-14-KT-0009]半導体および絶縁体内部に形成したナノ構造の評価 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0010]メタマテリアルを用いたバイオセンシング 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-14-KT-0011]GRENE先進環境材料・デバイス創製スクール「フォトニックコース」実習編 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-14-KT-0012]π－π相互作用を介した共役ポリマーの凝集体形成 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-14-KT-0013]X線1分子動態計測法で用いる低ノイズ観測チャンバの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0014]シリコンナノワイヤの熱伝導率測定 		(登録なし)
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[F-14-KT-0015]微粒子の振動輸送 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
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[F-14-KT-0016]マイクロ流体デバイス中での等速電気泳動を用いた抗原抗体反応の促進 		F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-14-KT-0017]キネシンモータタンパク質固定のためのナノピラーの作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0018]単結晶薄膜ACoO3 (A=Ca,Sr)の構造評価 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-14-KT-0019]ＮｂドープＰＺＴスパッタリングターゲットによる成膜とその特性評価 		F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-14-KT-0020]ステルスダイサーを用いたSi基板のチップ化 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
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[F-14-KT-0021]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
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[F-14-KT-0022]自立薄膜形成方法の検討 		F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-14-KT-0023]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-14-KT-0024]フォノンエンジニアリングに向けたグラフェンヘテロ構造の界面制御 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0025]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0026]高分子系複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-14-KT-0027]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0028]ポリイミド膜のドライエッチング評価とそれに基づく改良検討 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0029]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発 		F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-302 ダイシング装置
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[F-14-KT-0030]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0031]薄膜ピエゾの圧電特性 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-14-KT-0032]ナノテクプラットフォーム技術支援者交流プログラム 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-14-KT-0033]Van Der Pauw法による半導体膜（炭素系）の抵抗測定 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-14-KT-0034]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御； 擬似表面プラズモンを用いた光の起動角運動量に関する光学遷移選択則の研究 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-14-KT-0035]燃料電池用触媒の開発 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-14-KT-0036]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究　その２ 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-14-KT-0037]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究　その１ 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-14-KT-0038]ポリイミド基板上の絶縁破壊の条件に関する研究 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-14-KT-0039]ポリイミド基材上での微細加工 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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[F-14-KT-0040]電子線描画装置入門コース（CUPAL） 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-14-KT-0041]感光性ポリイミドを用いた、たんぱく質結晶成長デバイスの開発 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-14-KT-0042]ナノポーラス金属薄膜の創製と特性評価 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-14-KT-0043]サブミクロンAu粒子による気密封止接合 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-297 ナノインプリント装置
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[F-14-KT-0044]半導体異種材料接合の研究 (1) 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-14-KT-0045]半導体異種材料接合の研究 (2) 		F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-257 ダイシングソー
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[F-14-KT-0046]MEMS技術を用いたマイクロ流路の作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
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[F-14-KT-0047]光電子デバイス応用へ向けた原子層材料の光学特性の解明 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-14-KT-0048]圧電MEMS用下部電極材料の開発 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-14-KT-0049]高Ｑ値シリコンフォトニック結晶ナノ共振器の高度化に向けた検討 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
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[F-14-KT-0050]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発　その２ 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-14-KT-0051]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-14-KT-0052]ダイヤモンド上への反転フォトリソグラフィー手法の確立 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-14-KT-0053]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0054]ナノ構造による光制御技術　２ 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0055]高抵抗アルミナ膜作製の基礎検討 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-289 マニュアルプローバ
F-KT-292 半導体パラメータアナライザ
