| 利用課題番号/課題名 |
利用装置名 |
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0001]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製
|
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0002]金属酸化物を用いた高機能抵抗変化素子の開発
|
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-100 ダイシングソー
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0003]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
|
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0004]環境中の感染性ノロウイルスの即時現場検出を実現する高感度アプタセンサー技術の創出
|
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0005]現場分析用超小型分析装置に組み込む微小電極の作製
|
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0006]サブミクロン1次元半導体スピン輸送チャネルの作製
|
F-HK-018 電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0007]Effect of geometric curvature on collective cell migration using tortuous microchannel
|
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0008]生体鋳型を用いて作製した超伝導マイクロワイヤのためのAu/Cr電極形成
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0010]Tuning capacitance of magnetic granular-insulator composite capacitors
|
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0011]強誘電体薄膜の作製
|
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0012]Electron transfer between gold nanoparticles and semiconductors
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0013]Effect of detuning on near-field spectral properties of plasmonic hetero-trimer
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0014]Manipulation of the dephasing time of coupled plasmon modes
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0015]Near-field properties of one-dimensional gold nanochains
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0017]Correlation between Near-Field Enhancement and Dephasing Time in Plasmonic Dimer Nanostructures
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0018]新規ブロック共重合体薄膜の構造解析
|
F-HK-032 エリプソメータ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0019]アスペクト比が異なる長方形パターンを有する接着性細胞用マイクロ加工基板の作製
|
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0020]高密度CNTを用いたCNT-金属複合膜の試作
|
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0021]貫通孔を有する高吸収プラズモン電極の作製
|
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0022]光電子顕微鏡を用いた金ナノ構造の近接場円二色性に関する研究
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0023]歪み印加での変調を可能とする量子ドット発光デバイスの作製
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0024]表面プラズモン振動モードのEELS解析
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0025]金属ナノピラーを集積したプラズモン光アノードの構築
|
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0026]層状粘土鉱物の配向膜作製に用いるAu 薄膜の作製
|
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-101 スパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0027]Control of plasmon dephasing time using stacked nanogap gold nanostructures
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0028]酸化コバルト助触媒を担持したプラズモン誘起水分解
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0029]ペロブスカイト型マンガン酸化物に基づく酸素還元電極触媒の設計
|
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0030]Fabrication of Metalens Array for Hyper spectrum
|
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0031]Enhanced Plasmon-induced Photocurrent Generation using a Co-catalyst
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0032]Development of Label-free Nanoplasmonic Biosensing Platforms
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0033]Enhanced Water Splitting under Modal Strong Coupling Conditions
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0034]Plasmon-induced Photocurrent Generation on Ga2O3 Loaded with Gold Nanoparticles
|
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0035]強磁性酸化物SrRuO3における電流と磁壁の相互作用
|
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0036]原子炉計装の革新に向けた耐放射線・高温動作ダイヤモンド計測システムの開発とダイヤモンドICの要素技術開発
|
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-006 プラズマCVD装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0037]X線レーザーイメージングのための試料ホルダ作製
|
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0038]光電子顕微鏡を用いた光極限集約系の評価
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0039]電気表面増強ラマン散乱観測によるプラズモン誘起酸化反応過程の観察
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0040]細胞折り畳み技術を用いた3次元立体組織の構築
|
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0041]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
|
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0042]フィッシュネット金属/半導体/金属構造共振器熱ふく射起電力電池の開発
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0043]Co2MnSi 薄膜を用いた電流面直型巨大磁気抵抗素子における双二次層間交換結合の起源
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0044]強磁性体／タンタル接合を有する3端子強磁性トンネル接合の作製
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-100 ダイシングソー
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0045]Co2MnSiを用いたAlGaAs/GaAs 2次元電子ガス系への室温スピン注入
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0046]マイクロナノバイオデバイスによって惹起される腫瘍自己組織化誘導の条件検討
|
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0047]ハイドロゲル表面凹凸のサイズ依存的変形
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0048]熱ALDによるサファイア基板への反射防止膜の検討
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0049]粉体へのALD成膜検討
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0050]超伝導デバイスの作製
|
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0051]グラフォエピタキシにより配向したスメクチック液晶相をテンプレートに用いた金属ナノワイヤの作製
|
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0052]プラズモンアシスト水熱合成による酸化亜鉛ナノ発光体の作製
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0053]金ナノトライマー構造の作製
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0054]PZT薄膜上のSiO2薄膜形成
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0055]LDL選択的配置に用いるナノ構造の作製
|
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0056]Al2O3膜の形成
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0057]プラズモニクダイマー構造を用いた蛍光ナノ粒子の光トラッピング
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0058]架橋PVAを用いたマダラシミ鱗片模倣表面の作製
|
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0059]ALD 装置での成膜による欠陥レスコートの評価
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0060]ALD利用によるプラスチック成型品への薄膜形成
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0061]微細加工技術の簡素化へ向けたフォトンシーブホログラムの開発
|
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0062]THz用特殊ビームスプリッタの作製
|
(登録なし)
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0063]ナノ加工技術検証
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0064]CaF2基板及びSi基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0065]窒化物半導体に対する低損傷加工プロセスの開発と電子デバイス応用
|
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0066]酸化ニオブ超薄膜の形成
|
(登録なし)
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0067]銅合金材料等へのアルミナの成膜
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0068]LiNbO3のイオンミリングプロセス実験
|
F-HK-015 イオンミリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0069]弾性材料の表面加工
|
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0070]SiO2およびAl2O3薄膜による絶縁層の作製
|
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0071]高分子ゲル表面に作製した金ナノドット間のギャップ距離変化の精密評価
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-18-HK-0072]質量分析用新ソフトイオン化源の開発
|
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0001]金属薄膜の高精度ドライエッチング検討
|
F-TU-091 イオンミリング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0002]環境センサー用MEMS新工程開発
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0003]小型マイクロステージの開発
|
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0004]TMAHによるSi貫通エッチ
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-108 赤外線顕微鏡
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0007]基板上への微細Al電極作成と基板の評価
|
F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0008]MEMSの試作
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0009]対称性を制御した光メタマテリアルの作製
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0010]金薄膜の形成
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0011]超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成のためのシリコンデバイスの作製
|
F-TU-068 LPCVD
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0012]量子ビーム格子の開発と作製
|
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0013]MEMSデバイス加工
|
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0014]微細構造体の作製技術開発
|
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-103 熱電子SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0015]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析
|
F-TU-105 マイクロX線CT
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0016]MEMSデバイスの加工
|
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
F-TU-048 膜厚計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0017]微細構造の形成とその評価
|
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0018]PZT用エピタキシャルバッファ層の成膜法の研究
|
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0019]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0020]医療用マイクロデバイス加工技術開発
|
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0021]ジャイロスコープ用高性能振動子の作製
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0022]触覚デバイスの開発と材料技術の検討
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0023]圧縮成形に及ぼす充填構造の影響の解析
|
F-TU-105 マイクロX線CT
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0024]ファンデルワールス材料物理
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0025]シリコン光結合デバイスの開発
|
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0026]Siウェーハの欠陥解析
|
F-TU-103 熱電子SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0027]極細径光ファイバ圧力センサの開発
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-108 赤外線顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0028]MEMS/NEMS fabrication
|
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
F-TU-067 メタル拡散炉
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0029]差圧センサデバイス構造解析
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0030]繰り抜き加工ウェハ上へのｉ線ステッパによる重ね合わせ露光精度実現
|
F-TU-048 膜厚計
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-104 FE-SEM
F-TU-123 アルバックICP-RIE
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0031]半導体プロセス基礎実験
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0032]熱電変換素子評価用基板の作製
|
F-TU-068 LPCVD
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0033]スピネル接合基板のSAWデバイス特性評価
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-121 プラズマクリーナー
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0034]集積化MEMSセンサの開発
|
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0035]Micron pattern devices for THz image system
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0036]充填層反応器内の空隙観察
|
F-TU-105 マイクロX線CT
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0038]Fe 基金属ガラスのナノインプリンティングによる磁性制御
|
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0039]グラフェンナノリボン応用ひずみ計測技術の開発
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0040]ダイボンディング部の非破壊観察
|
F-TU-107 超音波顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0041]アルカリイオンエレクトレットを用いた振動発電素子の開発
|
F-TU-068 LPCVD
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0042]三次元LSIの試作研究開発
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0043]シリコンフォトニクス用スポットサイズコンバータの試作
|
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0044]IoT for Safety and Security
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0045]ワイヤレスMEMS の研究
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-066 ランプアニール装置
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0046]X線回折格子干渉計用超高アスペクト比鋳型の開発
|
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0047]異方性ウェットエッチング法によるマイクロチャネルアレイチップの高精度・低コスト加工
|
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-089 Si結晶異方性エッチング装置(KOH)
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0049]磁気-誘電ナノ複相膜による高周波複機能性に関する研究
|
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0050]紫外線領域オプトデバイスの研究開発
|
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0051]Fabrication technology development
|
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0052]UVフォトディテクタ試作・評価
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-061 UVキュア装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0053]次世代電子線レジスト開発のためのELS-G125描画条件の影響調査
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0054]LSI中TSVを用いた集積化MEMSの作製
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-113 サーフェースプレーナー
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0055]HALSAWデバイスの開発
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0056]ALDによって成膜したPt膜
|
F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0057]ナノインプリントリソグラフィを用いた微細構造形成
|
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0058]発光素子用薄膜形成
|
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0059]窒化物半導体のドライエッチング
|
F-TU-123 アルバックICP-RIE
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0060]電磁環境改善技術の研究開発
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0061]電磁走査による前方視超音波内視鏡
|
F-TU-079 DeepRIE装置#1
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0062]超長時間アニールを用いた宇宙用X線全反射鏡の平滑化の研究
|
F-TU-066 ランプアニール装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0064]ウエハ上へのAlマーク生成
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0065]マルチビームレーザー干渉リソグラフィに基づく大面積2軸微細格子製作
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0066]ナノ粒子/ポリマーコンポジット薄膜の作製
|
F-TU-058 ダイサ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0068]微細周期構造Siモールドの試作
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0069]グラフェン・テラヘルツデバイスの研究開発
|
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0070]2次元層状酸化物のデバイス化
|
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0071]MEMS薄膜アクチュエータデバイスの形成
|
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0072]薄膜成膜と特性評価
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0073]低直流電圧で駆動するMEMSアクチュエータに関する研究
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-120 Vapor HFエッチング装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-093 ワイヤボンダ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0074]コンデンサマイクロホンの作製
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0075]圧電駆動型MEMSデバイスの耐久性の向上および長期安定性の向上
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-122 ケミカルドライエッチャー(CDE)
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0076]ナノスケール表面平坦化のためのドライ研磨プロセスの開発
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0077]透過型電子顕微鏡を用いた液中試料観察用カプセルの作製
|
F-TU-068 LPCVD
F-TU-058 ダイサ
F-TU-048 膜厚計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0078]マイクロポンプの開発
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0079]光波センシングのためのフォトニック・ナノ構造の創製
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0080]細胞培養用高分子薄膜製造のためのモールド作製
|
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0081]テラヘルツ量子カスケードレーザー(THz-QCL)の研究
|
F-TU-104 FE-SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0084]低温酸化膜成膜
|
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0085]超低電圧小型拡散センサの開発
|
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0086]微細周期構造の作成
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0087]磁気抵抗素子の配線
|
F-TU-093 ワイヤボンダ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0088]シリコンセンサの開発
|
F-TU-118 酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0089]学生のMEMS試作実習
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0090]PECVD、LPCVDによるSiN、SiO2成膜と評価
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-068 LPCVD
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-048 膜厚計
F-TU-106 卓上型エリプソ
F-TU-102 Dektak 段差計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0091]EB描画ならびにレーザー直描装置を用いた微細パターンの作製
|
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-063 レーザ描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0092]エピサセプターの酸洗浄
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0093]摩擦攪拌接合部の健全性評価
|
F-TU-107 超音波顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0094]シリコンへのリンの拡散
|
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0095]薄膜材料の機械的特性評価技術の開発
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-121 プラズマクリーナー
F-TU-048 膜厚計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0096]Fabrication of gold nanorods and ZnO thin film photodetector
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0097]Sapphireウェハ加工
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-077 めっき装置
