| 利用課題番号/課題名 |
利用装置名 |
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0001]擬似植物細胞モデルにおける微小管の力学応答特性
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0002]表面プラズモン共鳴を利用した水中病原微生物検出バイオセンサの開発
|
F-HK-003 マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0003]原子層堆積装置（SUNALE-R)によるAl2O3/TiO2膜の作製
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0004]パターン化DNAブラシの作製と新規レジスト材への展開
|
F-HK-003 マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0005]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0006]プラズモンを用いたナノ粒子トラッピングとポテンシャル解析
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0007]炭素および新規半導体ナノ材料の微細加工
|
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0008]テーパファイバを介した金ナノ構造体のプラズモン励起による2光子励起蛍光
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0009]メタル薄膜へのナノスリットの作製
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0010]光応答性ナノスクロール配列化のためのナノパターン加工した基板の作製
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0011]超薄膜絶縁体を介したスピン注入
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0012]音響センサ基板および神経活動計測に用いる多電極配列基板の開発研究
|
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0013]パラジウムの水素吸蔵反応その場観察
|
F-HK-005 真空蒸着装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0014]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製
|
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0015]PDMS製マイクロデバイスを用いた血管様微小構造の構築
|
F-HK-003 マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0016]シリコンウエハ深堀りエッチング
|
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-006 プラズマCVD装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0017]化学増幅型レジストの高感度化
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0018]イオンビームスパッタ装置によるアルミ薄膜の作製
|
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0019]電気的スピン注入・検出を用いた歪みInGaAsにおけるスピン輸送特性
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0020]Co2MnSi/CoFe/n-GaAs接合におけるスピン注入特性のCoFe層挿入効果
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0021]単一光子・もつれ合い光子対発生源および金属埋め込み型微細共振器の開発
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-014 ドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0022]パルス状コヒーレントX 線溶液散乱法のための溶液試料ホルダの開発
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0023]新規高効率光機能デバイスの創成
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0024]Selective excitation of surface plasmon resonance modes in gold nanoparticles and probing their dynamics by photoemission electron microscopy
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0025]金ナノ粒子を担持した酸化チタン／FTO 電極の光電変換特性
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0026]Dynamics study of plasmon-exciton strong coupling in a hybrid system of silver nanostructures and cyanine dye
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0027]プラズモニック光電気化学触媒を用いた窒素の固定化
|
F-HK-005 真空蒸着装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0028]金ナノ粒子を配置した酸化チタン薄膜電極の作製と光電変換特性
|
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0029]金属ナノ構造／酸化チタン電極を用いた全固体太陽電池の作製
|
F-HK-031 太陽電池評価システム
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0030]金ナノ粒子配列の光学特性とプラズモンモードの研究
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0031]光電子顕微鏡による積層型ナノギャップ金構造の光学特性評価
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0032]光電子顕微鏡を用いたナノギャップ金構造の近接場イメージング
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0033]銀ナノ構造体における局在プラズモンを用いたSiAlON 薄膜の蛍光増強
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0034]フェムト秒レーザー直接描画と加熱による可視波長域にフォトニックバンドギャップを持つ3次元フォトニック結晶の作製
|
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0035]遠赤外光によるプラズモン放射圧の誘起
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0036]酸化物半導体基板上での金ナノ粒子の化学成長と光電変換特性
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-016 真空紫外露光装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0037]Surface-enhanced Raman scattering of crystal violet induced from gold nanocylinder arrays
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0038]Plasmonic properties of single Au and Al nanoblock dimers
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0039]Optical properties of metallic optical antennae in terahertz frequency
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0040]Fabrication of metallic photonic crystals by direct laser writing and atomic layer deposition
|
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0041]Plasmonic-photonic hybrid for ultra-fast optical switching application
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0042]Plasmon-induced water splitting under visible light irradiation
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0043]金属／絶縁体／金属ナノ構造の作製とその光学特性評価
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0044]構造規定ナノ材料の創製
|
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0045]表面微細構造を用いた放射エネルギーの波長制御
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0048]リン酸塩ガラスの化学的耐久性について
|
F-HK-007 液体ソースプラズマCVD装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0049]海洋生物の付着特性調査のためのシリコン微細構造の作製
