利用報告書一覧

利用報告書一覧

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[代表機関事務局] [北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室] 
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム] [物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム] 
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]  [筑波大学 微細加工プラットフォーム] 
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター] 
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]  [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所] 
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構] 
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門] 
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点] [大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点] 
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室] [広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室] 
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室] [北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター] 


利用課題番号/課題名 利用装置名
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0001]強磁性薄膜エッジを利用した新たなナノスケール接合作製技術
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0002]ガラス成型法によるマイクロ流路の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0003]ガラスナノインプリントにおける離形性の評価  
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0004]生細胞動的計測のための支持基板の試作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0005]ReRAMデバイス作製のための微細加工パターンの作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0006]カーボンデバイス作製装置開発のための触媒薄膜の試作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0007]LDLの酸化度評価のための金基板の試作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0008]LDLコレステロールの酸化度評価のためのセンサーデバイスの開発に必要な電極の試作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0009]量子ドットスピンレーザ開発用試験デバイスの作成
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0010]カーボンナノチューブを利用した太陽光発電デバイスの試作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0011]半導体バイオセンサーに利用する反応電極部評価のための反応電極部の試作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0012]フェムト秒レーザー直接描画及び原子層堆積法による3次元金属フォトニック結晶の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0013]2量体型ナノギャップ金構造体の作製と分光特性
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0014]多偏光スペクトル積算方法を用いたSPRセンサーの開発
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0015]原子層堆積装置を用いた金ナノ構造/酸化チタン電極の作製と光電変換特性
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0016]金2量体構造のギャップ幅制御
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0017]制御された金ナノ構造による蛍光増強の検討
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0018]多偏光スペクトル積算方法を用いたSPRセンサーの開発
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0019]金ナノアイランド/酸化チタン電極を用いた光電変換システム
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0020]銀ナノ構造を用いたプラズモン光電変換システムの構築
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0021]対称型プラズモン構造体の光学特性に関する研究
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0022]時間分解多光子光電子顕微鏡による金ナノ構造のプラズモン特性
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0023]金ナノ構造/酸化チタン電極を用いた全固体太陽電池の光電変換特性
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0024]積層型ナノギャップ金構造のプラズモン分光特性と光電場増強効果
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0025]Agプラズモンによる蛍光体分散ガラス薄膜の発光増強
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0026]ナノギャップ金チェイン構造のプラズモン分光特性と赤外光照射に基づく放射圧
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0027]ファイバー微小球共振器システムに結合した金属ナノ構造体からの非線形発光の観測
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0028]ITO基板上の単一量子ドット発光特性の評価
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0029]ナノスケール鋳型を用いた微細構造制御技術の開発
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0030]レーザー描画装置を用いたマイクロ流路ミキサーの製作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0031]コロナ放電によるガラスの表面処理
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0032]高触媒活性カーボン材料の創製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0033]化学増幅型レジストの高感度化
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0034]バイオミメティックシリコンナノ構造体の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0035]Micropillar法による腱細胞細胞骨格張力および機能の調節に関する検討
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0036]マイクロウェルスライドを利用した段階的濃度分布生成デバイスの開発
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0037]マイクロピラーデバイスを用いた流れ負荷内皮細胞の牽引力計測
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0038]ガラスインプリント用のナノ周期構造金型の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0039]カルコゲナイドガラスへのインプリント加工による赤外デバイスの作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0040]金ナノロッド/酸化チタン電極を用いた光電変換システム
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0041]四角形開口周期構造における光透過率の振動
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0042]半導体量子ドットと金属からなる複合ナノ構造の作製と光学特性 
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0043]固体高分子形燃料電池性能に及ぼす触媒層構造影響に関する研究
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0044]半導体量子ドットを用いた単一光子源の開発
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0045]超薄膜絶縁体を介したスピン注入 
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0046]電子スピン注入による動的核スピン偏極の電気的検出
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0047]CoFe/MgO/SC (SC=Si or Ge)ヘテロ接合におけるスピン輸送特性
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0048]新規高効率光機能デバイスの創成
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0049]細胞機能を制御する三次元培養基材の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0050]金属膜を持つ表面微細構造を用いたラジエータの研究
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0051]シリコン太陽電池パッシベーション用アルミナ膜の検討
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0052]InAlAs量子ドット発光層をもつナノサイズ窓付ショットキーバリアダイオードの作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0053]異方性エッチングによる非対称搬送路の製作
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0054]擬似植物細胞モデルにおける微小管の力学応答特性
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0056]ナノインプリント法による金ナノ構造体の作製と酸化チタン光触媒作用への効果
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0057]スパッタ法による樹脂上への金属薄膜形成
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0058]生体適合性を持つ光学デバイス用チタン窒化物薄膜作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0059]ナノ構造体形成のための高耐圧ガラスマイクロ流路作製の検討
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0060]DNAナノ構造体固定化金基板の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0061]回折格子型プラズモンセンサーデバイスの作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0062]X線回折顕微法用微細サンプルの作製とその評価
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0063]表面増強ラマン散乱を誘起する金ナノ構造による生薬分析
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0064]局在プラズモン増強放射圧のポテンシャル解析
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0065]マイクロピラーアレイによる水輸送基板の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0066]局在プラズモンに及ぼす電場効果についての検討
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0067]熱ナノインプリントによる微細構造制御のための高分子フィルム開発
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0068]生細胞用電極チャンバーの開発
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0069]ハイドロゲルの機能化のためのAu微細構造パターンの転写
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0071]AFM評価用タンパク質吸着基板の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0073]生体計測用微小電極の作製
(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-12-HK-0074]SPRセンサー部への試料導入デバイスの作製
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0001]電子デバイスの構造解析と加工
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0002]シリコン微細構造体加工検討
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0003]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0004]コンデンサマイクロホンの作製
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0005]電気化学LSI へのダイヤモンド電極の集積化プロセスの開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0006]MEMS デバイスの試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0007]ワイヤレスMEMS デバイスの研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0008]超臨界流体を用いた製膜プロセス
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0009]超並列電子源のアクティブマトリックス化
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0010]グラフォアセンブリーによる三次元積層型光電子集積システム・オン・チップ
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0011]マイクロ化フーリエ変換赤外分光計の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0012]MEMS センサ用配線検討
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0013]磁気共鳴力顕微鏡の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0014]有機導電性高分子の電気伝導機構の解明へ向けた研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0015]シリコンウェハ上の微細流路作製
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0016]RF-MEMS のパッケージング
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0017]中性粒子ビームエッチングによるMEMS 特性向上
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0018]大開口面積シリコンRIE 加工方法の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0019]スマートカット法によるSiC カンチレバー
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0020]基板上への1μmL&S のAl 電極作成
F-TU-038 両面アライナ露光装置群(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 アッシング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0021]半導体素子特性変動を軽減させる膜応力構成の調査
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0022]MEMS ピアース型面電子源アレイの開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0024]薄膜の成膜
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0025]電気光学ポリマーの配向プロセスに関する研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0026]ヘテロ集積化初期試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0027]高分解能・高速非接触温度計測技術の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0028]エミッター開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0029]気密封止技術
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0030]ワイヤボンディングの接着確認
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0031]樹脂モスアイパターンへの金属膜の成膜加工
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0032]配線保護膜の形成
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0033]三次元集積システム用Si 貫通配線(TSV)のためのエッチング技術に関する研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0034]3-D IC 作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0035]高アスペクト比静電櫛歯構造の作製
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0036]SOI 基板を用いたMEMS 構造体の試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0037]SOI 基板を用いたMEMS デバイスの試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0038]近赤外波長ベクトルビーム生成用光導波路デバイスの開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0039]陽極接合技術を用いたマイクロSOFC用パッケージの開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0040]レーザによるBST 剥離転写プロセス
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0041]光学デバイス製作の為のメンブレン構造試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0042]SOI基板を用いたMEMS構造体の試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0043]パッシベションSiN膜の高品位化
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0044]集積化マルチバンドフィルタ
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0045]カーボンMEMSの試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0046]超高Δガラス膜の成膜および微細加工
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0047]MEMS可変光メタマテリアルの製作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0048]マイクロ流路の作製
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0049]表面弾性波応用マイクロ流体デバイスの研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0050]広帯域・高消光比ワイヤーグリッド偏光子の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0051]表面周期微細構造を用いた波長選択性熱放射によるメタン改質反応の促進
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0052]ポリマー接合で集積した光通信用波長選択スイッチ
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0054]接触力センサの開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0055]シリコンフォトニクスデバイスの研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0056]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0057]水素吸蔵合金充填層の充填構造変化の観察
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0058]Si上GaNLED 基板を用いたモノリシック集積型マイクロ光エンコーダ
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0059]Thin Film型高出力紫外発光素子の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0060]自己保持機構を用いたシリコン細線導波路光スイッチの製作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0061]材料の微細加工(主にサンドブラスト)の検討
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0062]GaNエピ膜の貼り合せ
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0063]圧電MEMSスイッチ