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[F-14-KT-0056]結晶系太陽電池ウェハの微細表面構造創製 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0057]結晶系太陽電池ウェハの微細表面構造創製　２ 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0058]ナノ構造による光制御技術　２ 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-14-KT-0059]MEMSセンサ 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0060]MEMSセンサ　(2) 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-14-KT-0061]溶融塩電気化学プロセスで得られた炭素めっき膜の構造解析 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0062]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0063]Siウエハ独立回路への無電解めっきプロセス 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-14-KT-0064]半導体および絶縁体内部に形成したナノ構造の評価　２ 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0065]単結晶シリコンマイクロ構造高温機械特性に及ぼす構造寸法と結晶異方性の影響 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-14-KT-0066]動的解析を用いた非対称シリコン・マイクロミラーの高励振効率化に関する研究 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-14-KT-0067]GRENE事業　「強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証」　 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0068]シリコン単結晶薄膜の衝撃破壊特性に及ぼす温度の効果（その１） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-14-KT-0069]シリコン単結晶薄膜の衝撃破壊特性に及ぼす温度の効果 (その２) 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-14-KT-0070]酸化バナジウムを用いたアクティブパーフェクトアブソーバの開発 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-14-KT-0071]金属ナノ粒子粒度測定 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-14-KT-0072]溶液中のカーボン粒子分散状態とその安定性検討 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-14-KT-0073]ガラス基板の表面粗さの接合性に及ぼす影響 		F-KT-253 基板接合装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-14-KT-0074]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製 		F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-14-KT-0075]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製　（２） 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-14-KT-0076]軽金属用電気伝導率推定システムの開発 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0077]フェムト秒レーザーによるエレクトライド活性 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-14-KT-0078]金属アルミニウムの腐食を利用した水素発生装置の作製 		F-KT-231 スプレーコータ
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-14-KT-0079]自己補対メタ表面の周波数無依存応答 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0080]キャビティ付SOIウェハの作製 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0081]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製（２） 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0082]ダイヤモンド成長とデバイス応用 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
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[F-14-KT-0083]DNAオリガミ架橋構造のシリコン基板への選択的形成 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
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[F-14-KT-0084]MEMSデバイスの振動状態観察 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-285 真空プローバ
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[F-14-KT-0085]MEMSデバイスの温度特性改善 		F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
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[F-14-KT-0086]リソグラフィーを用いた微細構造形成技術の開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-14-KT-0087]真空蒸着による極薄金属膜の作製 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-14-KT-0088]単結晶シリコンのへき開によるナノギャップ形成 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-14-KT-0089]ナノ構造の試作 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0090]単結晶シリコン自立マイクロ構造のKrFエキシマレーザ局所アニールによる表面 改質および機械的信頼性向上 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0091]ナノゲル集積マテリアルの構造と物性に関する研究 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
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[F-14-KT-0092]誘電体膜のナノパターニング加工（2） 		F-KT-241 プラズマCVD装置
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[F-14-KT-0093]寸法効果を用いたサブミクロンギャップを有するSOI静電容量型 加速度センサアレ 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-14-KT-0094]アルミニウム薄膜の微細加工に関する研究 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
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[F-14-KT-0095]微粒子表面の観察 		(登録なし)
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[F-14-KT-0096]FeSi2薄膜を用いた赤外線吸収・放射特性の制御 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-274 X線回折装置
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[F-14-KT-0097]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-14-KT-0098]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-14-KT-0099]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発　２ 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-14-KT-0100]イオン液体潤滑膜のマイクロトライボロジー 		F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-14-KT-0101]レーザー集光照射によって生じた石英ガラス内部の微細構造の解析 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0102]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布の制御 		F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
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[F-14-KT-0103]ポリマ光変調器の低消費電力化 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-14-KT-0104]ポリマ光変調器の低消費電力化２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-275 分光エリプソメーター
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[F-14-KT-0105]数10nm～数100nm径Hole Array，Pillar ArrayおよびGratingの形成、その２ 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0106]数10 nm～数100 nm径Hole Array，Pillar ArrayおよびGratingの形成,その３ 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0107]非鉛圧電膜の加工技術 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0108]駆動電極可動型MEMS静電可変形状ミラーの作製 		F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-14-KT-0109]poly-Si擬2次元周期微細構造の作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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[F-14-KT-0110]自立膜を形成したウェハのレーザーダイシング検討 		F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-260 エキスパンド装置
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[F-14-KT-0111]酸化アルミナを鋳型とした微細表面構造を有するポリマー薄膜の作製 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0112]高性能圧電薄膜による高感度超音波トランスデューサの開発 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
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[F-14-KT-0113]Si構造体を用いたVOCガス吸着体 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-14-KT-0114]熱溶解積層3Dプリンタにおけるプラスチック固化過程の可視化解析用マイクロデバイスの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0115]波長以下の超微細金型加工の研究 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