|
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0050]バイオミメティックシリコンナノ構造体の作製
|
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0051]生体適合性を持つチタン窒化物によるデバイス作製
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0052]異方性エッチングによる非対称搬送路の製作
|
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-006 プラズマCVD装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0054]表面増強ラマン散乱の定量評価用基板の作製
|
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0055]マイクロ・ナノパターン化バイオマテリアルへの細胞接着
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0056]ナノ構造回折格子の作製と量子ドット光デバイスへの応用
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0057]折り畳み可能なマイクロプレートを用いた細胞の立体的な形状変化における細胞の機能測定と再生医療への応用
|
F-HK-003 マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0058]ディウェッティング法を用いたCT錯体の作製
|
F-HK-003 マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0059]スパッタ法による樹脂上への金属薄膜形成
|
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0060]ガラス成型法によるマイクロ流路の作製
|
F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0061]ガラス成型法によるマイクロレンズアレイの作製
|
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0062]ガラスインプリント用のナノ周期構造金型の作製
|
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0064]局在プラズモンに及ぼす電場効果についての検討
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0065]抗生物質検出のためのバイオセンサーチップ開発
|
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0066]微細パターンと生体分子の融合による新規表面増強ラマン散乱測定基板の作製
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0067]Photoreaction project in the environmental remediation
|
F-HK-031 太陽電池評価システム
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0068]安定に分子修飾をしたバイオセンサーの作製
|
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置群
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0069]絶縁膜およびエピ層のエッチング
|
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置群
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0070]Electric Field Effects on Intracellular Function
|
F-HK-003 マスクアライナ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0071]超解像顕微鏡の分解能評価用ナノ流路の作製
|
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置群
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0072]ナノ・エレクトロスプレーイオン化用針の金属加工によるイオン化安定性の評価
|
F-HK-025 スパッタ
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0073]結晶表面の形態観察
|
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0076]Al2O3(0001)面へのCu(111)面露出膜スパッタ蒸着
|
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
|
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-13-HK-0080]スパッタ法により作成したアモルファス酸化物薄膜におけるメムリスティブ挙動
|
F-HK-003 マスクアライナ
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0001]Deep-RIE によるSi 基板のホールパターン加工
|
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0002]SiNパッシベーション膜の評価
|
F-TU-035 PECVD群
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0004]三次元集積システム用Si貫通配線(TSV)のためのエッチング技術に関する研究
|
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0005]3-D IC作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究
|
F-TU-035 PECVD群
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0006]生体試料の高感度熱計測
|
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-051 ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0007]LEDとフォトダイオードを集積したマイクロ蛍光分析デバイスの製作
|
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0008]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0010]高出力紫外発光デバイスの開発
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0011]触覚デバイスと材料技術の検討
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0012]レーザ剥離転写プロセス
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-051 ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0013]先端融合領域イノベーション創出拠点の形成
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-051 ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0014]極細径光ファイバ圧力センサの開発
|
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-054 LPCVD群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0015]近赤外ベクトルビーム生成用光導波路の形成技術の開発
|
F-TU-035 PECVD群
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-041 RIE装置群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0016]超高Δガラス膜の成膜および微細加工
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0017]コンデンサマイクロホンの作製
|
F-TU-054 LPCVD群
F-TU-051 ウェハ接合装置
F-TU-056 Si結晶異方性（アルカリ）エッチング装置群一式（KOH、TMAH）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0018]波長選択性熱ふく射の狭帯域化に関する研究
|
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0019]表面周期微細構造を用いた波長選択性熱放射によるメタン改質反応の促進
|
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0021]ラッチ機構を備えたシリコン細線導波路光スイッチの製作
|
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0022]Si上GaNLED基板を用いたモノリシック集積型マイクロ光エンコーダ
|
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0023]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0024]ヘテロ集積化初期試作
|
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-051 ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0025]ワイヤレスMEMSデバイスの研究
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0026]銅結晶塑性に起因するCu/SiN 界面じん性値の異方性
