利用報告書一覧

利用報告書一覧

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[代表機関事務局] [北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室] 
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム] [物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム] 
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]  [筑波大学 微細加工プラットフォーム] 
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター] 
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]  [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所] 
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構] 
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門] 
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点] [大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点] 
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室] [広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室] 
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室] [北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター] 


利用課題番号/課題名 利用装置名
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0001]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0002]光・電子デバイス応用に向けたガルバニック水中結晶光合成法による表面パターン作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0003]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0004]電子線リソグラフィにおけるレジストプロセス
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0005]化学増幅型レジストの電子線描画パターン評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0006]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0007]位相差フレネルゾーンプレートの製作
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0008]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0009]二次元結晶膜を用いたナノポアセンシングデバイスの開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0010]赤血球の変形能の測定
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0011]ガラス表面への微細加工
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0012]光波帯における電磁クローク媒質の実現
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0013]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0014]ナノ可視化法の開発による染色体研究
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0015]光バイオセンサの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0016]高感度ナノウイルスセンサの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0017]高輝度・高演色性ディスプレイに向けた新規材料の研究
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0018]VO2薄膜の金属絶縁体相転移過程の直接観測
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0019]フレキシブルエレクトロニクス実現に資する薄膜デバイス開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0021]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0022]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0023]ナノ材料の構造制御合成と電子デバイス応用
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0024]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0025]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0026]有機半導体中のスピン流計測
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0027]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0028]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0029]赤外誘電体メタサーフェス
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0030]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0031]量子ビーム誘起反応に基づいた微細加工材料の創出
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0032]高感度X線イメージング用のX線光学素子の作製
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0033]グラフェンデバイスの作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0034]微細加工技術の援用による固体高分子形燃料電池電極に関する研究
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0035]ポリオキソメタレート分子デバイスにおけるスパイキング発生とその制御
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0036]レジスト材料の感光性試験
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0037]電子線描画装置を用いたサブミクロン微細パターンの形成
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0038]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0039]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0040]超伝導ナノデバイスの開発
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0041]高機能エラストマー開発における耐性試験
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0042]ヒト及び植物染色体内部の構造解析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0043]ピコ秒超音波法を用いたエレクトロマイグレーションのリアルタイムモニタリング
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0045]半導体製造プロセス過程において動作する胎動回路
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0046]直接はんだ付けのためのアルミニウム薄膜形成
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0047]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0049]組織構築のためのマイクロ流体デバイスの開発
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0051]微細プロセス構築可能なEUVレジストの開発及び次世代材料の探索
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0052]シリコンディスクの作製
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0053]レーザー照射実験用ターゲットの加工
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0054]高強度化を目的としたナノ粒子分散ガラスの開発
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0055]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0056]ナノインプリントの成形試験
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0057]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0058]サファイア基板上微小電極の作製
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0059]優れた物理的機能を有する生物のナノ/マイクロ構造観察
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0061]テラヘルツヘリシティ反転を可能にする反射型メタマテリアルの高機能化
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-21-OS-0062]ヘリウムイオンビーム照射による超電導薄膜のnm領域物性制御検討
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0001]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0002]高結晶性ナノカーボン材料の創成とデバイス応用
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0003]光バイオセンサの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0004]ナノ可視化法の開発による染色体研究
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0005]E B蒸着により作成した銀薄膜におけるエレクトロマイグレーション挙動の研究
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0006]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0007]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0008]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0009]赤血球の変形能の測定