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[F-14-KT-0116]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発 		F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-302 ダイシング装置
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[F-14-KT-0117]非対称シリコン・マイクロミラーの高励振効率化に関する研究 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-14-KT-0118]ガス分離ポリマー膜の開発 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
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[F-14-KT-0119]カーボンナノチューブセンサーアレー 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0120]有機ポリマー微細加工 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0121]ポリマーMEMS製作技術の開発 		F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-14-KT-0122]多孔性高分子の構造と物性 		(登録なし)
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[F-14-KT-0123]新規デバイス向けウェハ微細パターニング 		F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0124]新規デバイス向けウェハ微細パターニング　２ 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-227 紫外線露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0125]大面積超高精度電子線描画装置を用いたナノインプリント用シリコンモールドの作製 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0126]高配向メソポーラスシリカ薄膜を基板とする金属メソグレーティング構造の作製 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0127]ナノインプリントを用いた金ナノ粒子周期構造の作製 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-14-KT-0128]フォトマスクおよびナノインプリント用モールド開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
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[F-14-KT-0129]ポリマーMEMS製作技術の開発 ２ 		F-KT-298 パリレン成膜装置
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[F-14-KT-0130]薄い膜厚のコロイド結晶の形成 		F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0131]サブミクロン周期の三次元周期構造体形成 		F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-14-KT-0132]「プラズマインジケータ」の研究開発 		F-KT-299 ICP-RIE装置
F-KT-300 簡易RIE装置
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[F-14-KT-0133]「プラズマインジケータ」の研究開発　(２) 		F-KT-300 簡易RIE装置
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[F-14-KT-0134]塗布型太陽電池の薄膜構造評価 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-14-KT-0135]GRENE事業　「高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証」 		F-KT-274 X線回折装置
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[F-14-KT-0136]樹脂とカーボンの複合体作製と評価 		(登録なし)
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[F-14-KT-0137]GRENE事業　「創・省エネデバイス実習セミナー」 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-14-KT-0138]GRENE事業　「新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証」 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
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[F-14-KT-0139]ナノ粒子配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0140]ナノ粒子配列ナノ流体デバイスを用いた表面増強ラマン分光分析技術　２ 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0141]ナローバンド光吸収特性を有するプラズモニック金ナノ構造の作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0142]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0143]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0144]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発　３ 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0145]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発　２ 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0146]Si基板のドライエッチングによる大面積微細構造形成 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0147]難加工材のドライエッチング加工 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0148]リン脂質含有リポソームの生理機能と物性の相関研究 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0149]ナノ要素集合薄膜の変形剛性特性評価 No.2 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0150]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究　２ 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0151]キラルネマチック相を示す液晶性イオン液体反応場でのヘリカルPEDOTの電解重合 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0152]COI 「細胞組織化と血液検査」 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0153]COI 「細胞組織化と血液検査」 (2) 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0154]圧電駆動方式MEMS光スキャナの開発 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0155]X線1分子動態計測法で用いる低ノイズ観測チャンバの開発　２ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0156]抗原抗体反応の検出を目的とした横波型薄膜共振子センサの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0157]一本鎖DNA修飾した単層カーボンナノチューブの電気・機械特性評価 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0158]ブロックコポリマーの配向自己組織化を用いたナノリソグラフィー 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0159]ひずみゲージ集積型単結晶シリコンマイクロ構造の並列引張疲労試験 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0160]金属共振器を用いた高効率テラヘルツ磁気励起手法の開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-14-KT-0161]波長以下の超微細金型加工の研究2 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0002]単一ＤＮＡ分子検出ナノ構造の作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0003]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0004]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0005]ダイヤモンド半導体デバイスの試作 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0006]２端子確率共鳴素子の開発 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0007]グリーンリソグラフィ技術の開発 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0008]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0009]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0010]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0011]自己組織化ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創成 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0012]ポリマー微細加工技術の構築 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0013]メゾスコピック空間を利用した生体高分子の高精度分離 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0014]ナノカーボン薄膜トランジスタによるセンサー開発 		F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0015]ダイヤモンド加工（Solid Immersion Lens作製） 