F-TU-123 アルバックICP-RIE
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0098]キラル磁性体における量子輸送現象の研究
|
F-TU-119 多元材料原子層堆積(ALD)装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0099]薄板型熱発電機の作製
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0100]ナノインプリント薄膜光フィルタ作製に向けた微細構造形成
|
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-091 イオンミリング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0101]フォトニック結晶を用いたフィルタアレイの開発
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0102]遷移金属ダイカルコゲナイド層状物質を用いた高感度分子センサの研究開発
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0103]バクテリア集団の揺らぎと応答の測定
|
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-102 Dektak 段差計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0104]圧電MEMSアクチュエータ
|
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0105]Siの微細構造加工
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-089 Si結晶異方性エッチング装置(KOH)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0106]熱駆動MEMSアクチュエータの開発
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0107]エレクトレットMEMS振動・トライボ発電
|
F-TU-068 LPCVD
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0108]グレイスケールリソグラフィ
|
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-103 熱電子SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0109]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用
|
F-TU-063 レーザ描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0110]宇宙素粒子実験のための超伝導素子開発
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0111]MEMS加工品のデモ機作成
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-058 ダイサ
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-124 ウォーターレーザ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0112]高真空ウェハレベルパッケージング
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0113]メタマテリアルのパターン形成
|
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0114]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0115]MEMSデバイス開発
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0116]櫛歯アクチュエータの作製
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0117]薄膜デバイスの微細加工プロセスの検討
|
F-TU-063 レーザ描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0118]MEMS音叉の試作
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-093 ワイヤボンダ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0119]三次元レジスト形成
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0121]大規模アレイテスト回路を用いた抵抗変化材料の統計的測定に関する研究
|
F-TU-058 ダイサ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0122]革新的エレクトレット材料の創成
|
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0123]水素アニールを用いたスルーシリコンビアのスキャロップ平滑化に関する研究
|
F-TU-066 ランプアニール装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0124]Siナノピラーを用いた熱電変換素子の作製
|
F-TU-068 LPCVD
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0125]金属とセラミクスの陽極接合を応用した接合開発
|
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0126]MEMSデバイス開発試作
|
F-TU-079 DeepRIE装置#1
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0127]SiウェハへのEpi-Si成膜検討
|
F-TU-069 熱CVD
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0128]Siモールドの作製
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0129]いわて半導体アカデミー社会人コース実習
|
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-103 熱電子SEM
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0131]超伝導転移端センサーによるトリウム229アイソマーエネルギーの測定
|
F-TU-093 ワイヤボンダ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0132]BN膜を用いたRF-MEMSスイッチの作製
|
F-TU-123 アルバックICP-RIE
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-18-TU-0133]サブマイクロ構造光学素子の試作
|
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0001]電子ビーム描画装置によるレジスト材料の探索・プロセス評価
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0002]マスクレス露光機を用いたフィルム基板上の微細パターニング技術開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0003]シリコンバッファフィルムコーティング作業
|
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0004]４インチＳｉ基板を用いたグラフェンFET 標準フローの構築
|
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0005]ドライエッチング装置を用いたYOF 系セラミックスの耐プラズマ性評価
|
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0006]糸状菌培養のための微小流体デバイスの作製
|
F-NM-073 マスクアライナー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0007]エッチングパターンの形成
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0008]原子層堆積装置を用いたAl2O3 薄膜の形成
|
F-NM-078 原子層堆積装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0009]ドライエッチング装置等を用いたウェアラブルマイクロ流路パッチの開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-102 触針式表面段差計
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0010]プラズマ環境におけるイットリア焼成体の腐食挙動
|
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0011]電子線描画装置を用いたhp16nm 以下の微細LS パターン形成技術開発
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0012]シリコンナノワイヤに基づいた熱電発電素子に関する開発研究
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0013]シリコンナノワイヤを用いた熱電発電デバイスのチャネル幅依存性
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0014]薄膜応力測定装置を利用した測定アルゴリズム開発
|
F-NM-104 薄膜応力測定装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0015]微細デバイスの電気特性および信頼性評価
|
F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0016]マスクレス露光機を用いたフィルム基板上の微細パターニング技術開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0017]GaAsウエハの反応性イオンエッチング
|
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0018]p型NiO MOSFETの基礎実験
|
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0019]Ga2O3－N型MOSFETの試作
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-078 原子層堆積装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0020]原子層堆積装置を用いた絶縁膜の形成
|
F-NM-078 原子層堆積装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0021]半導体デバイスのSEMによる断面観察
|
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0022]反応性イオンエッチングによる酸化物半導体へのトレンチ形成条件の検討
|
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0023]層状物質を用いた分子振動検出デバイスの研究開発
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0024]シリコンナノワイヤを用いた熱電素子の開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0025]CMP装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究
|
F-NM-091 CMP研磨装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0026]シリコンナノワイヤプロセスを応用した熱電発電素子の開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0027]Au/Ni電極を用いたMg2Siフォトダイオードの作製
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0028]プラズモニック光駆動ナノアクチュエータの開発
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0029]ナノインプリントした金属材料のナノ加工
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0030]高輝度レーザー向け新規光学デバイスの開発
|
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-102 触針式表面段差計
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0031]電子線描画を利用したφ40 nmハードマスクの形成
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0032]超電導量子回路におけるマスクレス露光装置によるパターニング
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0033]シリコン光導波路・ナノ材料ハイブリッドデバイスの作製
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-089 ダイシングソー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0034]金属ブリッジ型メモリCBRAMのデバイスプロセス開発
|
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0035]各種描画、エッチング、成膜装置を活用したレジスト材料の評価及び開発
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-101 自動エリプソメータ
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0036]30 nm脳型推論アナログ抵抗変化素子の作製
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0037]紫外領域で働くプラズモニック構造の作製
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0038]TiNナノシリンダーアレイの耐熱性の向上
|
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0039]プラズマ援用AD膜の評価
|
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0040]浅い段差による超伝導ダイヤモンドジョセフソン接合
|
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0041]相変化メモリ素子加工するためのリソグラフィおよびドライエッチング技術
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0042]プラズモニックナノ構造による第二高調波の一方向放射制御
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0043]1.03 μm波長帯パルス幅可変半導体レーザー素子の開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0044]高選択酸化膜エッチング
|
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0045]電子ビーム描画装置を用いたトポロジカルプラズモニック結晶構造の作製
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0046]透過型CTR散乱測定試料の作製
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0047]塗膜諸性能に関わる表面形状の把握
|
F-NM-087 原子間力顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0048]単一内包カーボンナノチューブの電気・熱伝導率計測
|
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0049]プラズモニックアレイのRTA加工
|
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0050]劣化に伴う塗膜表面形状の変化
|
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-087 原子間力顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0051]シリコン光導波路の作製と劈開による端面の形成
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-097 プラズマアッシャー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0052]ドライエッチングプロセスを用いた高密度光ディスク用原盤の検討
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0053]原子層堆積法による Si-MOS の界面評価
|
F-NM-078 原子層堆積装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0054]マスクレス露光機を用いた、フィルム基板上の微細パターニング技術開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0055]先端デバイス開発のためのプロセス検討
|
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0056]フォトリソグラフィを用いたMg2Siにおけるオーミック電極の作製
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0057]Si基板へのパターン形成
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0058]マスクレス加工と反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板の微細加工
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0059]YBCO-Sr2RuO4超伝導接合の作製
|
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0060]酸化亜鉛電気二重層トランジスタ構造の形成
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0061]電子ビーム描画装置を用いた通信用シリコン光回路作製
|
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0062]Siの深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発
|
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0063]ダイヤモンドＳＢＤ作製するためのレーザー露光装置と超高真空スパッタ装置の利用
|
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0064]ナノシートを用いる全酸化物型リチウムイオン二次電池の開発
|
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-102 触針式表面段差計
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0065]1.03 μm波長帯の半導体レーザーのプロセス開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-073 マスクアライナー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0066]シリサイド薄膜のエッチング加工およびトランジスタ素子の試作
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-072 レーザー露光装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0067]幹細胞機能を制御するマイクロパターン基材の開発
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-073 マスクアライナー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0068]トランジスタIV特性の評価
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-092 室温プローバーシステム
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0069]電子ビーム描画装置とエッチング装置を使用したシリコン基板微細加工
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0070]急速赤外線アニール炉による炭素膜と金属膜の反応
|
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0071]プラズマCVD装置を用いたn型Mg2Si基板へのSiO2膜の堆積
|
F-NM-079 プラズマCVD装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0072]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作成
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0073]集束イオンビームによる超伝導ボロンドープダイヤモンドジョセフソン接合の作製
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0074]分子固定化界面評価用金基板の作製
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0075]バイオセンシングを行う小型Ir/IrOx基板の作製
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0076]低群速度・低分散GaAsフォトニック結晶導波路による高効率非線形光学現象
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-091 CMP研磨装置
F-NM-090 自動スクライバー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0077]複数の露光方式を組み合わせた半導体レーザー導波路加工
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-102 触針式表面段差計
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0078]高速動作半導体レーザーに向けたオーミック特性の研究
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-098 UVオゾンクリーナ
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-079 プラズマCVD装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
F-NM-102 触針式表面段差計
F-NM-084 急速赤外線アニール炉
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0079]平行平板電極による免疫センサの開発
|
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
F-NM-089 ダイシングソー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0080]櫛型電極ミオグロビンバイオセンサの再生技術の探索
|
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0081]プロトン伝導膜による自己発電型バイオセンサの性能向上
|
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-088 3次元測定レーザー顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0082]Multiferroic effects in iPCM
|
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0083]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製
|
F-NM-093 極低温プローバーシステム
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0084]選択成長炭素薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作製
|
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-093 極低温プローバーシステム
F-NM-090 自動スクライバー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0085]熱刺激脱分極電流測定用酸化物標準試料の開発
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-097 プラズマアッシャー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0086]プラズモニックデバイス用単結晶薄膜の開発
|
F-NM-075 超高真空スパッタ装置
F-NM-078 原子層堆積装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0087]ガラス基板のドライクリーニング
|
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0088]微細ゲートトランジスタの作製
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0089]ナノワイヤ型シリコン熱電発電素子の開発
|
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0090]ICP-RIE 装置を用いたアルミナのエッチング
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-070 ナノインプリント装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
F-NM-103 イオンスパッタ
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0091]ALD装置を用いたパリレン薄膜上へのHfO2およびAl2O3の成膜
|
F-NM-078 原子層堆積装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0092]層状物質を用いた超伝導接合素子の開発
|
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
F-NM-090 自動スクライバー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0093]電子ビーム描画装置によるEBレジストの新規材料・プロセス開発
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0094]電子ビーム描画装置を用いた層状超伝導体の加工と電極形成
|
F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0095]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン・ナノリボンのデバイスの作製
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0096]リソグラフィによる原子層二硫化モリブデンを用いた超伝導接合の作製
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-077 超高真空電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0097]Ti/Au薄膜の形成
|
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0098]低次元物質を用いたナノデバイス開発のための基板作製
|
F-NM-097 プラズマアッシャー
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-089 ダイシングソー
F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0099]3次元パワーSupply on Chip実現に向けてのプロセス技術の開発
|
F-NM-078 原子層堆積装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0100]集束イオンビームを用いたダイヤモンド超伝導量子干渉計の作製・評価
|
F-NM-072 レーザー露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-094 ワイヤーボンダー
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0101]グラフェン電界効果トランジスタチップの試作
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0102]アミノ基修飾グラフェンバイオセンサへのプローブの化学修飾
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0103]スパッタを使用したメタルパターンの形成
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-074 全自動スパッタ装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0104]化合物ドライエッチングを用いた Al エッチング及び SiO2エッチング
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0105]グラフェンFETセンサの試作およびその特性評価
|
F-NM-071 高速マスクレス露光装置
F-NM-073 マスクアライナー
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-096 ウエハRTA装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0106]電子ビーム描画によるEUV 用レジスト材料及びプロセスの開発
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-086 走査電子顕微鏡
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0107]化合物ドライエッチング装置によるCr エッチング
|
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0108]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスに関する開発研究
|
F-NM-074 全自動スパッタ装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0109]遷移金属ダイカルコゲナイド半導体を用いた分子センサーの開発
|
F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0110]シリコン深堀エッチング装置を用いた超伝導転移端センサと光キャビティの作製
|
F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0111]タングステン金属膜のドライエッチング検討と評価
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0112]ルテニウム金属膜のドライエッチング検討と評価
|
F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-18-NM-0113]強相関電子系層状材料の温度依存電流電圧特性の評価
|
F-NM-105 液体窒素プローバーシステム