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0064]極細径光ファイバ圧力センサの開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0065]超低損傷成膜・加工プロセス技術に関する研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0066]SWCNT電極膜の加工
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0067]PCプレートへのAgスパッタ処理
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0068]先端融合領域イノベーション創出拠点形成プログラム「マイクロシステム融合研究開発」
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0069]広帯域反射防止構造の試作
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0070]絶縁膜の形成
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0071]単結晶Si のピエゾ抵抗効果を用いた応力・ひずみセンサの開発と銅配線周辺に発生する残留応力の計測・評価
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0072]半導体三次元実装構造製造工程における残留応力計測技術の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0073]MEMSカンチレバーデバイスの形成
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0074]負誘電率領域のフォノン-プラズモン共鳴を用いたテラヘルツ波発生・検出の研究
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0075]ビットパターンが形成された磁気記録メディアの作成
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0076]CF4プラズマエッチングによる石英の耐腐食性
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0077]ナノインプリント用微細金型の開発
(登録なし)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0078]デバイスの試作
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-045 イオン注入装置群(イオン注入装置、ランプアニール炉)
F-TU-038 両面アライナ露光装置群(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-035 PECVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0080]シリコンウエハの酸化
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0081]プラ-ズマCVD成長グラフェンの精密キャリア輸送特性評価
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0082]ステンシルマスク作成
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東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-12-TU-0083]大気圧プラズマによるSiN薄膜の創成に関する研究
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0001]電子線描画装置を用いた自己形成InAs 量子リングJosephson 接合の作製
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0002]アルミナ及びハフニア絶縁膜を用いたサブミクロンゲートダイヤモンド電界効果トランジスタ
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0003]電子ビーム描画を用いたグラフェン超伝導量子干渉計の作製
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[F-12-NM-0004]MoS2 トランジスタの試作
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[F-12-NM-0005]インプリントリソグラフィ装置を用いたナノ構造の作製
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[F-12-NM-0006]自己形成InAs 量子ドットジョセフソン接合の伝導特性
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[F-12-NM-0007]窒化シリコン膜のドライエッチング加工の検討
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[F-12-NM-0008]MEMSラインを利用した新規試作プロセスの構築
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[F-12-NM-0009]RIE 装置、EB 描画装置、レーザーリソグラフィ装置を用いたグラフェン/NbN の素子の作製
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[F-12-NM-0010]電子ビーム描画装置を用いた超伝導体-半導体-超伝導体接合の作製
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[F-12-NM-0011]バイオセンサー応用のためのエッチング法を利用したホールアレイの作製
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[F-12-NM-0012]超伝導—強磁性体接合(YBCO-LSMO)における輸送現象
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[F-12-NM-0013]架橋型グラフェン量子ナノデバイスの作製
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[F-12-NM-0014]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン/超伝導金属接合の作製
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[F-12-NM-0015]電子線描画およびドライエッチングによる光波メタマテリアル表面の作製
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[F-12-NM-0016]電子線描画およびドライエッチングによる光波メタマテリアル表面の作製
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[F-12-NM-0017]マスクレス露光装置、原子層堆積装置等を用いたリチウムイオン電池用電極材料評価のためのミニセル作製
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[F-12-NM-0018]描画・蒸着・エッチング技術を用いて作製したMIS 型Schottky フォトダイオードによる自己形成InAs 量子ドットへの電界効果の研究
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[F-12-NM-0019]超低電力動作SnXTe100-X/Sb2Te3 希釈系超格子相変化メモリ
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[F-12-NM-0020]塩素系ガスを用いたドライエッチングによる酸化物半導体の微細加工
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[F-12-NM-0021]多色量子ドットによる近赤外広帯域光源に向けた微細加工
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[F-12-NM-0022]リッジペアで構成されるグレーティングによる光制御
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[F-12-NM-0023]新奇光学現象の探索のための3 次元のナノ構造体作製
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[F-12-NM-0024]ホールアレイを用いた透過位相制御
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[F-12-NM-0025]AlGaN/GaN HEMT パワーデバイスの試作
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[F-12-NM-0026]平面型超格子相変化材料メモリの試作と測定
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[F-12-NM-0027]電子線描画装置とドライエッチング技術を用いた近赤外メタマテリアルの作製
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[F-12-NM-0028]電子ビーム描画を利用したプラズモンナノキャビティの作製
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[F-12-NM-0029]PSS のためのサファイア基板ドライエッチング処理
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[F-12-NM-0030]Pt-Au 櫛型電極を用いた過酸化水素センサの開発
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[F-12-NM-0031]ナノアンテナによる多波長遠赤外線受信
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[F-12-NM-0032]Ta2O5/SiO2 誘電体多層膜のTEM 観察
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[F-12-NM-0033]カーボンナノチューブ歪印加素子の開発
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[F-12-NM-0034]アモルファスSi を用いたナノ光デバイスの研究
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[F-12-NM-0035]超低電力動作GeXTe100-X/Sb2Te3 希釈系超格子相変化メモリ
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[F-12-NM-0036]櫛型金電極を用いた非標識免疫センサの作製
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[F-12-NM-0037]中赤外光アンテナの作製と特性評価
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[F-12-NM-0038]中赤外光アンテナの作製と特性評価
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[F-12-NM-0039]環境半導体ベータ鉄シリサイドを用いたナノ光デバイスの研究
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[F-12-NM-0040]赤外線受信素子のMIM ダイオード部分の酸化膜観察
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[F-12-NM-0041]原子間力顕微鏡を用いたグラフェン上金属薄膜形態の観察
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[F-12-NM-0042]電子線描画装置を用いた微細メサ構造、および超伝導接合の作製
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[F-12-NM-0043]樹脂基材上に原子層堆積法で形成したアルミナ膜の特性確認
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[F-12-NM-0044]GaAs フォトニック結晶導波路のアップコンバージョン素子の開発
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[F-12-NM-0045]FIBを用いた二次元フォトニック結晶の作成
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[F-12-NM-0046]発光波長制御されたIn-flushed 量子ドットサンプルのTEM 観察
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[F-12-NM-0047]STM-SQUID顕微鏡の磁場校正用試料の作製
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[F-12-NM-0048]選択成長ナノグラフェン薄膜を用いた電界効果型トランジスタの作成
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[F-12-NM-0049]微細加工技術による共振器構造の作製
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[F-12-NM-0050]ICP装置を用いたサファイアエッチングの検討
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[F-12-NM-0051]細胞機能を制御する三次元培養基材の作製
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[F-12-NM-0052]超微小アルミトンネル型接合によるμSQUIDの作製
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[F-12-NM-0053]赤外線受信素子の高感度構造の作製
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[F-12-NM-0054]超高速伝送に向けたマイクロAuバンプによるインターコネクト技術に関する基礎検討
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[F-12-NM-0055]金属的導電性ラングミュア・ブロジェット膜を用いた分子接合素子の開発
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[F-12-NM-0056]水平配向カーボンナノチューブの合成
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[F-12-NM-0057]走査電子顕微鏡を用いたAu/TiO2 新規ナノ粒子の構造の観察
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[F-12-NM-0058]基板上への金薄膜の作製
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0059]紫外線照射による光学部品劣化の分析
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[F-12-NM-0060]Ag薄膜を用いたバイオ電極アレイの製作
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[F-12-NM-0061]ナノインプリント法による光学素子の作製
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[F-12-NM-0062]micro-SQUIDによる微小Sr2RuO4 片まわりの局所的磁場観測
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[F-12-NM-0063]スパッタ装置を用いた銀蒸着シリコン基板の作製
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[F-12-NM-0064]描画装置および成膜装置を用いた超伝導リングの作製
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[F-12-NM-0065]新規ゲート構造が適用可能なGaAs トランジスタの試作
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[F-12-NM-0066]ナノパターニング技術による高分子強誘電体ゲートFET の作製
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[F-12-NM-0067]レーザー露光装置を用いたパターン付伝導性光学素子の製作
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[F-12-NM-0068]フェムト秒レーザーアブレーションならびにEB リソグラフィーによるホウ酸塩結晶およびガラスにおけるナノホールの形態観察
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[F-12-NM-0069]Si深堀エッチングを用いたスキャニングSQUID プローブの加工
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[F-12-NM-0070]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
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[F-12-NM-0071]原子層堆積装置を用いた絶縁酸化物の合金および磁性半導体上への成膜
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[F-12-NM-0072]三次元実装に向けた放熱流路評価
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[F-12-NM-0073]GaAsへのノーマル電極の作製
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0074]電極活物質評価のためのマイクロセル作製
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0075]電子ビーム描画装置を用いた短チャネルグラフェントランジスタの作製
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0076]走査電子顕微鏡を用いたAu/TiO2 新規ナノ粒子の構造評価
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0077]露光用ユニバーサルキャリア技術の検証
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0078]原子層堆積装置を用いた高誘電率・高耐電圧絶縁酸化物層の磁性半導体上への成膜
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0079]急速アニーリングによる選択的量子構造領域の作製
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0080]パルスアーク放電で生成したOH のPLIF 計測を用いた金属表面上の化学的消炎機構の検討
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0081]MEMS シャッターの宇宙用電子部品放射線試験への応用にむけた試作
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0082]GNR 合成用サファイヤ基板のカット
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0083]フォトリソグラフィー技術による高分子強誘電体微細キャパシタの作製
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0084]インピーダンス変化を用いたワイヤレス温度測定に関する基礎的研究
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0085]原子堆積法による歪みゲルマニウムへのアルミニウム酸化膜の堆積
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物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-12-NM-0086]高移動度チャネル材料の研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0001]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成用触媒薄膜の堆積
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0002]4インチシリコンウェハ上へのナンバリング用パターンの形成
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0003]アニールスパッタカーボンを用いたLSI配線の評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0004]新材料超格子による低消費電力化
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0005]DMEM溶液中Alexa488標識PAMAM-NH2デンドリマーのSPMによる挙動解析
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0006]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0007]酸化物保護膜を用いたCVDグラフェン転写技術の開発
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[F-12-AT-0008]GaN剥離層の成長条件の最適化
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0009]先鋭化金属プローブの作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0010]グラフェンの合成とトランジスタ応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0011]Cu foil表面におけるグラフェン合成
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0012]深堀反応性イオンエッチングプロセスで作製されたシリコン流路パターンの断面観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0013]成長条件によるカーボンナノチューブの抵抗評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0014]AFM測定用試料加工プロセスの検討(1)
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[F-12-AT-0015]アニールスパッタカーボンを用いたLSI配線の評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0016]ナノラマンイメージング用先鋭化金属プローブ形成
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[F-12-AT-0017]金属触媒を用いた多結晶Si結晶成長法の太陽電池への応用研究
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0018]メモリ技術用酸化物薄膜への酸素拡散に関する評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0019]ナノカーボンの電子デバイス応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0020]アニールスパッタカーボンを用いたLSI配線の作製
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[F-12-AT-0021]新材料超格子による低消費電力化
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[F-12-AT-0022]深堀エッチングプロセスで作製されたシリコン流路パターン表面の平滑化プロセスの開発