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0010]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0011]電子線リソグラフィにおけるレジストプロセス
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0012]グラフェンデバイスの作製
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0013]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0014]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0015]位相差フレネルゾーンプレートの製作
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0016]メタマテリアル構造の観察と評価
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0017]有機半導体中のスピン流計測
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0018]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0019]自立膜を用いた高精度音響減衰測定のためのSi基板エッチング
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0020]赤外メタサーフェス
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0021]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0022]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0023]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0024]量子ビーム誘起反応に基づいた微細加工材料の創出
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0025]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0026]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0027]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0028]半導体マイクロ球の内部観察
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0030]多結晶界面を用いた低熱伝導率酸化亜鉛薄膜の開発
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0031]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0032]高感度ナノウイルスセンサの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0033]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0036]薄膜の分析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0037]微細加工技術の援用による固体高分子形燃料電池電極に関する研究
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0038]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0039]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0040]二次元結晶膜を用いたナノポアセンシングデバイスの開発
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0041]超伝導ナノデバイスの開発
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0042]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0043]ナノインプリントリソグラフィーを用いたナノフォトニクスデバイス作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0044]細胞毒性分子のリアルタイム計測にむけた原子層デバイスの作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0045]フレキシブルエレクトロニクス実現に資する薄膜デバイス開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0046]原子状水素によるドライエッチングの応用に関する研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0047]レジスト材料の感光性試験
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0048]リキッドバイオプシーのための診断技術の開発
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0049]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0050]脂質膜チップの作製とその応用研究
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0051]ナノ・マイクロスケールの構造特性に基づくバイオセンシング基盤に関する研究
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0052]ナノ構造による光制御技術
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0053]横型プラズモニックナノポア
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0054]光・電子デバイス応用に向けたガルバニック水中結晶光合成法による表面ナノパターン作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0055]シリコンナノディスクアレイからなる新規メタサーフェスデバイスの開発
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0056]MoS2の架橋構造の作製と光活性化ガス応答の評価
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0057]高感度、超高解像性、低ラフネス性の極端紫外線用レジスト材料の開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0058]反応プラズマエッチングにおけるイオン-固体表面反応解析
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0059]テラヘルツ波偏光の高効率制御を可能にする反射型メタマテリアルのパターニング
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0060]金ナノ構造の作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0061]ガラス表面への微細加工
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0062]電子線描画装置を用いたサブミクロン微細パターンの形成
F-OS-322 高速大面積電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0063]ウイルス試料観察
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0064]電子顕微鏡観察用MEMSヒータの加工
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-20-OS-0065]ドライエッチングマスク形成
F-OS-313 マスクアライナー
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[F-19-OS-0001]位相型フレネルゾーンプレートの製作
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0002]光バイオセンサの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0003]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0004]金属・誘電体ハイブリッド型メタマテリアル
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0005]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0006]電子線リソグラフィーにおけるレジストプロセス
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0008]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0009]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0010]ナノ可視化法の開発による染色体研究
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0011]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
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[F-19-OS-0012]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0013]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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[F-19-OS-0014]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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[F-19-OS-0015]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-19-OS-0016]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
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[F-19-OS-0017]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0018]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0019]高結晶性ナノカーボン材料の創成とデバイス応用
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0020]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0021]希土類添加半導体を有するナノ構造の作製プロセス技術の確立
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0022]微細金属構造を用いたナノ分光技術の開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0023]微小電極付きマイクロ・ナノ流路の作製
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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[F-19-OS-0024]ナノピラーとナノポアを集積化したマイクロ流体デバイスの開発
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0025]半導体マイクロ球の内部観察