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0001]アルミナ担持層の成膜方法がカーボンナノチューブ成長に与える影響
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0002]ガラスの貫通孔加工とその表面へのスパッタ成膜
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0003]マスクレス露光機でのパターン形成
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0004]SAM(自己組織化単分子膜: Self-Assembled Monolayer)上へのリフトオフによる電極形成
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0005]MOSデバイスの解析
|
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0006]IC解析
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0007]IC解析
|
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0008]グラファイトに含まれる不純物の分析
|
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0009]金電極上に固定化されたProtein G’のAFM観察
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0010]Cuワイヤボンディング接続技術の基礎評価
|
F-AT-107 ウェハー酸化炉
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0011]ALD装置での成膜による欠陥レスコートの評価
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0012]単層カーボンナノチューブを利用した熱流スイッチング
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-116 研磨機
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0013]XPSによるルテニウム薄膜の組成分析
|
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0014]FE-SEMによるルテニウム薄膜の観察
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0015]FIBによるAl2O3ウエハーの加工と観察
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0016]微細パターニング
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0017]Pd合金の膜応力評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0018]高屈折率酸化物基板からの裏面反射防止層の形成
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0019]紙面上の粒子の観察
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0020]ALD-Al2O3成膜評価結果
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0021]FeSiB磁性薄膜とAl2O3絶縁薄膜との多層構造の作製および評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0022]テラヘルツ光によるITO薄膜の研究
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0023]セラミックフィルター、ゼオライトビーズ上への酸化物薄層成膜
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0024]金属薄膜ドライエッチングによる射出成形金型への微細構造体形成
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0025]二次元材料の合成とデバイス応用
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0026]保護膜生成プロセス
|
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0027]熱処理前後におけるプラズマALD積層絶縁膜の膜質評価
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0028]熱水性鉱石表面のZnおよびPbのスペシエーション
|
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0029]貴金属触媒を用いた湿式シリコン選択エッチングのためのレジストパターン作製
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0030]バイオテンプレート作成のためのフェリチン粒子塗布条件の確立
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0031]金属ナノ構造体の試作
|
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0032]フォトリソグラフィーによるフレキシブル基板上への金属配線作製
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0033]高移動度デバイスの研究
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0034]i線ステッパによるパターン作製とアライメント精度評価
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0035]薄膜導電材料の開発
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0036]電子線リソグラフィによる300 mmウエハ上プログラム欠陥付き微細パターンの形成
|
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0037]サブミクロン構造形成
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0038]金属膜への他元素添加評価
|
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0039]表面プラズモンポラリトン導波路アレイの評価
|
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0040]デバイス応用を目指した鉄薄膜のドライエッチング
|
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0041]背面入射中性子反射率測定による厚膜の構造評価2
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0042]フォトレジストのサブミクロンパターニング検討
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0043]運動後タンパク質摂取ラットの骨に含まれる成分比や結晶構造の分析
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0044]レーザーラマン分光法を用いた毛髪ケラチンの構造解析
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0045]GaNショットキーバリア特性の評価
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0046]プラズマCVD装置によるSiO2膜の形成
|
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
F-AT-086 分光エリプソメータ
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0047]リフトオフによるNi微細パターニング
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0048]コンタクトプラグの電気特性評価
|
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0049]接合不良の生じた表面の分析
|
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0050]SAW無線センサの試作
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0051]電池構成部材の分析
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0052]テーパー形状(K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成
|
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0053](K,Na)NbO3薄膜上へのSiO2薄膜形成
|
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0054]MEMSを用いたEHDマイクロポンプの製作
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0055]薄膜のX線反射率、回折測定
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0056]トンネルトランジスタの試作・評価
|
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0057]電池構成部材の分析
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0058]シリコンフォトニクスデバイスの開発
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0059]窒化シリコン薄膜上における相変化材料被膜サブミクロンポアの作製
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0060]有機/金属ハイブリッドポリマーの電子状態の測定
|
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0061]GaNへのPrイオン注入パターン形成
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0062]集束イオンビーム微細加工が層状超伝導体NbSe2劈開膜の超伝導特性に与える影響の評価
|
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0063]サブミクロンレベルのパターニング
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0064]サブミクロンレベルのパターニング
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0065]i線露光によるサブミクロンパターンの形成
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0066]超小型衛星用推進機への応用に向けた平面型グラフェン電子源の高効率化
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0067]SEMへの搭載に向けたグラフェン平面電子源の評価
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0068]ナノインプリント後の残渣処理
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0069]ナノインプリント後の残渣処理
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0070]高純度オゾンを用いた室温CVD-SiO2の曲げ試験前後の表面観察
|
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0071]高純度オゾンを用いた室温CVD-SiO2の膜厚測定
|
F-AT-086 分光エリプソメータ
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0072]カーボン薄膜へのALD成膜
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0073]電子ビーム蒸着によるカーボン膜への金属コーティング
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0074]人工ピットを用いた局部腐食評価の精密化
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0075]窒化アルミニウムのドライエッチング条件の最適化
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0076]n型窒化アルミニウムガリウムの接触抵抗低減
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0077]酸化物半導体へのパッシベーション膜形成
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0078]Si基板上へのALD-Al2O3の成膜
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0079]GaNの選択成長による高品質化
|
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0080]感光性ポリイミドの光学特性評価
|
F-AT-086 分光エリプソメータ
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0081]45°ミラーを集積したポリマー光導波路
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0082]回路基板上へのアライメントマークの作製
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0083]ポリマー光導波路における3次元構造の作製
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0084]原子層堆積法による窒化チタンナノシリンダーアレイへの耐熱性誘電体被覆と熱酸化抑制
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0085]CNTバンドルの電気抵抗測定
|
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0086]CNTバンドルの電気抵抗測定
|
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0087]II-VI族半導体に添加した遷移元素の微量分析
|
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0088]グラファイト薄膜のSTM/AFM 評価用断面の作製、および評価
|
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
F-AT-116 研磨機
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0089]GaNエピ基板上へのナノドット加工の検討
|
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-128 クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0090]電子ビームリソグラフィを用いた、薄膜材料の微細加工検証
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0091]レーザ加工装置を用いた金属蒸着用メタルマスクの作製
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0092]AR-XPSによるダイヤモンド半導体表面のsoft-ICPエッチングダメージの評価
|
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0093]Siナノピラー加工用レジストドットパターンの形成
|
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-107 ウェハー酸化炉
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0094]Niリフトオフ
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0095]マスクレス露光装置による周期微細構造の作製
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0096]SiN膜の密着性改善
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0097]原子層堆積装置による絶縁性ガラス細管への窒化チタン(TiN)成膜
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0098]Cuパターンの段差測定
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0099]GaAs基板の深ビア加工
|
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0100]機械的解繊によるセルロースナノファイバーの形態観察
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0101]原子層体積TiNを用いた超臨界流体によるCu薄膜の均一成膜
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0102]ポリカーボネートフィルムへのレーザー加工
|
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0103]Nano/Micro機能付加した高発熱密度対応伝熱面の調査検討・試作評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0104]エッチングによるカーボン電極表面の構造化と燃料電池触媒用電極への応用
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0105]Si基板上のSiO2膜の膜厚評価
|
F-AT-086 分光エリプソメータ
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0106]Ge系ゲートスタックの作製と評価
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0107]紫外光電子分光を用いた酸化チタンの仕事関数の解析
|
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0108]プラズマ処理した化合物半導体表面の観察
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0109]窒化物半導体デバイスの開発
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0110]窒化物半導体デバイスの開発
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0111]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0112]Geデバイスの発熱による性能への影響を考慮したデバイス構造の研究
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0113]カルゴゲナイド超格子の中赤外領域における透過率・反射率測定
|
F-AT-117 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0114]ポリマー光導波路の研究開発
|
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0115]SPMによる基板上のナノ粒子測定
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0116]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
|
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0117]プラズモニックCuアレイ構造上の表面組成解析
|
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0118]金埋め込み電極作製に向けた酸化膜・バリアメタルの成膜
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0119]粉体CVD成膜装置で成膜したDLC膜のRaman分光分析
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0120]Design and Fabrication of Microneedle Pad
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0121]Design and Fabrication of Microneedle Pad
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0122]半導体デバイスの特性評価
|
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0123]シリコン太陽電池表面へのサブミクロンパターン形成
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0124]金ナノ粒子埋め込みカーボン薄膜への選択的金メッキ法の開発およびSe(IV)の電気化学検出への応用
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0125]ガラス基板加工の研究
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0126]赤外ナノオプティクス材料の創生
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0127]ALDによって成膜したHfO2膜
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0128]分光エリプソメータによる薄膜a-Si膜の膜厚測定
|
F-AT-086 分光エリプソメータ
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0129]有機・無機ハイブリッド膜上への薄膜形成
|
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0130]原子層堆積装置を用いたメタル薄膜および膜中の微量不純物の解析
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0131]RBaFe4O7 (R = Ho, Tm)のMPMS測定
|
F-AT-099 磁気特性測定システム(MPMS)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0132]原子層堆積による極薄金属層を用いた低熱伝導率バルクスケールナノ構造材料の作製
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0133]高速X線トモグラフィのためのマルチビーム光学素子の開発
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0134]ステッパーを利用したフォトリソグラフィー工程の実験
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0135]電子線描画を用いた超電導パラメトロン素子の作製
|
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-136 解析用PC (CAD及び近接効果補正用)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0136]ZnO - SiO2 - Al2O3 薄膜の形成
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0137]MEMSのフォトリソ工程最適化
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0138]高密度・高速応答熱電対アレイの試作
|
F-AT-113 メッキ装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0139]ナノ細孔チップを使ったFIB加工装置によるTEM薄片試料の作製
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0140]センサ表面への機能膜の成膜およびパターニング
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0141]抵抗変化型メモリを用いたアナログメモリ素子の試作
|
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0142]単原子層MoSe2/WSe2面内ヘテロデバイスの作製と測定
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0143]ALDによるAl基材上への金属酸化物の形成
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0144]MEMSを用いたEHDマイクロポンプの製作
|
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0145]コラーゲンのAFM観察
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0146]SiC膜中の異物評価のための断面観察試料作製
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0147]電子デバイスで使用する絶縁膜検討
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0148]医療用MEMSデバイス開発
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0149]ガラス基板への金属電極の形成
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0150]LED半導体チップのボンディング状態の観察
|
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0151]M面窒化ガリウムを用いたMOSFETの作製
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-126 プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0152]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0153]i線露光によるサブミクロンホールのパターン作製
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0154]液相堆積法による金属酸化膜堆積
|
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0155]金属酸化物薄膜の形成
|
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0156]鉄系超伝導体薄膜の微細加工
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0157]原子状酸素照射ポリエチレンフィルムの FE-SEM 観察
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0158]HSQマスクを用いたhp30～12 nmLSのSiエッチング加工
|
F-AT-135 高速電子ビーム描画装置 (エリオニクス)
F-AT-131 化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0159]金属電極パターンの加工
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0160]薄膜実践セミナー受講報告
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0161]SrTiO3の成膜および分析評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-18-AT-0162]SrTiO3薄膜の成膜温度依存性
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0001]走査型プローブ顕微鏡を用いた樹脂材料の表面機械特性評価
|
F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0002]FIB装置を利用した電気抵抗測定用微細サンプルの作製
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0003]形状を特徴とする金属ナノ粒子の無電解めっき触媒特性の検証
|
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0004]FIB-SEM装置を利用したTEM観察用試料加工におけるダメージ層の低減
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0005]MEMS技術を用いたミリ波レクテナ回路の製作
|
F-BA-091 デバイスシミュレータ
F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-104 半導体特性評価システム
F-BA-105 触針式表面形状測定器
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
F-BA-107 反応性エッチング装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0006]電界放出型走査電子顕微鏡によるナノロースの薄膜及び多孔体の表面構造観察
|
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0007]パターン投影リソグラフィーシステムを利用した微細ギャップ電極対アレイの作製
|
F-BA-096 電子線蒸着装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0008]電子線誘起堆積法を利用したナノカーボン電界放出エミッタの作製
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0009]窒化物半導体デバイスの開発
|
F-BA-104 半導体特性評価システム
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0010]原子間力顕微鏡による毛髪キューティクルの観察
|
F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0013]超高効率グラフェン平面電子源の開発
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0014]FIB装置を利用したTEM観察用試料作製
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0015]ダイシングソー装置を利用した微小ガラスプレートの作製
|
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0016]Si基板上に作製したSi系ナノシート束構造の断面TEM試料作製
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0017]FIB装置を利用したTEM観察用試料の作製
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0018]FIB-SEMによるAl2O3ウエハーの加工と観察
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-18-BA-0019]AD-MOD on copper substrate for electrical insulation improvement
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0001]高出力レーザーの研究開発
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0002]近接場光援用波数励起によるシリコン受光素子の開発
|