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[F-12-AT-0023]ポリマ-光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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[F-12-AT-0024]酸化物保護膜/CVDグラフェンのRaman分光分析
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[F-12-AT-0025]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御
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[F-12-AT-0026]CNT/グラフェンの排熱応用
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[F-12-AT-0027]多層グラフェン配線へのインターカレーション
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[F-12-AT-0028]薄膜材料中への酸素拡散評価
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[F-12-AT-0029]CNT/グラフェンの排熱応用
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[F-12-AT-0030]CNT/グラフェンの排熱応用
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[F-12-AT-0031]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成とそのSEM観察
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[F-12-AT-0032]酸化物薄膜の作製と電気特性の評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0033]酸化膜貫通イオン注入後のノックオン成分のプロファイル調査
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[F-12-AT-0034]CNT/グラフェンの排熱応用
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[F-12-AT-0035]電極/酸化物薄膜積層構造の平坦性に与える熱処理工程の影響
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[F-12-AT-0036]4インチシリコンウェハ上に深堀エッチングプロセスで作製したシリコン流路構造深さのウェハ内分布
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[F-12-AT-0037]III-V MOS技術
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[F-12-AT-0038]III-V MOS技術
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[F-12-AT-0039]グラフェンの電子デバイス応用
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[F-12-AT-0040]相変化デバイスの加工
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[F-12-AT-0041]III-V MOS技術
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[F-12-AT-0042]電子ビーム描画装置を用いたグラフェントランジスタの作製
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[F-12-AT-0043]ポリマ-光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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[F-12-AT-0044]ナノデバイス試作
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[F-12-AT-0045]III-Vトンネルトランジスタのデバイス試作
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[F-12-AT-0046]量子ビット用積層型微小ジョセフソン接合の作製プロセス開発
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[F-12-AT-0047]シリコン細線導波路の開発
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[F-12-AT-0048]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究
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[F-12-AT-0049]近接場顕微鏡プローブの作製
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[F-12-AT-0050]AFM測定用試料作成プロセスの検討(2)
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[F-12-AT-0051]DMEM溶液中PAMAM-PEGデンドリマーのSPMによる挙動解析
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[F-12-AT-0052]プラズマTEOS CVDプロセスでシリコン流路構造へ成膜したSiO2薄膜の断面FE-SEMによる観察
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0053]ミニマルファブ技術の研究開発における分析及び評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0054]真空封止技術を利用したモジュール型連動電子ペーパーの検討
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0055]カルコゲナイド材料を用いた相変化メモリ開発
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0056]遷移金属添加半導体のバンド構造解明
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0057]Al2O3を用いた抵抗変化型メモリの開発
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[F-12-AT-0058]ウエハ加工
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0059]スパッタリング法により製膜されたSiON膜の特性評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0060]機能性酸化物を用いたメモリの開発
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[F-12-AT-0061]ナノカーボンの電子デバイス応用
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0062]積層膜及びグラニュラー膜の構造解析
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[F-12-AT-0063]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成のための触媒堆積
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0064]有機半導体結晶の構造評価
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0065]光電子集積試作用金属配線層の作製
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0066]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発
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[F-12-AT-0067]i線露光装置を用いたグラフェントランジスタの作製
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[F-12-AT-0068]光電子集積試作用金属配線層の作製
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[F-12-AT-0069]化学的エネルギーの直接変換により自律運動するナノロボットの開発
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[F-12-AT-0070]円形櫛形電極の作製
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[F-12-AT-0071]Characterization of p- type pyrolyzed parylene C via Raman spectral mapping
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[F-12-AT-0072]FIBによるTEM用試料加工
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[F-12-AT-0073]DMEM溶液中PAMAM-NH2デンドリマーのSPMによる挙動解析
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[F-12-AT-0074]ポリマ-光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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[F-12-AT-0075]ドライエッチングによるシリコン貫通孔形成のための厚膜レジストマスクの開発
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[F-12-AT-0076]光酸発生剤を導入した分子性レジスト
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[F-12-AT-0077]錯体ナノ粒子の研究
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[F-12-AT-0078]EO結晶の薄膜形成
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[F-12-AT-0079]Characterization of n-type pyrolyzed parylene C via Raman spectral mapping
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[F-12-AT-0080]プローブカード開発(プローブ痕観察、深さ測定)
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[F-12-AT-0081]高移動度チャネル材料の研究
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[F-12-AT-0082]プローブカード開発(プローブ痕観察、深さ測定)
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[F-12-AT-0083]超格子相変化膜のXRD測定
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[F-12-AT-0084]光学顕微鏡-AFM混合システムを用いた記録材料評価用素子加工形状の測定
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[F-12-AT-0085]CNTの分散状態観察
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[F-12-AT-0086]分光エリプソメータの利用
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[F-12-AT-0087]XRDによるエピタキシャル膜の面内結晶方位分布測定
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[F-12-AT-0088]多層グラフェンを用いた半導体配線の作製
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[F-12-AT-0089]微小部蛍光X線分析装置(XRF)の利用
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[F-12-AT-0090]SEMによるグラフェントランジスタの観察
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[F-12-AT-0091]酸化膜貫通イオン注入後のボロンプロファイル調査
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[F-12-AT-0092]使用前後の針先端の表面観察
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[F-12-AT-0093]ドライエッチングガス種に依存したシリコン流路底面平坦性のFE-SEM観察による評価
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[F-12-AT-0094]グラフェンをチャネルに用いたトランジスタの評価
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[F-12-AT-0095]SIMS測定による化合物半導体の不純物濃度測定
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[F-12-AT-0096]磁性半導体における交換相互作用の解明と制御
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[F-12-AT-0097]電極材料への酸素拡散に関する評価
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[F-12-AT-0098]ポリマ-光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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[F-12-AT-0099]III-Vトンネルトランジスタにおけるゲート加工
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[F-12-AT-0100]ダイヤモンドプローブの先鋭化と評価
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[F-12-AT-0101]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたMEMSデバイスの試作・研究
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[F-12-AT-0102]FIBによるTEM/STEMサンプル作成
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[F-12-AT-0103]ナノ構造制御された新型ポリマー太陽電池の創製
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[F-12-AT-0104]III-V MOS 技術
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[F-12-AT-0105]ポリマ-光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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[F-12-AT-0106]スクリーン印刷用銅ペーストの開発
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[F-12-AT-0107]FIBによるTEM/STEMサンプル作成
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[F-12-AT-0108]酸化物薄膜の作製と結晶性評価
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[F-12-AT-0109]水酸化カリウム溶液を用いたスキャロプ構造の除去によるシリコン流路の側壁平坦性の改善
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[F-12-AT-0110]SiGe薄膜の結晶評価
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[F-12-AT-0111]有機トランジスタにおけるコンタクト電極構造の最適化
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[F-12-AT-0112]電子線描画用レジストの開発
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[F-12-AT-0113]メタルリフトオフプロセス
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[F-12-AT-0114]i線ステッパーを用いたシリコン流路微細加工用レジストパターン形成
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[F-12-AT-0115]ポリマ-光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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[F-12-AT-0116]カーボンナノチューブを用いたプラグ配線の作製
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[F-12-AT-0117]金属触媒を用いた多結晶SiGe結晶成長法の太陽電池への応用研究
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[F-12-AT-0118]CVD成膜多層グラフェン配線へのインターカレーション
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[F-12-AT-0119]シリコンウエハ中のB拡散プロファイル評価
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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[F-12-AT-0120]Cu薄膜表面におけるグラフェン合成
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[F-12-AT-0121]カーボンナノチューブを用いたプラグ配線の作製
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[F-12-AT-0122]CVD-SiO2薄膜パターンをハードマスクとしたドライエッチングプロセスにより加工したSi流路の断面
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[F-12-AT-0123]酸化物保護膜/CVDグラフェンの電気伝導特性
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[F-12-AT-0124]新材料超格子による低消費電力化
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[F-12-AT-0125]メモリ技術用機能性酸化物薄膜のXPS およびSPMによる評価
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[F-12-AT-0126]CVD成膜多層グラフェンを用いた半導体配線の作製
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[F-12-AT-0127]CNT/グラフェンの排熱応用
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[F-12-AT-0128]超格子膜のXRD測定
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[F-12-AT-0129]GaNのコアレッセンス条件の最適化
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
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[F-12-AT-0130]グラフェンをチャネルに用いたトランジスタの作製
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[F-12-AT-0131]シリコンウエハ中のAs拡散プロファイル評価
F-AT-076 小型真空蒸着装置
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[F-12-AT-0132]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェンの異種分子導入前後の観察
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[F-12-AT-0133]アニールスパッタカーボンを用いたLSI配線の作製
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[F-12-AT-0134]ポリマ-光導波路実装基板の加工技術に関する検討
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0135]CNT/グラフェンの排熱応用
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[F-12-AT-0136]低負荷太陽電池材料・デバイスの深さ方向元素分布の観察
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[F-12-AT-0137]ナノラマンイメージング用先鋭化金属プローブ形成
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0138]液相レーザー法を利用したリン酸カルシウム膜の合成と結晶構造解析
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0139]NiシリサイドナノワイヤFIB加工
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0140]ボッシュプロセスを用いた深堀反応性イオンエッチングにおける保護膜モードの 条件とエッチングされたシリコン表面の平坦性の関係
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0141]PAMAMデンドリマーの液中観察
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0142]相変化メモリの微細ポア形成
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産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0143]FIB&SEMによるTEM用の試料作製に関する技術相談
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0144]ガラス上におけるBaSi2薄膜の作成に関する技術相談
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0145]プローブカード開発
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0146]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0147]電子線描画用レジストの開発
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0148]酸化膜貫通イオン注入後の元素プロファイル調査
