利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学ナノテク融合技術支援センター微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学微細加工プラットフォーム]　
[東京大学超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名	利用装置名
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0001]強誘電体膜（KNbO3）の誘電圧電特性の評価	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0002]Pd合金の水素吸蔵特性	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0003]微細構造観察のためのNiCo2O4薄膜の加工	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0004]GaNへのOイオン注入により形成したn型領域のDLTS評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0005]サムコ製ALD装置(AD-100LP)を使った成膜時のパーティクルの低減検討	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-144 原子層堆積装置〔AD-100LP〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0006]窒化ガリウムN極性面の電極コンタクト検討	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0007]界面遷移層厚の成膜手法依存性	F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0008]ダスト除去機能を有する放熱面の試作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0009]ダスト除去機能を有する放熱面の試作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0010]ナノプローバによるCu-Cuハイブリッド接合界面の電気特性の計測	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0011]偏光素子開発	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0012]YIG薄膜の成膜と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0013]窒化ガリウム縦型PN構造を用いたα粒子検出器	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0014]P-CVD TEOS-SiO2の段差被覆性	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0015]Si基板上p-GaNゲートHEMTの試作	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0016]Si基板上p-GaNゲートHEMTエピウエハのSIMS評価	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0017]光学式膜厚計によるp-GaN / AlGaN選択エッチングの評価	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0018]感光性樹脂材料のパターニング評価	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0020]半導体デバイスの特性調査	F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0021]電子線描画を用いて作製したジョセフソン接合の寸法評価	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0022]表面弾性波共振器を用いた極低温環境における水晶基板の欠陥評価	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0023]微小部蛍光X線分析装置によるCu膜の膜厚測定	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0024]高純度オゾンを用いたALD SiO2膜のI-V特性	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0025]高純度オゾンガスを用いたALDにて成膜したTiO2表面粗さ	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0026]分光エリプメータによるSi基板上SiO2膜の膜厚測定	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0027]PAMBE成長α-(AlxGa1-x)2O3薄膜の結晶構造評価	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0028]微細磁気デバイスの電気特性評価のためのサンプル作製	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0029]光触媒表面特性解析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0030]ポジトロニウム生成のための極微細キャビティ反応器の作製	F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA） F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0031]窒化シリコンスパッタ膜の成膜レート	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0032]SOGおよびSiO2膜厚の光学式膜厚計(K-MAC)による計測	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0033]新磁性素子試作	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0034]窒化シリコンスパッタ膜の成膜レート	F-AT-102 触針式段差計 F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0035]厚膜レジストを用いたパターン形成	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0036]Ta2O5膜熱処理評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0037]p-GaPとITOのコンタクト抵抗評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0038]プラズマCVD薄膜堆積装置のBHF LAL 200ウェットエッチレート	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0039]評価用素子構造の特性への影響	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0040]金属有機構造体における陽極反応の評価	F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0041]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0042]XPSによるルテニウム薄膜の分析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0043]InPへのオーミックコンタクト電極の形成	F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0044]CNT赤外線センサーの電極作製	F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0045]印刷したはんだペーストのリフロー後の表面観察	F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0046]高抵抗TEGの不良解析	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0047]WOW積層メモリ向けプローブ痕対策	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-102 触針式段差計 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0048]導電性高分子の磁場下での電気伝導度測定	F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0049]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0050]製品層内に付着した汚れ・異物の分析	F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR) F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0051]ミリングレート安定性評価	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0052]PAD法により形成した酸化物膜の電子状態の観察	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0053]ガス電子増幅用ガラス基板の開発2	F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0054]ICPドライエッチングを用いたAl電極の加工	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-127 デジタルマイクロスコープ F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0055]PECVDと蒸着を用いて成膜したSiO2の被覆性の違い	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0056]ダイシング時の保護膜の有用性	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0057]超電導量子回路に向けた高Q超電導共振器の開発	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0058]アルミ薄膜の微細加工	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0059]原子層堆積装置を用いたSnO2薄膜の形成、およびその光学特性評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0060]櫛歯型レジストパターンをマスクとしたSi基板の垂直加工	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0061]カーボン高精度パタン加工のためのSiO2-Siハードマスクの検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0062]原子層堆積法による微細加工シリコン基板上への酸化物薄膜形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0063]Si基板上のAl2O3膜の評価	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0064]スチレン系熱可塑性エラストマー超薄膜中のスチレン成分の深さ方向分布解析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0065]ナノチャネル電界効果トランジスタ構造によるPt/Ni薄膜の磁気特性制御	F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0066]共振子のウェハレベル高真空封止技術	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0067]高密度・高速応答熱電対アレイの試作	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0068]ガラス基板上の Alワイヤーグリッド偏光子の形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0069]金埋め込み電極作製に向けた高アスペクト比トレンチ内における薄膜成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0070]PEDOT：PSSの断面解析	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0071]基板上への微細Al電極作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0072]MOCVDで成膜されたAlN膜のドライエッチング	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0073]ペロブスカイト太陽電池に用いるペロブスカイト半導体結晶層の価電子帯準位とフェルミ準位の測定	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0074]原子状酸素照射高分子フィルムの FE-SEM 観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0075]原子状酸素照射高分子フィルムの SPM 観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0076]ALD技術を利用したケミカルドライエッチング評価用TEGの作製	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0077]油中での摩擦によって露出させた銅母材への潤滑添加剤の吸着と摩擦／摩耗挙動	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0078]エステル基を持つ潤滑添加剤のナノトライボロジー特性評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0079]歯冠修復材料としてPEEK材を応用するための研磨方法の評価	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0080]太陽電池中のドーパント濃度の定量分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0082]HIプラズマを用いたGe表面のXPS分析	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0083]GaNのホール移動度測定	F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0084]酸化アルミニウム薄膜の形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0085]リフトオフ加工によるシリコン基板上のプラチナ微細構造の成膜	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-127 デジタルマイクロスコープ F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0086]FinSET素子の作製	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0087]アンモニア火炎が固体壁に与える影響のモデル化	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0088]YIGエピタキシャル薄膜の成膜と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0089]磁性酸化物薄膜のイオンミリング加工	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0090]共役高分子ブレンド膜における膜組成の深さ方向評価手法の検討	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0091]回折光学素子の作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0092]ダイヤモンド上の金属積層膜の作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0093]ダイヤモンド上のAl2O3薄膜のエッチング	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0094]検証用Waferの製作	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0095]原子層堆積法を用いた金属成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0096]AlGaAs膜のドライエッチング加工	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0097]ALD膜の吸収評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0098]高圧ジェットリフトオフ装置を用いたMEMS微細加工	F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0099]大気圧プラズマによる表面改質	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0100]DLC薄膜分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0101]カーボンナノチューブバンドルの電気抵抗評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0102]i線ステッパーによる2インチウエハ上へのレジストパターン作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0103]TiO2/CaF2薄膜の表面形状観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0104]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜による多層MIMダイオードを用いたレクテナの開発及びウェットエッチングで混酸アルミがAl2O3に与える影響について	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0105]i線ステッパーによる回折光学素子のレジストパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0106]i線ステッパーによるマイクロ流体デバイスへのレジストパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0107]マスクレス露光装置によるライン＆スペースの形成	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0108]リフトオフ加工によるニオブ酸リチウム基板上の櫛形電極の成膜	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-127 デジタルマイクロスコープ F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0109]GGG結晶上へのYIG膜のスパッタ成膜	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0110]高純度オゾンを用いたALD SiO2膜の比誘電率	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-110 デバイス容量評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0111]高アスペクトトレンチSiへの高純度オゾンガスを用いたALD	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0112]SiN膜イオンミリング	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0114]XPSによる金属ステントの表面評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0115]純V水素透過膜へのPdの成膜	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0116]アルミニウムナノシリンダーアレイへの誘電体層の被覆による耐熱性の向上	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-21-AT-0119]GaN薄膜の原子層堆積	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0001]Au電極上へのSU-8パターニングの検討	F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0003]酸化ガリウムを用いた共鳴トンネルダイオードの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0004]熱処理温度による電極/n型窒化アルミニウムへの電気抵抗への影響	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0005]酸化アルミニウムのドライエッチング	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0006]α-Al2O3ホモエピタキシャル薄膜の結晶構造評価	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0007]食品添加物コハク酸のX線回折分析	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0008]XPSによるルテニウム薄膜の分析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0009]塗布型半導体カーボンナノチューブの移動度向上とICタグへの応用	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0011]Pd系アモルファス合金の構造安定性評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0012]炭化鉄ナノ粒子のキュリー点測定	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0013]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0014]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0015]基板上への微細Al電極作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0016]偏光素子開発	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0017]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0018]超電導パラメトロン素子上に配置したエアブリッジの作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0019]GaNへのドライエッチングダメージ除去手法の検討	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0020]ALD-AｌN膜中酸素の抑制検討	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0021]p型GaN-金属コンタクト特性の電極形成前表面処理条件依存性	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0022]p型GaN-金属コンタクト特性の熱処理条件依存性	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0023]硫化スズのエピタキシャル成長における成長初期過程の検討	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0024]AlGaNのCV評価におけるコンタクト抵抗の温度依存性	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0025]ガス電子増幅用ガラス基板の開発	F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0026]原子層堆積法を用いた金属成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0027]レーザーラマン分光法を用いた毛髪タンパクの構造解析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0028]フォトリソグラフィ特性評価	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0029]Y2O3を用いたGe系デバイス試作	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0030]Si基板上のTEOS-SiO2の絶縁耐圧評価	F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0031](K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成	F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0032]加工用レジスト材料の分析評価	F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0033]Si基板上の薄膜a-Siの膜厚測定	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0034]薄膜の膜厚測定	F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0035]Pt合金膜の開発	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0036]イオンミリングによる断面解析	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0037]アルミを成膜したウエハ上でのリソグラフィの合わせ検査	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦) F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0038]Ta2O5膜評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0039]磁性薄膜試料作製および特性評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0040]ドライエッチングを用いたシリコン深堀り加工	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0041]シリコン表面のパターン形成	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0042]原子層堆積装置を用いたSi基板上への酸化膜の形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0043]MIM構造試作と強誘電性の熱処理依存	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置 F-AT-141 単波長エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0044]サーモリフレクタンス測定のための金属薄膜作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0045]Si基板上のSiO2膜の膜厚評価	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0046]GaN薄膜の原子層堆積	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0047]バッファードフッ酸を用いたSiO2のウェットエッチング	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0048]サファイア基板の切削	F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0049]N面GaNにおけるオーミック接触形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-138 マニュアルウェハープローバー(2F)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0050]p-GaNのホール測定のための電極形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0051]p-GaN/AlGaN/GaN ダイオードの特性評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0052]GaN HEMTのAuフリーオーミック電極の形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0053]グラフェンをチャネルとしたFETデバイスの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0055]高精度Ptパタン加工のためのハードマスクプロセス検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0056]Mix&Match法にてEB露光した際の位置精度の評価について	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0057]ALD法を用いた微細L/Sパターンへの均一なSiO2成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0058]製品層内に付着した汚れ・異物の分析	F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR) F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0059]原子層堆積法による石英基板上への酸化物薄膜形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0060]レジストパターンのマスクでの真円性を考慮したSi基板の垂直加工	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0061]電子線蒸着法によるAu薄膜の形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0063]半導体デバイスの特性調査	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0064]高密度・高速応答熱電対アレイの試作	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0065]可視光LEDの微小発光素子形成プロセス開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0066]電子部材へのポリイミド応用	F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0067]有機半導体デバイス型バイオセンサの開発	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0068]ダスト除去機能を有する放熱面の試作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0069]IC解析	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0070]IC解析	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0072]GaAs基板への高アスペクト比のスルービアの形成	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0073]GaAs基板への高アスペクト比のスルービアの形成	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0074]無電解Niめっき上の微細構造形成	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0075]高純度オゾンを用いたALD Al2O3膜のI-V特性	