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0003]FIBによるGaN ICからのGaNHEMT切り出し
|
F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0004]中性子用イメージングセンサーの開発に向けた硼素薄膜の最適化
|
F-UT-145 SEM
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0005]酸化バナジウムをチャネルとする新規トランジスタの作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0006]海洋生命理工学の戦略的研究開発
|
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0007]2次元層状SnSの圧電特性評価のための電極作成
|
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0008]有機半導体薄膜の構造・物性制御
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0009]樹脂シートのエッチング加工開発
|
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0010]メタサーフェスを使った宇宙機用ラジエータ材料の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0011]トポロジカル絶縁体の輸送特性
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0012]エクソソームナノアレイのためのナノスケールパターン形成
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0013]有機材料を用いた全塗布型・超高精細TFTアレイの開発
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0014]Thermal conductivity measurement of single-walled carbon nanotubes by suspended micro thermometer
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0015]ヘテロ積層ナノチューブの合成と分析
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0016]同位体ラベルによる単層カーボンナノチューブ成長過程の分析
|
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0017]基板上での単層カーボンナノチューブ熱伝導率測定デバイスの作製
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0018]単層カーボンナノチューブの再成長の同位体ラベル分析
|
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0019]シリコンマイクロ流路による希釈冷凍機の開発
|
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0020]湿度/酸素センサの開発
|
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0021]MEMS静電駆動マイクロシャッタのマルチスリット多天体分光器応用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0022]エレクトレットＭＥＭＳ振動・トライボ発電
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0023]電子線リソグラフィのトレーニング
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0024]電界放出源の高出力化の研究
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0025]Development of a Silicon Spiral Nanoflower with Giant Optical Activity
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0026]Development of mid-infrared Ge photonic integrated circuits
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0027]ナノインプリントプロセスにおける残膜除去処理の検討
|
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0028]石英基板上へのシリコンナノディスクパターン形成
|
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0029]輻射制御構造のプロセス最適化に関する研究
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0030]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0031]単分子電流計測技術を用いた生体分子の高感度検出手法の開発
|
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0032]電子ビーム描画を利用した複屈折可変メタサーフェスの製作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0033]Si深堀エッチング用保護膜の開発
|
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0034]HFガスをガラスに当てた場合のガラス表面の変化について
|
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0035]超短周期透過型回折格子の作製
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0036]高フッ酸耐性膜の探査
|
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0037]先鋭化タングステン線へのスパッタリングによる窒化チタンの成膜
|
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0038]マイクロ流体デバイスを用いた１細胞由来染色体の識別技術の開発
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0039]メタマテリアルの製作
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0040]MEMSデバイスの作成
|
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0041]レーザー加工によるミリ波整流回路の試作
|
F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0042]タムプラズモンとキャビティのカップリングによる狭スペクトル幅熱エミッタの研究
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0043]有機強誘電体薄膜による超広帯域超音波センサーの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0044]光音響高速サイトメトリーにおける，微細細胞コンテナの作製
|
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0045]静電容量式MEMS加速度センサ・圧力センサの製作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0046]半導体プロセス基礎実験
|
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0047]光触媒機能・超親水機能を兼ね備えた反射防止誘電体多層膜
|
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0048]高アスペクト比トレンチを用いた超臨界流体薄膜堆積法の反応解析
|
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0049]GaNセンサ作製へ向けた要素プロセス検討
|
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0050]Si基板上への高品質窒化物半導体結晶成長に向けたSiCバッファ層形成手法の検討
|
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0051]エッチングおよびステルスダイシングによる微細加工検討
|
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0052]シリコンナノ溝周期配列のエッチング法による作製
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0053]レジスト材料の性能評価
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0054]フォトリソグラフィによるNi-W合金を用いた狭ギャップ熱電子発電素子の製作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0055]ナノカーボン材料の電気特性評価
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0056]シリコン深堀装置を用いた太陽熱光発電のためのアブソーバ・エミッタの開発
|
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0057]誘電体大面積フォトニック結晶加工技術の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0058]防水ピトー管
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0059]硬さセンサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0060]MEMS力センサを用いた液滴衝突の制御
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0061]昆虫型羽ばたき機を用いた圧力差計測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0062]LEDを用いた露光機
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0063]局所滑り覚センサを用いた衝突中における路面滑りやすさの評価
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0064]ピエゾ抵抗型ジャイロセンサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0065]水中ピトー管
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0066]可動培養基板とカンチレバー型変位センサによるiPS細胞に由来する心筋細胞の伸展長さと拍動の力の計測
|
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0067]ヒータによる可変焦点液体レンズの焦点距離変化量向上
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0068]細胞利用型バイオセンサのための測定ノイズ低減手法の検討
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-143 半導体パラメータアナライザー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0069]ナノインプリント法によるニッケル電鋳向けの樹脂型の加工技術
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0070]Enhanced Raman scattering of graphene using double resonance in silicon photonic crystal nanocavities
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0071]架橋カーボンナノチューブにおける励起子ーキャリア相互作用に対する分子遮蔽効果
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0072]シリコン微小共振器による単一光子発生レートの増強
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0073]架橋カーボンナノチューブにおける分子遮蔽効果
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0074]カーボンナノチューブの超解像光学イメージング
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0075]Photoconductivity spectroscopy of individual carbon nanotube
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0076]シリコンナノビーム共振器とカーボンナノチューブの光結合最適化
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0077]架橋カーボンナノチューブ発光ダイオード
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0078]極小ピクセル Ir-TES を用いた単一光子検出器の開発
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0079]新奇非晶質半導体を用いた薄膜トランジスタの開発
|
F-UT-145 SEM
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0080]プラズモニック金回折格子を備えた振動MEMSによる近赤外分光器
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0081]Au回折格子と背面照射による電流検出型SPR化学量センサの研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0082]Research on Photonic Integrated Circuits for OFDR sensing system
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0083]化合物半導体光デバイスの作製
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0084]血中循環腫瘍細胞捕捉のためのマイクロ流体デバイスの開発
|
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0085]プラズマ利用イオン注入法を用いたグラフェンのSiO2/Si基板への直接合成
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0086]微細加工技術による機能性材料の物性に関する研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0087]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0088]燃焼研究のための無線温度センサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0089]Parylene E-based MEMS gas sensor
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0090]Push-button kinetic energy harvester
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0091]Electric instability of Cassie droplets on superlyophobic surfaces
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0092]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0093]反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0094]X線用高精度光学素子の開発
|
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0095]ポリフェノール類の膜耐熱性評価
|
F-UT-138 高速ランプアニール装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0096]金属ナノ構造による光駆動ナノアクチュエータの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0097]プラズモン増強近接場を利用した振動ラダークライミング・化学反応制御
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0098]塩素系ICPエッチング装置(ULVAC CE-S) PZT膜エッチングテスト結果
|
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0099]非侵襲グルコースセンサの開発
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0100]高品質SiC上グラフェンの作製と評価
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0101]ガラス製ナノ流路の加工と観察
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0102]破骨細胞の制御に適した電子線リソグラフィによるマイクロパターンの作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0103]天文観測のための超伝導HEBミクサ素子の開発
|
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0104]SOIウェハのステルスダイシング
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0105]Si基板表面の微細パターン加工による濡れ性の温度応答性の強化
|
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0106]その場制御用液相ＴＥＭサンプルホルダ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0107]ナノスケール熱伝導計測のためのマイクロ/ナノスケール微細加工
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0108]シリコン光集積回路
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0109]III-V族半導体トランジスタ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0110]光ディスク用Rθ露光装置による直描マッピングパターンを使ったシリコンモールド作成
|
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0111]静電トランスの作製と特性評価
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0112]圧力計アレイの製作
|
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0113]無機-有機ハイブリッド半導体薄膜の構造・物性制御
|
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0114]テラヘルツ波伝送デバイスの作製
|
F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0115]光変調器に向けたシリコン格子の作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0116]癒着防止用スポンジ材料の構造評価
|
F-UT-145 SEM
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0117]コプレーナ線路によるスピン波検出と外場制御
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0118]空間周波数分解シュリーレン装置用空間バンドパスフィルタの作成とアーク乱流測定
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0119]Siウェハのステルスダイシング
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0120]カーボンナノチューブの光物性測定
|
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0121]熱電変換材料の無次元性能指数評価
|
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0122]実装工学における接合研究 1
|
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0123]実装工学における接合研究 2
|
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0124]実装工学における接合研究 3
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0125]実装工学における接合研究 4
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-144 ブレードダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0126]実装工学における接合研究 5
|
F-UT-143 半導体パラメータアナライザー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-138 高速ランプアニール装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0127]実装工学における接合研究 6
|
F-UT-144 ブレードダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0128]有機電気化学トランジスタを用いた生体計測
|
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0129]グラーフェンを用いたシリコンフォトニクスの研究
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0130]神経軸索に対する選択的薬理刺激用マイクロデバイスの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0131]フィッシュネット金属/半導体/金属構造共振器熱ふく射起電力電池の開発
|
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0132]光デバイス応用のための架橋構造体の作製
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0133]SiO2の高速異方性化学エッチング技術の研究
|
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0134]ガスセンシングデバイスの作製
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0135]トライボロジー計測のためのマイクロデバイス開発
|
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0136]微小液滴によるアジャスタブル希釈・混合器の開発
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0137]バイオデバイス向けDIY-MEMSのためのシームレス加工技術
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0138]メカニカルメタマテリアル構造を用いた圧電振動発電デバイスの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0139]オンチップ可動マイクロロボットスイマーの作製
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-134 ベルジャー蒸着装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0140]レジスト用ポリマーのドライエッチング耐性試験
|
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0141]無機半導体薄膜の構造・物性制御
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0142]次世代電池用複合ナノ材料の開発
|
F-UT-145 SEM
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0143]Fabrication of 10 nm-scale gold nanocrystals arrays for biosensing application
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0144]Lamb波振動子の電極パターン形成
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0145]電気泳動用マイクロ流路デバイスの作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0146]マイクロマシン教育のための静電マイクロアクチュエータ設計
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0147]Origami Speaker: 導電性インクの印刷だけで作る折り紙スピーカー
|
F-UT-119 機械特性評価装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0148]薄膜のレーザー加工と加工性能計測のための電気的テスト構造
|
F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0149]微細パターンを有する大面積スタンプ形成
|
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0150]生体内留置可能なフォトニックデバイスモジュールの微細加工
|
F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0151]静電アクチュエータの作製に関する試行利用
|
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0152]ポーラス膜の剥離強度測定
|
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-18-UT-0153]レーザー加工装置によるステンシルマスク作製
|
F-UT-141 UVレーザープリント基板加工装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0002]学生実験用のシリコンウェハーダイシング
|
F-WS-148 ダイシングソー
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0003]IC, LSI の不良解析のためのエッチング検討
|
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0004]熱電発電素子の開発
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0005]電気化学測定のための電極作製
|
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0006]Y2O3 膜の耐エッチング性の比較
|
F-WS-130 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0007]IGZO 基板上へ形成したMIS キャパシタの電気特性
|
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0008]層状ケイ酸塩RUB-15 の薄層化とその層間縮合によるゼオライトの合成
|
F-WS-122 環境維持・制御装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0009]Ni 電鋳
|
F-WS-121 精密めっき装置×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0010]流体デバイスのバイオ応用に関して
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0011]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子および同実装技術の研究（１）
|
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0012]メッキによるシリコン貫通電極の作製
|
F-WS-121 精密めっき装置×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0013]ディーゼルスートセンサーに関する研究（スートセンサーチップの製作）
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0014]高感度プラズモンセンサの開発（１）
|
F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0015]酸化ガリウムパワーデバイスの開発
|
F-WS-139 高耐圧プローバ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0016]薄層CNT の合成条件検討および薄層化無撚CNT 糸の機械的特性評価
|
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-126 FE-SEM
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0017]テラヘルツ帯導波管型平面アンテナにおける金属膜形成
|
F-WS-121 精密めっき装置×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0018]ALD-アルミナ保護膜を用いたプラズモンセンサの作製法の開発
|
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0019]微小突起構造成型用モールドの作製
|
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-126 FE-SEM
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0020]高機能性エネルギーハーベスト材料の新規創出
|
F-WS-148 ダイシングソー
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0021]ビルドアップ樹脂を用いた熱インプリントプロセスによる高アスペクト比極微細ビア電極の 作製
|
F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0022]SU-8 を利用した二重凹型構造の作製
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0023]重水素化DLC の膜密度の深さ方向分析
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0024]ECoG 電極の開発を目指したフォトリソグラフィの相談
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0025]電流印加による銅合金の疲労特性の改善とメカニズムの調査
|
F-WS-122 環境維持・制御装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0026]フォトリソグラフィーによる流体デバイスの作製
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0027]X 線光学素子の作製
|
F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0028]超伝導X 線検出器用Sn 吸収体の作製
|