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0149]Metal Gate/High-k MOSFETおよびMOS-Capacitor試作
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0150]円形櫛形微小電極の作製
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0151]電気特性測定用の電極形成
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0152]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたMEMSデバイスの試作・研究
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0153]NiシリサイドナノワイヤFIB加工
(登録なし)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-12-AT-0154]ハイドロゲルの機能化のためのAu微細構造パターンの転写
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0001]SiC熱酸化膜の絶縁破壊箇所の断面観察
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0002]CNT試料の成長基部の断面切削加工
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0003]CNT試料の成長基部の高分解能観察と分析
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0004]浸炭鉄の断面加工
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0005]浸炭鉄の高分解能観察と分析
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0006]低融点ビスマスー錫共晶合金の微細組織の観察
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0007]多結晶HfO2膜を流れるリーク電流経路調査
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0008]PVdFナノ粒子のSEM観察
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0009]HBC-TNF自己組織化ナノチューブの構造確認
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0010]無電解金メッキによって作製されたナノギャップ電極の断面観察用試料の作製
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0011]無電解金メッキによって作製されたナノギャップ電極の断面形状観察
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0012]無電解金メッキによって作製されたナノギャップ電極のTEM 試料作製
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0013]銀ナノ結晶電析のその場観察
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0014]イオン液体硬化の電子ドーズ依存計測用金薄膜の形成
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0015]高感度バイオセンシングのための金/絶縁体/金型プラズモニック導波路構造の作製
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0016]化学的エネルギーの直接変換により自律運動するPt/Au型ナノロボットの開発
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0017]三次元細胞組織の再生医療実現に向けた血管構造作製技術の確立
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筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0018]細胞培養のためのマイクロシステム
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0019]薄膜形成のためのスパッタ成膜
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0020]プレーナー型トンネルトランジスタの電気特性とそれを実現するデバイス構造最適化のシュミレーションによる検証実験
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0021]ナノワイヤ型ショットキートランジスタの電気特性予測と構造の最適化
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0022]新材料による半導体ヘテロ接合構造の電流電圧特性
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0023]グラフェンFETのLSIパッケージへのボンディング
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0024]エポキシボンダーを用いた有機導電体ウィスカーのオーミック電極形成
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0025]薄膜結晶太陽電池素子への配線
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0026]CNTファイバーの電気測定用レチクルの作成
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0027]グラフェン転写用アドレスマークレチクルの作成
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0028]GaN HEMTデバイス試作を目的としたマスク作製
(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-12-BA-0029]強磁性窒化物磁性細線の形成
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0001]集積化NEMS-LSI技術による高光効率・低消費電力可変カラーフィルタ(科研若手B)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0002]表面プラズモン超集束を用いた高密度光制御電子源アレイの開発
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0003]金属ナノスリットを用いた軸対称偏光子アレイの開発
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0004]サファイアモノリシック耐食性圧力センサの開発
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0005]波長選択性熱輻射光源の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0006]高効率熱電子発電のためのマイクロ電子源アレイ
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0007]高分解能MRI画像計測のための高感度な折り畳み式マイクロコイルの研究
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0008]3軸力センサを用いたトノメトリ法による血圧計測デバイスの研究
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0009]強磁性体薄膜への微細加工による磁気特性・電気伝導特性制御の研究
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0010]ジブロック共重合体によるミクロ相分離構造の制御の研究
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0011]MEMS型高速波長可変光源(民間等共同研究)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0012]携帯無線機用MEMS 型可変マイクロ波回路
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0013]内閣府/日本学術振興会 最先端・次世代研究開発支援プログラム 「集積化MEMS技術による機能融合・低消費電力エレクトロニクス」
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0014]レーザー描画ディスプレィ用MEMS光スキャナ
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0015]ステルスダイシングを用いた素子のカット
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0016]高性能波長変換デバイスの研究開発
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0017]3次元集積回路
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0018]MEMSプローブアレイのストレージ応用
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0019]プログラマブルMEMS共振子アレイ
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0020]光を用いた微小液滴の非接触ハンドリング技術の開発
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0021]光放射圧を用いたマイクロチップ内微粒子分離
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0022]電気物性の温度依存性を利用した結合反応の促進
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0023]フェニテックCMOS試作によるラジカルセンサ(STARC/科研費採択プロジェクト)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0024]フェニテックCMOS試作による多重書き込み回避型ReRAM回路(科研費採択プロジェクト)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0025]フェニテックCMOS試作による高速サーモビジョンセンサ(科研費採択プロジェクト)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0026]フェニテックCMOS試作による触覚センサ(JST採択プロジェクト)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0027]細胞の自己組織化現象の操作と理解
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0028]超高効率一次元ナノワイヤー熱電変換素子の開発
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0029]マイクロデバイスを用いた細胞融合に基づく細 胞機能制御に関する研究
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0030]テラヘルツ波リアルタイムバイオメディカルイメージング研究
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0031]テラヘルツ波プラズモン計測用のマイクロ流路チップ研究
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0032]MEMS深掘り加工によるSi振動子の作製
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0033]超音波支持ギャップ内圧力測定プロジェクト
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0034]超低電力・多波長同時制御マイクロリング・マッハツェンダー光スイッチの開発 (科研費・基盤研究B)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0035]波長チャネル制御を用いる半導体マイクロリングプロセッサの研究 (科研費・基盤研究Sと同じ)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0036]γ線超伝導転移端マイクロカロリメータ
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0037]不揮発性および再構成可能な機能をもつ半導体材料とデバイスの研究開発 (科学研究費特別推進研究)
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0038]シリコンベース多端子デバイスによるスピン注入と検出
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0039]強磁性半導体GaMnAsのバンド構造:共鳴トンネル分光法による解析
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0040]強磁性半導体GeFeの伝導と磁性
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0041]n型強磁性半導体(In,Fe)Asの作製と物性
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[F-12-UT-0042]マイクロ流体界面電気化学測定法の開発
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[F-12-UT-0043]ナノ細孔におけるイオン輸送現象の解明
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[F-12-UT-0044]実物形状によるシミュレーションのデバイス設計への活用
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[F-12-UT-0045]Smart BlocksIIプロジェクト-紫外線パターン可能なポリイミドを用いたマイクロアクチュエータの研究
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[F-12-UT-0046]化合物半導体とSi回路とを融合させる新規複合デバイスの研究
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[F-12-UT-0047]小型・低価格放射線量モニタリングネットワークシステム
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[F-12-UT-0048]環境発電に用いるマイクロデバイスの研究
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[F-12-UT-0049]無線モジュール電源の開発研究
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[F-12-UT-0050]レーザー計測とMEMS技術の融合による代替燃料の燃焼特性の解明
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[F-12-UT-0051]マイクロ燃焼における化学的消炎効果の解明
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[F-12-UT-0052]高性能触媒層の開発
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[F-12-UT-0053]光電離を用いたエレクトレット荷電方法の研究
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[F-12-UT-0054]MEMS圧電ポリマー構造の開発
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[F-12-UT-0055]宇宙用MEMSアクティブラジエータの研究
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[F-12-UT-0056]液滴高速駆動のためのMEMSピラー構造を用いた超撥液表面の開発
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[F-12-UT-0057]非線形ばねを用いたMEMSエレクトレット振動発電器の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0058]テラヘルツヘテロダインセンシングによる星間分子雲の化学進化の探究
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[F-12-UT-0059]戦略的創造研究推進事業 先端的低炭素化技術開発(ALCA) 超高耐圧高効率小型真空パワースイッチ
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[F-12-UT-0060]フォノン援用エネルギー上方変換を用いた革新的色素増感型太陽電池の創製 および挑戦的萌芽 機能創発型光プロセスを用いた革新的エネルギー下方変換デバイスの開発 若手A
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0061]ステルスダイシングを用いたウエハ劈開特性の研究
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[F-12-UT-0062]極微細シリコン立体構造を用いた流体システム
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[F-12-UT-0063]五神研究室プラズモニックナノ構造プロジェクト
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[F-12-UT-0064]五神研究室テラヘルツ時空間制御プロジェクト
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0065]五神研究室コヒーレントX線プロジェクト
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[F-12-UT-0066]マイクロ流路システムの構造パターンによる細胞移動の方向性制御
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[F-12-UT-0067]格子ひずみ制御によるシリコン上ゲルマニウム受発光デバイスの長波長動作
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[F-12-UT-0068]格子歪みを誘起したシリコン基板上への無転位ゲルマニウム層の形成
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[F-12-UT-0069]シリコンプラットフォームによるバイオセンサの研究
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[F-12-UT-0070]ナノキャビティ構造による熱ふく射スペクトルの制御
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[F-12-UT-0071]長距離電子スピン状態転送を実現する荷電状態制御単一光子素子の研究 (文科省科研費・新学術領域・量子サイバネティクス)
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[F-12-UT-0072]NEDO革新的太陽光発電システムの技術開発
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[F-12-UT-0073]ナノ物体評価のためのシリコンナノピンセットの研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0074]X線照射がDNAに与える損傷をシリコンナノピンセットで測る研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0075]MEMS-in-TEM実験系の構築によるナノ接合機械試験の「その場」観察
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[F-12-UT-0076]シリコンナノ接合の熱伝導測定
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0077]MEMS液体セルを用いた液中現象のTEM「その場」観察
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0078]科研費 挑戦的萌芽研究(H24-25) 「金属ナノ構造を利用した中赤外電磁場の増強と時空間制御」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0079]単一細胞の力刺激反応計測のためのMEMSカンチレバー
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0080]JST 先端計測分析技術・機器開発プログラム 要素技術タイプ 「内視鏡のための単眼三次元異種情報計測システムの開発」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0081]科学研究費補助金 若手(B) 「金ナノディスクペアの局所表面プラズモン共鳴を利用した光計測型応力センサの研究」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0082]液体アクチュエータデバイスの実現
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0083]NEDO受託研究 「グリーンセンサ・ネットワーク技術開発プロジェクト」
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[F-12-UT-0084]生体分子1分子デジタル計数デバイスの開発
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[F-12-UT-0085]裏面金属ナノ構造による太陽電池の光マネジメント
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[F-12-UT-0086]サーメットスラリー作製のための高効率マイクロミキサーの開発
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[F-12-UT-0087]ナノインプリント・陽極酸化・再陽極酸化を用いた酸化ジルコニウムナノワイヤの生成
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0088]沸騰伝熱面のナノインプリント転写構造が熱伝達率に与える影響
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[F-12-UT-0089]微細構造を樹脂フィルムに転写するためのローラ成形技術の開発
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[F-12-UT-0090]フォトニック結晶のための一括リソグラフィ技術の開発
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[F-12-UT-0091]Si基板上のエピタキシャル強誘電体薄膜を用いた圧電駆動型MEMSデバイスの研究開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0092]水平配向SWNTによる電界効果トランジスタの研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0093]グラフェンチャネル電界効果トランジスタの研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0094]フォトニック結晶ナノ共振器によるカーボンナノチューブの発光増強
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0095]カーボンナノチューブの発光における軸方向電界効果