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0016]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0017]ナノ材料の電気伝導特性の評価および制御 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0018]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0019]バイオマイクロデバイスの開発 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0020]金属触媒によるSiエッチング技術を用いたナノホール構造の作製 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0021]ナノ材料の強度に関する研究 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0022]極微細加工材料中の放射線化学の研究 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0023]新学術領域「超高速バイオアセンブラ」 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0024]プラズモニック導波路における光伝搬特性 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0025]DNA自立ジョイントを用いたマイクロ部品組み立てに関する基礎的研究 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0026]自然災害の減災と復旧のための情報ネットワーク構築に関する研究：気象観測システム用酸化物薄膜ガスセンサーの開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0027]擬ゼロホール係数材料を用いた電流－スピン流変換機能 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0028]マイクロウエルを利用したＴ細胞分泌物質解析 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0029]ナノポアを用いた1分子•1細胞構造解析法の開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0030]Pdナノギャップ水素センサの作製 		F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0031]フォトニック結晶レーザの開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0032]電子ビームグラフト法を用いたフッ素系高分子アクチュエータの開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0033]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0034]新規ナノモールドの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0035]ナノ周期構造作製技術開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0036]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0037]１分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0038]２次元同時近接場光検出のためのホールアレイ開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0039]機能性高分子を基材として用いたナノインプリントリソグラフィー製ナノ光デバイスの開発 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0040]希土類イオンとフォトニックナノ構造の融合による発光現象の制御 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0041]金属被覆を用いたダイヤモンド加工 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0042]磁気イメージング装置の高分解能化 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0043]ボロン－リン同時ドープSiナノ結晶を使った単電子素子の試作 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0044]シリコン基板上への多孔質シリカマイクロチューブ自己集積技術の開発 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0045]生体分子分析に向けた新規グラフェンナノポアデバイスの開発 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0046]塗布型高移動度有機トランジスタの開発 		F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0047]イオンビームを用いたバイオポリマーの表面微細加工によるデバイス作成 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0048]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0049]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0050]回路の不具合確定の為の微細加工 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0051]DNA損傷計測用チップの作製と性能評価 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0052]面発光レーザー（VCSEL)の特性劣化解析 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0053]サブナノ粒子の光学応答測定のためのサブ波長周期構造シリコンデバイスの作製 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0054]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡における二次電子像特性，ダメージ/加工特性の検討 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0055]ファインケミカル生産を指向したLab on a Membraneの創成 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0056]Siナノ結晶を単電子島とした単電子素子の形成 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0057]光学式バイオセンサの研究 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0058]薄基板アルミ蒸着ミラーの作成 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0059]1分子熱電特性測定用ナノデバイスの構造評価 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0060]積層フィルムの断面観察 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0061]電子ビームを用いた空間機能制御材料の研究 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0001]金属材料との安定した接合抵抗を持つMEMSデバイスの作製 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0002]CVDによるシリコン窒化膜の作製とRIEによる微細加工 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-322 LP-CVD
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0003]超小型軽量赤外分光イメージング装置開発を目的とした薄型高反射率ミラーの作製 		F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-328 ダイシングマシン
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0004]ICP-RIEによる回折格子の作製 		F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-321 真空蒸着装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0005]液晶性半導体を用いたフレキシブルデバイスの作製と評価 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0006]金属-誘電体多層膜メタマテリアルの作製 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0007]誘電体多層膜1次元フォトニック結晶の作製 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0008]香り発生デバイス用のバイメタル型マイクロバルブの製作 		F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0010]遺伝子導入デバイスの作製 		F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-331 スプレーコーター
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0011]MEMS技術を用いた超小型師管流モニタリングセンサの研究（２） 		F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0012]ナノスケール構造体の引張試験のためのMEMSデバイス開発 		F-GA-321 真空蒸着装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0013]FPC上に搭載した超小型道管流センサ 		F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0014]MEMSデバイス製造のためのフォトリソグラフィ技術の検討 		F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0015]光導波路型デバイス 		F-GA-317 電子線描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0016]テラヘルツ帯金属ロッドメタマテリアルの作製 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-337 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0017]バイオMEMS向け厚膜レジストの開発 		F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-331 スプレーコーター