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0076]高アスペクト比トレンチ溝への高純度オゾンALD Al2O3膜の被覆特性	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0077]デジタルマイクロスコープを用いたフィルムの表面状態観察	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0078]誘電体DBRリフトオフプロセスの確立	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0079]水溶性基板上のPt, Au, Ni薄膜のナノパターン形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0080]マグネタイト薄膜の結晶性評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0081]2端子セレクター素子向け導電性酸化物薄膜の成膜条件最適化	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0082]グレイスケール露光を利用したDOE用電鋳モールド作製技術の開発	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0083]窒化物半導体デバイスの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0084]クロスセクションポリッシャによるサンプル加工検討	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0085]積層DRAM向けTSVの不良解析	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯) F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0086]医療用MEMSデバイスプロセス開発	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0087]Cr/NiPめっきのビット断面観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0088]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0089]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0090]フッ素エラストマーの耐プラズマ性向上を志向したシリカフィラーの効果検証	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0091]印刷サンプルの表面分析	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0092]グラフェンバイオセンサーのiv特性測定	F-AT-138 マニュアルウェハープローバー(2F)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0093]回路基板上へのアライメントマークの作製	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0094]FIB を用いた銀蒸着テフロンフィルムへの微細構造形成	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0095]HfNナノ構造の作製	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0096]太陽電池中ドーパント濃度の定量分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0097]リフトオフプロセスによる金属パターン形成	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0098]GaN基板表面付近の深さ方向不純物分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0099]平面型グラフェン電子源の作製	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-141 単波長エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0100]PE-ALDのコンフォーマル特性調査	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0101]鉄系酸化物とマグネシウムシリケートのラマンスペクトル測定	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0102]金埋め込み電極作製に向けた高アスペクト比トレンチ内における薄膜成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0103]グラフェンを歪みセンサーとした自己検出型カンチレバーの作製	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0104]高速X線トモグラフィのための単焦点距離マルチビーム光学素子の開発	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0105]酸化物半導体ナノ粒子間界面と熱輸送制御	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0106]単結晶試料のFIBの加工表面の観測	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0107]ZnO - SiO2 - Al2O3薄膜による多層MIMダイオードの電極の形状を変化させたときの評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0108]遷移金属カルコゲナイド原子細線の電気伝導特性の測定	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0109]ダイヤモンドへの電極形成技術	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0110]ダイヤモンドへの電極形成技術	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0111]ウェハレベル高真空封止技術のためのサブミクロンホールリソグラフィ	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0112]超電導表面弾性波共振器を用いた回路量子電磁気学の研究	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0113]SBS薄膜中のスチレン成分の深さ方向分布解析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0114]コポリマーの作製及び性能評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0115]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスとマイクロ粒子の作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0116]金属酸化物の電荷捕獲特性の最適化とメモリ応用	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0117]高密度垂直深堀形状を備えた新規デバイスの開発	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0118]シリコン量子ドットデバイス作製のための電子線露光シミュレーション	F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0119]超伝導デバイスの作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0120]SiC Trench Dry Etching 評価用パターン作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0121]GaN成長を可能にするGaAs基板の処理検討	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0122]シリコン窒化膜中のトラップ評価と水素による特性変調に関する研究	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0123]真空蒸着によるAu電極膜のトレンチ埋め込みパターニング	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0124]SiNパッシベーション膜およびAu電極膜の成膜分布	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0125]エッチバックによるコンタクトホール形成プロセス開発	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0126]ナノカーボンの抵抗測定	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0127]InPへのオーミックコンタクト電極の形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0128]ナノカーボンランダムネットワーク評価用電極パターンの形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0129]熱式ALD成膜したTiO2とZrO2の膜厚評価	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0130]Mgイオン注入GaNにおける活性化アニール用保護膜の検討	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0131]SiO2、SiN極薄膜のESR測定による欠陥評価の可能性確認	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0132]分光エリプメーターによるSi基板上SiO2膜の膜厚測定	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0133]高純度オゾンを用いたALD Al2O3膜の屈折率	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0134]SPMによるPDMS基板上のナノ粒子測定	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0136]ナノインプリントを使用した樹脂へのナノピラー構造形成	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0137]プラズマ照射による溶液中凝集物の観察	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0138]プラズマを用いた物質の接着に関する研究	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0139]マグネシウムシリサイド/金属接合界面の微小領域電気伝導評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0140]ブロードエリア構造の半導体量子ドットレーザの作製	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0141]ポリマー光導波路の作製	F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0142]次世代MRAMにおける微細な加工マスクの検討	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0143]pMOSデバイスのゲート酸化物としての酸化ケイ素	F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0144]室温大気中におけるカシミール力のSiO2膜厚依存性測定	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0145]水素生成セル用アナターゼ型TiO2膜上へのRh担持	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0146]農業環境及び農作物におけるPFASsの影響評価	F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0147]微小部蛍光X線分析装置によるCu膜の膜厚測定	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0148]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0149]ダイヤモンドデバイスの開発	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0150]CNT赤外線センサーのレジストパターン作製	F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0151]特殊樹脂膜のドライエッチングによる微細パターン形状の加工	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-143 自動塗布現像装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0152]スイッチング層におけるReRAM特性の膜依存	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0153]β-Ga2O3　MOSダイオードの容量-電圧特性評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0154]トレンチパターン幅の調整	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0155]AlNスパッタ成膜	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0156]SiO2ガラスの変形挙動研究のためのマイクロピラー作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0158]ポジトロニウム生成のための極微細キャビティ反応器の作製	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA） F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0159]WS2上の酸化亜鉛薄膜の原子層堆積成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0160]Nb表面酸化層の観察	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0161]感光性樹脂の解像性評価	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0162]MOCVDで成膜されたAlN膜のドライエッチング	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0163]導電性高分子の電気抵抗測定	F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-20-AT-0164]電子ビーム露光による微細パターンの形成・電子線描画実習	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0001]ナノプローバを用いたナノ構造カーボンの電気特性評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0002]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0003]Au薄膜を用いた共振器の作成	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0004]FIBによるルテニウム薄膜の加工観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0005]FE-SEMによるルテニウム薄膜の観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0006]金属薄膜ドライエッチングによる微細構造体の形成および射出成形による微細構造体の転写	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0007]マスクレス描画による石英パタン形成	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0008]ウエットエッチングを使用したガラスの貫通孔加工	F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0009]フォトリソグラフィを用いた、薄膜材料の微細加工検証	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0010]SiO2基板上への窒化シリコン薄膜の形成	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0011]紫外光電子分光を用いたペロブスカイト多結晶層の仕事関数の決定	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0012]リフトオフプロセス用レジストパターンの作製とリフトオフ性の評価	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0013]Si基板上のSiO2膜の膜厚と組成の評価	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0014]医療用MEMSデバイスプロセス開発	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0015]医療用MEMSデバイス開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-067 i線露光装置 F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0016]医療用MEMSデバイスプロセス開発	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0017]SiC基板上に成膜したAl2O3膜の膜厚と屈折率	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0018]FeSiB磁性薄膜と各種絶縁薄膜との多層構造の作製および評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0020]Si、SiN膜に対するSiO2高選択比エッチング	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0021]Si、SiN膜に対するSiO2高選択比エッチング	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0022]プラズマCVD法によるフィルム上への酸化シリコン成膜	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0023]超伝導バンプに用いられるPb-In合金膜の表面粗さに関する研究	F-AT-107 ウェハー酸化炉 F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0024]サファイア基板上GaNへの周期エアホール構造の作製	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0025]コンタクトプラグ間の電気特性評価	F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0026]積層デバイス向けTSV用レジストの断面観察	F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0027]高純度オゾンを用いた室温CVDによるSiO2膜の絶縁性評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0028]高純度オゾンとエチレンガスを用いた室温ドライプロセスによるアッシングプロセス	F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0029]高純度オゾンを用いた室温CVDによるSiO2膜の成膜速度	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0030]高純度オゾンを用いた室温ALD Al2O3膜のトレンチ溝被覆	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0031]Al成膜ボイド確認結果	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0032]GaAs基板の深ビア加工	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0033]サブミクロン構造形成	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0034]プラズモニック・メタ表面による放射冷却素子の作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0035]原子層堆積装置を用いたSi(111)表面へのAlN膜形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0036]有機・無機ハイブリッド膜上への薄膜形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0037]レーザーラマン分光法を用いた毛髪タンパクの構造解析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0038]フォトリソ条件最適化およびFe合金のスパッタ成膜	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0039]i線露光条件によるイオンミリング加工時間の制御	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0040]GaNへのナノスケールNdイオン注入パターン形成	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0041]Auめっき膜の斜入射X線回折	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-113 メッキ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0042]金属電極パターンの加工	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0043]プラズマCVDでのTEOS- SiO₂成膜	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0044]層間膜を有しない2層電極形成	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0045]ベンジルアルコールでエステル化されたグラフェン量子ドットのXPS分析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0046]高密度・高速応答熱電対アレイの試作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0047]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の大電流化	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0048]磁気力顕微鏡法による絶縁体に埋もれた金属の検出	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0049]平面型グラフェン電子源の作製	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0050]化学的処理によるセルロースナノファイバーの形態観察	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0051]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0052]ステッパーを利用したフォトリソグラフィー工程の実験	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0053]SiO2中のCuパターンの段差測定	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0054]金属膜への他元素添加評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0055]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0056]酸化ガリウムを用いたメサ型ショットキーバリアダイオードの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0057]金属/AlN界面のショットキー障壁高さの解析	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0058]M面窒化ガリウムを用いたMOSFETの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0060]Si基板上のTEOS-SiO2膜の応力	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0061]Pt電極膜とTEOS-SiO2層の間に挿入するALD-Al2O3層の密着性に関する調査	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0062]X線光電子分光分析を用いたメタロ超分子ポリマーの解析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0063]ナノインプリント後の残渣処理	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0064]薄膜のX線反射率、回折測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0065]電子ビーム蒸着によるカーボン膜への金属コーティング	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0066]カーボン薄膜へのALD成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0067]ポリマーマイクロミラーの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0068]回路基板上へのミラーの作製	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0069]再配線形成	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0070]GaN薄膜の原子層堆積	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0071]加工用レジスト材料の分析評価	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0072]微細バンプ形成プロセスの開発	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0073]プラズマCVDによるSiN成膜時の面精度変化	F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0074]SiN膜のドライエッチングにおける反応生成物の抑制	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0075]反応性スパッタによる金属薄膜の形成	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0076]金埋め込み電極作製に向けた酸化膜・バリアメタルの成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0077]浮遊触媒CVD法によるカーボンナノチューブ成長における触媒担持層の影響	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0078]H2SまたはNO2被毒されたPd合金表面の熱処理による回復評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0079]フォトリソグラフィーによる微細金属配線作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0080]SPMによる基板上のナノ粒子測定	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0081]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜による多層MIMダイオードの開発	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0082]食品製造プロセス安定化における結晶化有無の影響	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0083]分光エリプソメータによる薄膜a-Si膜の膜厚測定	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0084]Nano/Micro構造を付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0085]シリコン太陽電池表面へのサブミクロンパターン形成	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0086]光導波路の三次元通信に必要な集光レンズの観察	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0087]Allイオン注入プロセスを用いた縦型GaNプレーナMOSFET	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0088]イオン注入により形成したGaN MOSFETのチャネル特性のMgドーズ量依存性	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0089]SiO2厚膜の成膜検討	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0090]Pt微細配線のバリ取りプロセスの検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0091]近赤外域における酸化物半導体ナノ粒子薄膜の光学制御	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0092]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0093]AO 照射高分子フィルムの FE-SEM 観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0094]感光性樹脂組成物の微細パターニング評価	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0095]MEMSのフォトリソ工程最適化	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-127 デジタルマイクロスコープ F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0096]窒化物半導体デバイスの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0098]三次元積層型集積回路に関する研究	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0099]窒化物半導体デバイスの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0100]製品層内に付着した汚れ・異物の分析	F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR) F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0103]光触媒担持フィルム作製	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0104]ナノプローバによるTSVの電気特性の計測	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0105]Ge系デバイス試作	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0106]グラフェンをチャネルとしたFETデバイスの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0107]高速X線トモグラフィのための単焦点距離マルチビーム光学素子の開発	