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0096]架橋カーボンナノチューブにおける励起子拡散長のカイラリティ依存性
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0097]強磁性共鳴を用いたカーボンナノチューブへのスピン注入
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[F-12-UT-0098]埋め込みゲート式架橋カーボンナノチューブ発光素子
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0099]単一の窒素ドープカーボンナノチューブの架橋構造作製
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0100]単一の窒素ドープカーボンナノチューブの光学評価
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0101]単一カーボンナノチューブにおける円二色性測定
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0102]シリコン微小ディスク共振器の作製と評価
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0103]科学研究費補助金 基盤研究(A) 大気中常温接合の新手法
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[F-12-UT-0104]実装接合に関する研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0105]熱光起電力発電(TPV 発電)を目指した近接場光の波長制御に関する研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0106]文部科学省地域イノベーション戦略支援プログラム 「京都環境ナノクラスター」オンサイト血液診断装置の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0107]ブロックコーポリマーを用いた自己組織化法による微小ドット形成の可能性
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0108]梁構造を用いたGe導波路のバンドギャップの動的制御(NTT共同研究)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0109]SiNによる歪み印加を用いたGe電界吸収型光変調器の研究 (FIRST/PECST フォトニクス/エレクトロニクス融合システム基盤技術開発)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0110]選択Ge成長膜中の歪み評価(FIRST/PECST フォトニクス/エレクトロニクス融合システム基盤技術開発)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0111]中性ビームエッチングを用いたリング共振器(東北大学流体科学研究所一般公募共同研究)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0112]GCIBを用いたリング共振器の共振波長制御(日本学術振興会/先端拠点事業/JSPS Core-to-Core Program)
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0113]Siフォトニック結晶を用いた光変調器の研究
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[F-12-UT-0114]テクスチャー表面上での濡れ性についての研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0115]ドロネー研ナノアンテナアレイプロジェクト
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[F-12-UT-0116]ドロネー研プラズモニックプロジェクト
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0117]医療用マイクロガスセンサプロジェクト
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0118]皮質脳波計測用神経電極の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0119]分散型超多点神経信号計測システムの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0120]マイクロ加工技術を用いた培養神経細胞ネットワークの解析
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0121]エミッター開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0122]表面拡散による形態変化を利用した3次元微細構造形成
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0123]光学式マイクロ拡散センサーの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0124]光学式マイクロ粘性センサーの開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0125]NEDO 省エネルギー革新技術開発事業「極低消費電力III-V族化合物半導体CMOSの研究開発」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0126]ナノ微細加工技術を用いた電子物性評価技術
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0127]量子もつれ中継技術の研究開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0128]フォトリソグラフィを用いたMOEMS技術の教材開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0129]JST-CRESTプロジェクト「ナノシートをシード層とする機能性薄膜成長」
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0130]1チップ上多色発光LED形成に向けたMOVPEによるGaN選択成長プロセス構築
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0131]シリコンナノピンセットを用いた恒温DNA増幅と電気検出
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0132]微小管・モータタンパク質を用いたタウタンパク質検出方法の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0133]新規センサを目指すCMOS-MEMS 集積化技術
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0134]半導体デバイス向けのリソグラフィ
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0135]新規半導体材料開発のための評価用トランジスタ素子の開発
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0136]3次元電子線リソグラフィシミュレータ FabMeister-ELによるサブ100nm 微細断面形状のシミュレーション精度向上
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0137]システムとして機能を発揮するVLSI研究に向けた微細加工試行利用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0138]集積化音響システムのための微細加工プラットフォーム試行利用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0139]集積六足自立歩行ロボットのための微細加工プラットフォーム試行利用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0140]集積化MEMSによる細胞電位計測システム
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0141]集積化 MEMS で創るエネルギー自立型水上走行素子
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0142]集積化 MEMS によるLSI プロービングシステム
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0143]多層膜を利用したナノパターン法とその応用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0144]微小領域選択有機金属気相成長を用いたIII-V on Si 光デバイス
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0145]コンクリート表面へのテクスチャ加工に関する研究
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0146]高周波アンテナの集積化に向けた微細加工プラットフォーム試行利用
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0147]DNA自律ジョイントを用いたマイクロ部品のセルフアセンブリ
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0148]省電力・長寿命 MEMS メモリを目指すマイクロラッチ機構設計と作製
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0149]曲げによる理想的な曲面を持つ光 MEMS
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0150]低炭素消費型社会に貢献するマイクロ・ナノスマート電荷センサの開発
(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0151]マイクロ・ナノスケールトレンチへの三次元DLCコーティング
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東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-12-UT-0152]SOI基板上標準CMOS回路の後加工による高機能化と発電素子応用
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0001]表面弾性波(SAW)デバイス作成
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0002]めっき法を用いた熱電変換素子マスク作製、プロセス検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0003]強誘電体セラミックス薄膜への電極形成と微細加工
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0004]学生実験用回折格子アレーの作製
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0005]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0006]ナノインプリントにおけるガラスおよびシリコン等耐熱基材へのナノレベルの微細構造転写のための基礎検討
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0007]マイクロチップ電気泳動-質量分析用ポリマーマイクロデバイスの作製
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0008]金ナノドット集積化電気泳動分析用ポリマーマイクロチップの作製
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0009]ALD-Al2O3ゲート絶縁膜の性能評価
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0010]血漿・血球分離のための樹脂流路チップの作製に関する研究
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0011]微細接合用ナノポーラスシートの特性評価に関する研究
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0012]ナノマルチフェロイクス素子開発のためのナノ加工に関する研究
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0013]MEMS技術のための薄膜コーティング
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0014]マイクロ流路デバイスの作製
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0015]SiC基板上のCNTのめっき膜形成検討
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0016]アモルファス金属ガラスへの水素導入とその変形制御
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0017]基板接合技術の開発
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0018]Ni-Nb-Zr-H薄膜を用いたデバイスの作製とI-V特性
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0019]水素導入したアモルファス合金薄膜デバイスの導入水素量と 電気的特性の関係に関する評価
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0020]特殊磁性体材料の逆磁歪効果を用いた発電テバイスの研究
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0021]3次元MEMS加工技術を応用した特殊磁性体材料を用いた発電テバイスの試作
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0022]GaAs上の金膜パターン形成
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0023]狭ピッチプローブプロセス開発
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0024]サブミクロンAu粒子を用いたウェーハ接合
(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0025]Cavity付シリコンチップの製作
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0026]三次元集積デバイスのためのハイブリッド接合技術の検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0027]Si基板への有機ホスホン酸の選択的固定化
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0028]メソポーラスシリカ膜のドライエッチング加工
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0029]金属ナノ粒子作製用添加剤の挙動解析
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0030]Cu基金属ガラス上へのめっき膜形成検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0031]2次元アンペロメトリックセンサの試作
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0032]固体酸化物型燃料電池におけるイオン導電率の検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0033]シアノバクテリアSynechoccocus elongatus PCC 7942の単一細胞に対する位相応答解析
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0034]イオンゲルを用いた電気二重層トランジスタの高速動作
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0035]SiC上のグラフェン薄膜の評価
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0036]高感度ラマン分析用のSERS基板の作成
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0037]過酷酸化条件下でのダイヤモンドの表面処理
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[F-12-WS-0038]メタノール型燃料電池のアノード触媒の研究
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0039]新規微細加工・表面加工技術の開発
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0040]燃料電池におけるアノード触媒の研究
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0041]非晶質Au-Ni合金めっき膜の作製と物性評価
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0042]高分子樹脂上へのめっきによる配線形成
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0043]Al2O3パッシベーションを施した水素終端ダイヤモンドMOSFETの作製および評価
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0044]凸面基板製造技術に関する開発
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[F-12-WS-0045]ALD-Al2O3のMEMSパッシベーションへの応用
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[F-12-WS-0046]高周波FETの特性評価
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0047]有機分子層へのSERS用Ag蒸着膜形成の研究
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0048]薄膜永久磁石駆動集積マイクロポンプの研究
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0049]シリコン製基板と樹脂との接合メカニズムに関する研究
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0050]a-IGZO層への絶縁膜並びに配線層の作製と電気的特性評価
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0051]TSV充填めっき技術における電気化学評価とめっき高速化の検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0052]ミリング装置を用いた素子作製検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0053]微細素子作製におけるイオンミリング装置の応用
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0054]電解磁性めっきにおける均一制御
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0055]狭ピッチプロ-ブの変形制御
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0056]金属薄膜のリフトオフ用・レジストパターン作製
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0057]水素終端ダイヤモンドのAl2O3の製膜およびその保護効果の検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0058]高濃度ボロンドープナノダイヤモンドを用いたP型透明伝導膜の作製
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0059]ナノインプリント・トポグラフィによる表面親疎水性動的変化増強の検討
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早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-12-WS-0060]伸縮可能なMEMSデバイスシートの検討
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0001]極微細ナノインプリント用モールドの作製とデバイス応用
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0002]グラフェンの磁場中電気伝導における化学修飾効果
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0003]フラーレン誘導体ポジ型レジストのEB感度における保護基依存性
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0004]サブミリ波応用に向けた高い遮断周波数を持つInAs HEMTs
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0005]グラフェンホールバー素子の作製
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0006]一次元プラズモニック結晶の表面プラズモンポラリトン
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0007]方形チップ周期構造を有するテラヘルツ波帯人工誘電体レンズの作製
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0008]フッ化グラフェンFETの作製
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0009]III-V 族相補型回路のためのダブルヘテロ接合p 型QWFET
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0010]六方格子プラズモニック結晶からのバンド構造
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0011]プラズモニック結晶中cavityからの光放射
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0012]新規フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストのEB感度評価
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0013]MOCVDによるInP基板上GaInAs結晶成長
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0014]PCVDによるSi基板上SiO2厚膜堆積
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0015]フッ化グラフェンFETの温度特性
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0016]量子ドットによる時間分解トンネル分光測定
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0017]1 THz帯高検出能常温検出器技術の研究
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0018]結晶構造変化Quantum dotのバンド制御
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0019]電子ビーム露光における近接効果補正の評価
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0020]プラズモニック結晶cavityからの光放射の構造依存性