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0026]ナノ材料の変形・破壊に及ぼす応力集中の影響
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0027]ヘリウムイオン顕微鏡による試料観察
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0028]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0029]高感度ナノウイルスセンサの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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[F-19-OS-0030]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-19-OS-0031]グラフェンの層数及び、分散状態の評価
(登録なし)
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[F-19-OS-0032]量子ビームによる次世代微細加工材料の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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[F-19-OS-0033]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
F-OS-308 深掘りエッチング装置
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[F-19-OS-0035]次世代半導体向け極薄Ni配線・拡散防止膜の電気特性評価
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-19-OS-0037]Snコートされたミラー材料の損傷およびクリーニング効果の検証
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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[F-19-OS-0038]金属/半導体積層構造を用いた高性能熱電材料の開発
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-19-OS-0039]光コーティング材のインプリント性試験
F-OS-316 ナノインプリント装置
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[F-19-OS-0040]ダイヤモンドデバイス研究
F-OS-314 LED描画システム
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[F-19-OS-0041]超伝導ナノデバイスの開発
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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[F-19-OS-0042]自立膜を用いた高精度音響減衰測定のためのSi基板エッチング
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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[F-19-OS-0043]赤血球の変形能の測定
F-OS-314 LED描画システム
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[F-19-OS-0044]EB照射によるレジスト解像性検証
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0045]高周波アンテナパターン形成ガラス基板の開発
F-OS-314 LED描画システム
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[F-19-OS-0046]有機金属化合物を含む新規な化学増幅レジストの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0047]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡(GIS機能含む)を用いた染色体の構造解析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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[F-19-OS-0048]薄膜の分析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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[F-19-OS-0049]プラズモニックナノ構造の作製とセンサへの応用
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-19-OS-0050]強相関酸化物素子における直流電流誘起された電子相の開拓
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
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[F-19-OS-0051]スパッタ装置によるAu成膜形成
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0053]ナノポア型ナノ共振器の作製と評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0055]グラフェンデバイスの作製
F-OS-314 LED描画システム
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[F-19-OS-0057]高電流密度下でのSn-Agはんだのエレクトロマイグレーション現象
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0058]有機半導体中のスピン流計測
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0059]シングルナノメートル以下の超高精密空間光制御技術の開発
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0060]レジスト材料の感光性試験
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-19-OS-0061]雰囲気光電子分光用ノズルの開発
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0002]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
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[F-18-OS-0003]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0004]マイクロ流路チップを利用したin vitro神経筋接合モデルの開発
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0005]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0006]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0007]シリコンミー共振器によるフルカラーの生成と制御
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0008]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0009]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡(GIS機能含む)を用いた染色体の構造解析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0010]ナノギャップ作製に関する研究
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0011]高感度ウイルスナノセンサの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0012]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0013]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0014]ナノ材料の変形・破壊に及ぼす応力集中の影響
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0015]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0016]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0017]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0018]プラズモンによるEu添加GaN赤色発光ダイオードの発光強度増大
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0019]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0020]ダイヤモンド共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0021]新規ナノモールドの開発
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0022]光バイオセンサの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0024]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0025]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0026]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0027]ナノ細孔とナノピラーを用いたDNA センシングデバイスの開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0028]ダイヤモンドデバイスの作製・評価
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0030]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0031]集光型プラズモニックナノポアの作製と評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
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[F-18-OS-0032]両極性伝導体への正孔及び電子スピン注入を目的としたvan der Pauw型微小ホール素子作製
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0034]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0035]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0036]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-18-OS-0038]電子線リソグラフィーにおけるレジストプロセス
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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[F-18-OS-0039]感光性樹脂の開発
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0040]有機金属化合物を含む高感度非化学増幅レジストの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