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0108]ICPドライエッチングを用いた厚膜SiO2の加工	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0109]他社製マスクアライナとの露光解像度比較	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0110]原子層堆積法を用いた金属成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0111]フォトニック結晶型フィルタアレイのためのRIE検討	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0112]II-VI族磁性半導体(Zn,Fe)Te中の窒素濃度の定量分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0113]TiO2/AZO/Cu2O多層光電極の作製	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0114]グラフェンバイオセンサーのIV特性測定	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0115]石英ガラス上への真空紫外光を透過する高抵抗薄膜の開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0116]AR-XPSによるダイヤモンド半導体のICPエッチング表面の評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0117]電子デバイスで使用する絶縁膜検討	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0118]サーモリフレクタンス測定のための金属薄膜パターン作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-127 デジタルマイクロスコープ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0119]Niリフトオフ	F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0120]Niリフトオフ	F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0121]エッチングによるカーボン電極表面の構造化と燃料電池触媒用電極への応用	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0122]カーボンナノチューブの分散	F-AT-133 物理特性測定装置(PPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0123]蛍石上へのALDによるSiO2成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0124]Design and Fabrication of Photomask for Microneedle Pad Production	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0125]Design and Fabrication of Photomask for Microneedle Pad Production	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0126]窒化チタンナノシリンダーアレイへの誘電体層の被覆による耐熱性の向上	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0127]シリコン加工に向けたi線スッテパによるナノパターン形成	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0128]MEMSセンサの試作	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0129]ダイヤモンド半導体デバイスにおけるRu電極の形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0130]ダイヤモンドFETの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0131]基板上への微細Al電極作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0132]回折光学素子開発	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0133]ステッパ露光適用によるセンサの高精度化検証	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0134]プラズマエッチング後AlGaN/GaN表面のデバイス性能に与える影響評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0135]FIB加工装置のナノプローブを用いた金属材料片のマイクロ引張試験	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0136]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製	F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0137]高純度オゾンとエチレンガスを用いたドライプロセスによるポリエチレンフィルムの表面改質	F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0138]EB露光パターンの形成	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置 F-AT-127 デジタルマイクロスコープ F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0139]半導体デバイスの特性評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0140]AFMによるGaNテンプレート基板上エッチピットの計測	F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0141]鉄系超伝導体薄膜の微細加工	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0142]MIM構造の試作	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0143]光学素子用途の単結晶シリコン微細加工	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0144]ガラス管へのコーティング	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0145]超伝導デバイスの作製	F-AT-140 RF-DCスパッタ堆積装置(芝浦) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-107 ウェハー酸化炉
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0146]2層構成のマスクパターンによる、RIEでのSiO2厚膜の垂直加工	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0147]酸化ニッケルのエピタキシャル成長における成長初期過程の検討	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0148]LaB6光電面の成膜	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0149]プラズマエッチング後AlGaN/GaN表面のデバイス性能に与える影響評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0150]原子層堆積装置を用いたSi基板上へのAl2O3薄膜の形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0151]リフトオフに依るサブミクロン電極の形成	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0152]多層膜フィルター作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0153]アルミ金属のナノスパイク構造の作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0154]アニールによるドーパントのシリコン中の拡散評価	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0155]FIBを用いた磁性デバイス加工	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0156]石英基板製マイクロ流体デバイスでの抵抗加熱用途に向けた、TaN薄膜形成と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0158]Ga2O3-SBD開発用ALD装置利用	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0159]原子層堆積法を用いた金属成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0160]ALD法を用いた微細L/Sパターンへの均一なSiO2成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0161]超臨界流体薄膜堆積された銅薄膜を種層とした電解めっきによる高アスペクト比ビアの埋め込みの実現	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0162]マスクレス露光装置における露光量条件出し	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0163]プリンテッドエレクトロニクス用EL印刷装置開発	F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0164]トンネルトランジスタの試作・評価	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0165]基板表面上に付着した鉄粒子の形状・分布の分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0166]MIM構造作製プロセスの検討と試作	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0167]ITOのエッチングレート	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-142 高圧ジェットリフトオフ装置 F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA） F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0168]ITO薄膜のシート抵抗評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置 F-AT-132 赤外線ランプ拡散炉（RTA）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0169]細線状の遷移金属カルコゲナイドの電気伝導特性の評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0170]フッ素エラストマーに対するプラズマ耐性評価のための加速試験	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0171]Feナノ粒子の磁気測定	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0172]SrTiO3キャパシタの作製及び評価	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0173]強誘電体薄膜の電気特性評価（薄膜技術実践セミナーV）	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0175]誘電体DBRリフトオフプロセスの確立	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0179]Y安定化ジルコニア薄膜のX線反射率測定	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-19-AT-0182]電子線蒸着法によるAu薄膜の形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0001]アルミナ担持層の成膜方法がカーボンナノチューブ成長に与える影響	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0002]ガラスの貫通孔加工とその表面へのスパッタ成膜	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0003]マスクレス露光機でのパターン形成	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0004]SAM(自己組織化単分子膜: Self-Assembled Monolayer)上へのリフトオフによる電極形成	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0005]MOSデバイスの解析	F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0006]IC解析	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0007]IC解析	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0008]グラファイトに含まれる不純物の分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0009]金電極上に固定化されたProtein G’のAFM観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0010]Cuワイヤボンディング接続技術の基礎評価	F-AT-107 ウェハー酸化炉 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0011]ALD装置での成膜による欠陥レスコートの評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0012]単層カーボンナノチューブを利用した熱流スイッチング	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-116 研磨機 F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0013]XPSによるルテニウム薄膜の組成分析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0014]FE-SEMによるルテニウム薄膜の観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0015]FIBによるAl2O3ウエハーの加工と観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0016]微細パターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0017]Pd合金の膜応力評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0018]高屈折率酸化物基板からの裏面反射防止層の形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0019]紙面上の粒子の観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0020]ALD-Al2O3成膜評価結果	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0021]FeSiB磁性薄膜とAl2O3絶縁薄膜との多層構造の作製および評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0022]テラヘルツ光によるITO薄膜の研究	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0023]セラミックフィルター、ゼオライトビーズ上への酸化物薄層成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0024]金属薄膜ドライエッチングによる射出成形金型への微細構造体形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0025]二次元材料の合成とデバイス応用	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0026]保護膜生成プロセス	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0027]熱処理前後におけるプラズマALD積層絶縁膜の膜質評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0028]熱水性鉱石表面のZnおよびPbのスペシエーション	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0029]貴金属触媒を用いた湿式シリコン選択エッチングのためのレジストパターン作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0030]バイオテンプレート作成のためのフェリチン粒子塗布条件の確立	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0031]金属ナノ構造体の試作	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0032]フォトリソグラフィーによるフレキシブル基板上への金属配線作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0033]高移動度デバイスの研究	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0034]i線ステッパによるパターン作製とアライメント精度評価	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0035]薄膜導電材料の開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0036]電子線リソグラフィによる300 mmウエハ上プログラム欠陥付き微細パターンの形成	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0037]サブミクロン構造形成	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0038]金属膜への他元素添加評価	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0039]表面プラズモンポラリトン導波路アレイの評価	F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0040]デバイス応用を目指した鉄薄膜のドライエッチング	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0041]背面入射中性子反射率測定による厚膜の構造評価2	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0042]フォトレジストのサブミクロンパターニング検討	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0043]運動後タンパク質摂取ラットの骨に含まれる成分比や結晶構造の分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0044]レーザーラマン分光法を用いた毛髪ケラチンの構造解析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0045]GaNショットキーバリア特性の評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0046]プラズマCVD装置によるSiO2膜の形成	F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0047]リフトオフによるNi微細パターニング	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0048]コンタクトプラグの電気特性評価	F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0049]接合不良の生じた表面の分析	F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0050]SAW無線センサの試作	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0051]電池構成部材の分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0052]テーパー形状(K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成	F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0053](K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0054]MEMSを用いたEHDマイクロポンプの製作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0055]薄膜のX線反射率、回折測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0056]トンネルトランジスタの試作・評価	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0057]電池構成部材の分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0058]シリコンフォトニクスデバイスの開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0059]窒化シリコン薄膜上における相変化材料被膜サブミクロンポアの作製	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0060]有機/金属ハイブリッドポリマーの電子状態の測定	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0061]GaNへのPrイオン注入パターン形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0062]集束イオンビーム微細加工が層状超伝導体NbSe2劈開膜の超伝導特性に与える影響の評価	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0063]サブミクロンレベルのパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0064]サブミクロンレベルのパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0065]i線露光によるサブミクロンパターンの形成	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0066]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の高効率化	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0067]SEMへの搭載に向けたグラフェン平面電子源の評価	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0068]ナノインプリント後の残渣処理	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0069]ナノインプリント後の残渣処理	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0070]高純度オゾンを用いた室温CVD-SiO2の曲げ試験前後の表面観察	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0071]高純度オゾンを用いた室温CVD-SiO2の膜厚測定	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0072]カーボン薄膜へのALD成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0073]電子ビーム蒸着によるカーボン膜への金属コーティング	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0074]人工ピットを用いた局部腐食評価の精密化	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0075]窒化アルミニウムのドライエッチング条件の最適化	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0076]n型窒化アルミニウムガリウムの接触抵抗低減	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0077]酸化物半導体へのパッシベーション膜形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0078]Si基板上へのALD-Al2O3の成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0079]GaNの選択成長による高品質化	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0080]感光性ポリイミドの光学特性評価	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0081]45°ミラーを集積したポリマー光導波路	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0082]回路基板上へのアライメントマークの作製	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0083]ポリマー光導波路における3次元構造の作製	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0084]原子層堆積法による窒化チタンナノシリンダーアレイへの耐熱性誘電体被覆と熱酸化抑制	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0085]CNTバンドルの電気抵抗測定	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0086]CNTバンドルの電気抵抗測定	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0087]II-VI族半導体に添加した遷移元素の微量分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0088]グラファイト薄膜のSTM/AFM 評価用断面の作製、および評価	F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯) F-AT-116 研磨機
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0089]GaNエピ基板上へのナノドット加工の検討	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0090]電子ビームリソグラフィを用いた、薄膜材料の微細加工検証	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0091]レーザ加工装置を用いた金属蒸着用メタルマスクの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0092]AR-XPSによるダイヤモンド半導体表面のsoft-ICPエッチングダメージの評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0093]Siナノピラー加工用レジストドットパターンの形成	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-107 ウェハー酸化炉