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0021]ダイヤモンドFETの為の微細加工
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0022]Auによるプラズモンアンテナ
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0023]強磁性半導体(Ga,Mn)Asナノバーの作製
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0024]ZEPレジストを用いた電子ビーム複数階調描画 の研究
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0025]光学波面測定用ピンホールアレイの開発
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0026]イオン液体ゲート制御のフッ化グラフェンFETの作製
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0027]EBLによる光導波路側面揺らぎについて
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0028]W-band MMIC の為のInxGa1-xAs メタモルフィックHEMTs
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0029]グラフェン・電極コンタクトの電子輸送特性に対する酸素吸着効果
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0030]グラフェン抵抗変化型メモリの開発
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0031]金属ナノ構造近傍に作用する表面プラズモン光誘起力の定量測定
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0032]非局所配置法を用いたGaAsの純スピン流の検出
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0033]定量的なバイオセンシングを可能とする表面増強ラマン分光法(SERS)基板の開発
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0034]フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの開発
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0035]HSQレジストを用いた電子ビーム複数階調描画 の研究
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東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-12-IT-0036]グラフェンの電子輸送特性に対する吸着酸素の磁気効果
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0001]Fabrication and Characterization of CoFe2O4 and Fe3O4 Magnetic Nanoparticles; Fabrication of GMR Thin Film
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0003]高周波共鳴用金属蛇行パターンの製作
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0004]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0005]キューブ状ガラスビームスプリッターへのスリット形状転写
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0006]MEMSデバイスの研究開発
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0007]マイクロセンサの開発
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0008]GaAsを用いたAFMプローブの開発
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0009]シリコンMEMSの強度信頼性評価と疲労破壊機構の解明に関する研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0010]形彫放電加工機用2次元マイクロ加工電極形成技術開発
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0011]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0012]機能性ナノワイヤの創製と性能評価に関する研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0014]有機ラジカル薄膜の構造決定
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0015]SiC表面分解法によるカーボンナノチューブの構造制御
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0016]ブロック共重合体の設計とナノ構造形成に関する研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0017]金属ナノクラスター触媒の構造解析
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0018]光触媒の構造評価
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0019]リモート水素プラズマ支援によるCoPt合金ナノドットの高密度形成
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0020]超高速操作による細胞計測と自立誘導モニタリング
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0021]RTV615を使用した多層マイクロ流路作成
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0022]タングステン酸化物ナノロッドの構造解析
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0023]DNAハイドロゲルの金属化により金属フィルム創製と評価
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0024]超臨界流体噴霧による天然有価物の微粒子化
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0025]人工骨用無機/有機複合材料の表面構造解析
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0026]電池材料を指向したナノ構造炭素系材料等の形状・生成プロセスの解明
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0027]磁気記録用ビットパターンド媒体の研究
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0028]SEMによるHeイオン照射タングステン材の観察
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0029]高分子膜へのAl薄膜の真空蒸着
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[F-12-NU-0030]化合物系半導体量子井戸構造へのスピン注入に関する研究
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[F-12-NU-0031]化合物系半導体/酸化物半導体ナノワイヤ構造の評価に関する研究
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[F-12-NU-0032]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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[F-12-NU-0033]極微細カーボンナノチューブデバイスの作製
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[F-12-NU-0034]ラジカル注入型プラズマ源によるシリコン薄膜
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[F-12-NU-0036]プラズマエッチング中のポリマー表面反応解析
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[F-12-NU-0037]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
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[F-12-NU-0039]食品衛生の大気圧プラズマ利用のラジカル解析
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[F-12-NU-0047]非接触ウェハ温度計測に関する研究
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[F-12-NU-0054]マイクロ放電装置による真空紫外発光量の計測
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[F-12-NU-0068]NEA表面を利用した伝導電子エネルギーの測定
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[F-12-NU-0069]GaAs(110)基板上へのCs/GaAs NEA表面の形成と評価および(001)基板との比較を通じたCs/GaAs表面構造の研究
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[F-12-NU-0070]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究
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[F-12-NU-0071]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究
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[F-12-NU-0072]グラフェンの合成とカーボンナノチューブ/金属接合特性の評価
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[F-12-NU-0073]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究
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[F-12-NU-0074]1分子DNA解析ナノデバイス開発
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[F-12-NU-0075]高品位鉄砒素超伝導薄膜のMBE成長
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0076]超高分解能原子核乾板におけるイオン注入装置を用いた低速イオン飛跡における検出器性能評価
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0077]マイクロリアクタの作成
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名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-12-NU-0078]ヘリウム照射金属のナノ形状変化
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0001]マイクロ流路の生産安定性向上に関する研究
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0002]結晶シリコン太陽電池用受光面銀ペーストの焼成挙動について
(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0003]金属ナノ細線体の作製
F-TT-201 電子ビーム描画装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0004]マイクロマシン材料の破壊・疲労機構解明に関する研究
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0005]レーザ直接描画による高屈折角フォトニック結晶作成技術のフィージビリティ調査
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0006]輸送気相法有機結晶の表面モルフォロジー評価
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0007]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置(非Boschプロセス)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0008]化合物太陽電池の微細構造観察
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0009]マイクロ流路デバイスの試作
(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0010]半導体電極の形成技術に関する技術支援
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[F-12-TT-0011]省電力動作で高温が得られるマイクロヒータの開発
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[F-12-TT-0012]バイオナノ分子測定用ギャップ電極の作製
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0013]金属微粒子の構造解析およびCNT局所成長に関する研究
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0014]CNTナノプローブの用途開発
F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0015]サファイア薄板へのTiNのスパッタ成膜
F-TT-197 スパッタ(金属,絶縁体)蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0016]フォトリソグラフィによる立体配線回路の開発
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0017]MEMS振動体における3次元振動状態の評価
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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[F-12-TT-0018]中性子反射率測定用Si系ナノ薄膜試料の作製
F-TT-197 スパッタ(金属,絶縁体)蒸着装置
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[F-12-TT-0019]スーパーコンティニュアム光のMEMSマイクロ流路デバイスへの応用
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[F-12-TT-0020]プラズマを利用しないMEMS犠牲層Siエッチング
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[F-12-TT-0021]強磁性微小細線を用いた論理回路の作製
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[F-12-TT-0022]パワー半導体の開発
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
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[F-12-TT-0023]振動型MEMSデバイスの試作
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[F-12-TT-0024]ランダム位相板の作製とレーザー照射強度の均一化
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[F-12-TT-0025]スピントルクの研究
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[F-12-TT-0026]磁性細線メモリの研究
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[F-12-TT-0028]MEMSノズルを利用した大気圧プラズマ照射
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[F-12-TT-0029]グラフェンの誘電体被覆によるドーピング制御と光学素子の開発
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[F-12-TT-0030]ナノカーボン成長用基板
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0031]ナノカーボン成長用基板
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[F-12-TT-0032]Ⅲ-Ⅴ族半導体(GaAsNなど)の構造評価と伝導特性評価
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0033]結晶シリコン太陽電池反射防止膜の評価
F-TT-217 ライフタイム測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0034]ラマン分光法を用いたナノカーボン成長過程の観察
F-TT-221 ラマン分光装置 一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0035]電子ビーム励起プラズマを利用した光輝窒化処理の評価
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[F-12-TT-0036]カルド系材料を添加したポリ乳酸(PLLA)の結晶化に及ぼす影響を検討する研究支援
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[F-12-TT-0037]スピンコート製膜家庭における鎖状高分子の薄膜結晶化挙動の解明
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[F-12-TT-0038]VDF、TrFEを含む3元系共重合体における結晶構造の相転移現象の研究
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豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-12-TT-0039]X線散乱とラマン散乱の同時測定に関する技術検討
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[F-12-TT-0040]MBEによるInAs量子構造の作製
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[F-12-TT-0041]マイクロマシン材料の破壊・疲労機構解明に関する研究
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[F-12-TT-0042]Properties and Applications of Carbon Nanowalls(CNW)
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[F-12-TT-0043]太陽電池モジュールのラマン分光による評価技術開発
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0001]医療診断用銀微粒子プラズモン電場増強素子とその応用装置の開発
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[F-12-KT-0002]細胞分裂期の細胞膜にかかる張力と分裂軸制御
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[F-12-KT-0003]CKプロジェクト・バイオイメージングデバイス開発
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[F-12-KT-0004]X線1分子計測法の開発
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[F-12-KT-0005]サイズ制御されたナノ粒子の作製
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[F-12-KT-0006]プログラマブル・セルフ・アセンブルを用いたMEMSとナノ構造の融合
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0007]ナノ粒子表面状態と細胞との相互作用に関する研究
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[F-12-KT-0008]薄膜材料の反応生成モデリングおよび電極材料の構造特性評価
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[F-12-KT-0009]ナノインプリントを利用した三次元周期構造形成
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[F-12-KT-0010]細胞親和性付与のための高分子表面改質
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[F-12-KT-0011]薄膜複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明
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[F-12-KT-0012]MEMS流量センサーの開発
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[F-12-KT-0013]表面状態の改質
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[F-12-KT-0014]高分子溶液を用いた電池の研究開発
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[F-12-KT-0015]MEMSデバイスの小型化
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[F-12-KT-0016]PZT圧電薄膜微細加工
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[F-12-KT-0017]圧電膜を利用した音響センサ製作
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[F-12-KT-0018]3次元リソグラフィ用プロセス最適化シミュレータの開発
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[F-12-KT-0019]多チャンネルマイクロチップを用いる血清試料中のがんマーカーの高感度検出法の開発
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[F-12-KT-0020]DNA/Siメモリトランジスタの基板作製
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[F-12-KT-0021]細胞操作用マイクロハンドならびに力センサの開発
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[F-12-KT-0022]節付きBoschプロセスによる3層構造の作製
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[F-12-KT-0023]エキシマレーザアニールによるシリコンマイクロ構造の表面改質