F-WS-121 精密めっき装置×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0029]Analysis of the passivation layer on Si surface by using ellipsometry
|
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0030]Ni 基合金の溶融塩中での腐食
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0031]環境調和型強誘電体セラミックスの微細加工および微構造解析
|
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0032]PEEK 樹脂を母材とした擬似等方性CFRP 積層板のトランスバースクラック発生 及び疲労特性評価
|
F-WS-122 環境維持・制御装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0033]乳酸測定用マイクロ流体デバイスの試作
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0034]MEMS 熱線流速計プローブの開発
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0035]応力誘導法によるアルミニウムナノワイヤの創製およびその性状評価
|
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0036]Si ナノワイヤ構造熱電素子の開発
|
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0037]Ｎｉ基合金の溶融塩中での腐食
|
F-WS-118 グロー放電分光分析装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0038]大腸菌遺伝子回路が生成する時空間パターン解析用マイクロ流体デバイスの作製
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0039]アルミニウムとCFRTP の接合断面観察
|
F-WS-126 FE-SEM
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0040]TES 型マイクロメータ用パターニングFe 電析
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0041]ナノスケール構造を有するバイオセンサの作製
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0042]ITO 膜の薄膜化
|
F-WS-122 環境維持・制御装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0043]微小流路を用いたバクテリアの長期培養・観察系の開発
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0044]無電解Ni-Fe メッキ
|
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0045]微小電極構造を有するバイオセンサの作製
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-148 ダイシングソー
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0046]高感度プラズモンセンサの開発（2）
|
F-WS-128 電子ビーム描画装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0047]高周波2DHG ダイヤモンドMOSFETs の作製
|
F-WS-128 電子ビーム描画装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0048]超短周期透過型回折格子の作製
|
F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0050]蒸着装置付属の膜厚測定装置と触針式膜厚計との対応
|
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0051]三次元ナノ構造を用いた高耐熱性接合部の形成メカニズム解明
|
F-WS-122 環境維持・制御装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0053]サンプルのEDX 分析
|
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0055]ガラス表面のエッチング
|
F-WS-130 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0057]CFRP 基板のトランスバースクラック発生のAFM による評価
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0059]Si 薄膜中に含まれる微量金属の質量分析
|
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0060]マイクロ流路デバイス作製時の流路の高さの測定
|
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0062]ゼオライト断面試料の作製
|
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0063]Si モールドの作製
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0064]膜小胞の形態観察
|
F-WS-126 FE-SEM
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0065]ナノ構造表面を有するアルミニウムとCFRTP 積層板の接着界面の観察
|
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0066]金属ナノ粒子形成メカニズムの解析、及び金属ナノ粒子の表面特性評価
|
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0067]高分子電解質膜上に形成した電極の断面構造解析
|
F-WS-126 FE-SEM
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0068]水晶ウエハ―のプラズマエッチング
|
F-WS-131 CCP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0069]リチウムイオン電池の性能向上の検討
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0070]Al 配線の断面観察
|
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0071]加熱処理を施した層状ケイ酸塩の断面試料作製に関する相談
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0072]熱インプリント法によるモールドのパターン転写
|
F-WS-141 クリーンルーム × 2
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0073]シリコンラバーの表面処理工法の検討
|
F-WS-141 クリーンルーム × 2
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0074]細胞培養用マイクロ流体デバイスの最適化
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0075]Ag 箔のダイシング加工
|
F-WS-148 ダイシングソー
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0076]アルキル置換ポリフェニレンスルフィドの光学特性
|
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0077]シリコンマイクロ流路による希釈冷凍機の開発
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0078]布サンプルの酸素プラズマ処理
|
F-WS-131 CCP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0080]表面形状プロファイルの非破壊検査方法
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0081]ZrO2 ナノ粒子-ポリマーハイブリッドフィルムの屈折率測定
|
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0082]プラズマを用いた樹脂表面改質
|
F-WS-153 クリーンルーム環境維持装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0083]FeCo 系合金を使った発電素子の評価
|
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0084]persisterの分子機構の解析
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0085]シングルセルレベル観察によって明らかにする硝化菌増殖速度のばらつき
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0086]マイクロ流体デバイスを応用した生分解性ビーズの作製
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0087]圧電ポリマー薄膜への電極の作製
|
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0088]ALD 装置でのSiO2 膜の成膜レシピ開発
|
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0089]機械加工に代わるMEMS 加工技術全般の探索
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0090]高性能ワイドバンドギャップ半導体素子および同実装技術の研究（２）
|
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0091]MTF テストチャートの製作に関する技術相談
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0092]圧電ポリマーを用いた実用的な発電デバイスの試作
|
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0093]高密度カーボンナノチューブフォレストを用いた櫛型電極の作製
|
F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0094]Electroplated surface finishing of micromachined filters at 270 GHz
|
F-WS-121 精密めっき装置×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0095]GaN 系デバイスの信頼性評価
|
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0096]細胞培養用マイクロ流体デバイスの改良について
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0097]有機半導体材料の蛍光スペクトル測定
|
(登録なし)
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-18-WS-0098]DEEP-RIE を用いた高精度な流体デバイス加工
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0001]量子ホールエッジチャネルにおける非熱的準安定状態
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0002]量子ホールエッジチャネルの弾道的ホットエレクトロン輸送
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0003]誘電体ナノ構造および貴金属ナノ構造の試作
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0004]マイクロ流路による高粘性溶液の混合・攪拌の検討
|
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0005]マイクロ流路デバイスによる液中分散粒子の分離
|
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0006]表面活性化接合による磁気光学導波路の開発
|
F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0007]ナノスケールスピントランジスタにおけるスピン依存伝特
|
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0008]室温における安定なスキルミオンの発生
|
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0009]強磁性半導体を用いた高感度異常ホール効果磁気センサー
|
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0010]黒リンをチャンネルとした電気二重層トランジスタのための 6 端子作製
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0011]全自動成膜・評価とベイズ最適化を融合した高 Li イオン伝導薄膜の創製
|
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-155 ダイシングソー
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0012]Mn 添加 InAs/GaSb ヘテロ接合系における量子異常ホール効果に関する研究
|
F-IT-151 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0013]N2 プラズマ活性化による AlN ウェハ接合に向けた検討
|
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-142 基板貼付け装置
F-IT-143 ウェハ洗浄装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0014]シリコンフォトニクスを用いた光アイソレータとセンサに関する研究
|
F-IT-155 ダイシングソー
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0015]誘電体ナノ構造および貴金属ナノ構造のナノスケール光物性評価
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0016]高効率太陽電池に向けた化合物半導体／シリコン接合技術の開発
|
F-IT-144 有機金属気相成長装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0017]高スピン偏極率磁性層を持つトンネル磁気抵抗変化素子の作製
|
F-IT-145 マスクレス露光装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0018]メサ形磁性体へ高効率に圧力を印加する構造の試作
|
F-IT-145 マスクレス露光装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0019]簡易型クロスポイント抵抗変化メモリの作製・評価
|
F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0020]酸化ガリウム MOS フォトダイオードの検討
|
F-IT-148 原子層堆積装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0021]三角格子プラズモニック結晶のバンド構造解析
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0023]InP 系薄膜を用いた光電子集積回路に関する研究
|
F-IT-144 有機金属気相成長装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0024]光集積回路形成
|
F-IT-144 有機金属気相成長装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0025]シリコン基板上ショットキーバリアダイオード
|
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0026]黒リンをチャンネルとした電気二重層トランジスタ作製
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0027] 溶液作製した機能性セラミックス材料の微細構造観察
|
F-IT-135 走査型電子顕微鏡
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0028]コロイド型量子ドットとメタマテリアルの結合を用いた単一光子源の開発
|
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0029]Ag∕Ta2O5/Pt 原子スイッチへの電気的接触の改善
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0030]InP/InGaAs薄膜の形成
|
F-IT-144 有機金属気相成長装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0031]単色磁気プラズモンの電子エネルギー分光
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0032]コンタクトエピタキシャル技術を用いた集積型光非相反デバイスの研究
|
F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0033]シリコン細線プラズモン光導波路に関する研究
|
F-IT-155 ダイシングソー
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0034]黒リンをチャンネルとした電気二重層トランジスタの輸送特性
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0035]Ge 量子ドットデバイス作製に向けた EB レジストの条件出し
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0036]セラミックコーティングの CH4プラズマ腐食試験
|
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0037]ナノワイヤのその場変形 TEM 観察を行うための試料支持基板作製
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0038]分子トランジスタの動作速度評価
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0039]光集積回路形成-メサ基板上
|
F-IT-144 有機金属気相成長装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0042]ナノ構造スピンデバイスの試作に向けた電子ビーム露光装置で作製した位置合わせパターンのマスクレーザー露光機での検出及び位置合わせ技術の開発
|
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-155 ダイシングソー
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0043]微小光学素子向けプロセス技術に関する相談
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0044]Atomic Layer Deposition (ALD) によるSiO2,Al2O3成膜
|
F-IT-148 原子層堆積装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0045]局在プラズモンモードと格子モードの結合
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0046]Ge 量子ドットデバイス作製に向けた二層 EB レジストの条件出し
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0047]熱輻射制御に向けた高屈折率低反射メタサーフェスの作製
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0048]学生実験での集積回路作製のためのリソグラフィ技術
|
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-18-IT-0049]マスクレス露光機による AlN 導波路の作製と測定
|
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-133 プラズマCVD 装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-155 ダイシングソー
F-IT-158 光導波路評価装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0001]極小曲面をテンプレートとするナノ薄膜合成
|
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0002]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発
|
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-219 Deep Si Etcher
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0003]超臨界流体中でのPtエアロゲルの合成と燃料電池電極触媒への応用
|
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0004]微細構造光学素子の作成について
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0005]光・テラヘルツ波制御のための高機能メタマテリアルの提案
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0006]アクリル樹脂基材上へのSiO2膜作製検討
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0007]トンネル接合の作製およびカーボンナノ物質成長制御
|
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0008]ZnO:Al膜と銀膜による赤外線反射膜の作製
|
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0009]光学的観察のための金属フィルタの作製
|
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-216 原子間力顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0010]微細加工を用いた細胞押付用マイクロ基板の作製
|
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0011]細胞培養環境の剛性が細胞機能に及ぼす影響の解明
|
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0012]Vapor-Liquid-Solid成長モードによる機能性酸化物ナノワイヤー成長に関する研究
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0013]フォトカソードのための半導体技術開発
|
(登録なし)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0014]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価
|
F-NU-148 イオン注入装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0015]SiC上グラフェンの界面制御と化学結合状態分析
|
F-NU-221 X線光電子分光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0016]有機電子材料・ナノカーボン物質における新しい光・電子応答現象の探索
|
F-NU-170 段差計
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0017]細胞培養マイクロデバイスの開発
|
F-NU-179 レーザー描画装置
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0018]チタン/アモルファス炭素微細テクスチャーによる高骨形成能・骨接着性表面の創製
|
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0019]天文観測用の接合型Ge遠赤外線検出器の超薄層化・高感度化への挑戦
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-209 ダイシングソー装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0020]微細加工表面での動的接触角決定機構の解明
|
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0021]オンチップ時空間制御による光合成細胞の環境応答機能の解明
|
F-NU-182 スプレーコーター一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-187 ナノインプリント装置一式
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-195 SEM用断面試料作製装置
F-NU-208 プラズマCVD装置
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0022]バイオニックヒューマノイドのシステム統合と眼球モデルの開発
|
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-209 ダイシングソー装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0023]流体制御を基盤とする超高速・超精密単一細胞分取技術の開発
|
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0024]超高速オープンフローサイトメーター
|
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0025]シロイヌナズナの気孔開閉にかかわる細胞壁強度の測定
|
(登録なし)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0026]がん転移悪性度の簡易的評価を目的とした微小流路によるがん細胞力学的特性評価
|
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0027]薄膜金属ガラスを用いた光学デバイスの開発
|
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-210 リアクティブイオンエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0028]超小型速度・濃度計測用プローブの開発
|
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-219 Deep Si Etcher
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0029]GaNトランジスタを用いたマイクロ波無線電力伝送用ダイオードに関する研究
|
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0030]イットリア安定化ジルコニアセラミックのフラッシュ焼結挙動に及ぼす交流電場周波数依存性
|
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0031]高分子材料及び二次元ナノ材料への光共振器導入による発光デバイスの作製
|
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0032]ダイヤモンド内部への変質線形成
|
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0033]現像液添加剤による現像性の影響
|
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0034]シリコン量子ドット発電層の高品質化技術の開発と太陽電池構造の作製
|
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0035]樹脂表面の改質効果
|
F-NU-221 X線光電子分光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0036]パワーデバイスのプロセス技術検討
|
F-NU-167 ICPエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0037]グラフェンデバイス開発
|
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0038]遅い不斉プラズモン場中でのカイラル結晶制御
|
F-NU-203 電子線露光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0039]有機ペロブスカイト太陽電池の薄膜構造解析
|
F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-221 X線光電子分光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0040]絶縁膜／GaN表界面の高感度電子状態計測と酸化膜界面設計の研究
|
F-NU-205 X線光電子分光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0042]FeSiBアモルファス薄膜を用いたひずみセンサの試作
|
F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-180 磁気特性評価システム群
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0043]テンプレート熱分解法による多孔質酸素窒素ドープ炭素材料の合成とスーパーキャパシター電極への応用
|
F-NU-221 X線光電子分光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0044]強誘電体薄膜キャパシタ向け白金電極の作製と評価
|
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0045]筆記用具表面粗さのスケッチに対する影響度評価
|
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0046]高度分離を目的とした機能性ナノファイバー膜の創製
|
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0047]レーザーアブレーション面積および表面状態の計測
|
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0048]超臨界流体急速膨張法によるカロテノイドナノ粒子の調製
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0049]UV硬化型材料の性能評価
|
F-NU-170 段差計
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0050]3次元凹凸構造の作製
|
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0051]GaN 系半導体・光電子デバイスの開発
|
F-NU-162 レーザー描画装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0052]微細加工を用いたバイオマイクロの研究
|
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0053]ESRによるヒト毛髪とラジカルに関する研究
|
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0054]各種材料の反応性プラズマのエッチング特性
|
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0055]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0056]次世代材料のプラズマエッチングの開発