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0094]Niリフトオフ	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0095]マスクレス露光装置による周期微細構造の作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0096]SiN膜の密着性改善	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0097]原子層堆積装置による絶縁性ガラス細管への窒化チタン(TiN)成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0098]Cuパターンの段差測定	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0099]GaAs基板の深ビア加工	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0100]機械的解繊によるセルロースナノファイバーの形態観察	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0101]原子層体積TiNを用いた超臨界流体によるCu薄膜の均一成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0102]ポリカーボネートフィルムへのレーザー加工	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0103]Nano/Micro機能付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-102 触針式段差計 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0104]エッチングによるカーボン電極表面の構造化と燃料電池触媒用電極への応用	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0105]Si基板上のSiO2膜の膜厚評価	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0106]Ge系ゲートスタックの作製と評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0107]紫外光電子分光を用いた酸化チタンの仕事関数の解析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0108]プラズマ処理した化合物半導体表面の観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0109]窒化物半導体デバイスの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0110]窒化物半導体デバイスの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0111]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0112]Geデバイスの発熱による性能への影響を考慮したデバイス構造の研究	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0113]カルゴゲナイド超格子の中赤外領域における透過率・反射率測定	F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0114]ポリマー光導波路の研究開発	F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0115]SPMによる基板上のナノ粒子測定	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0116]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製	F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0117]プラズモニックCuアレイ構造上の表面組成解析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0118]金埋め込み電極作製に向けた酸化膜・バリアメタルの成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0119]粉体CVD成膜装置で成膜したDLC膜のRaman分光分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0120]Design and Fabrication of Microneedle Pad	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0121]Design and Fabrication of Microneedle Pad	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0122]半導体デバイスの特性評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0123]シリコン太陽電池表面へのサブミクロンパターン形成	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0124]金ナノ粒子埋め込みカーボン薄膜への選択的金メッキ法の開発およびSe(IV)の電気化学検出への応用	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0125]ガラス基板加工の研究	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0126]赤外ナノオプティクス材料の創生	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0127]ALDによって成膜したHfO2膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0128]分光エリプソメータによる薄膜a-Si膜の膜厚測定	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0129]有機・無機ハイブリッド膜上への薄膜形成	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0130]原子層堆積装置を用いたメタル薄膜および膜中の微量不純物の解析	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0131]RBaFe4O7 (R = Ho, Tm)のMPMS測定	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0132]原子層堆積による極薄金属層を用いた低熱伝導率バルクスケールナノ構造材料の作製	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0133]高速X線トモグラフィのためのマルチビーム光学素子の開発	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0134]ステッパーを利用したフォトリソグラフィー工程の実験	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0135]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0136]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜の形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0137]MEMSのフォトリソ工程最適化	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0138]高密度・高速応答熱電対アレイの試作	F-AT-113 メッキ装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0139]ナノ細孔チップを使ったFIB加工装置によるTEM薄片試料の作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0140]センサ表面への機能膜の成膜およびパターニング	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0141]抵抗変化型メモリを用いたアナログメモリ素子の試作	F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0142]単原子層MoSe2/WSe2面内ヘテロデバイスの作製と測定	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0143]ALDによるAl基材上への金属酸化物の形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0144]MEMSを用いたEHDマイクロポンプの製作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0145]コラーゲンのAFM観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0146]SiC膜中の異物評価のための断面観察試料作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0147]電子デバイスで使用する絶縁膜検討	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0148]医療用MEMSデバイス開発	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0149]ガラス基板への金属電極の形成	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0150]LED半導体チップのボンディング状態の観察	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0151]M面窒化ガリウムを用いたMOSFETの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0152]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0153]i線露光によるサブミクロンホールのパターン作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0154]液相堆積法による金属酸化膜堆積	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0155]金属酸化物薄膜の形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0156]鉄系超伝導体薄膜の微細加工	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0157]原子状酸素照射ポリエチレンフィルムの FE-SEM 観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0158]HSQマスクを用いたhp30～12 nmLSのSiエッチング加工	F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス) F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0159]金属電極パターンの加工	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0160]薄膜実践セミナー受講報告	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0161]SrTiO3の成膜および分析評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-18-AT-0162]SrTiO3薄膜の成膜温度依存性	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0001]X線、中性子反射率評価用の試料の作製と評価	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0002]有機ポラリトン用キャビティの製作	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0003]電子ビーム露光におけるドーズ / フォーカスマージン評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0004]TMAHエッチングによるピラミッド状の凸パターン形成	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0005]TSVの異常部の断面観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0006]プラズマCVD装置によるTEOS-SiO2膜の評価	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0007]半導体材料の表面状態変化の測定及び評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0008]半導体材料の表面状態変化の測定及び評価	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0009]背面入射中性子反射率測定による厚膜の構造評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0010]ALD法による成膜実験	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0011]微細パターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0012]新規有機エレクトロニクス材料の開発	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0013]スパッタカーボン薄膜電極の表面修飾による機能化	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0014]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0015]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0016]D-SIMSによるイリジウムめっき膜中のニッケルの定量分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0017]液晶シリコンフォトニクスに関する研究	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0018]半導体材料の評価	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0019]サブミクロンホールパターン形成	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0020]蛍光X線によるTa-Al-O薄膜の組成評価	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0021]ルテニウム薄膜のXRD測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0022]多層薄膜評価用デバイス作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0023]磁性薄膜試料作製および特性評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0024]次世代LSI向け成膜評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0025]減圧環境下における微小液滴の加熱面衝突時局所熱伝達特性に関する研究	F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-113 メッキ装置 F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0026]血液から血球と血漿とを分離するマイクロ流路チップの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0027]IC 解析	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0028]IC解析	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0029]p-GaNエピ基板上における横型MOSFETデバイス作製	F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0030]ショットキーバリアダイオードによるn-GaNエピ層の評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0031]GaNを用いたpnダイオードの作製	F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0032]タングステン薄膜の形成	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-107 ウェハー酸化炉
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0033]グラフェン上脂質のAFM観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0034]光学多層膜の物性解析	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0035]無電解ニッケルめっきを使用したガラス上へのメタライズ	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0036]SEMへの搭載に向けたグラフェン平面電子源の評価	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0037]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の高効率化	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0038]ポリマー光導波路に関する検討	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0039]ポリマー光導波路用光学ミラーに関する検討	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0040]光エレクトロニクス実装技術開発	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0041]薄膜導電材料の開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0042]ガスセンサの開発	F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0043]高移動度デバイスの研究	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0044]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0045]二次元材料の合成とデバイス応用	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0046]透明導電膜の塗布	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0047]金属ナノ構造体の試作	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) F-AT-134 電界放出形走査電子顕微鏡(S4500/FE-SEM) F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0048]ALD-Al2O3成膜におけるステップカバレッジ評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0049]超伝導薄膜の性能向上に関する研究	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0050]保護膜生成プロセス	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0051]Al スパッタ	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0052]TEOS膜による基板保護膜プロセス	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0053]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0054]ITOスパッタ成膜による透明電極構造の研究	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0055]超伝導光検出器の開発	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0056]ルテニウム薄膜の成膜と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0057]新しいex vivo微小血管モデルにおける白血球活性化の指標の検討	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0058]シリコンフォトニクスデバイスの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0059]金属ナノ粒子アレイへの誘電体層コーティング	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0060]微細配線の露光・現像	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0061]GaN基板表面付近の成分分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0062]半導体ダイヤモンドの結晶評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0063]Pd合金ターゲットによるスパッタ条件の最適化	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0064]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-130 四探針プローブ抵抗測定装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0065]FE-SEMによる薄膜の断面観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0066]SOIデバイスの放射線耐性低下に関する研究	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0067]HfO2薄膜の形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0068]ITOスパッタ成膜の境界電場イメージングの研究	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0069]テーパー形状(K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0070]プルシアンブルーを使用したデバイスの評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0071]ネオジム磁石：焼結合金の構造観察	F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0072]近赤外熱線遮断技術の高機能化	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0073]誘電体多層膜干渉フィルターの断面観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0074]プラズマALD装置での成膜による光学薄膜の特性調査	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0075]単層カーボンナノチューブ成長用基板への白金電極成膜	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-116 研磨機
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0076]プラズマCVDによるSiO2膜の成膜	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0077]薄膜のX線反射率、回折測定	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0078]熱水性鉱石表面のZnおよびPbのスペシエーション	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0079]層状超伝導体薄膜のFIBによる微細加工	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0080]赤外干渉フィルタ搭載イメージセンサ	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0081]耐疲労試験後における試験片の表面観察	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0082]Geデバイスの発熱による性能への影響を考慮したデバイス構造の研究	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0083]局所加熱技術の実証	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0084]センサ基板表面の有機物剥離	F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0085]NiO半導体膜の堆積	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0086]有機薄膜の膜厚測定	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0087]ガラス基板上におけるIV族半導体の金属触媒誘起成長	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0088]カーボン基板エッチングによる燃料電池用電極触媒への応用	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0089]金属薄膜ドライエッチングによる微細構造体の生成	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0090]ナノインプリント用モールドの作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0091]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0092]層状半導体ゲルマナンを使ったトランジスタ開発	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0093]層状半導体ゲルマナンを使ったトランジスタ開発	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0094]ポリマー薄膜の膜厚測定	F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0095]レジストAR-87でのステップ露光確認	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0096]新規高速光パターンフローサイトメトリー開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0097]ゲート絶縁膜導入によるプラズモニックTHzディテクタの検出感度向上	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0098]ナノカーボンを用いた電子デバイスの作製と観察	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0099]ダイヤモンド表面の原子間力顕微鏡による観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0100]有機/金属ハイブリッドポリマーの磁気特性の測定	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0101]i線ステッパによるパターン作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0102]GaAs基板の裏面エッチング	F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0103]GaNのガスエッチングレート調査	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0104]EUV光源のための赤外線遮断フィルタの作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0105]SAW無線センサの試作	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0106]骨に含まれる成分比や結晶構造の分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0107]CNTバンドルの電気抵抗測定	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0108]炭素材料薄膜の微細構造観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0109]誘電体膜成膜	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0110]SiO2薄膜の形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0111]無電解Niめっき上の微細構造生成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0112]電子デバイス配線のエレクトロマイグレーション評価用の金属薄膜成膜	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0113]エレクトロマイグレーション評価模擬構造加工用ホトマスク作製	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0114]局部腐食評価技術の研究	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0115]バイオトランジスタ試作	F-AT-107 ウェハー酸化炉 F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0116]紙キャリア台紙に対するポケット成形性の評価	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0117]Cuワイヤボンディング接続技術の基礎評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-107 ウェハー酸化炉 F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0118]高出力半導体レーザの開発	F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0119]ナノインプリント後の残渣処理	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0120]ナノインプリント後の残渣処理	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0121]高容量キャパシターの開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0122]カーボンナノチューブの分散	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0123]GaNへの希土類イオン注入パターン形成	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0124]原子層堆積法を用いた金属成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0125]貴金属触媒を用いた湿式シリコン選択エッチングのためのレジストパターン作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0126]ガスバリア性向上のための新規プラスチックフィルムへの被膜材料およびその成膜方法の検討	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0127]e-STJ用フリップチップ接続に関する研究	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0128]フォトリソ・ステッパー等の利用に関して	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0129]Design and Fabrication of Microneedle Pad	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0130]Nano/Micro機能付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0131]塗膜外観不良フィルムの表面観察	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0132]窒化シリコン薄膜上における相変化材料被膜サブミクロンポアの作製	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0133]FIBによるHfO2ウエハーの加工と観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0134]FIBによるウエハーの加工と観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0135]原子層堆積法により成膜した酸化アルミニウム薄膜の表面粗さ評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0136] IV-VI族半導体中の微量分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0137]ダイヤモンド半導体素子の開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0138]鉄基材料の放射線誘起表面活性効果による濡れ性改善に関する研究	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0139]ポリイミド付のSi基板、CNT基板の研磨	F-AT-116 研磨機