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[F-18-OS-0041]微小電極付マイクロ・ナノ流路の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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[F-18-OS-0042]微細表面構造(モルフォ蝶構造)に関する研究
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
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[F-18-OS-0043]半導体マイクロ微小球の内部観察
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0045]ラマン分光によるグラフェンの構造評価
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0046]ナノインプリント法によるアルミニウムナノ構造の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0047]EB蒸着装置による炭素化合物成膜
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0048]量子ビームを使った最先端微細加工材料の研究
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0049]ヘリウムイオン顕微鏡を用いたナノポア作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0050]Waveguide-coupled monolithically fabricated ZnO nanolaser
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0051]透過型電子顕微鏡用観察サンプルの作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0052]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0053]レーザーテラヘルツ放射顕微鏡による半導体デバイスの故障評価
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0055]半導体表面周期構造の観察
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0056]GaN微小共振器型波長変換デバイス
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0057]生物材料の物性解析のためのシリコン基板の作成
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0058]シリコンウェーハ研磨加工の高能率・高精度化
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0059]次世代半導体向け極薄Ni配線・拡散防止膜の電気特性評価
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0060]光学コーティング材のインプリント性試験
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0061]XFELによる真空回折実験のための光学素子開発
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0062]イオンミリングによるパターン形成
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0063]ナノ可視化法の開発による染色体研究
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0064]250℃耐熱フレキシブル熱電発電モジュールの実用化開発
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0001]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0002]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0003]光バイオセンサの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0005]バイオセンサー表面構築のための化学修飾膜の評価
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0006]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0007]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0008]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回析格子の作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0009]超低損失ダイヤモンドパワーデバイス創製に向けたプロセス開発 (II)
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0010]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0011]シリコンミー共振器によるフルカラー生成
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0012]最先端微細加工材料のナノ化学の研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0013]ナノ細孔とナノピラーを用いたアDNAセンシングデバイスの開発
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0014]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0015]表面増強ラマン散乱計測に用いる金属ナノ粒子表面のナノ計測
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0016]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0017]インプリント工法の検討
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0018]マイクロ流路チップを利用したin vitro神経筋接合モデルの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0019]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0020]ポリマー微細加工技術の構築
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0021]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0022]FIBによる電子線用フレネルゾーンプレートの作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0023]プラズモンによるEu添加赤色発光ダイオードの発光強度増大
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0024]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0025]ナノインプリントリソグラフィーを用いたポリマー製フォトニック結晶ナノ共振器の作製とセンサ応用
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0026]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0027]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0028]高感度ウイルスナノセンサの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0029]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0030]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0031]MEMS技術を用いた高機能マイクロチップ・パーツの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0032]多孔質炭素材料の局所構造解析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0033]マイカ基板での金薄膜清浄表面の作製
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0034]金属ナノポア構造の作製と評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0035]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0036]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0037]縮退高濃度ホウ素ドープダイヤモンド多重積層構造におけるnmスケールの分散化プロセス
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0038]分子処理による二次元層状半導体の非破壊キャリア制御
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0039]主鎖切断型電子線レジストの改良検討
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0040]高感度非化学増幅レジストの研究
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0041]高分子膜電気特性評価用薄膜絶縁層とパターン形成
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0042]ナノギャップ作製に関する研究
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0043]コールターカウンターの作製
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0044]光熱効果に基づくナノ粒子マニピュレーションに最適な金属ナノ薄膜構造体の開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0045]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0046]先鋭構造を有するプラズモニック結晶の設計・作製と超高感度バイオセンシングデバイスへの応用
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0047]半導体マイクロ球の内部観察
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0048]ダイヤモンドデバイスの測定・評価
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0049]新規ナノモールドの開発
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0050]バイオ系分析用電極・基板の開発
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0051]第2高調波発生する金属ナノ構造の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0052]分離膜ナノ粒子高機能化に関する研究
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0053]LED 光強度劣化原因調査
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0054]サファイア基板上微小電極の作成