|
F-TU-035 PECVD群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0028]MEMSピアース型面電子源アレイの開発
|
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0029]MEMSデバイス加工
|
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0030]陽極接合技術を用いたマイクロSOFC用パッケージの性能向上
|
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-051 ウェハ接合装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0031]MEMS可変光メタマテリアルの製作
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0033]皮膚添付型生体成分センサの開発
|
F-TU-043 サンドブラスト
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0034]磁気共鳴力顕微鏡の開発
|
F-TU-043 サンドブラスト
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0035]ナノインプリント用微細金型の開発
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0036]光電子制御プラズマを用いた超精密ドライ研磨プロセスの開発
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0037]微細構造加工方法の検討
|
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0040]ステンシルマスク作成など
|
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0041]超低損傷成膜および微細加工プロセス技術に関する研究
|
F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-050 デジタル顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0042]接触力センサの開発
|
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0043]樹脂モスアイパターンへの金属膜の成膜加工
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0046]感温塗料を用いた低コスト赤外線イメージャーの開発
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-041 RIE装置群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0047]半導体素子特性変動を軽減させる金属配線構成の調査
|
F-TU-041 RIE装置群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0049]マイクロ化フーリエ変換赤外分光計の開発
|
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-043 サンドブラスト
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0051]高性能・低電力三次元集積回路の開発
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0052]薄膜赤外線ｾﾝｻの開発
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0055]微細構造電極・誘電体薄膜の作製法
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0056]基板上への1µm L&SのAl電極作成
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-042 アッシング装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0057]MEMSデバイス開発
|
F-TU-035 PECVD群
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-056 Si結晶異方性（アルカリ）エッチング装置群一式（KOH、TMAH）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0059]プラズマCVD成長グラフェンの精密キャリア輸送特性評価
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0060]グラフェントランジスタの開発
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0061]熱ふく射の波動性制御による電子デバイスの冷却効果の数値化
|
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0062]単層カーボンナノチューブ太陽電池の開発
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0067]高屈折率差光導波路の開発
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0068]特殊マスクの作製
|
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0069]微細周期構造の作成
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0071]微細構造による高効率光取出しの検討
|
F-TU-035 PECVD群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0073]フォトリソグラフィ法による金厚膜回路形成
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0074]光学デバイス製作の為のメンブレン構造試作
|
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0075]MEMSセンサ用配線検討
|
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0076]精密研磨加工の評価技術開発
|
F-TU-050 デジタル顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0078]エミッター開発
|
F-TU-047 電子顕微鏡群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-BA-092 スパッタリング装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0079]シリコン異方性ウエットエッチング加工の低コスト，高精度化
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0080]原子内包フラーレンを用いたデバイスの作成
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0081]バイオテンプレート極限加工を用いたグラフェン量子ドットの作製
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0086]マイクロ構造のナノ制御デバイス開発
|
F-TU-041 RIE装置群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0087]中性粒子ビームを用いた微細加工
|
F-TU-036 スパッタ装置
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0088]電子デバイスの微細加工
|
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-049 段差計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0089]電子線誘起電流イメージングを用いたシリコンの機械的疲労損傷の観察
|
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0090]UV硬化型エッチングマスク用レジストの開発
|
F-TU-041 RIE装置群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0092]共振振動を用いた焦点可変ミラーに関する研究
|
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0096]サファイア基板の加工
|
F-TU-050 デジタル顕微鏡
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0097]N型シリコン基板へのリン拡散
|
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0098]MEMSとメタマテリアルの融合による動的発光制御の実現
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0099]MEMS構造体の試作
|
F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0100]ウェハレベル真空パッケージに関する研究
|
F-TU-036 スパッタ装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0101]高感度センサーの開発
|
F-TU-035 PECVD群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0103]宇宙・衛星技術分野への応用に向けたMEMSデバイスの試作・研究
|
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0104]SON化熱処理実験
|
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0105]機能性薄膜を用いたセンサーおよびアクチュエーターの研究