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0140]マスクレス露光装置を用いた試作	F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0141]電池構成部材の分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0142]新規光学デバイスの原理確認	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0143]ALD成膜による極薄積層膜の膜特性及び界面評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0144]フォトレジストのサブミクロンパターニング検討	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0145]3次元透明物体の作製	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0146]スパッタリングによるPd/Ti成膜及びフォトリソグラフィー	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0147]半導体全固体電池の容量改善検討	F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0148]原子層堆積装置を用いた薄膜形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0149]酸化膜の成膜条件と表面物性への影響調査	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0150]紙面上の粒子の観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0151]エッチング実践セミナー　実習コース	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0152]エッチング実習セミナー	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-17-AT-0153]薄膜実践セミナー実習 / STO膜成膜評価	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0001]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0002]局在表面プラズモンの応用実験	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0003]電界放出源の高出力化の研究	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0004]スパッタ成膜プロセスの面内膜厚分布評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0005]AuのCMP研磨	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0006]電子デバイス用金電極の作製と評価	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0007]追加エッチング加工のためのレジストパターンの作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0008]TMAHウエットエッチングによるシリコン窒化膜メンブレンの作製	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0009]微細配線の露光・現像	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0010]グラフェン薄片の導電率測定	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0011]高アスペクトCu配線形成	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0012]光学多層膜の物性解析	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-102 触針式段差計 F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0013]シリコン微細構造光学素子	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0014]グラフェン形成評価	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0015]プラズマCVDを用いたグラフェン合成におけるガス残渣の影響	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0016]ルテニウム薄膜のFE-SEM観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0017]微粒子の顕微ラマン分光分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0018]微細グラフェン配線の研究開発 (微細構造試作)	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0019]中性粒子ビームエッチング技術を用いた量子ドット太陽電池の開発	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0020]AlOx薄膜の表面粗さの評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0021]シリコン酸化膜の AFM による評価	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0022]マイクロチャンネルの作製とメンブレンの取り付け	F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0023]電子線描画を用いた微細電極の作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0024]プラズモニックデバイスの作製プロセスの検討	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0025]金属ナノ構造体の試作	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0026]ゲルマニウム基板へのPイオン注入	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0027]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0028]シリコンフォトニクスデバイスの開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0029]液晶シリコンフォトニクスに関する研究	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0030]量子回路の開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0031]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0032]光導波路基板上ミラー構造用の金属薄膜の作製と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0033]光エレクトロニクス実装技術開発	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-105 スクライバー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0034]微細パターンの作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0035]ダイヤモンド半導体デバイスの研究開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0036]超伝導光検出器の開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0037]真空蒸着を用いた電極の作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0038]デバイスの欠陥解析	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0039]二次元材料の合成とデバイス応用	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0040]中性粒子ビームエッチング技術を用いた熱電変換素子開発	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0041]超低抵抗ナノカーボン配線の開発	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0042]薄膜の分析	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0043]カーボンナノチューブのSEM観察およびEDX分析	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0044]ナノパーティクルの観察	F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0045]ペンタセンを用いたFET素子の作製と評価	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0046]新規有機エレクトロニクス材料の開発	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0047]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0048]金属ナノ構造体の試作	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0049]ITOスパッタ成膜による透明電極構造の研究	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡 F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0050]有機超薄膜を用いたバイオ・分子素子基板の開発	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0051]CNT複合材料の評価	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0052]Si基板上へのPCVDによるSiO2膜の成膜	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM） F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0053]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0054]GaN基板を用いたデバイス作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0055]GaN基板を用いたデバイス作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0056]シリコン酸化膜のミリングレートの検討	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0057]ミリングしたシリコン酸化膜の非接触計測の検討	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0058]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0059]ミニマルファブ技術の研究開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0060]ハーフインチウェハ端部の形状観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0061]ミニマルファブ装置の開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0062]カーボンナノチューブのAFM観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0063]多層薄膜評価用デバイス作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM） F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0064]ハーフインチウエハ対応深堀エッチングの評価	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0065]ポリマーゲート絶縁層の開発	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0066]3 μm厚レジストのサブミクロンパターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0067]近赤外表面プラズモン波の高性能化	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0068]ポリマー光導波路の断面加工	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0069]ダイヤモンド半導体素子の開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0070]高容量キャパシターの開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0072]樹脂複合材料の組成分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0073]ip5700のステップ露光確認	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0075]原子層堆積装置を用いた半導体表面への薄膜形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0076]ポリマー光導波路コアの観察	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0077]トランジスタ試作	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0078]潤滑性試験前後の試験片の表面粗さの測定	F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0079]耐疲労試験前後の金属試験片の表面形状測定	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0080]FIB加工微小試験片によるセラミックス材料の機械的特性評価	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0081]多結晶III-V族化合物半導体デバイスの開発	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0082]イオンミリングによるMoxFe3-xO4薄膜のホールバー加工	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0083]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0084]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0085]カカオマスのファットブルームの微小構造の観察	F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0086]微細パターニング	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0087]炭素材料薄膜の微細構造観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0088]減圧環境下における微小液滴の加熱面衝突時局所熱伝達特性に関する研究	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0089]新規高速蛍光イメージング開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0090]高感度バイオセンサーの実用化に向けた簡易操作型光センシング技術の開発	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0091]半導体材料の表面状態変化の測定及び評価	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0092]メタル薄膜の微細パターンへの埋込みプロセス	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0093]カーボンペースト表面の観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0094]シリコン基板の表面粗さ測定	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0095]シリコン貫通ビアの湿式エッチング加工	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0096]4,6インチ基板のi線露光	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0097]酸化マグネシウムを触媒担持層としたカーボンナノチューブフォレスト成長	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0098]Ptオーミック接合の形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0099]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0100]高精度微小電流測定に向けた単一電子素子の開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0101]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0102]レーザーパターン集光型回折光学素子の試作と評価	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0103]絶縁体上金属膜の熱処理挙動の研究	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0104]疎水化ゼラチンとシリコンナノワイヤーを利用した生体組織接着性表面の設計	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0105]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2)	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0106]スパッタナノカーボン薄膜電極の表面修飾によるによる機能化	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0107]磁性体および絶縁体の薄膜試料作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0108]透過型マスクの作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0109]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0110]薄膜状のマイクロナノスケール構造体による動作検証	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0111]SiC上ナノカーボンの電気伝導	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0112]ポリマー光導波路作製方法の検討	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0113]有機ポラリトン用キャビティの製作	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0114]超低抵抗ナノカーボン配線の開発	F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0115]液相堆積法による誘電体薄膜の生成	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0116]SiC-MOSFET中の単一光子源の観察	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0117]細胞培養用ナノファイバーの開発	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0118]デンドリマー挙動解析DMEM溶液中SPM観察	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0120]透明酸化物表面にフェムト秒レーザーアブレーションにより形成されたナノホールの観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0122]GaN基板表面付近の成分分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0124]保護膜生成プロセス	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0125]半導体材料の評価	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0126]亜鉛系はんだの表層構造解明	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0127]亜鉛系はんだ表面のフラットミリング	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0128]サブミクロン構造形成	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0129]シリコン基板への回折光学素子の試作と評価	F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0130]MacEtch法による貫通孔形成の検討	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0131]血液から血球と血漿とを分離するマイクロ流路チップの開発	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0132]蒸着プロセス	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0133]Development of thermoelectric device based on hybrid material	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0134]ALD法による成膜実験	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0135]インプリントモールドの作製	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0137]カーボンナノチューブ成長における触媒担持層の微細構造評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0138]ジルコニアセラミックスのレーザープロセス	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0139]Alバンプ状への金属コーティング	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0140]超短パルスレーザーにより微細加工したセラミック表面の観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0141]薄膜実践セミナー実習、スパッタリング成膜技術及び薄膜評価技術の習得	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-16-AT-0142]薄膜実践セミナー STO成膜実験	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0001]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ2,3）	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-067 i線露光装置 F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0002]干渉露光で作製したパターンの評価	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0003]磁気特性測定システム (MPMS) を用いたホール効果測定	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0004]Micro-holes and metal marks for EB lithography	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-102 触針式段差計 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0005]半導体材料の評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0006]薄膜の分析	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0007]絶縁層上シリコン(SOI)基板の反応性イオンエッチングによるトレンチ形成	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0008]原子層堆積装置による成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0009]電極構造の作製(4)	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0010]紡糸したカーボンナノチューブの断面形状観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0012]自己検知型AFMカンチレバーの金属コート	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0013]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用	F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0014]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0015]カルコゲナイド超格子薄膜のプロセス開発	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0016]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0017]微細パターンの作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0018]微粒子の顕微ラマン分光分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0019]極薄ガラス基板への高精度フォトリソグラフィー	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0020]金属酸化物の研究 2	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0021]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ1）	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0022]電子線用光学素子の開発	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0023]イオンミリングによる、側壁デポの除去	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0024]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-102 触針式段差計 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0025]矩形ガラス管へのITO膜スパッタリング	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0026]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0027]二次元材料のデバイス応用	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0028]有機超薄膜を用いたバイオ・分子素子基板の開発	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0029]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0030]シリコンカーバイドパワー半導体デバイスの研究	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0031]インプリントモールド作製	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0032]薄膜の分析	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0033]グラフェン薄片の導電率測定	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0034]真空蒸着を用いた電極の作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0035]ストライプ状グラフェン形成	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0036]近赤外酸化物表面プラズモン励起構造の作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0037]4インチサファイヤ基板のステッパー露光	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0038]超伝導転移端センサの試作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-067 i線露光装置 F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0039]立体マイクロ光学素子の集積化技術	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM） F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0040]FIB加工微小試験片によるセラミックス材料の機械的特性評価	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0041]薄膜の膜厚・結晶性等の評価	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0042]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0043]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0044]Au膜のエッチング方法	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0045]アルミナ基板へのチタニア膜形成	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0046]固体型色素増感太陽電池の作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0047]冷陰極アレイデバイスの開発	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0048]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0049]ハイブリッド対向スパッタによるリフトオフプロセスITO成膜	F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0050]液晶シリコンフォトニクスに関する研究	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0051]ミニマルファブ装置の開発	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0052]GaN基板を用いたデバイス作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-102 触針式段差計 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0053]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0054]低温成長グラフェン用金属触媒層の形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0055]ミニマルファブ技術に関する研究開発	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0056]酸化物ドット集積構造の原子制御	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0057]ピエゾ抵抗型ひずみセンサ開発	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0058]CNT/SOG基板の研磨及び観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0059]炭素薄膜の開発について	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0060]高品質ScAlN薄膜の実現	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0061]フェロセン導入分子インプリント電極の表面元素分析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0062]窒化物系光導波路の加工技術	