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0019]表面プラズモン共鳴センサ基板の製作 		F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0020]GaN系トランジスタ用電極の作製 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0021]反強磁性層を挿入したトンネル接合に関する研究 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0022]GaN系半導体光・電子デバイスの開発 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0023]細胞マイクロウェルの作製 		F-GA-331 スプレーコーター
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0024]パン粉のＳＥＭ画像 		F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0025]半導体微細領域の電気特性 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0027]グリースの金属新生面による分解挙動に関する潤滑性能評価のための表面形状測定 		F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0028]磁性多層膜ラインパターン素子の作製と電流駆動磁壁移動の検証 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0030]光学デバイス性能向上に向けた細線形成 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0031]高感度センサに向けた微小可動構造形成 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0032]医療用センサの可動構造形成 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0033]シリコン加工用マスクの形成 		F-GA-318 マスク描画装置
F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0034]オプトジェネティクス用細胞解析マイクロデバイスの開発 		F-GA-333 走査電子顕微鏡(LV付き)
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0035]アライメントレスフォトリソグラフィーにおける位置合わせ精度の改善 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-328 ダイシングマシン
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0036]面内高さ分布を付与した無痛剣山形マイクロ微小針の製造法の開発 		F-GA-338 デジタルマイクロスコープ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0038]シリコンナノブレードアレイの製作 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-328 ダイシングマシン
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0039]光学デバイスにむけた回転アクチュエータの形成 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0040]大変位センサに向けた表面マイクロマシニング構造形成 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0041]センサ検出回路の試作・評価 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0042]シリコン加工用マスクのマスターマスク描画 		F-GA-318 マスク描画装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-14-GA-0043]液晶性混合伝導体の薄膜化 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0001]ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための微細流路 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0002]ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための試験デバイス開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0003]新太陽電池及びその製造方法 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0004]酸化物半導体/絶縁膜界面制御に関する研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0005]ラザフォード後方散乱法を用いた低温成長InxGa1-xAsの結晶構造の作製及び解析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0006]自己整合メタルダブルゲート低温poly-SiトンネルTFTの開発 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0007]マイクロ流量制御に向けたシリンジポンプの作製及び特性解析 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0008]金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0009]積層構造に依存したグラフェンの電子構造の研究 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0010]BN多層グラフェン素子の作製と電子構造の研究 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0011]原子層膜の表面電気伝導の研究 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0012]高移動度グラフェン素子の作製と量子輸送現象の研究 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0013]BN上の多細孔グラフェン素子の量子伝導の研究 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0014]シリコンのドライエッチング速度に関する基礎検討 		F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0015]THz波デバイスの作製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0016]電子ビーム描画による単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0017]単電子トランジスタの作製および室温クーロン振動の測定 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0019]モアレ縞を用いたひずみ可視化デバイスの開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0020]石英基板上への非晶質シリコン薄膜堆積 		F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0021]超臨界蒸着により作製した金属薄膜の表面抵抗の測定 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0022]超臨界二酸化炭素を利用した微細空間内へのポリイミドの成膜・埋め込み法の開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0024]DNA/Siメモリートランジスタの基板作製・評価　(イオン注入処理によるSiアイランドの低抵抗化) 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0025]DNA/Siメモリートランジスタの基板作製・評価(EB描画を用いたDNAチャネルの微細加工) 		F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0026]DNA/Siメモリートランジスタの基板作製・評価　(DNAトランジスタ作製) 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0027]ナノ平坦表面接合技術の応用研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0028]紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si型作製） 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0029]紙を用いた医療用マイクロ分析チップの研究（Si型観測） 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0030]LPCVD法による多層膜PIN太陽電池の試作 		F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-334 LPCVD装置(poly-Si用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0031]低温成長InxGa1-xAsの成長とX線回折法を用いたその結晶性の評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0032]フィルム基材を用いたフレキシブル色素増感太陽電池デバイスを安定的に作製するための断面解析 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0033]RBSによる硫化物薄膜のストイキオメトリー評価 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0034]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（トンネル絶縁膜） 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0035]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ） 		F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0036]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（薄膜形成） 		F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0037]熱酸化SiO2と結晶シリコン界面の原子構造観察 		F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0038]アルミニウムの表面積増大法の研究 		F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0039]低温poly-SiトンネルTFTのデバイス解析に関する研究 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0040]電子ビーム描画装置による微細パターン形成 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0041]超臨界蒸着法によるCoFe2O4磁性薄膜の作製 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0042]超臨界蒸着法によるリンドープコバルト薄膜の作製 