|
F-TU-053 EB描画装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0106]イオン注入による酸化物ガラスの高機能化
|
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0108]CARE法による車載用SiC及びGaN基板の洗浄技術の開発
|
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0109]音響光学波長可変フィルタの開発
|
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0110]Siピエゾ素子の試作
|
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-041 RIE装置群
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0111]テラヘルツ帯で動作する周期分極反転素子の作製
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0112]石英ガラスの微細加工
|
(登録なし)
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0113]カーボンナノチューブの電気伝導特性ひずみ依存性
|
F-TU-044 酸化拡散炉
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0115]MEMSカンチレバーデバイスの形成
|
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0116]磁歪薄膜MEMSセンサー開発
|
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0117]大面積高速電子線描画用アジャスタ基板の短ＴＡＴ試作
|
F-TU-040 DeepRIE装置
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0118]MEMSデバイスの開発
|
F-TU-035 PECVD群
F-TU-048 膜厚計
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0119]加速度センサの作製
|
F-TU-035 PECVD群
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-045 イオン注入装置一式（イオン注入装置、ランプアニール炉）
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0120]複数のタンパク質モーターによる協同的なビーズ輸送
|
F-TU-037 パターンジェネレータ
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0121]MEMSを用いた光デバイスの開発
|
F-TU-055 エッチングチャンバー一式
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0122]MEMS実習
|
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-040 DeepRIE装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0123]金属薄膜の高精度ドライエッチング工法検討
|
F-TU-041 RIE装置群
|
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-13-TU-0124]波長選択性熱放射を用いた共鳴励起による化学反応促進に関する研究
|
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-040 DeepRIE装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0001]電子線描画による金属ナノギャップ電極のための微細構造の作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0002]PEEM 観察のためのFIB によるナノ加工
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0003]Alignment mark and TSV formation on Si
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0004]高性能GaAs HEMT 簡易評価技術の開発
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0005]プラズモン発光素子の発光メカニズムに関する研究
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0006]ＦＩＢによる微細マスク形成と界面活性剤入りアルカリ水溶液を用いたＳｉマイクロ・ナノ構造体の製作
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0007]FIB 加工による磁性フォトニック結晶の作製
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0008]電子線描画を利用したプラズモンナノキャビティの作製
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0009]SnTe/Sb2Te3 超薄膜超格子
|
F-NM-059 スパッタ装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0010]バンド間位相差ソリトン回路作製
|
F-NM-060 金属蒸着装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0011]化合物ドライエッチング装置を用いた化合物半導体のメサ構造の作成
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0012]カーボンナノ材料歪印加素子の開発
|
F-NM-059 スパッタ装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0013]シリサイド赤外受光素子の開発
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0014]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製（１）
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0015]有機EL のプラズモン散乱と光ナノアンテナの特性評価・応用研究
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0016]電子線描画を用いた強磁性薄膜の細線加工
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0017]バイオセンサーへの応用を目指した集積化基板の作製
|
F-NM-059 スパッタ装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0018]スパッタリングによるバイオセンサ用金電極パターンの形成
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0019]サブ波長グレーティングの作製
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0020]Si 基板表面への金属触媒蒸着
|
F-NM-060 金属蒸着装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0021]MR 素子用微細電極形成
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0022]高い選択比を持つRIE 装置を用いたSiO2/Si 基板への微細孔の加工
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0023]走査電子顕微鏡によるAu-TiO2-Ag ナノ粒子の構造評価
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0024]デバイスプロセスを用いた微細構造の作製
|
F-NM-059 スパッタ装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0025]軟材料の断面加工・観察
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0026]インピーダンス変化を用いたワイヤレス温度測定に関する基礎的研究
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0027]三次元実装に向けた放熱流路評価
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0028]塩素プラズマにおける有機ポリマー材料のエッチング特性
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0029]微細パターンモールドを用いた光ナノインプリントにおける転写性改良
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0030]電子ビーム描画装置を用いた金属ナノ構造の作製
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0031]宇宙用MEMS の試作
|
F-NM-060 金属蒸着装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0032]パルスアーク放電で生成したOH のPLIF 計測を用いた金属表面上の化学的消炎機構の検討
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0033]液滴エピタキシー法によるInAs 量子ドットの作製とその光学特性評価
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0034]レーザーアブレーション及びFIB エッチングによる酸化物へのナノホールの作製とその形態