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0063]GaN基板のキャリア濃度の測定	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0064]高アスペクトCu配線形成	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-067 i線露光装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0065]マイクロチャンネルの作製とメンブレンの取り付け	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-102 触針式段差計 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0066]原子層堆積装置を用いたTiNゲート電極の成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0067]インプリントモールドの作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0068]エネルギー関連材料	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0069]SiO2基板上に分散させたSWCNTバンドルの電気抵抗特性の評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0070]グラフェンの電気特性評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0071]カーボンナノチューブ分散	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0072]トランジスタ試作	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0073]金属ナノ構造体の試作	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0074]ECRスパッタによるAlN膜の耐圧評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0075]ポリイミド塗布Siチップ表面の精密研磨	F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0076]ドライエッチングによるSiO2加工形状制御	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0077]レーザー表面修飾を行ったセラミックの機械強度試験後の表面観察	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0078]レーザーにより微細加工したセラミック表面の観察	F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0079]すずはんだ材料の有機樹脂中拡散特性	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0080]新しいex vivo微小血管モデルにおける白血球活性化の指標の検討	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0081]中性粒子用STJ検出器用NbN膜の成膜温度依存性	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0082]顕微ラマン分光法によるシリコンの応力評価	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0083]超伝導ナノデバイス応用に向けた単結晶YBCO薄膜の作製と評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0084]深堀構造を持ったSi基板への金属蒸着	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0085]ルテニウム薄膜のX線反射率測定	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0086]炭素系材料の構造評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0087]生物試料微細加工の最適条件検討および加工断面の微細構造の観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0088]微生物培養マイクロアレイ	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0089]自己検知型AFMカンチレバーのFIB-SEMによる断面観察	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0090](K,Na)NbO3薄膜上へのP-CVDによるSiO2薄膜形成	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0091]ナノインプリントとALD法によるSub-20nmナノ造形	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0092]シリコン貫通ビアの湿式エッチング加工	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0093]Au-Ge代替ダイアタッチ技術の構築	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0094]多層薄膜評価用デバイス作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0095]SiC上グラフェンの電気特性評価	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0096]Bi1-xSbx薄膜構造・組成解析	F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0097](Fe,Co)SiのFIB加工	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0098]Ga-FIBを用いた有機膜の断面観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0099]シリコンへのイオン注入によるオーミック電極形成	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0101]超低抵抗ナノカーボン配線の開発	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0102]ポリマー積層体の断面分析	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0103]樹脂材料加工表面の平滑化	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0104]カーボンナノチューブ観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0105]高アスペクトCu配線形成（Arミリングによるシード層除去）	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0106]GaN基板を用いたデバイス作製	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0107]ポリイミド付Si基板の研磨	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0108]ゲルマニウム基板へのPイオン注入	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0109]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3）	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0110]エピタキシャル薄膜の結晶方位分布測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0111]電極構造の作製(４)	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0112]トポロジカル絶縁体メモリの試作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0113]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0114]カーボンナノチューブ複合材料の評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0115]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0116]微細流路をもつ伝熱実験のテストベンチの製作	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0117]PLD法による酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0118]プラズモニック量子回路の作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0119]ナノプローブによる微細幅グラフェン配線の抵抗測定	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0120]グラフェンの電気特性評価	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0121]CNTの磁化特性の分散処理による影響	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0122]Ru-Mn二元金属薄膜のXPS測定	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0123]電子線描画を用いたレジストパターニング	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0124]生体分子の観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0125]すずはんだ添加元素の有機樹脂中拡散特性	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0126]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ7）	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-102 触針式段差計 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0127]厚い電極形成に向けた厚膜レジストを用いたパターニング	F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0128]超低抵抗ナノカーボン配線の開発	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0129]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3）	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0130]3d遷移金属添加Ⅲ族窒化物の基礎物性研究	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0131]グラフェンへのひずみの印加と電気伝導測定	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0132]デバイスの欠陥解析	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0133]シリコンウェーハ中のホウ素の定量分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0134]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価PJ003	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0135]InSb系チャネル材料の研究	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0136]水素センサーの断面観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0137]薄膜実践セミナー　実習コース	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0138]中性粒子用STJ検出器用NbN膜の超伝導転移温度の膜厚依存性	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0139]Nanopore Patterning using Electron Beam Lithography	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0140]Nanopore fabrication	F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0141]中性粒子ビームを用いたエッチング技術開発	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-15-AT-0142]厚膜レジストにおけるハードベーク条件及び確認方法の検討	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-102 触針式段差計 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0001]Ge系チャネル材料の研究	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-067 i線露光装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0002]ラマン測定によるカーボンのキャラクタリゼーション	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0003]触媒作用を有する電極の開発と生体分子検出への応用	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0004]Al上TiN薄膜除去について	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0005]電流標準実現に向けた単電子素子の作製	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0006]電流標準実現に向けた並列化単電子素子の作製	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0007]新規磁石材料の磁気特性評価	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0008]カーボンナノチューブ観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0009]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0010]シリコン微細加工チップを利用した血液流動性の研究	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0011]Alワイヤーの粒径観察	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0012]ナノイオニクス材料の分析	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0013]ミニマルファブ技術開発における分析及び評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0014]Fe/Si 2層膜の作製と評価 (2)	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0015]イオン注入技術を応用した3次元光導波路の作製	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0016]3d遷移金属添加Ⅲ族窒化物のバンド構造解明	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0017]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0018]バブル型ナノロボットを利用したバイオセンシングシステムの構築	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0019]誘電体多層膜ミラーの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0020]自己検知型カンチレバー	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0021]GaN基板の窒素抜け	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0022]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0023]Curie温度向上に向けたチタン酸バリウムへのメソ細孔導入	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0024]アルミニウム・窒素コドーピング技術を用いた昇華法によるp型4H-SiC成長	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0025]XRDによるエピタキシャル膜の面内方位分布測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0026]グラフェン試料加工・評価	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0027]金属アルミ成膜	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0028]電子線用光学素子の開発	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-102 触針式段差計 F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0029]FIB断面解析利用による解析技術力向上	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0030]エレクトレット膜の荷電寿命評価	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0031]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0032]半導体の新規ICチップ開発に伴う、FIB断面調査	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0033]顕微レーザーラマン分光装置を用いた、微少有機化合物の分析方法の確立	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0034]透明薄膜の膜厚測定	F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0035]電極構造の作製	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0036]顕微ラマン分光法によるシリコン半導体の応力評価	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0037]均一組成シリコンゲルマニウム合金製造	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0038]金属酸化物薄膜の研究	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0039]生体分子の電気化学検出のためのナノカーボン電極の開発	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0040]液面計素材の検討	F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0041]固相線温度を制御可能な金系はんだの高信頼化方法	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0042]単層カーボンナノチューブ複合材料の評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0043]PLD法で作製した酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0044]近接二重層超伝導素子の開発に向けたマスクレス露光装置の露光量条件だし	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-091 マスクレス露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0045]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0046]微粒子の顕微ラマン分光分析	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0047]単原子膜ヘテロ接合における機能性一次元界面のエレクトロニクス応用	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0048]ゲルマニウム基板上へのSiO2成膜	F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0049]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価PJ001	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0050]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ2）	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0051]ゲルマニウム膜の形成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0052]配線付き光デバイスの電極パッド形成	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0053]ALD法によるsub-20 nm径のナノインプリントモールドの作製	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0054]ケミカルループ法における高活性粒子開発	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0055]グラフェンナノディスクの定量的形状評価手法の確立	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0056]EB描画装置校正用マーク作製	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0057]マイクロ加工の基準	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM） F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0058]微細パターンの作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0059]シリコン薄膜の結晶性評価	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0060]異なる温度で形成したGe-Te合金/Sb-Te合金積層薄膜のXRD観察	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0061]相変化デバイスにおけるICP処理の効果の検討	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0062]半導体レーザ端面保護膜のXPS分析	F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0063]半導体レーザ端面のARコーティング	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0064]磁性半導体における強磁性発現機構の解明と制御I	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0065]磁性半導体における強磁性発現機構の解明と制御II	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0066]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0067]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0068]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0069]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0070]XRDによるGaN基板の結晶性改善	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0071]FE-SEMによるサファイア・GaN界面の断面歪観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0072]SPMを使ったGaN基板研磨表面の観察	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0073]多層グラフェンのエッチング	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0074]CVDグラフェンの加工	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0075]CVDグラフェン配線の作製	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0076]グラフェン転写プロセスの開発（1）	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0077]グラフェン転写プロセスの開発（2）	F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0078]電気特性取得のための、リフトオフプロセスの開発	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0079]MIMピラーの2ステップ物理エッチング法	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0080]金属ピラーにおける上部コンタクトの微細加工	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0081]Investigation of the Adhesion of Metal Particles onto a PTFE-based Substrate	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0082]The Adhesion of Ceramic Particles onto a Glass Substrate	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0083]高温対応半導体パッケージの検討	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0084]近接場顕微鏡プローブの作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0085]FIB加工微小試験片による機械的特性評価	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0086]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0087]ウェットエッチングによるAuリフトオフプロセスの最適化	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0088]EBリソによるL&S構造の作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0089]FIBによるTEM試料作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0090]グラフェン電特評価用試料の作製	F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0091]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0092]カーボンナノチューブ複合材料評価手法の開発	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0093]グラフェン電特評価用試料の作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0094]高分子材料中の化合物の質量分布測定（2）	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0095]次世代電池材料	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0096]熱電変換薄膜の作製	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0097]加速度センサーの試作（評価用素子の作製）	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0098]高分子薄膜の断面観察	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0099]薄膜特性の評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0100]片面電極有機薄膜太陽電池のための電極作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0101]Au-Pt くし形電極による自己発電型バイオセンサの表面洗浄に関する影響	F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0102]フィラーの分散評価	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0103]カーボンナノチューブ複合材料評価手法の開発	F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0104]加速度センサーの試作（プロセスの改善）	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0105]Au-Pt くし形電極による自己発電型バイオセンサのXPS/UPSによる評価	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0106]Si SIMS分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0107]InP系超格子構造のSIMS分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0108]シリコン光集積回路の電極パッド開口プロセス	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0109]フィラーの分散評価	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0110]Ti薄膜の不純物分析	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0111]片面電極有機薄膜太陽電池のための酸化チタン層を備えた電極作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0112]Tiの不純物分析	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0113]グラフェン膜を用いたvan der Pauw素子の作製	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0114]真空蒸着を用いた電極の作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0115]超伝導光子検出器の開発のためのAu薄膜の加工	