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0043]超臨界蒸着法により作製したCoFe2O4磁性薄膜の膜組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0044]ラザフォード後方散乱測定装置を用いたＤＬＣ膜の組成分析 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0045]電子ビーム描画装置によるL&Sパターンの作製 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0046]青色LED薄膜のナノ転写技術の開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0047]超臨界蒸着法によって作製されたコバルト－鉄複合薄膜の結晶構造解析 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0048]ウイルス濾過膜の濾過機構可視化のための、濾過膜断面パターンを反映したデバイス開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0049]金ナノパターンのプラズモン共鳴におよぼす配列効果の研究 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-14-RO-0050]Cat-CVD SiNx/a-Si積層膜で覆われた結晶シリコンの界面準位密度測定 		F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0001]次世代レジスト材料の開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0002]厚膜用電子レジストの合成に関する研究 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0003]新規機能性樹脂の開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0004]反強磁性層を挿入したトンネル接合に関する研究 		F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0005]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発 		F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0006]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の合成と分析化学的応用 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0007]磁性体を使ったホログラフィーによる３D画像表示の研究 		F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0008]微細構造による濡れ性制御 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0009]表面処理したアルミニウムのガス放出特性 		F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0010]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0011]金属材料の微細加工 		F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0012]種々の材料の真空分圧測定 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0013]表面処理したチタンの摺動によるガス放出特性 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0014]電解処理を用いた材料改質に関する研究 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0015]粘土鉱物-導電性高分子ハイブリッド膜の電気伝導率の評価 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0016]金属含有DLCの研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0017]省合金型二相ステンレス鋼の真空容器向け使用特性評価 		F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0018]水素吸蔵金属を用いたセラミックス－金属間の接合 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0019]めっき鋼鈑中の水素測定 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0020]昇温脱離ガス分析（TDS）を用いたカーボン粉末の発生ガス分析 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0021]高感度ネガ型電子線レジストの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0022]GaN系トランジスタ用電極の作製 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0023]スパッタ法によるYIG薄膜の成膜 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0024]多分岐ポリマー電子線レジストの描画・エッチング性能評価 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0025]感光性樹脂の研究 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0026]GaN系半導体光・電子デバイスの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0027]半導体微細領域の電気特性 		(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0028]反応性スパッタ膜の研究開発 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0030]標準コンダクタンスエレメントを用いた種々のガス分析計の感度調査に関する研究 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0031]液体による微量漏れ検出技術の確立 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-14-YA-0032]有機化合物によるエレクトロニクス素子の開発に関する技術相談 		(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0002]細胞解析用微小孔・微小電極アレイデバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0003]フォトリソグラフィーおよびリフトオフを用いたMTJ素子作製 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0004]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0005]光エネルギー変換デバイスの開発 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0006]パワーSupply on Chip用多層積層基板の開発 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0008]マイクロはんだバンプの形成 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0009]炭化ケイ素の低温合成 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0010]オンチップマイクロロボットを用いた遊泳微生物の刺激応答計測 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0011]非接触給電・通信システムで使用するMEMS傾斜角センサの開発 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0012]1 本鎖／2 本鎖DNA 複合体の部位特異的金属被覆 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0013]光モードスイッチの研究 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0014]ナノ構造Si 自立薄膜を用いた熱輸送と電子輸送現象の解明 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0015]ナノ構造化白金触媒を利用した高感度水素センサの開発 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0017]デバイス試作および試作品解析 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0018]ガンマ線検出用TES(超伝導転移端温度計)型マイクロカロリーメータの製作と性能評価 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0019]平面測定用マルチカンチレバー変位計デバイスの製作 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0020]微細構造表面の沸騰熱伝達特性 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0022]パワーデバイスの作製 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0023]リン添加酸化亜鉛薄膜の形成 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0025]電気化学計測のためのマイクロピラミッドアレイ電極の作製 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0028]ナノ・マイクロ構造面における固液気三相界面の機能制御と工学的応用 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0030]μバリスタの表面処理および表面観察 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0032]機能性伝熱面の創製 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0036]誘電泳動力を用いた細胞の分離技術の開発 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0037]溝付きシリコンウエハーの作製 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0039]沸騰熱伝達メカニズム研究用MEMS センサの製作 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0042]次世代パワーモジュールの高温・高電圧実装技術に関する研究 		F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-14-FA-0048]ワイドギャップ半導体のレーザー顕微鏡観察 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)