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0035]リチウムイオン電池用微細加工シリコン負極の作製
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0036]FIB を用いたTlBa2CaCu3Oz(Tl-1223)の微小リングの作製
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0037]高分子強誘電体薄膜特性評価のための微細キャパシタの作製
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0038]電子線リソグラフィによる新規超格子相変化薄膜を用いたデバイスの作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0039]GaAs:N を用いたマイクロピラー光共振器の作製
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0040]シリコン深堀加工を用いたSi 基板を吸収体とする超伝導検出器の開発
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0041]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0042]真空プローバを用いたグラフェントランジスタの電気伝導特性評価
|
F-NM-066 電気計測装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0043]気相中の汚染物質検出用温度補償型QCM 素子の作製
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0044]アミロイドをテンプレートとしたグラフェンナノリボンの電気特性評価
|
F-NM-065 切削・研磨装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0045]高感度CAFM のためのシールド付き導電性AFM プローブの作成
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0046]集束イオンビーム照射によるグラフェンへの欠陥・歪導入と電気特性評価
|
F-NM-066 電気計測装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0047]InGaN 材料未踏デバイス製作のためのプロセス技術構築
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0048]リソグラフィ装置を用いた量子ナノ構造の超伝導輸送特性
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0049]β-FeSi2 からなるフォトニック結晶の作製検討
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0050]量子ドットデバイス作製のためのSiおよびSiO2基板上Au円孔パターンの作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0051]表面プラズモン効果を用いた素子のためのSi 基板上Au 薄膜の微細加工
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0052]表面修飾ナノグラフェン薄膜を用いた電界効果型トランジスタ（FET）の作成
|
F-NM-066 電気計測装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0053]β-FeSi2 からなる二次元スラブ構造フォトニック結晶の設計とプロセス検討
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0054]自己形成量子ナノリングの伝導測定
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0055]ＩｎＡｓ量子ドット及び量子リングを用いたデバイスの作製
|
F-NM-060 金属蒸着装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0056]極低温プローバーシステムを使用したグラフェン電気特性評価
|
F-NM-066 電気計測装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0057]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン超伝導デバイスの作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0058]EB 描画装置等を用いたグラフェン／超伝導体接合を持つデバイスの作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0059]電子ビーム描画装置とRIE 装置を用いたグラフェン-超伝導素子作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0060]電子ビーム描画装置を用いた半導体微小構造形成と超伝導素子応用
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0061]電子デバイス温度測定に向けた4 端子金属構造の作製
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0062]発光波長制御されたInAs 量子ドットによる広帯域光源
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0063]OCT 光源への応用を目指したQD ベース近赤外SLD 光源の作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0064]ナノパーティクルデポジション法で形成した微細円錐バンプの検査
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0065]ALD を利用したパリレン薄膜上への高品質HfO2 およびAl2O3 絶縁膜作製
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0066]局所磁場観測のためのアルミSIS によるnano-SQUID の作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0067]単一微小ジョセフソン接合に対する浮遊容量の影響
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0068]自己形成InAs 量子ドット中に光励起されたキャリアへのシュタルク効果
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0069]電子線描画装置と12 連電子銃蒸着装置を用いた微小SQUID の作成とその性能評価
|
F-NM-066 電気計測装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0070]Si 深堀エッチングを用いたスキャニングSQUID プローブの加工
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0071]SAB 接合界面TEM 観察用試料作製
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0072]レーザー露光装置・RIE 装置を利用した3 次元構造のSQUID の作製
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0073]高品質ゲルマニウム極薄酸化膜の形成
|
F-NM-066 電気計測装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0074]フォトリソグラフィを用いたダイヤモンド上ニッケル膜パターニング
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0075]ドライエッチング耐性と現像性を両立したITO パターニング用フォトレジストの開発
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0076]塩素ガスによる高選択比ITO ドライエッチング条件の検討
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0077]FIB 加工における保護膜としてのSIS-SQUID 上へのSiO2 膜作製
|
F-NM-059 スパッタ装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0078]半導体微細加工技術を用いたグラフェン / NbN の素子の作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0079]アモルファスSi とβ-FeSi2 からなるSi 積層素子の評価
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0080]２次元機能性原子薄膜をチャネルとするトランジスタ形成プロセスの検討
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0081]FIB-SEM ダブルビーム装置を用いた光電子融合ナノエレクトロニックデバイス の作製
|
F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0082]ALD 装置を利用したHfO2 薄膜の作成
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0083]Silicon photonic devices for application
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0084]インプリント技術による微細パタン転写プロセスに関する検討
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0085]電子線描画装置とそれによる重ね合わせを利用した三次元光学異方試料の作製
|
F-NM-059 スパッタ装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0086]La2O3 / hetero-InAs-on-insulator nMISFET 試作