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0116]超伝導光子検出器の開発のためのTES素子の製作	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0117]超伝導光子検出器の開発のための光キャビティ用ミラーの製作	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0118]2層レジストを用いたAuリフトオフの最適化	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0119]グラフェン薄片の導電率測定	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS) F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0120]高圧電性ScAlN薄膜を有するダイヤモンドSAWデバイスの研究	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0121]ニッケル薄膜のX線反射率測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0122]EB蒸着によるインジウムの成膜	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0123]グラフェン用ハードマスクパターン作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0124]FIBによるTEMサンプル作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0125]二次元材料のデバイス応用	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0126]超格子スピントロニクス材料の開発	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0127]カルコゲナイド超格子を用いた不揮発メモリの開発	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0128]カルコゲナイド超格子を用いた不揮発メモリのプロセス最適化	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0129]グラフェンデバイス電極用W薄膜堆積	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0130]グラフェンの電気特性評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0131]ニッケルシリサイド薄膜のXPS測定	F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0132]ラマン分光分析を用いた基板内応力分布測定	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0133]Pt電極膜を含む積層膜の観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM） F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0134]XPS分析装置を用いたTa及びWのエッチングレートチェック	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0135]薄膜の評価	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0136]ミニマルファブ技術開発における分析及び評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0137]強磁性酸化物薄膜の磁化測定	F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0138]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置 F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0139]コンパウンドチョコレートのファットブルームの観察	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0140]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0141]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3）	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0142]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0143]次世代エレクトロニクスデバイスの試作・評価（PJ3）	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0144]機能性酸化膜中の酸素分布に関するSIMS分析	F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0145]ペロブスカイト太陽電池用バッファー層の開発	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0146]PE-ALD成膜	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0147]光電変換用酸化物薄膜の成膜	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0148]埋め込み型電極構造による有機トランジスタの特性制御	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2) F-AT-102 触針式段差計 F-AT-103 スピンコ―タ― F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0149]フィルム基材を用いたフレキシブル色素増感太陽電池デバイスを安定的に作製するための断面解析	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0150]酸化物ドット集積構造の原子制御	F-AT-093 UVオゾンクリーナー F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0151]二光束干渉露光で作製した百数十nm周期ラインアンドスペースパターンの評価	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0152]次世代電池材料	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0153]二次元材料のデバイス応用	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0154]中性粒子用STJ検出器の開発	F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL) F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置 F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-14-AT-0155]次世代LSI向け成膜プロセス評価用キャパシタ試作	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-091 マスクレス露光装置 F-AT-092 プラズマアッシャー F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0001]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0002]光電子集積試作用反射防止膜層の作製	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0003]相変化材料の膜質評価とデバイス作製	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0004]デバイス構造確認のためのTEM試料作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0005]SnTe/Sb2Te3超格子の低電力動作メカニズム	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0006]PCMメモリセルの素子分離形成	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0007]Sb-Te合金薄膜の膜評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0008]FIBによるTEM/STEMサンプル作成①	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0009]カーボンナノチューブ配線の評価と低抵抗化	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0010]メソポーラスシリカ細孔内の移動現象に関する研究	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0011]グラフェンの電気特性評価	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0012]インターカレーション前後のCVD多層グラフェン配線の分析（1）	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0013]CVD成長多層グラフェンの微細加工による細線化	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0014]金属材料のエッチングの研究	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0015]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0016]フッ素ポリマーアロイ材製品の相観察	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0017]グラフェンリソグラフィプロセスにおけるレジスト残渣の検証	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0018]グラフェンの電子デバイス応用	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0019]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0020]CNT/グラフェンの排熱応用のための評価サンプル作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0021]Active Metal Brazed Copper-Si3N4基板上のCu/Ni(P)/Au配線の加工と観察	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0022]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0023]超格子相変化メモリの研究・開発	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0024]FIBによるSTEM-EDXサンプル作成	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0025]高分子材料中の化合物の質量分布測定	F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0026]高移動度チャネル材料の研究	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0027]CNT/グラフェンの排熱応用のための真空蒸着プロセスの最適化	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0028]AFMによる相変化膜の電気特性測定用微細電極作成プロセスの検討（1）	F-AT-078 ワイヤーボンダー F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0029]III-V nMISFET試作	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0030]TEM観察試料の作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0031]近接場顕微鏡プローブの作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0032]Ge-Sb-Te合金の膜評価	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0033]CNTの分散状態観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0034]グラフェン試料加工・評価（グラフェン剥離転写プロセス）	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0035]ナノカーボンの電子デバイス応用	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0036]高分子グラフト電極の水中でのAFM分析	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0037]弊社積層基板のFIB断面加工・観察	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0038]カーボンナノチューブ配線の評価と低抵抗化	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0039]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0040]多層ナノチューブ配線の評価	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0041]薄膜の斜入射X線回折測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0042]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0043]FIBによるTEM/STEMサンプル作成②	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0044]相変化材料の膜質評価とデバイス作製	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0045]二次元Si層を用いた素子の試作	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0046]電子ビーム描画装置を用いたCVDグラフェントランジスタの作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0047]CNT/グラフェンの排熱応用のためのCNT密度に依存した膜形成状況評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0048]分子ドーピングされた二層グラフェントランジスタの作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0049]グラフェンデバイスに対するボンディング	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-078 ワイヤーボンダー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0050]ガラスのドライエッチングとエッチングマスクの検討	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0051]SnTe/Sb2Te3超薄膜超格子の研究開発	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0052]水素アニールが窒化ケイ素基板に与える影響の分析と, ナノクリスタルダイヤモンド薄膜の構造及び基板との界面観察（窒化ケイ素基板及び, 水素アニール処理後にNCD薄膜を合成した窒化ケイ素基板について）	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0053]ガラス板への数十μmオーダーのライン＆スペースパターニング	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0054]Ar MillingによるMTJ素子形成（1）	F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0055]グラフェン試料加工・評価	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM） F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0056]GaN on Sapphireの断面及び表面のSEM観察	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0057]CVD成膜多層グラフェン配線への4端子測定用電極作製	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0058]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発その2	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0059]中空ビーズの表面観察と内部構造分析	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0060]ミニマルファブ技術の研究開発における深さ方向分析	F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0061]宇宙用MEMSデバイスの試作	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0062]多層グラフェンの断面TEM観察のための試料作製	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0063]分子インプリント高分子電極の表面形状分析(1)	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0064]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0065]CVD成膜多層グラフェン配線の電気特性評価	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0066]アルミナの厚さ計測	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0067]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0068]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0069]高移動度チャネル材料の研究	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0070]カーボンナノチューブ表面観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0071]大面積CVDグラフェンの抵抗評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0072]FIB による TEM 試料作製	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM） F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0073]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0074]はんだの最表面分析	F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0075]誘電多層膜ミラーの作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0076]ホール測定用グラフェンデバイスの作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0077]金属型・半導体型分離 CNT のデバイス特性評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0078]D-SIMSによる深さ方向に対する金属成分の拡散定量分析	F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0079]ガラス基板上における金属触媒成長SiGe層の表面平坦化	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0080]XRD によるエピタキシャル膜の面内結晶方位分布測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0081]機能性酸化物を用いたメモリの開発	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0082]ドライエッチングによるガラスへの穴あけ	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0083]リフトオフによる金属配線形成	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0084]ニッケルシリサイド化薄膜のXPS測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0085]AFM を用いた　MoS2フレークの厚さ評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0086]材料Aへの微細加工の初期検討	F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0087]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0088]グラフェン試料加工・評価(配線パターン形成プロセス)	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0089]ミニマルファブ技術の研究開発におけるX線回折分析	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0090]逆層交換型アルミニウム誘起シリコン結晶化プロセスにおける不純物効果の研究	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0091]高耐熱パワーモジュール化	F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0092]メソ多孔体チタン酸バリウム薄膜における骨格結晶化の確認	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0093]グラフェン合成と評価　－Cuホイルを用いたグラフェン合成－	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0094]IPS液晶によるシリコン細線方向性結合器光スイッチ	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-079 ダイシングソー F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0095]RF MEMSスイッチ試作	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0096]CNT/グラフェンの排熱応用のための熱抵抗サンプル作製と評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-079 ダイシングソー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0097]ガラス板への微細ライン＆スペースのパターニング	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0098]蒸着されたF4TCNQ層の表面観察	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0099]グラフェン試料加工・評価	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0100]ダイヤモンドSAWの研究	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0101]グラフェンの電子デバイス応用	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0102]AFMによる相変化膜の電気特性測定用試料作成プロセスの検討（2）	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-078 ワイヤーボンダー F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0103]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0104]グラフェン試料加工・評価	F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0105]ミニマルファブ技術の研究開発におけるSEM観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0106]メタルリフトオフプロセス	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0107]CNT/グラフェンの排熱応用のためのサーモフレクタンス測定用試料作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0108]グラフェン試料加工・評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0109]多層カーボンナノチューブの微構造観察	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0110]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成のための触媒堆積	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0111]CNT/グラフェンの排熱応用のためのアルゴンイオンエッチング時間依存検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0112]超格子型相変化膜のXRDによる測定	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0113]Sn10Te90/Sb2Te3希釈系超格子の超省電力動作メカニズム	F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0114]トランジスタ素子の特性改良	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0115]PCMメモリセルの上部電極形成	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0116]遷移金属添加半導体のバンド構造解明	F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF) F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0117]CNT/グラフェンの排熱応用のためのCNT接合と断面評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0118]Ar MillingによるMTJ素子形成（2）	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0119]2層レジストを使ったリフトオフによる金属配線形成	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0120]D-SIMSによる深さ方向の成分定量分析	F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0121]グラフェン試料加工・評価	F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0122]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0123]グラフェン試料加工・評価	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0124]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0125]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価	F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0126]メタルマスクを用いて作製した電極を有するグラフェンデバイスの評価	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0127]FIBによるTEM/STEMサンプル作成③	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0128]2つのゲートを持つ二層グラフェントランジスタの作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0129]EBリソによるライン＆スペースパターン作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0130]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0131]トランジスタ応用に向けた単層グラフェン合成	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0132]グラフェンの電気特性評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0133]電子ビーム描画装置を用いたHOPGグラフェントランジスタの作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0134]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0136]グラフェン合成と評価　－Cuホイルの成分分析－	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0137]高耐熱部品統合パワーモジュール化技術開発	F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0138]RF MEMSスイッチ試作	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0139]分子インプリント高分子電極の表面形状分析(2)	F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0140]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認	F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0141]CNT/グラフェンの排熱応用	F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0142]EB露光を用いたMTJ素子形成	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0143]宇宙用MEMSデバイスの試作	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0144]スパッタカーボンアニール法による多層グラフェン配線の作製	F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA) F-AT-080 X線回折装置(XRD) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0145]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0146]AFMを用いたグラフェン表面のレジスト残渣の検証	F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0147]水素アニールが窒化ケイ素基板に与える影響の分析と, ナノクリスタルダイヤモンド薄膜の構造及び基板との界面観察（水素アニールを施した窒化ケイ素基板について）	