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[F-12-KT-0024]MEMS振動型ジャイロスコープの加速度感度の低減
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[F-12-KT-0025]ビオチン修飾1本鎖DNAを用いたSWCNTの孤立アセンブル
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[F-12-KT-0026]SOG構造を用いた光MEMSチョッパの試作
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[F-12-KT-0027]マイクロ機械構造体の信頼性向上のための単結晶シリコンの破壊特性評価
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[F-12-KT-0028]多段ICP-RIEプロセスによるSiナノワイヤの作製
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[F-12-KT-0029]エレクトロポレーション技術を用いた細胞内物質導入の研究
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[F-12-KT-0030]細胞局所刺激用マイクロデバイスの開発
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[F-12-KT-0031]細胞間相互作用計測デバイスの開発
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[F-12-KT-0032]細胞外微小溶液環境調節デバイスの開発
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[F-12-KT-0033]ナノ構造体の機械特性評価
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[F-12-KT-0034]ナノ構造体の機械特性評価2
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[F-12-KT-0035]KNN圧電薄膜微細加工
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[F-12-KT-0036]GRENE教育事業「マイクロ・ナノ材料コース」
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[F-12-KT-0037]次世代グリーンセンサデバイスの開発
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[F-12-KT-0038]PZT圧電薄膜の転写加工
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[F-12-KT-0039]μ-TAS・MEMS用光硬化性樹脂組成物の光パターニング性評価
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[F-12-KT-0040]KNN圧電薄膜のコンビナトリアル成膜
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[F-12-KT-0041]Si基板上に形成した圧電薄膜の構造解析
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[F-12-KT-0042]生体分子とマイクロナノ構造の融合
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[F-12-KT-0043]ヒューマンエレクトロニクスに関するデバイス及びシステムの研究
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[F-12-KT-0044]マイクロ流路の作製及び構造計測
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[F-12-KT-0045]フィルム基材上の薄膜構造解析
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[F-12-KT-0046]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究
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[F-12-KT-0047]合成化合物の解析
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[F-12-KT-0048]薄膜ピエゾの圧電特性
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[F-12-KT-0049]μ-TAS・MEMS用光硬化性樹脂の細胞培養適性の評価
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[F-12-KT-0050]センシング研究
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[F-12-KT-0051]医用材料の表面修飾法の開発
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[F-12-KT-0052]細胞分析のためのマイクロ流体システムの構築
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[F-12-KT-0053]グラフェンの走査プローブ顕微鏡による評価
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[F-12-KT-0054]クルクミンを用いた新規がん治療法の開発
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[F-12-KT-0055]Shearing干渉計を用いたAt-wavelength波面計測法の開発
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[F-12-KT-0056]多結晶ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価
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[F-12-KT-0057]Si基板への金属ナノ構造形成
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[F-12-KT-0058]GRENE夏期集中講義 「創エネデバイス(圧電)コース」実習セミナー
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[F-12-KT-0059]細胞・生体分子のバイオメカニクス実験手法の開発
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[F-12-KT-0060]ナノ光学用金属ナノ構造体の微細構造観察
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[F-12-KT-0061]金属材料の微細領域における力学的組織変形の観察
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[F-12-KT-0062]ナノゲル集積マテリアルの構造と物性に関する研究
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[F-12-KT-0063]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布制御
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[F-12-KT-0064]ソーダ石英ガラスのヒーリング挙動について
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[F-12-KT-0065]生体分子とマイクロナノ構造の融合
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[F-12-KT-0066]MEMSデバイスの温度特性改善
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[F-12-KT-0067]原子レベルで制御された極性結晶界面の開発とデバイスの実証
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[F-12-KT-0068]細胞内物質導入の基礎研究
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[F-12-KT-0069]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
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[F-12-KT-0070]セラミックス材料のエキシマレーザーアニールに関する研究
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[F-12-KT-0071]MEMSデバイス
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[F-12-KT-0072]マイクロ電極を用いた微小繊維の導電性評価
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[F-12-KT-0073]貴金属代替プラズモニクス材料の開発
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[F-12-KT-0074]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
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[F-12-KT-0075]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製
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[F-12-KT-0076]医療用マイクロ濃縮機における構造の最適化に関する研究
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[F-12-KT-0077]液相法による機能性ナノ・マイクロ構造の構築
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[F-12-KT-0078]テラヘルツ波用パッチアンテナに関する研究
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[F-12-KT-0079]細胞内物質導入の基礎研究
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[F-12-KT-0080]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
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[F-12-KT-0081]ナノ粒子を用いた化学センサに関する研究
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[F-12-KT-0082]非鉛圧電膜の加工技術
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[F-12-KT-0083]基板ダイシング加工
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[F-12-KT-0084]高温斜め蒸着によるGa2O3ナノワイヤの成長に関する研究
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[F-12-KT-0085]光ピンセットを用いたマイクロ粒子に働く誘電泳動力の計測
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[F-12-KT-0086]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成
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[F-12-KT-0087]マイクロ流路を用いた強磁場環境下における赤血球の磁気特性解明
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[F-12-KT-0088]摺動膜のヤング率測定
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[F-12-KT-0089]飲料水の研究開発
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[F-12-KT-0090]ポリマー微小光素子の研究
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[F-12-KT-0091]金ナノ構造体の微細構造観察
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[F-12-KT-0092]ナノ微細加工を応用した新規光学材料・デバイスの研究開発
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[F-12-KT-0093]メタマテリアルを用いたバイオセンシング
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[F-12-KT-0094]β-FeSi2薄膜による熱ふく射の制御
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0095]光学調整用基材へのSiO2スパッタ膜の密着性検証
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0096]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
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[F-12-KT-0097]ナノインプリント用モールド開発
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[F-12-KT-0098]MEMSミラーに関する研究
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[F-12-KT-0099]新規デバイス向けウエハへの微細パターンニング
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[F-12-KT-0100]修飾方法の検討と評価
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[F-12-KT-0101]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証②
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[F-12-KT-0102]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発
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[F-12-KT-0103]ポリイミド膜のドライエッチング評価とそれに基づく改良検討
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京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0104]小型、ローコストMEMSデバイスの開発
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[F-12-KT-0105]イオン液体潤滑膜のマイクロトライボロジー
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[F-12-KT-0106]Si流路加工
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[F-12-KT-0107]高密度光ストレージの研究開発
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[F-12-KT-0108]ナノインプリント用ガラスモールドの量産課題検討
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[F-12-KT-0109]誘電体薄膜のナノパターニング加工
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[F-12-KT-0110]ナノインプリントによる接着性能の改善
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[F-12-KT-0111]MEMS技術を応用したマイクロ流路の作製(ナノプラ学生実習)
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[F-12-KT-0112]圧電薄膜を使用したMEMSデバイスの開発
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[F-12-KT-0113]新しい太陽電池の開発
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[F-12-KT-0114]水素化合物におけるγアルミナの触媒特性の研究
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[F-12-KT-0115]高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省エネ照明デバイスの実証
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[F-12-KT-0116]高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証
(登録なし)
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[F-12-KT-0117]新規鉛フリー圧電材料開発と高周波振動発電デバイスの実証
(登録なし)
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[F-12-KT-0118]ナノ構造体の開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0119]MEMS技術を用いた新しい人工内耳の開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0120]MEMSデバイスの作製プロセス開発
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[F-12-KT-0121]MEMSセンサの開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0122]Si加工技術開発
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[F-12-KT-0123]ドライエッチングによる立体加工
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[F-12-KT-0124]Siナノワイヤの電子物性に関する基礎研究
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[F-12-KT-0125]石英基板の加工
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[F-12-KT-0126]X線回折測定による粉末試料の評価
(登録なし)
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[F-12-KT-0127]インナー素材の開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0128]SEMを用いたろ過膜の表面観察と膜ファウリング評価
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[F-12-KT-0129]ナノ微細構造の開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0130]電子顕微鏡による細胞組織観察
(登録なし)
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[F-12-KT-0131]MOSFETの絶縁膜厚とドレイン電流の関係調査
(登録なし)
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[F-12-KT-0132]バイオMEMSの開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0133]強誘電体薄膜の開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0134]新規半導体薄膜形成のための原料開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0135]リチウムイオン電池の電極材料開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0136]有機トランジスタ素子の電気物性評価及び塗布による素子作製
(登録なし)
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[F-12-KT-0137]光学機能性材料の加工性開発
(登録なし)
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[F-12-KT-0138]微細回折格子の作製
(登録なし)
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[F-12-KT-0139]透明導電膜の評価
(登録なし)
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[F-12-KT-0140]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
(登録なし)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0141]多点櫛形電極の作製
(登録なし)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-12-KT-0142]溶液中における微細粒子の会合状態検討
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0001]X線撮像装置用埋め込みターゲットの作製
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0002]メタマテリアルによる中赤外領域熱輻射スペクトルの制御
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0003]プラズモニック導波路による光伝搬制御
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0004]擬ゼロホール係数材料を用いた電流-スピン流変換機能
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0005]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0006]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0007]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0008]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0010]2端子確率共鳴素子の開発
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0011]酸化物ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創出
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0012]時間分解電子顕微鏡の開発
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0013]STM-SQUID 顕微鏡の磁場校正用試料の作製