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0057]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0058]プラズマ中の原子状ラジカル解析
|
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0059]切削加工に用いる工具と生成される切りくずの観察
|
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0060]Fabrication and Characterization of Au & Cr thin film, Magnetic Nanostructures
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0061]磁性/非磁性の多層構造を有する磁性ナノワイヤーにおける巨大磁気抵抗効果の観測
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0062]軟X線非線形効果の観測に向けた金属多層膜の作成
|
F-NU-156 8元MBE装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0063]ラシュバ界面を持つ磁性二層膜の磁気光学特性評価
|
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0064]中性子ペンデル干渉法のための単結晶資料作成
|
F-NU-209 ダイシングソー装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0065]PET及びPS表面の元素解析
|
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0066]各種ゴム製Oリングにおける水素プラズマ耐性の評価
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0067]飛翔体搭載用素子開発
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0068]反応性イオンエッチングを用いた焦点制御型回折レンズの作製
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-168 RIEエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0069]複合金属酸化物触媒及び固定化触媒のXPSによる金属価数評価
|
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0070]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発
|
F-NU-180 磁気特性評価システム群
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0071]CoFeSiBアモルファス薄膜の耐熱性向上と磁歪評価
|
F-NU-180 磁気特性評価システム群
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0072]自動車排気ガス浄化フィルタの微細構造可視化
|
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0073]機能性分子薄膜の熱電物性評価用ナノスケール電極アレーの作製
|
F-NU-203 電子線露光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0074]ICP装置を用いたシリコン基板の深堀りエッチングによる集積型ナノ柱状構造の作製
|
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0075]複合高分子／不揮発性液体からなるゲル電解質を用いた色素増感太陽電池の作製
|
(登録なし)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0076]樹脂基板上へのAl膜スパッタリングにおける逆スパッタ処理の有用性検討
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0077]磁性規則合金薄膜の磁気特性評価
|
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0078]光応答性ブロック共重合体薄膜の配向制御と応用
|
F-NU-168 RIEエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0079]CVD成長したWS2原子層を用いた高移動度デバイス作製法の開発
|
F-NU-168 RIEエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0080]多結晶CVD-SiCの粒界分析
|
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0081]酸化合金触媒のメタン水蒸気改質反応への適応
|
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0082]シリコン/磁性体界面におけるスピン流‐電流変換現象の解明
|
F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0083]GaN integration with amorphous substrates via silicon seed layers fabricated by aluminum-induced crystallization
|
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0084]微細加工を用いた細胞圧縮用マイクロデバイスの作製
|
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0085]ワイヤーグリッド型偏光板の加工方法検討
|
F-NU-187 ナノインプリント装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0086]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-203 電子線露光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0087]分子モーターを用いた回転アクチュエーターの作製
|
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0088]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール種依存性
|
F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0089]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発
|
F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0090]次世代ドライエッチング技術の開発
|
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0091]高密度ラジカル源の要素技術開発及び評価
|
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0092]プラズマ処理が炭素表面に及ぼす影響の調査
|
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0093]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究
|
F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0094]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析
|
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0095]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0096]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
|
F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0097]高精度ガラスエッチングの開発
|
F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0098]非反転対称性磁性体の作製と新規スピン光機能の探索
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-203 電子線露光装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0100]単結晶および金属基板上REBa2Cu3O7薄膜の歪評価
|
F-NU-153 薄膜X線回折装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0101]銅配線メッキ膜の解析
|
(登録なし)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0102]有機高分子で被覆された磁性ナノ粒子の磁化測定
|
F-NU-180 磁気特性評価システム群
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-18-NU-0103]フェムト秒レーザによるサファイア極小径深穴開け加工の研究
|
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0001]GaN表面洗浄に関する研究
|
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0002]水溶性ポリマーの微細加工応用の高度化
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0003]GaNなど化合物半導体デバイスの研究開発
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0004]微細加工技術による立体サンプル形成と高機能化（マイクロヒータの製作）
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0005]自己組織化ナノ材料の選択的ドライエッチング及び表面構造観察
|
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0006]マイクロレンズアレイの試作加工の検証
|
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0007]センサ素子のための不純物イオン注入
|
F-TT-207 イオン打ち込み装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0008]反強磁性結合構造の磁壁構造に関する調査
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0009]ナノカーボン材料を用いたバイオセンサーのための分子系の開発
|
F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
F-TT-221 ラマン分光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0010]スピントロニクスの研究
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0011]両極性伝導体におけるスピン流の自律モード発生と共鳴ホール効果
|
F-TT-223 多機能薄膜作製装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0012]電子線描画による流路デバイス用マスク作製
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0013]Al-Ti-N 薄膜サーミスタの形成
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0014]GaN 上へのSiO2 保護膜の成膜
|
F-TT-228 原子層堆積装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0015]ナノカーボンの構造評価
|
F-TT-221 ラマン分光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0016]アルミ板表面微細加工による陽極酸化被膜型感圧塗料の高輝度化
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0017]天文学観測用の新しい回折格子の製作法の開発 II
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0018]カーボン材料の紫外光照射による構造変化の観察
|
F-TT-221 ラマン分光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0019]熱絶縁性と機械強度を合わせ持つマイクロヒータの製作
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0020]磁性ナノワイヤ用基板の絶縁膜の成膜
|
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0021]シリコン単結晶の疲労に関する研究
|
F-TT-211 ダイシング装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0022]塩ビ樹脂の劣化予測に関する研究
|
F-TT-221 ラマン分光装置
F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0023]MOD 法により作製した磁性ガーネットの光学特性
|
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0024]細胞培養用シリコンチップ型マイクロウェルデバイスの試作
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0025]MEMSプロセスに関する特別講義の受講
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0026]H30 年度 電子線描画リソグラフィスクールの実施
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0027]ポリオレフィンの結晶化挙動
|
F-TT-219 多目的X線回折装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0028]シリコンへのリン拡散
|
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0029]第32 回 半導体プロセス実習･講習会の受講
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0030]テラヘルツ領域シングルショット超高速２次元イメージング
|
F-TT-207 イオン打ち込み装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0031]インプラント型デバイスのための最小スペース配線技術
|
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0032]カーボンナノチューブのパターニング合成による撥水基板の作製と制御
|
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0033]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(1) X線構造解析技術の習熟」講習会に参加して
|
F-TT-219 多目的X線回折装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0034]重金属下部層を用いた希土類細線中の電流誘起磁壁移動の観察
|
F-TT-229 偏光顕微鏡（青色レーザー照射可能）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0035]シリコンオプティカルベンチ用レジストプロセス
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0036]ナノピラー付きマイクロ流路デバイス用パターン形成
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0037]光応答性近接ナノ構造の作製
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0038]Mg ドープGaN の活性化とオーミック電極の形成
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0039]スパッタ薄膜の耐久性評価
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0040]外場を用いたフェリ磁性体の磁気的性質の制御
|
F-TT-223 多機能薄膜作製装置
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0041]シリカガラス中のP 周辺構造の探索
|
F-TT-221 ラマン分光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0042]ナノホールパターン形成
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0043]溝形成ウエハへのパターニング
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0044]デジタルマイクロスコープを用いた亜鉛ウィスカの観察
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0045]磁性膜を利用したグアニン結晶の磁気アシスト法に関する研究
|
F-TT-223 多機能薄膜作製装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0046]太陽電池に関する体験実験
|
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0047]「高分子およびソフトマテリアル材料のための機器分析講座(2) 赤外ラマン振動解析の基礎と応用講座」に参加して
|
F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0048]2018 年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0049]2018 年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講
|
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0050]半導体ナノ粒子の応用
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0051]H30 年度 切削加工面性状の面品位の定量化
|
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0052]8.2m すばる望遠鏡のMOIRCS 用高分散グリズムの開発
|
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-18-TT-0053]2018 年度 実習コース「微細構造による撥水効果」講習会の受講
|
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0001]熱トンネル現象を用いた冷却素子及び熱発電素子の開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0002]せん断型ひずみゲージ集積型試験片を用いた単結晶シリコン並列引張疲労試験
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0003]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現
|
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0004]固体発光性ジイミンホウ素錯体ホモポリマーの薄膜構造解析
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0005]ナノフォーム
|
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0006]微細3次元ナノインプリントモールドの製作
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0007]微細3次元ナノインプリントモールドの製作
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0008]単結晶シリコンへき開破壊により形成したナノギャップの間隔制御・電流計測用MEMSデバイスの開発
|
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0009]臨床検査デバイスの開発
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0010]ナノインプリントリソグラフィ用UV硬化樹脂の検討
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0011]プラズマインジケータの研究開発
|
F-KT-300 簡易RIE装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0012]導体デバイス組立て材料の高温環境試験に関する研究
|
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0013]β-Ga2O3表面における窒化物成長初期過程の研究
|
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-227 紫外線露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0014]軟培養面を用いた細胞挙動制御
|
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0015]接触面の形状計測
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0016]プラズモンによる低光エネルギー駆動スイッチングデバイスの実現
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0017]Si またはSiO2 上のサブミクロンオーダーフォトレジストパターンの作製
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0018]ガラス部材の先端的加工技術開発
|
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0019]グラフェンデバイスの作製
|
F-KT-298 パリレン成膜装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0020]PECVD DLCを被覆したSi微小構造体の引張強度特性に対する成膜バイアスの効果
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0021]MEMS創成技術によって形成したテクスチャ面でのスクイーズ弾性流体潤滑挙動の把握
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0022]スピネル接合基板のSAWデバイス特性評価
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0023]窒化ケイ素セラミックスの抗菌活効果と骨伝導効果の評価
|
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0024]各種光閉じ込めデバイスへの光結合素子および機能素子の基礎研究
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0025]食品ナノ粒子の構造・物性測定
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0026]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
|
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0027]ミストCVD 法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
|
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0028]微小周期構造を持つクラッド層を用いたレーザ構造に関する研究
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0029]半導体異種材料接合の研究
|
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0030](100)単結晶シリコンを用いた同調型振動リングジャイロスコープにおける形状補償
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0031]薄膜アクチュエータの研究開発
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0032]フォトリソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とMEMSプロセス開発
|
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0033]表面弾性波を利用した微量液滴撹拌による高感度電気化学検出
|
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0034]先進複合材料の破壊特性に関する微視的観察による評価
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0035]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0036]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM 観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0037]ウェハー加工技術開発
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-242 熱酸化炉
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0038]圧電体材料における結晶軸とGHz帯表面弾性波伝播特性の関係調査
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0039]ナノ構造による光制御技術
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0040]顕微ラマン分光を用いたへき開面ナノギャップの温度差測定
|
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0041]金属薄膜形成及びドライエッチングによる試料加工技術の開発
|
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0042]SiGe薄膜の機械物性計測
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-256 レーザダイシング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0043]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0044]原子間力顕微鏡によるナノスケール表面下構造可視化
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-259 紫外線照射装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0045]糖鎖修飾ポリオキサゾリンが結晶化により形成する自己組織化体のXRDによる構造解析
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0046]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究
|
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0047]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0048]ポリマ光変調器の低消費電力化
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0049]ドライ酸化による熱酸化膜
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0050]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0051]単結晶シリコンねじり梁を用いた振動型ミラーの共振疲労試験
|
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0052]半導体および絶縁体のナノ構造評価
|
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0053]VUV光による酸化チタン薄膜とマイクロパターンの形成
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0054]キラル置換型ポリメタフェニレンエチニレンの凝集状態でのキラル反転
|
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0055]ナノディフェクトマネジメント
|
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0056]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
|
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0057]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
|
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0058]微細表面構造を有する機能性ポリマー薄膜の作製
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0059]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
|
F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0060]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0061]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0062]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0063]水処理膜の表面構造とろ過性能の明確化
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0064]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
|
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0065]ナノ粒子の表面電荷の解析
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0066]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
|
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0067]蛍光偏光法を用いたジェル型温度センサの開発
|
F-KT-272 全反射励起蛍光イメージングシステム
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0068]スパッタ法によるKNN薄膜の形成
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0069]接触面の形状計測 その２
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0070]塗布型太陽電池の薄膜構造評価
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0071]プラズマ暴露による有機系薄膜の粘弾性特性変化および誘電率変化の研究
|