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0055]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡(GIS機能含む)を用いた染色体の構造解析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0056]ヘリウム・ネオンイオン顕微鏡を用いた電子材料の二次電子像、ダメージ、加工特性の検討
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-17-OS-0057]両極性伝導体YH2への磁化反転スピン注入を目的とした微小ホール素子作製
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0002]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0003]超低損失ダイヤモンドパワーデバイス創製に向けたプロセス開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0005]原子オーダー制御した3次元ナノ立体構造の創製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0006]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0007]光バイオセンサの研究
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0008]ポリマー微細加工技術の構築
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0009]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0010]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0011]高感度ウイルスナノセンサの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0012]バイオマイクロデバイスの開発
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0013]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0014]1分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0015]高Q値ナノ光ファイバ共振器の作製
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0016]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0017]電子ビームリソグラフィを用いたナノロッドアレイターゲットの作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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[F-16-OS-0018]Si基板の平滑エッチング技術検討
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-16-OS-0019]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
F-OS-314 LED描画システム
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[F-16-OS-0020]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0021]プラズモニックマルチナノポアデバイスの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0022]ウエハ上におけるナノ・マイクロスケール3次元加工技術開発
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0023]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0024]ナノメカニクスによるメタ表面の動的制御
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0025]ナノ細孔とナノピラーを用いたアDNAセンシングデバイスの開発
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0026]新規ナノモールドの開発
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0027]表面増強ラマン散乱計測に用いるナノ構造基板の形成
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0028]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0029]ポリマー製フォトニック結晶ナノ共振器用鋳型の作製とバイオセンサへの応用
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0030]ナノインプリント工法の検討
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0031]半導体プロセス用有機膜材料の二次電子像特性、ダメージ、および加工特性の検討
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0032]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡(GIS機能含む)を用いた染色体の構造解析
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0033]単結晶ダイヤモンドの微細加工
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0034]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0035]細胞培養制御のためのプラズマによる培養皿表面の改良
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0036]ナノハイブリッド細線パターンの形成と評価
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0037]極微細加工材料中の放射線化学の研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0038]高精細集束イオンビーム装置によるInP系ナノ粒子観察
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0039]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0040]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0041]Evaluation of surface modification for biosensor application
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0042]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0044]金蒸着不良解析
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0045]被覆型分子を用いたナノサイズの化学物質センサーの開発
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0046]ナノ材料を用いたガスセンサーの作製と微視的アプローチによる応答メカニズムの解明
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0047]集束イオンビームによる有機オリゴマー結晶のレーザー素子に向けた微細加工
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0048]電子線リソグラフィー加工による周期的ナノ構造を利用した有機発光デバイスの高効率化
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0049]He+ irradiation for Anderson localization on single layer graphene
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0050]周期的構造のレジスト形成
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0051]B,P同時ドープSiナノ結晶薄膜の電気伝導特性評価
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0052]プラズモンによるEu添加GaN赤色発光ダイオードの発光強度増大
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0053]FIBによる電子線用フレネルゾーンプレートの作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0054]マイクロ流路中のひも状ミセルの流動誘起構造解析
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0055]フレキシブルエレクトロニクス実現に向けた薄膜トランジスタの基礎評価
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0056]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0057]電子線リソグラフィー加工による周期的ナノ構造を利用した高効率有機発光デバイスの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0058]縮退高濃度ホウ素ドープダイヤモンド多重積層構造におけるnmスケールの分散化プロセス
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0059]高精細集束イオンビーム装置による量子効果素子の開発
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0060]触媒膜および低濃度水素利用にもとづく希土類三水素化物の作製
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0061]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0062]分子処理による二次元層状半導体の非破壊キャリア制御
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0063]EUVリソグラフィ用水塗布・水現像ポジ型レジスト材料の開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0064]マイカ基板での金薄膜清浄表面の作製
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0065]スパッタ法によるサファイア基板上へのAl成膜
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0002]合成したダイヤモンド薄膜の結晶性評価および半導体素子の試作
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0003]1分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0004]高感度ウイルスナノセンサの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
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[F-15-OS-0005]ナノカーボン薄膜トランジスタによるセンサー開発
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0006]希土類イオンとフォトニックナノ構造の融合による発光現象の制御