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0148]有機分子蒸着用Au/mica基板の作製	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0149]Ar MillingによるMTJ素子形成（3）	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0150]プローブカード開発（プローブ痕観察、深さ測定）	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0151]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0152]CNT/グラフェンの排熱応用のための反射膜表面のラフネス評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0153]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討	F-AT-079 ダイシングソー F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0154]III-V nMISFET試作	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0155]NiシリサイドナノワイヤFIB加工	F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB）及びイオンコーター（FIB付帯装置） F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0156]EBリソによるInP基板上ライン＆スペースパターン作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0157]大気圧CVD法によるグラフェン合成	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0158]遷移金属内包シリコンクラスターを接合に利用したトランジスタの実証	F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0159]III-V MOS技術	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0160]グラフェンとカーボンナノチューブによる三次元カーボン配線の作成	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0161]ミニマルファブ技術の研究開発における分析及び評価	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0162]インプラント法によるカーボンナノチューブプラグの作製	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0163]AFMによる相変化膜の電気特性測定用試料作成プロセスの検討（3）	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-076 小型真空蒸着装置 F-AT-078 ワイヤーボンダー F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0164]Hf窒化膜の研究	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0165]有機半導体の応用技術開発	F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0166]CNT/グラフェンの排熱応用のためのArミリングによるCNT先端部の開口実験	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0167]CNT/グラフェンの排熱応用のためのIn溶融状態評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0168]多結晶ゲルマニウムチャネル技術	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0169]RF MEMSスイッチ試作	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE) F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0170]インターカレーション前後のCVD多層グラフェン配線の分析（2）	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0171]グラフェン試料加工・評価	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕 F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0172]逆層交換型アルミニウム誘起シリコン結晶化プロセスにおける結晶方位形成の研究	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0173]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-067 i線露光装置 F-AT-072 アルゴンミリング装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0174]III-V MOS技術	F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0175]バブル型ナノロボットを利用したバイオセンシングシステムの開発	F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置 F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0176]Fe/Si 2層膜の作成と評価	F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦) F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0177]EBリソによるSi基板上ライン＆スペースパターン作製	F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC) F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0178]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕 F-AT-067 i線露光装置 F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー) F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE) F-AT-086 分光エリプソメータ F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-13-AT-0179]高移動度チャネル材料の研究	F-AT-067 i線露光装置 F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0001]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成用触媒薄膜の堆積	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0002]4インチシリコンウェハ上へのナンバリング用パターンの形成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0003]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0004]新材料超格子による低消費電力化	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0005]DMEM溶液中Alexa488標識PAMAM-NH2デンドリマーのSPMによる挙動解析	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0006]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0007]酸化物保護膜を用いたCVDグラフェン転写技術の開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0008]GaN剥離層の成長条件の最適化	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0009]先鋭化金属プローブの作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0010]グラフェンの合成とトランジスタ応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0011]Cu foil表面におけるグラフェン合成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0012]深堀反応性イオンエッチングプロセスで作製されたシリコン流路パターンの断面観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0013]成長条件によるカーボンナノチューブの抵抗評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0014]AFM測定用試料加工プロセスの検討（１）	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0015]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0016]ナノラマンイメージング用先鋭化金属プローブ形成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0017]金属触媒を用いた多結晶Si結晶成長法の太陽電池への応用研究	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0018]メモリ技術用酸化物薄膜への酸素拡散に関する評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0019]ナノカーボンの電子デバイス応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0020]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0021]新材料超格子による低消費電力化	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0022]深堀エッチングプロセスで作製されたシリコン流路パターン表面の平滑化プロセスの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0023]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0024]酸化物保護膜/CVDグラフェンのRaman分光分析	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0025]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0026]CNT/グラフェンの排熱応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0027]多層グラフェン配線へのインターカレーション	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0028]薄膜材料中への酸素拡散評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0029]CNT/グラフェンの排熱応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0030]CNT/グラフェンの排熱応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0031]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成とそのSEM観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0032]酸化物薄膜の作製と電気特性の評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0033]酸化膜貫通イオン注入後のノックオン成分のプロファイル調査	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0034]CNT/グラフェンの排熱応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0035]電極／酸化物薄膜積層構造の平坦性に与える熱処理工程の影響	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0036]4インチシリコンウェハ上に深堀エッチングプロセスで作製したシリコン流路構造深さのウェハ内分布	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0037]III-V MOS技術	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0038]III-V MOS技術	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0039]グラフェンの電子デバイス応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0040]相変化デバイスの加工	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0041]III-V MOS技術	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0042]電子ビーム描画装置を用いたグラフェントランジスタの作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0043]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0044]ナノデバイス試作	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0045]III-Vトンネルトランジスタのデバイス試作	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0046]量子ビット用積層型微小ジョセフソン接合の作製プロセス開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0047]シリコン細線導波路の開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0048]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0049]近接場顕微鏡プローブの作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0050]AFM測定用試料作成プロセスの検討（2）	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0051]DMEM溶液中PAMAM-PEGデンドリマーのSPMによる挙動解析	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0052]プラズマTEOS CVDプロセスでシリコン流路構造へ成膜したSiO2薄膜の断面FE-SEMによる観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0053]ミニマルファブ技術の研究開発における分析及び評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0054]真空封止技術を利用したモジュール型連動電子ペーパーの検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0055]カルコゲナイド材料を用いた相変化メモリ開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0056]遷移金属添加半導体のバンド構造解明	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0057]Al2O3を用いた抵抗変化型メモリの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0058]ウエハ加工	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0059]スパッタリング法により製膜されたSiON膜の特性評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0060]機能性酸化物を用いたメモリの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0061]ナノカーボンの電子デバイス応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0062]積層膜及びグラニュラー膜の構造解析	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0063]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成のための触媒堆積	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0064]有機半導体結晶の構造評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0065]光電子集積試作用金属配線層の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0066]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0067]i線露光装置を用いたグラフェントランジスタの作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0068]光電子集積試作用金属配線層の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0069]化学的エネルギーの直接変換により自律運動するナノロボットの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0070]円形櫛形電極の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0071]Characterization of p- type pyrolyzed parylene C via Raman spectral mapping	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0072]FIBによるTEM用試料加工	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0073]DMEM溶液中PAMAM-NH2デンドリマーのSPMによる挙動解析	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0074]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0075]ドライエッチングによるシリコン貫通孔形成のための厚膜レジストマスクの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0076]光酸発生剤を導入した分子性レジスト	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0077]錯体ナノ粒子の研究	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0078]EO結晶の薄膜形成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0079]Characterization of n-type pyrolyzed parylene C via Raman spectral mapping	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0080]プローブカード開発（プローブ痕観察、深さ測定）	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0081]高移動度チャネル材料の研究	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0082]プローブカード開発（プローブ痕観察、深さ測定）	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0083]超格子相変化膜のXRD測定	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0084]光学顕微鏡-AFM混合システムを用いた記録材料評価用素子加工形状の測定	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0085]CNTの分散状態観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0086]分光エリプソメータの利用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0087]XRDによるエピタキシャル膜の面内結晶方位分布測定	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0088]多層グラフェンを用いた半導体配線の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0089]微小部蛍光X線分析装置(XRF)の利用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0090]SEMによるグラフェントランジスタの観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0091]酸化膜貫通イオン注入後のボロンプロファイル調査	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0092]使用前後の針先端の表面観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0093]ドライエッチングガス種に依存したシリコン流路底面平坦性のFE-SEM観察による評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0094]グラフェンをチャネルに用いたトランジスタの評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0095]SIMS測定による化合物半導体の不純物濃度測定	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0096]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0097]電極材料への酸素拡散に関する評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0098]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0099]III-Vトンネルトランジスタにおけるゲート加工	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0100]ダイヤモンドプローブの先鋭化と評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0101]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたＭＥＭＳデバイスの試作・研究	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0102]FIBによるTEM/STEMサンプル作成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0103]ナノ構造制御された新型ポリマー太陽電池の創製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0104]III-V MOS 技術	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0105]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0106]スクリーン印刷用銅ペーストの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0107]FIBによるTEM/STEMサンプル作成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0108]酸化物薄膜の作製と結晶性評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0109]水酸化カリウム溶液を用いたスキャロプ構造の除去によるシリコン流路の側壁平坦性の改善	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0110]SiGe薄膜の結晶評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0111]有機トランジスタにおけるコンタクト電極構造の最適化	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0112]電子線描画用レジストの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0113]メタルリフトオフプロセス	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0114]i線ステッパーを用いたシリコン流路微細加工用レジストパターン形成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0115]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0116]カーボンナノチューブを用いたプラグ配線の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0117]金属触媒を用いた多結晶SiGe結晶成長法の太陽電池への応用研究	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0118]CVD成膜多層グラフェン配線へのインターカレーション	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0119]シリコンウエハ中のB拡散プロファイル評価	F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0120]Cu薄膜表面におけるグラフェン合成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0121]カーボンナノチューブを用いたプラグ配線の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0122]CVD-SiO2薄膜パターンをハードマスクとしたドライエッチングプロセスにより加工したSi流路の断面	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0123]酸化物保護膜/CVDグラフェンの電気伝導特性	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0124]新材料超格子による低消費電力化	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0125]メモリ技術用機能性酸化物薄膜のXPS およびSPMによる評価	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0126]CVD成膜多層グラフェンを用いた半導体配線の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0127]CNT/グラフェンの排熱応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0128]超格子膜のXRD測定	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0129]GaNのコアレッセンス条件の最適化	F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0130]グラフェンをチャネルに用いたトランジスタの作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0131]シリコンウエハ中のAs拡散プロファイル評価	F-AT-076 小型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0132]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェンの異種分子導入前後の観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0133]アニールスパッタカーボンを用いたＬＳＩ配線の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0134]ポリマ－光導波路実装基板の加工技術に関する検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0135]CNT/グラフェンの排熱応用	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0136]低負荷太陽電池材料・デバイスの深さ方向元素分布の観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0137]ナノラマンイメージング用先鋭化金属プローブ形成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0138]液相レーザー法を利用したリン酸カルシウム膜の合成と結晶構造解析	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0139]NiシリサイドナノワイヤFIB加工	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0140]ボッシュプロセスを用いた深堀反応性イオンエッチングにおける保護膜モードの条件とエッチングされたシリコン表面の平坦性の関係	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0141]PAMAMデンドリマーの液中観察	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0142]相変化メモリの微細ポア形成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0143]FIB&SEMによるTEM用の試料作製に関する技術相談	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0144]ガラス上におけるBaSi2薄膜の作成に関する技術相談	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0145]プローブカード開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0146]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0147]電子線描画用レジストの開発	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0148]酸化膜貫通イオン注入後の元素プロファイル調査	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0149]Metal Gate/High-k MOSFETおよびMOS-Capacitor試作	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0150]円形櫛形微小電極の作製	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0151]電気特性測定用の電極形成	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0152]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたMEMSデバイスの試作・研究	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0153]NiシリサイドナノワイヤFIB加工	(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 [F-12-AT-0154]ハイドロゲルの機能化のためのAu微細構造パターンの転写	(登録なし)