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0072]臨床検査デバイスの開発 ２
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-297 ナノインプリント装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0073]マイクロ流体デバイスの試作
|
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0074]ナノインプリントを用いた光学材料の高性能化
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0075]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0076]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現 その２
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0077]生体分子，細胞，組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0078]熱ナノインプリントにおける気泡欠陥
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0079]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0080]プラズマエッチング装置用新規機能部品の開発
|
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0081]半導体デバイス組立て材料の高温環境試験に関する研究
|
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0082]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発 II
|
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0083]プラズモンによる低光エネルギー駆動スイッチグデバの実現 その２
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0084]核沸騰現象における顕熱輸送に関する研究
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0085]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成 1
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0086]β-Ga2O3表面における窒化物成長初期過程の研究
|
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0087]RF-MEMSデバイスの研究
|
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0088]コヒーレントX線回折イメージングにおける試料調製手法の開発
|
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0089]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製 No.2
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0090]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 その２
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0091]フォトリソグラフィーによる射出成形金型の製作
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0092]各種光閉じ込めデバイスへの光結合素子および機能素子の基礎研究 ２
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0093]エッチングによる金属表面の形状制御
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0094]半導体異種材料接合の研究, No.2
|
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0095]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0096]センシング応用に向けた光集積技術開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0097]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究 No.2
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0098]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス ２
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0099]低分子ゲル化剤の会合体形成機構の解明 2
|
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0100]インダス式印章の製作技術に関する考古学的研究：SEM観察と製作実験に基づいた実証的検討からのアプローチ その２
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0101]新聴覚デバイス作製
|
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0102]位相変調透過板に関する研究
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0103]直接電子移動型酵素電極反応に適した多孔質金電極の作成 2
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0104]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製
|
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0105]低分子ゲル化剤の会合体形成機構の解明
|
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0106]ポリマ光変調器の低消費電力化 ２
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0107]ＭＥＭＳ加工技術を用いたセンサデバイスの開発
|
F-KT-251 レーザアニール装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0108]半導体および絶縁体のナノ構造評価 2
|
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0109]プラズマインジケータの研究開発2
|
F-KT-300 簡易RIE装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0110]：YIGリング共振器を用いたマグノン-フォトン結合の観測
|
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-302 ダイシング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0111]軟培養面を用いた細胞挙動制御
|
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0112]高温パンチクリープ成形による力覚センサの開発, No1
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0113]フォノニック結晶の温度特性解明に関する研究 その１
|
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0114]フォノニック結晶の温度特性解明に関する研究 その２
|
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0115]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0116]MEMSガスセンサの開発
|
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0117]LEDデバイス開発
|
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0118]犠牲層エッチングによる静電駆動素子の作製
|
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0119]Ｘ線１分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0120]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 その１
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0121]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
|
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0122]Nanotech-CUPAL N.I.P KY002 電子線描画装置アドバンストコース <<短期型>>
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0123]アトムプローブ測定に用いるプロトン伝導セラミックスの FIB 加工
|
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0124]ナノインプリントを用いた光学材料の高性能化
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0125]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発
|
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0126]ナノ微細表面構造の特性評価
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-300 簡易RIE装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0127]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発
|
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0128]二次元炭素材料の電気伝導特性解析
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0129]ＭＥＭＳ加工技術を用いたセンサデバイスの開発
|
F-KT-251 レーザアニール装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0130]医療用マイクロデバイスのプロセス開発
|
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0131]量子ドットとナノファイバーからなる複合材料の特性評価
|
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0132]新方式アルミ製放熱材（メタマテリアル放熱材）の量産化技術開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0133]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 その２
|
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0134]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
|
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0135]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
|
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0136]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
|
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0137]3D-MEMS加工技術を利用したマイクロ宇宙推進機の抜本的な推進効率の向上
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0138]マイクロ流体デバイスを応用した細胞塊捕捉技術の開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-295 移動マスク紫外線露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0139]バイオガスを原料とした水素製造に於けるＣＯ2削減に関する分離技術の開発
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0140]DOE(回折光学素子)の試作検討
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0141]ダイヤモンドデバイス用基板の結晶性評価 その１
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0142]ダイヤモンドデバイスの作製、評価 その２
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0143]フォトリソグラフィーによる射出成形金型の製作
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0144]生物の力学的特性測定を目的とした，分子機械型超微小ワイヤレス力センサの開発、その１
|
F-KT-253 基板接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0145]生物の力学的特性測定を目的とした，分子機械型超微小ワイヤレス力センサの開発、 その２
|
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0146]CUPAL 人材育成 MEMS後期
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0147]コヒーレントX線回折イメージング法の効率化に向けた試料作製法の開発
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0148](100)単結晶シリコンを用いた同調型振動リングジャイロスコープにおける形状補償
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-232 レジスト現像装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0149]MEMS試作のフォトリソ工程最適化
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0150]TEER計測用電極付マイクロ流体デバイス
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0151]微細構造面における伝熱に関する研究
|
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0152]静電駆動型MEMS振動子の周波数制御に関する研究開発
|
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0153]食品ナノ粒子の構造・物性測定
|
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0154]MEMS技術を用いた圧力・温度センサーの研究
|
(登録なし)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0155]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0156]量子もつれ光発生のための、高精度窒化シリコンリング共振器の実現
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0157]Body-on-a-Chipへの搭載を目的としたイオン液体型圧力センサ
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0158]細胞局所刺激・応答計測可能なナノマイクロツール開発、その２
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0159]Soil-on-a-chipデバイスの開発
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0160]レーザー実験用擾乱ターゲットの製作
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0161]CUPAL EB描画装置入門コース
|
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0162]細胞局所刺激・応答計測可能なナノマイクロツール開発、その１
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0163]細胞間コミュニケーションのライブイメージング
|
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0164]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
|
F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0165]Si基板の超微細加工
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0166]固体中におけるスピン流輸送現象の解明
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0167]熱起電モジュールの作製 １
|
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0168]ウエハ加工技術開発
|
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-242 熱酸化炉
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0169]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 No.1
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-231 スプレーコータ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0170]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価 No.2
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-262 ボールワイヤボンダ
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0171]マイクロ流路デバイス作製実習および施設利用
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0172]バイオガスを原料とした水素製造に於けるＣＯ2削減に関する分離技術の開発２
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0173]液体金属電極ReRAMの簡易マスキングプロセス
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0174]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0175]CUPAL 人材育成 MEMS通年
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0176]圧電膜とピエゾ抵抗との相互干渉に関する研究
|
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0177]薄膜アクチュエータの研究開発
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-259 紫外線照射装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0178]アパタイト核の複合化による生体活性骨修復材料の開発
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0179]誘電泳動力を用いた粒子整列用マイクロデバイス開発
|
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0180]ポーラスシリコン電極への金属めっき
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0181]シリコンへの化学エッチングによるレーザー照射用構造性ターゲット作製
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0182]色素増感太陽電池の作製
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0183]X 線格子の検討
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0184]光導波路サンプルの作製
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0185]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析
|
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0186]カーボンナノチューブを用いた極性分子吸着ガスセンサの開発 １
|
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-18-KT-0187]高温パンチクリープ成形による力覚センサの開発 No.2
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0002]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0003]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0004]マイクロ流路チップを利用したin vitro神経筋接合モデルの開発
|
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0005]金属ナノ構造の作製と光学特性の評価
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0006]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0007]シリコンミー共振器によるフルカラーの生成と制御
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0008]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発
|
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0009]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡（GIS機能含む）を用いた染色体の構造解析
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0010]ナノギャップ作製に関する研究
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0011]高感度ウイルスナノセンサの開発
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0012]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0013]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0014]ナノ材料の変形・破壊に及ぼす応力集中の影響
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0015]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0016]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
|
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0017]ワイヤーグリッド型偏光板の作製
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0018]プラズモンによるEu添加GaN赤色発光ダイオードの発光強度増大
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0019]高Q値ナノ光ファイバブラッグ共振器の作製
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0020]ダイヤモンド共振器の作製
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0021]新規ナノモールドの開発
|
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0022]光バイオセンサの研究
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0024]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価
|
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0025]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0026]フォトニック結晶レーザの開発
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0027]ナノ細孔とナノピラーを用いたDNA センシングデバイスの開発
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0028]ダイヤモンドデバイスの作製・評価
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0030]量子ビームによる最先端微細加工および新機能創製のナノ化学の研究
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0031]集光型プラズモニックナノポアの作製と評価
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0032]両極性伝導体への正孔及び電子スピン注入を目的としたvan der Pauw型微小ホール素子作製
|
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0034]電子線リソグラフィーを利用したカスタム回折格子の作製
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0035]プラズマ援用処理により成長したSiC上グラフェンの構造評価
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0036]分散型ナノギャップ電極を用いた分子の高感度検出
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0038]電子線リソグラフィーにおけるレジストプロセス
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0039]感光性樹脂の開発
|
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0040]有機金属化合物を含む高感度非化学増幅レジストの研究
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0041]微小電極付マイクロ・ナノ流路の作製
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0042]微細表面構造(モルフォ蝶構造)に関する研究
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0043]半導体マイクロ微小球の内部観察
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0045]ラマン分光によるグラフェンの構造評価
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0046]ナノインプリント法によるアルミニウムナノ構造の作製
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0047]EB蒸着装置による炭素化合物成膜
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0048]量子ビームを使った最先端微細加工材料の研究
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0049]ヘリウムイオン顕微鏡を用いたナノポア作製
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0050]Waveguide-coupled monolithically fabricated ZnO nanolaser
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0051]透過型電子顕微鏡用観察サンプルの作製
|
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0052]石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0053]レーザーテラヘルツ放射顕微鏡による半導体デバイスの故障評価
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0055]半導体表面周期構造の観察
|
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0056]GaN微小共振器型波長変換デバイス
|
F-OS-308 深掘りエッチング装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0057]生物材料の物性解析のためのシリコン基板の作成
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0058]シリコンウェーハ研磨加工の高能率・高精度化
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0059]次世代半導体向け極薄Ni配線・拡散防止膜の電気特性評価
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0060]光学コーティング材のインプリント性試験
|
F-OS-316 ナノインプリント装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0061]XFELによる真空回折実験のための光学素子開発
|
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0062]イオンミリングによるパターン形成
|
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0063]ナノ可視化法の開発による染色体研究
|
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-18-OS-0064]250℃耐熱フレキシブル熱電発電モジュールの実用化開発
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化
|
F-GA-324 触針式表面形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0005]Si基板を用いた超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の回折格子作製
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0007]GaN系半導体・光電子デバイスの開発
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0008]遷移金属磁気ライン・メモリーの作製と電流駆動磁壁移動の検証