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0007]2端子確率共鳴素子の開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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[F-15-OS-0008]光学式バイオセンサの研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0009]ポリマー微細加工技術の構築
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
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[F-15-OS-0010]新規金属ロールナノモールドの開発
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0011]自己組織化ナノ細孔を用いたDNAセンサの開発
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0012]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0013]ナノ周期構造作製技術開発
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0014]ガスセンサ用ナノギャップ電極の作製
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0015]ナノブリッジ型プラズモニック導波路における3次元光伝搬特性
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-15-OS-0016]積層フィルムの断面観察
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0017]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0018]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0019]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0020]シリコン基板上への多孔質シリコンマイクロチューブ自己組織化技術の開発
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0021]金属薄膜の微細加工に関する一考察
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0022]ナノ材料の強度に関する研究
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0023]擬ゼロホール係数材料を用いた電流-スピン流変換機能
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0024]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0025]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0026]高Q値ナノ光ファイバ共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0027]新学術領域「超高速バイオアセンブラ」
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0028]ナノインプリントリソグラフィー製フォトニック結晶ナノ共振器用鋳型の作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0029]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0030]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場のin situモニタリング技術開発
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0031]電子ビームを用いた微細加工型PEFC用高分子電解質膜に関する研究
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0032]偏光イメージング法を用いた流動の可視化による固液界面の評価
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0033]エクソソーム形状解析デバイスの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0034]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0035]面発光レーザー(VCSEL)の特性劣化解析(Ⅱ)
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0036]細胞の足場材料の制御のためのプラズマによる培養皿の改良
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0037]塗布型高移動度有機トランジスタの開発
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0038]サブサーフェス磁気イメージングシステムの高分解能化
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0039]極微細加工材料中の放射線化学の研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0040]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡を用いた電子材料、生体材料の二次電子像特性、ダメージ/加工特性の検討
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0041]バイオセンシング用デバイス作製プロセスの開発
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0042]メタマテリアルデバイスによるテラヘルツ波の高度応用
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0043]ナノ材料を用いたガスセンサーの作製と微視的アプローチによる応答メカニズムの解明
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0044]ナノ光ファイバ共振器の作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0045]集束イオンビームを用いた石英基板上での単結晶銀ナノピラーの作製
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0046]分相性ポーラスガラスの室温ナノインプリントによるプラズモンバイオセンサーの試作
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0047]ナノハイブリッド細線パターンの形成と評価
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0048]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡を用いた半導体プロセス用有機下地膜材料の二次電子像特性及びダメージの検討
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0049]:電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0050]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
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[F-15-OS-0051]表面増強ラマン散乱計測に用いるナノ構造基板の形成
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-15-OS-0052]回折格子を用いた金ナノ粒子トラップによるメタマテリアルの作製
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0053]金属基板を腐食する強アルカリ現像液を使用しないMEMS 加工用バイオマスレジスト材料の開発
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0054]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0055]バイオマイクロデバイスの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0056]サファイヤ基板上金ホールアレイ作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0057]標準シリコン酸化膜の膜厚測定
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0058]微粒子の分別収集に向けた多段階粒子輸送法の開発
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0059]ナノ共振器を用いたASE増強デバイスの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0060]Si基板上への微細円筒形キャビティパターンの制作
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0061]金属ナノロッド配列ナノレンズによる超解像イメージング
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0062]ナノ電極を利用したDNA損傷計測
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-15-OS-0063]Si基板の平滑エッチング技術検討
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0002]単一DNA分子検出ナノ構造の作製
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0003]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0004]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0005]ダイヤモンド半導体デバイスの試作
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0006]2端子確率共鳴素子の開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0007]グリーンリソグラフィ技術の開発
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0008]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0009]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0010]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0011]自己組織化ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創成
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0012]ポリマー微細加工技術の構築
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0013]メゾスコピック空間を利用した生体高分子の高精度分離
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0014]ナノカーボン薄膜トランジスタによるセンサー開発
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0015]ダイヤモンド加工(Solid Immersion Lens作製)
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0016]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0017]ナノ材料の電気伝導特性の評価および制御