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0087]1550nm での電界吸収型Ge 光変調器の研究開発
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0088]サファイア用ドライエッチングレジストに関する研究
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0089]細胞機能を制御する三次元パターン基材の作製（2）
|
F-NM-062 ドライエッチング装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0090]単結晶金属薄膜を用いたプラズモニック・メタマテリアルの研究
|
F-NM-059 スパッタ装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0091]超伝導—強磁性体接合(YBCO-LSMO)における輸送現象
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0092]Au-Pt くし型 バイオセンサ電極の開発
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0093]AlGaN / GaN HEMT のパワーデバイス応用を目指した研究開発
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0094]流れ方向に温度勾配を持つマイクロチャネルを用いた化学的消炎効果のLIF 計測
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0095]EB リソグラフィによる高感度バイオセンシング用ポリマー導波路構造の作製
|
F-NM-057 ナノリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0096]走査電子顕微鏡（FE-SEM）を用いた薄膜構造の観察と組成分析
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0097]X 線測定に適する相変化材料スイッチング素子の作製
|
F-NM-058 マイクロリソグラフィー装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0098]シリコン酸化膜形成
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0099]ALD 法による絶縁膜上への金属薄膜の形成評価
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0100]SEM 観察による金属薄膜の膜厚評価
|
F-NM-064 観察・評価装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0101]酸化物半導体へのイオン注入のための下地・保護層となるALD アルミナ酸化膜の 堆積
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0102]ALD による有機無機ハイリッド構造作製に向けての基礎データ取得
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-13-NM-0103]ALD による有機薄膜上への酸化物薄膜堆積
|
F-NM-061 絶縁膜堆積装置群
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0001]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0002]光電子集積試作用反射防止膜層の作製
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0003]相変化材料の膜質評価とデバイス作製
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0004]デバイス構造確認のためのTEM試料作製
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0005]SnTe/Sb2Te3超格子の低電力動作メカニズム
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0006]PCMメモリセルの素子分離形成
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0007]Sb-Te合金薄膜の膜評価
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0008]FIBによるTEM/STEMサンプル作成①
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0009]カーボンナノチューブ配線の評価と低抵抗化
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0010]メソポーラスシリカ細孔内の移動現象に関する研究
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0011]グラフェンの電気特性評価
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0012]インターカレーション前後のCVD多層グラフェン配線の分析（1）
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0013]CVD成長多層グラフェンの微細加工による細線化
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0014]金属材料のエッチングの研究
|
F-AT-072 アルゴンミリング装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0015]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0016]フッ素ポリマーアロイ材製品の相観察
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0017]グラフェンリソグラフィプロセスにおけるレジスト残渣の検証
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0018]グラフェンの電子デバイス応用
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0019]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0020]CNT/グラフェンの排熱応用のための評価サンプル作製
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0021]Active Metal Brazed Copper-Si3N4基板上のCu/Ni(P)/Au配線の加工と観察
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0022]有機超薄膜を用いた分子素子基板の開発
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0023]超格子相変化メモリの研究・開発
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0024]FIBによるSTEM-EDXサンプル作成
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0025]高分子材料中の化合物の質量分布測定
|
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0026]高移動度チャネル材料の研究
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0027]CNT/グラフェンの排熱応用のための真空蒸着プロセスの最適化
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0028]AFMによる相変化膜の電気特性測定用微細電極作成プロセスの検討（1）
|
F-AT-078 ワイヤーボンダー
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0029]III-V nMISFET試作
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0030]TEM観察試料の作製
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0031]近接場顕微鏡プローブの作製
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0032]Ge-Sb-Te合金の膜評価
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0033]CNTの分散状態観察
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0034]グラフェン試料加工・評価（グラフェン剥離転写プロセス）
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0035]ナノカーボンの電子デバイス応用
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0036]高分子グラフト電極の水中でのAFM分析
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0037]弊社積層基板のFIB断面加工・観察
|
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0038]カーボンナノチューブ配線の評価と低抵抗化
|
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0039]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0040]多層ナノチューブ配線の評価
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0041]薄膜の斜入射X線回折測定
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0042]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認