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0014]一分子解析技術を用いた革新的なバイオデバイスの開発
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0016]単一DNA 分子検出ナノ構造の作製
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0017]最先端微細加工用レジスト新材料創製
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0018]架橋フッ素樹脂微小部材を用いたUVナノインプリントに関する研究
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0019]極微細加工材料中の放射線化学の研究
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0020]量子ビーム装置への室温イオン液体導入によるマイクロ・ナノ構造体 の作製
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0021]透明伝導膜応用に向けたカーボンナノチューブ薄膜の作製と評価
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0022]希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製(I)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0023]有機化学的手法によるボトムアップ型分子デバイスの作製
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0024]微細構造界面による液晶のパターン配向制御とマイクロ粒子配列に関する研究
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0025]希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製(II)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0026]量子ビームを用いたグリーンポリマーのナノ/マイクロ加工
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0027]DNA自立ジョイントを用いたマイクロ部品組み立てに関する基礎的研究
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0028]量子ビームグラフト高分子電解質を用いたマイクロアクチュエータの作製
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0029]高精細電子レジストの評価
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0030]細胞操作用マイクロハンドならびに力センサの開発
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0031]イオンビームを用いた高分子材料の微細加工と照射効果の検討
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0032]ダイヤモンド加工(Solid Immersion Lens作製)
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0033]サブナノ粒子偏光検出法のためのナノ周期微細構造シリコンデバイスの作製
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0034]アルカリ現像液を不要とする水溶性極端紫外光グリーンレジスト材料の創出
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0035]新規なTEM 用グリッドの作成条件の検討
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0036]強磁性Fe酸化物をベースにしたナノ狭窄型磁気抵抗デバイスの構築
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大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0037]光メタマテリアルによる負の屈折率の実現と制御
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0039]周期的なナノホール構造を形成した硫化亜鉛膜の作製
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0040]高品質ナノ絶縁層の形成に関する検討
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0041]ダイヤモンド単結晶基板の大口径化に向けたヘテロエピタキシャル核発生制御
(登録なし)
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-12-OS-0042]天然多糖類ゲル微細構造体の創製
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0002]五感情報通信用香り発生デバイスの製作と評価
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0003]植物生態情報計測用センサデバイスの製作・評価
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0004]SU-8 を用いた超厚膜樹脂構造体の製作と評価
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0005]電子線描画装置を利用したシリコンナノ構造体の作製
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0006]マイクロ構造を有したSPR バイオセンサチップの開発
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0007]生体分子操作用ナノ構造体の開発
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0008]イオンシャワー装置を利用したマイクロチップデバイスの表面改質
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0009]静電櫛歯を用いたマイクロ発電機の作製
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0010]医療センサに向けたシリコンのマイクロ加工
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0011]電子線描画装置による回折格子マスクの作製
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0012]単一磁区ライン記憶デバイスの作製と評価
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0013]微小センサにむけた微小スプリングの形成
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0015]高反射金属膜形成
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0016]微細デバイスに向けた細線の形成
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0017]ナノ機械物性計測のための引張MEMS デバイスの開発
(登録なし)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0021]ドライエッチングによるフォトマスクの作製
(登録なし)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0023]スピンコート法による液晶性一軸配向薄膜の作製
(登録なし)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0024]高強度テラヘルツ光源用異方性メタマテリアルの製作
(登録なし)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0025]板材の張出し成形における破壊限界ひずみの測定
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0026]LED 光源向け反射構造の微細加工
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0027]全方位分光イメージングの鮮明度改善
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香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0028]植物生体情報計測用マイクロプロ-ブの製作
(登録なし)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0034]高増殖能力を有する海産微細藻類の種同定
(登録なし)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0036]金属新生面によるグリースの分解挙動におよぼす基油と添加剤の影響
(登録なし)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-12-GA-0037]シリコンゴムの転写精度評価
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0001]ナノ空間による生体高分子1分子の疑似2次元解析
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0002]単結晶シリコンの強度を評価するデバイスの試作
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0003]単結晶シリコンの疲労を評価するデバイスの試作
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0004]光デバイス用スポットサイズコンバータの研究
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0005]磁気光学材料を用いた光スイッチの研究
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0006]巨大線状Siグレインを用いた高性能薄膜トランジスタの研究
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0008]LPCVDを用いた多層トンネル接合型PIN太陽電池基板の試作
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0009]LPCVD法による一貫薄膜Si/SiO2多層膜形成法の検討
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0010]LPCVD法による試作多層膜のTEM評価
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0011]表面プラズモン共鳴を用いたノロウイルスセンサの開発
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0012]マイクロパターン化PDMSスタンプの作製
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0013]デバイスシミュレータ(TCADツール)を用いたSi MOSFETのシミュレーション環境の構築
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0014]高速視覚を用いたマイクロデバイスの実時間流速計測システム
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0015]リン添加Niのジャーマナイド化で形成したNiGe/Ge界面ショットキー障壁評価
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0016]NiGe層中へのリンイオン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0017]Ni/Ge界面へのリンイオン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0018]Ge基板への極浅リン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0019]マイクロピラーを持つマイクロ流路における実時間非定常流れ計測
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0020]デバイスシミュレータTCADツールを用いたSi MOSFETとSiC MOSFETのシミュレーションと最適化
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0021]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成(リソグラフィ)
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0022]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成(薄膜形成)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0023]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成(要素)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0024]超臨界二酸化炭素を利用したポリイミド微細加工技術の開発(XPS)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0025]超臨界二酸化炭素を利用したポリイミド微細加工技術の開発(Alスパッター)
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広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0026]前方散乱分析法による硬質CrMo合金めっき皮膜中の水素の分析
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0027]RFスパッタ法を用いた高品質ゲート絶縁膜の形成と評価
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0028]リモート水素プラズマ支援によるFeおよびFeシリサイドナノ構造の高密度形成
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0029]ソフトリソグラフィーを用いた平面パッチクランプ用電極の量産化
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0030]窒化物薄膜の構造と物性
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0031]マイクロ流路内の流速変化に伴う粒子の形状特性の実時間計測
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0032]光入射位置および入射角度検出可能なセンサデバイスの作成
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0033]PIXE法(イオン加速器)を用いる軽元素の定性・定量分析
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0034]微細構造シリコンにおける増強ラマン散乱効果の研究
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0035]金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0036]マイクロ流路内の流速分布及び粒子特性の実時間計測
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0037]半導体デバイスにおける薄膜形成プロセス開発に関する相談
(登録なし)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-12-RO-0038]半導体デバイスにおける高誘電率薄膜形成プロセス開発に関する相談
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0001]チタン製真空フランジの真空封止性能の検討
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0002]種々の材料の真空分圧測定
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0003]チタン材料の光刺激ガス脱離の研究
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0004]金属材料の微細加工
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0005]不純物ドープAlN膜の作成と評価に関する研究
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0006]UHV10元スパッタ装置を用いたPt電極の成膜実験
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0007]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0008]微小磁性体の高周波ダイナミクスの研究
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0009]磁性体を使ったホログラフィーによる3D画像表示の研究
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0010]色素含有薄膜の二光子吸収機能
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0011]'アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した高感度生体成分分析システムの開発
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0012]窒化物被膜の機械的特性等の研究
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0013]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の作成、化学法を用いたシリコン薄膜の作製
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0014]静電吸着力による付着微粒子の除去
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0015]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0016]非対称人工ピンを導入する超伝導素子に関する研究
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0017]顕微鏡マイクロリアクターの溶液トラップ作製
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0018]スパッタ法によるYIG薄膜の成膜
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山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0019]金属材料のガス放出特性に関する技術相談
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0020]真空部品の真空特性に関する技術相談
(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-12-YA-0021]LED用AlN下地膜の作製
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0001]光エネルギー変換デバイスの開発
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0002]水晶のドライエッチング加工技術の開発
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0004]SOI基板上グラフェントランジスタ
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0005]アルミナコーティング粒子の観察・分析
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0006]3C-SiC基板を用いたデバイス作製に関する研究
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0007]DNAの金属被覆によるナノワイヤの形成
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0008]局在表面プラズモン共鳴を利用した血液検査マイクロデバイスの開発
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0009]細胞解析用微小孔デバイスの開発
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0011]マイクロバンプめっきの検討
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北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0012]機能性伝熱面の創製
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0017]Si太陽電池の作製(PBLプロジェクト)
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0018]サブミクロンスパイラル電極を用いた微粒子収集に関する研究
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0019]水晶エッチング速度の測定に向けたエッチング装置の開発
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0021]超小型変位センサの特性に関する研究
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0022]多目的PWMドライバーLSIの試作
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0024]半導体プロセスを利用した変位検出マルチカンチレバーの試作
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0025]超小型電流センサのコイル部作製
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0026]マスク描画装置を用いたカスタムホログラフィック光学素子の製作
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0027]微小アモルファス超伝導体の作製
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0028]水晶MEMS技術を用いた高周波QCMセンサの開発
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0033]MEMS技術に基づいた濡れ制御による機能性伝熱面の創製
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0035]半導体、ソーラー用Siウェハー、ガラス基板の成膜加工
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0038]高感度傾斜センサの生産技術の改善
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0039]イオンビーム照射によるDLCの形成及びその評価
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0041]LED評価基板へのワイヤーボンディング
(登録なし)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-12-FA-0045]半導体基板の膜ロス評価
(登録なし)