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0018]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0019]バイオマイクロデバイスの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0020]金属触媒によるSiエッチング技術を用いたナノホール構造の作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0021]ナノ材料の強度に関する研究
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0022]極微細加工材料中の放射線化学の研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0023]新学術領域「超高速バイオアセンブラ」
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0024]プラズモニック導波路における光伝搬特性
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0025]DNA自立ジョイントを用いたマイクロ部品組み立てに関する基礎的研究
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0026]自然災害の減災と復旧のための情報ネットワーク構築に関する研究:気象観測システム用酸化物薄膜ガスセンサーの開発
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0027]擬ゼロホール係数材料を用いた電流-スピン流変換機能
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0028]マイクロウエルを利用したT細胞分泌物質解析
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0029]ナノポアを用いた1分子•1細胞構造解析法の開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0030]Pdナノギャップ水素センサの作製
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0031]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0032]電子ビームグラフト法を用いたフッ素系高分子アクチュエータの開発
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0033]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0034]新規ナノモールドの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0035]ナノ周期構造作製技術開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0036]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0037]1分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0038]2次元同時近接場光検出のためのホールアレイ開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0039]機能性高分子を基材として用いたナノインプリントリソグラフィー製ナノ光デバイスの開発
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0040]希土類イオンとフォトニックナノ構造の融合による発光現象の制御
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0041]金属被覆を用いたダイヤモンド加工
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0042]磁気イメージング装置の高分解能化
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0043]ボロン-リン同時ドープSiナノ結晶を使った単電子素子の試作
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0044]シリコン基板上への多孔質シリカマイクロチューブ自己集積技術の開発
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0045]生体分子分析に向けた新規グラフェンナノポアデバイスの開発
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0046]塗布型高移動度有機トランジスタの開発
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0047]イオンビームを用いたバイオポリマーの表面微細加工によるデバイス作成
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0048]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0049]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0050]回路の不具合確定の為の微細加工
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0051]DNA損傷計測用チップの作製と性能評価
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0052]面発光レーザー(VCSEL)の特性劣化解析
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0053]サブナノ粒子の光学応答測定のためのサブ波長周期構造シリコンデバイスの作製
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0054]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡における二次電子像特性,ダメージ/加工特性の検討
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0055]ファインケミカル生産を指向したLab on a Membraneの創成
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0056]Siナノ結晶を単電子島とした単電子素子の形成
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0057]光学式バイオセンサの研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0058]薄基板アルミ蒸着ミラーの作成
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0059]1分子熱電特性測定用ナノデバイスの構造評価
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0060]積層フィルムの断面観察
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-14-OS-0061]電子ビームを用いた空間機能制御材料の研究
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0002]単一DNA分子検出ナノ構造の作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0003]有機化学的手法によるボトムアップ型分子デバイスの作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0004]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0005]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0006]周期的なナノホール構造を形成した硫化亜鉛膜の作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0007]2端子確率共鳴素子の開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0008]数10nm~数100nm微細パターンの作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0009]金属メタ表面による輻射制御に関する研究
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0010]機能性酸化物ナノ構造体を利用した磁気抵抗デバイスの開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0011]極微細加工材料中の放射線化学の研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0012]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0013]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0014]位置制御型単一量子ドット作製に関する研究
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0015]メゾスコピック空間を利用した生体高分子の高精度分離
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0016]擬ゼロホール係数材料を用いた電流-スピン流変換機能
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0017]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0018]一分子解析技術を用いた革新的ナノバイオデバイスの開発
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0019]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0020]酸化物ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創出
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0021]窒化物ベース希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0022]ナノ加工時の反応に伴う薄膜中の自由体積変化に関する研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0023]天然高分子材料の微細加工体の創製
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0024]バイオマイクロデバイスの開発
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0025]高アスペクトなSiエッチングパターンに関する研究
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-GA-317 電子線描画装置群
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0026]微細加工技術を用いた超高感度酵素アッセイ系の構築
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0027]マイクロ流路を用いた赤血球変形能評価
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0028]DNA自立ジョイントによるマイクロアセンブリ技術の開発
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0029]センサー応用に向けたカーボンナノチューブ薄膜の作製とキャリア輸送特性評価
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0030]マイクロウェルを利用したT細胞分泌物質解析