|
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0043]FIBによるTEM/STEMサンプル作成②
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0044]相変化材料の膜質評価とデバイス作製
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0045]二次元Si層を用いた素子の試作
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0046]電子ビーム描画装置を用いたCVDグラフェントランジスタの作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0047]CNT/グラフェンの排熱応用のためのCNT密度に依存した膜形成状況評価
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0048]分子ドーピングされた二層グラフェントランジスタの作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0049]グラフェンデバイスに対するボンディング
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-078 ワイヤーボンダー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0050]ガラスのドライエッチングとエッチングマスクの検討
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0051]SnTe/Sb2Te3超薄膜超格子の研究開発
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0052]水素アニールが窒化ケイ素基板に与える影響の分析と, ナノクリスタルダイヤモンド薄膜の構造及び基板との界面観察（窒化ケイ素基板及び, 水素アニール処理後にNCD薄膜を合成した窒化ケイ素基板について）
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0053]ガラス板への数十μmオーダーのライン＆スペースパターニング
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0054]Ar MillingによるMTJ素子形成（1）
|
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0055]グラフェン試料加工・評価
|
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0056]GaN on Sapphireの断面及び表面のSEM観察
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0057]CVD成膜多層グラフェン配線への4端子測定用電極作製
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0058]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発 その2
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0059]中空ビーズの表面観察と内部構造分析
|
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0060]ミニマルファブ技術の研究開発における深さ方向分析
|
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0061]宇宙用MEMSデバイスの試作
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0062]多層グラフェンの断面TEM観察のための試料作製
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0063]分子インプリント高分子電極の表面形状分析(1)
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0064]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認
|
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0065]CVD成膜多層グラフェン配線の電気特性評価
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0066]アルミナの厚さ計測
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0067]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0068]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0069]高移動度チャネル材料の研究
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0070]カーボンナノチューブ表面観察
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0071]大面積CVDグラフェンの抵抗評価
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0072]FIB による TEM 試料作製
|
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0073]サファイア基板エッチングマスク用UV硬化樹脂の検討
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0074]はんだの最表面分析
|
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0075]誘電多層膜ミラーの作製
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0076]ホール測定用グラフェンデバイスの作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0077]金属型・半導体型分離 CNT のデバイス特性評価
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0078]D-SIMSによる深さ方向に対する金属成分の拡散定量分析
|
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0079]ガラス基板上における金属触媒成長SiGe層の表面平坦化
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0080]XRD によるエピタキシャル膜の面内結晶方位分布測定
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0081]機能性酸化物を用いたメモリの開発
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0082]ドライエッチングによるガラスへの穴あけ
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0083]リフトオフによる金属配線形成
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0084]ニッケルシリサイド化薄膜のXPS測定
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0085]AFM を用いた MoS2フレークの厚さ評価
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0086]材料Aへの微細加工の初期検討
|
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0087]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0088]グラフェン試料加工・評価(配線パターン形成プロセス)
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0089]ミニマルファブ技術の研究開発におけるX線回折分析
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0090]逆層交換型アルミニウム誘起シリコン結晶化プロセスにおける不純物効果の研究
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0091]高耐熱パワーモジュール化
|
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0092]メソ多孔体チタン酸バリウム薄膜における骨格結晶化の確認
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0093]グラフェン合成と評価 －Cuホイルを用いたグラフェン合成－
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0094]IPS液晶によるシリコン細線方向性結合器光スイッチ
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0095]RF MEMSスイッチ試作
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0096]CNT/グラフェンの排熱応用のための熱抵抗サンプル作製と評価
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0097]ガラス板への微細ライン＆スペースのパターニング
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0098]蒸着されたF4TCNQ層の表面観察
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0099]グラフェン試料加工・評価
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0100]ダイヤモンドSAWの研究