|
F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0009]光導波路の観測及び作製
|
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0012]環状ＤＮＡ計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0015]Su-8の厚膜レジストを用いた構造体の形成
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0017]THz帯メタマテリアルの作製
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製
|
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0019]医療用センサの製作
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0020]医療用センサの製作
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0023]Siのニードル形状加工
|
F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
F-GA-323 イオンシャワー
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0024]半導体の物性評価
|
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-339 膜厚測定器群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0027]薄膜構造の解析
|
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0033]回折格子の作製
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0034]マイクロ合金トランジスタ作製用デバイスプロセスに関する研究
|
F-GA-324 触針式表面形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0035]選択熱拡散の微細化に関する研究
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0039]メカニカルプラズモンデバイスによるナノ空間プラットホームの構築
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-319 マスクアライナ
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0040]臓器の層間滑りを検知する内視鏡用センサの開発
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0041]カメラのみで触覚を検知する内視鏡用センサの開発
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0045]構造色変化によるセンシングの研究
|
F-GA-319 マスクアライナ
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0046]１分子DNA伸長技術のためのナノ流体デバイス開発
|
F-GA-317 電子線描画装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0049]金属破断面から金属破壊モードの推測
|
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0050]金薄膜基板の作製
|
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0051]磁気テープ表面形状の測定
|
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0052]金属配線用Ti蒸着における条件検討
|
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0053]アルゴンイオンスパッタによる鉄系材料の加工
|
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0054]ステンレス材の面粗さ測定
|
F-GA-324 触針式表面形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0055]磁気テープ表面の粗さ観察
|
F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0058]切り込み付きマイクロニ－ドルのSEM観察
|
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0059]遺伝子導入に向けた細胞配列用デバイスの開発
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0060]光センサのキー部品であるマイクロミラーの試作
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0061]光センサのキー部品であるMEMSシリコン構造体へのTiコート
|
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-324 触針式表面形状測定器
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0062]金属表面の光沢化処理
|
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0063]SOI基板を用いた超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の回折格子の作製
|
F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0064]妊娠期及び授乳期のラットにおけるメラトニン摂取が子ラットの骨石灰化に及ぼす影響
|
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0065]免疫染色を検出するためのマイクロホールアレイデバイスの作製
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0066]低電圧で駆動可能な静電摩擦触覚デバイスの開発
|
F-GA-330 マスクレス露光装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-18-GA-0068]貴金属ナノ複合粒子の原子種分布測定
|
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0001]溶射膜の高信頼化に関する研究
|
F-RO-356 デバイス測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0002]単結晶粒Si/Ge 薄膜トランジスタの作製
|
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-369 表面段差計
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0003]Geコア Si 量子ドット発 光デバイスの開発
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0005]単分子誘電体を組み込んだFET型トランジスタのプロトタイプ作製
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-376 真空蒸着装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0006]酸化膜の深さ方向組成分析
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0007]フォトクロミック金属酸化物の作製とその特性評価
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
F-RO-369 表面段差計
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0008]金属ナノ粒子を用いたペロブスカイト太陽電池の高効率化
|
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0009]金属テストパターンによる高空間分解能光電子分光装置の分解能評価
|
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0010]有機電界効果トランジスタを指向した半導体ポリマー開発
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0011]イオン衝撃による金属ナノ粒子のスパッタリング
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0012]Etching装置を利用したSi waferのDry加工評価
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0013]High-kを利用した4端子連続発振レーザラテラル結晶化低温poly-Si TFT CMOSインバータの開発
|
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0014]微生物を分離培養する新規なデバイスの開発
|
F-RO-373 PDMS加工装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0015]凝集鉱物の不純物濃度の制御
|
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0016]不純物をイオン注入した InGaAs の不純物濃度の評価
|
F-RO-351 二次イオン質量分析機(SIMS)
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0017]スピントラジタ開発に向けた横型バルブ素子よる拡散長の調査
|
F-RO-347 電子ビーム露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0018]イオン注入した半導体基板の結晶欠陥制御
|
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
F-RO-371 汎用熱処理装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0020]低温成長InGaAsの局在準位の評価
|
F-RO-384 ホール効果測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0021]格子歪によるコバルトフェライ薄膜の磁気異方性制御
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0022]半導体薄膜発光素子接合技術の研究
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
F-RO-369 表面段差計
F-RO-371 汎用熱処理装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0023]メニスカス力を用いたSOI膜のフレキシブル基板上への局所転写プロセスの構築
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-371 汎用熱処理装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0024]細菌が合成した半導体の結晶性評価
|
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0025]大気圧熱プラズマジェット照射による表面反応の制御
|
F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0026]p型シリコンへのリンの拡散
|
F-RO-343 リン拡散炉
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0027]ラザフォード後方錯乱測定装置を用いたDLC並びに無機系の蒸着膜の組成分析
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0028]シリコンカーバイド（SiC）・デバイスにおけるイオン注入制御
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0029]ナノワイヤバイオセンサの作製
|
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-368 分光エリプソメーター
F-RO-333 酸化炉
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0030]電界効果型マイクロウォール太陽電池の構造・プロセス検討と基板加工
|
F-RO-337 常圧SiO2CVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0031]デバイス応用に向けて成膜したLPCVD-SiO2の性能評価
|
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-356 デバイス測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0032]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-334 LPCVD装置(poly-Si用)
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-347 電子ビーム露光装置
F-RO-364 エッチング装置（ICP poly-Siゲート用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0033]p 型シリコンへのリンの拡散およびボロンのイオン注入
|
F-RO-333 酸化炉
F-RO-343 リン拡散炉
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0034]低温成長 GaAs 系混晶半導体の熱処理前後の結晶性評価
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
F-RO-353 薄膜構造評価X線回析装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0035]低温成長GaAs 系混晶半導体の表面形状の観察
|
F-RO-352 原子間力顕微鏡(AFM)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0036]電子線検出型イオン分布イメージング用イオンセンサーの開発
|
F-RO-333 酸化炉
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-368 分光エリプソメーター
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0037]金属ナノパターンによる光波制御
|
F-RO-347 電子ビーム露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0038]単結晶シリコン薄膜を用いた繰り返し転写技術の確立とデバイス応用
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-362 エッチング装置（CDE SiN用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0039]ペロブスカイト太陽電池によるフレキシブル基板上の単結晶シリコンCMOS論理回路のバッテリーレス動作
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0040]SiC-MOSトランジスタのセルフアラインプロセス開発
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0041]大気圧熱プラズマジェットによる4H-SiCウェハ中不純物の高速活性化とデバイス作製プロセスへの応用
|
F-RO-344 イオン注入装置
F-RO-384 ホール効果測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0042]シリコンキャップアニールを行ったn型4H-SiCのコンタクト特性に関する研究
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0043]３次元パワーSupply on Chipのプロセス技術の開発
|
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-369 表面段差計
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0044]金属ナノ粒子の形成を目指した脂質膜を反応場とする化学還元法の開発
|
F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0046]金属担持触媒の劣化特性と金属物性の関係の評価
|
F-RO-370 X線光電子分光装置(XPS)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0047]バイオセンサー用酸化チタン光導波路の形成
|
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-347 電子ビーム露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0048]バイオセンサー用途マイクロバルブの作製条件探索
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0049]大面積プラズモニック基板の作製
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0050]GaAs基板上新規構造の結晶学的特性評価
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0051]有機トランジスタの試作
|
F-RO-333 酸化炉
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0052]特殊メタルマスクを用いたミクロン寸法半導体デバイスの形成
|
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0053]金属酸化物薄膜の形成と評価
|
F-RO-369 表面段差計
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-18-RO-0054]DNA Si-MOSFETの作製
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0001]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0002]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
|
F-YA-359 深掘りエッチング装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0004]イソプロピリデン基を２つもつノボラック樹脂の合成とレジスト材としての応用
|
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0005]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発
|
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0006]超音波液滴室温ナノインプリントプリントによるDLCドットアレイの作製
|
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0007]Ti, Cuの2層スパッタ成膜、絶縁層キュア処理
|
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0008]複合材料を用いたマイクロヒータの開発
|
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0009]分光測定用薄膜の作製
|
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0010]各種金属の真空用表面処理の開発
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-354 ガス放出速度測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0011]低温成膜可能で安定性の高い感光性ポリイミドの開発
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0012]感光性樹脂の研究
|
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0013]有機半導体薄膜太陽電池の作製と半導体層の物性評価
|
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0014]金属含有DLCの研究
|
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0015]加熱発生ガスの分析
|
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0016]表面処理したアルミニウム合金のガス放出特性
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-362 ECRエッチング装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0017]ガス放出速度測定装置の真空計の校正
|
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0018]分子フローコントローラーによる真空計校正の検証
|
F-YA-354 ガス放出速度測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0019]高圧液体漏れ検査装置開発のための基礎実験
|
F-YA-355 超高真空分圧測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0020]新規半導体材料の開発
|
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0021]真空蒸着時のフィルムから発生するアウトガス分析
|
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0022]新規機能性樹脂の開発
|
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0023]透明ポリイミドフィルムの開発
|
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0024]宇宙空間におけるオルガノイドの長期維持法の確立
|
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0025]磁化ダイナミクス制御によるコヒーレントスピン波発信源に関する研究
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-362 ECRエッチング装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0026]水素チャージ処理による金属表面状態変化に関する検討
|
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0027]水性亜鉛イオン二次電池のためのフレキシブル層状MnO2正極の開発
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0028]カルコゲナイド系磁性半導体に関する研究
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-362 ECRエッチング装置
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0029]高感度非化学増幅型電子線レジストの開発
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-18-YA-0030]電気二重層キャパシタから発生するガスの分析
|
F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0001]石英基板へのパターンめっき
|
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0002]パワーデバイス用Ni マイクロメッキ接合の機械的強度と微細組織の研究
|
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0003]表面放射電波デバイスの作製に関する研究（Ⅱ）
|
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0004]4×4電極の作製
|
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0005]マイクロ電極を用いたバイオ応用
|
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0006]光エネルギー変換デバイスの開発
|
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0007]CMOS試作によるシリコンウェーハの評価
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0008]窒素ドープされたチョクラルスキーシリコン単結晶の酸素析出挙動調査
|
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0009]イオン注入シリコンウェハの熱処理挙動
|
F-FA-376 ケミカルプロセス装置群(9.高速熱処理装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0010]ナノ機能材料の合成及びナノエネルギーデバイスへの応用
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0011]酸化シリコンの面方向熱伝導率測定
|
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0012]薄膜積層型MEMS熱流束センサを用いた高分解能沸騰熱伝達計測の研究
|
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0013]MEMS傾斜センサの開発
|
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0014]位置検出型ガンマ線マイクロカロリメータの開発
|
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0015]パワーデバイスに関する研究
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0016]超音波カッティング装置による半導体サンプル切断面観察
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0017]露光条件調整におけるレジスト膜厚評価
|
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0018]高感度水素センサの研究開発
|
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0019]超音波センサ向けTx/Rx回路の開発
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0020]Siの可視・近赤外ナノフォトニクス応用
|
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0022]ハーフインチFOWLPの試作開発
|
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-382 組立測定装置群(27.マニュアルプローバ)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0023]機械加工面形状測定用MEMSデバイスの開発
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0024]金銀パラジウム合金に対するアルミナブラスト処理の作用機序
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0025]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
|
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0026]ダイヤモンドトランジスタの微細ゲート作製
|
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0027]微小孔アレイと微小電極アレイを有する細胞解析デバイスの開発
|
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0028]３次元パワーSupply on Chipのプロセス技術の開発
|
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0029]マイクロファブリケーションプロセスを用いた材料表面の機能化
|
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0030]超親水性微細構造を用いたミニチャネル内流動沸騰熱伝達促進
|
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0031]SiCウェハーのチップ加工
|
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0032]界面活性剤を添加した水のプール沸騰気泡底部のミクロ液膜厚さの計測
|
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0033]マイクロストリップ線路上に作成した平行電極による循環腫瘍細胞検出に関する研究
|
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0034]液体金属駆動による熱スイッチング素子の開発
|
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0035]半導体デバイスの腐食評価
|
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0036]歪みセンサーの開発
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0037]SiO2膜付Siウェハ上へのSiN厚膜堆積
|
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0038]感光性樹脂の研究
|
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0039]ペロブスカイト太陽電池の開発
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0040]ダイヤモンド・パワーデバイスの高耐圧化構造作製プロセスの構築
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0041]電極間に固定化したDNAの電気的特性評価
|
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0042]機能性伝熱面の作製
|
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0043]4重極電極の製作
|
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-372 リソグラフィ装置群(13.電子ビーム描画装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0044]光MEMS センサの開発
|
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-374 組立測定装置群(29.デジタルマイクロスコープ)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-18-FA-0045]CMOS集積回路要素技術実習
|
F-FA-381 リソグラフィ装置群(22.EDAツール)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-377 ケミカルプロセス装置群(12.ドラフトチャンバー)
F-FA-379 リソグラフィ装置群(20.超純水製造装置)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-383 組立測定装置群(28.デバイスアナライザ)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
|