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0031]Si微細パターンエッチングプロセスの開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0032]ポリマー微細加工技術の構築
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0033]ダイヤモンド加工(Solid Immersion Lens作製)
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0034]超伝導電極を有する微細酸化物トランジスタの作製
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0035]キャリア注入による単原子層半導体の光電物性変調
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
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[F-13-OS-0036]フォトニック結晶レーザの開発
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-13-OS-0037]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
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[F-13-OS-0038]TEM試料の加工条件の検討
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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[F-13-OS-0039]水溶性極端紫外光レジスト材料を用いたグリーン微細加工技術の開発
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
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[F-13-OS-0040]金属ナノロッド配列ナノレンズによる超解像イメージング
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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[F-13-OS-0041]DNA損傷計測用チップの作製
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
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[F-13-OS-0042]サブナノ粒子偏光検出法のためのナノ周期微細構造シリコンデバイスの作製
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-13-OS-0043]マルチビーム生成用回折光学素子の作成
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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[F-13-OS-0044]収束イオンビームを用いた原子間力顕微鏡探針の先鋭化
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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[F-13-OS-0045]ナノ周期構造作製技術開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
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[F-13-OS-0046]ナノ薄膜の強度に関する研究
F-OS-306 集束イオンビーム装置
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[F-13-OS-0047]GaAsとSiの微細パターンエッチングプロセスの開発
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
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[F-12-OS-0001]X線撮像装置用埋め込みターゲットの作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0002]メタマテリアルによる中赤外領域熱輻射スペクトルの制御
(登録なし)
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[F-12-OS-0003]プラズモニック導波路による光伝搬制御
(登録なし)
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[F-12-OS-0004]擬ゼロホール係数材料を用いた電流-スピン流変換機能
(登録なし)
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[F-12-OS-0005]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0006]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
(登録なし)
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[F-12-OS-0007]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
(登録なし)
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[F-12-OS-0008]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0010]2端子確率共鳴素子の開発
(登録なし)
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[F-12-OS-0011]酸化物ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創出
(登録なし)
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[F-12-OS-0012]時間分解電子顕微鏡の開発
(登録なし)
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[F-12-OS-0013]STM-SQUID 顕微鏡の磁場校正用試料の作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0014]一分子解析技術を用いた革新的なバイオデバイスの開発
(登録なし)
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[F-12-OS-0016]単一DNA 分子検出ナノ構造の作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0017]最先端微細加工用レジスト新材料創製
(登録なし)
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[F-12-OS-0018]架橋フッ素樹脂微小部材を用いたUVナノインプリントに関する研究
(登録なし)
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[F-12-OS-0019]極微細加工材料中の放射線化学の研究
(登録なし)
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[F-12-OS-0020]量子ビーム装置への室温イオン液体導入によるマイクロ・ナノ構造体 の作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0021]透明伝導膜応用に向けたカーボンナノチューブ薄膜の作製と評価
(登録なし)
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[F-12-OS-0022]希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製(I)
(登録なし)
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[F-12-OS-0023]有機化学的手法によるボトムアップ型分子デバイスの作製
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[F-12-OS-0024]微細構造界面による液晶のパターン配向制御とマイクロ粒子配列に関する研究
(登録なし)
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[F-12-OS-0025]希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製(II)
(登録なし)
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[F-12-OS-0026]量子ビームを用いたグリーンポリマーのナノ/マイクロ加工
(登録なし)
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[F-12-OS-0027]DNA自立ジョイントを用いたマイクロ部品組み立てに関する基礎的研究
(登録なし)
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[F-12-OS-0028]量子ビームグラフト高分子電解質を用いたマイクロアクチュエータの作製
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[F-12-OS-0029]高精細電子レジストの評価
(登録なし)
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[F-12-OS-0030]細胞操作用マイクロハンドならびに力センサの開発
(登録なし)
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[F-12-OS-0031]イオンビームを用いた高分子材料の微細加工と照射効果の検討
(登録なし)
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[F-12-OS-0032]ダイヤモンド加工(Solid Immersion Lens作製)
(登録なし)
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[F-12-OS-0033]サブナノ粒子偏光検出法のためのナノ周期微細構造シリコンデバイスの作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0034]アルカリ現像液を不要とする水溶性極端紫外光グリーンレジスト材料の創出
(登録なし)
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[F-12-OS-0035]新規なTEM 用グリッドの作成条件の検討
(登録なし)
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[F-12-OS-0036]強磁性Fe酸化物をベースにしたナノ狭窄型磁気抵抗デバイスの構築
(登録なし)
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[F-12-OS-0037]光メタマテリアルによる負の屈折率の実現と制御
(登録なし)
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[F-12-OS-0039]周期的なナノホール構造を形成した硫化亜鉛膜の作製
(登録なし)
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[F-12-OS-0040]高品質ナノ絶縁層の形成に関する検討
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
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[F-12-OS-0041]ダイヤモンド単結晶基板の大口径化に向けたヘテロエピタキシャル核発生制御
(登録なし)
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[F-12-OS-0042]天然多糖類ゲル微細構造体の創製
(登録なし)