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0101]グラフェンの電子デバイス応用
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0102]AFMによる相変化膜の電気特性測定用試料作成プロセスの検討（2）
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-078 ワイヤーボンダー
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0103]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0104]グラフェン試料加工・評価
|
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0105]ミニマルファブ技術の研究開発におけるSEM観察
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0106]メタルリフトオフプロセス
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0107]CNT/グラフェンの排熱応用のためのサーモフレクタンス測定用試料作製
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0108]グラフェン試料加工・評価
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0109]多層カーボンナノチューブの微構造観察
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0110]多層グラフェン低抵抗化に向けたグラフェン合成のための触媒堆積
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0111]CNT/グラフェンの排熱応用のためのアルゴンイオンエッチング時間依存検討
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0112]超格子型相変化膜のXRDによる測定
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0113]Sn10Te90/Sb2Te3希釈系超格子の超省電力動作メカニズム
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0114]トランジスタ素子の特性改良
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0115]PCMメモリセルの上部電極形成
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0116]遷移金属添加半導体のバンド構造解明
|
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0117]CNT/グラフェンの排熱応用のためのCNT接合と断面評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0118]Ar MillingによるMTJ素子形成（2）
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0119]2層レジストを使ったリフトオフによる金属配線形成
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0120]D-SIMSによる深さ方向の成分定量分析
|
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0121]グラフェン試料加工・評価
|
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0122]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0123]グラフェン試料加工・評価
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0124]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0125]ミニマルファブ技術の研究開発における分析および評価
|
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0126]メタルマスクを用いて作製した電極を有するグラフェンデバイスの評価
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0127]FIBによるTEM/STEMサンプル作成③
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0128]2つのゲートを持つ二層グラフェントランジスタの作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0129]EBリソによるライン＆スペースパターン作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0130]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-079 ダイシングソー
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0131]トランジスタ応用に向けた単層グラフェン合成
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0132]グラフェンの電気特性評価
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0133]電子ビーム描画装置を用いたHOPGグラフェントランジスタの作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0134]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0136]グラフェン合成と評価 －Cuホイルの成分分析－
|
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0137]高耐熱部品統合パワーモジュール化技術開発
|
F-AT-072 アルゴンミリング装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0138]RF MEMSスイッチ試作
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0139]分子インプリント高分子電極の表面形状分析(2)
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0140]新構造ダイオードにおける金属接合状態の確認
|
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0141]CNT/グラフェンの排熱応用
|
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0142]EB露光を用いたMTJ素子形成
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0143]宇宙用MEMSデバイスの試作
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0144]スパッタカーボンアニール法による多層グラフェン配線の作製
|
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0145]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0146]AFMを用いたグラフェン表面のレジスト残渣の検証
|
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0147]水素アニールが窒化ケイ素基板に与える影響の分析と, ナノクリスタルダイヤモンド薄膜の構造及び基板との界面観察（水素アニールを施した窒化ケイ素基板について）
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0148]有機分子蒸着用Au/mica基板の作製
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0149]Ar MillingによるMTJ素子形成（3）
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0150]プローブカード開発（プローブ痕観察、深さ測定）
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0151]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0152]CNT/グラフェンの排熱応用のための反射膜表面のラフネス評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0153]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討
|
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0154]III-V nMISFET試作
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0155]NiシリサイドナノワイヤFIB加工
|
F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0156]EBリソによるInP基板上ライン＆スペースパターン作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0157]大気圧CVD法によるグラフェン合成
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0158]遷移金属内包シリコンクラスターを接合に利用したトランジスタの実証
|
F-AT-067 i線露光装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0159]III-V MOS技術
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0160]グラフェンとカーボンナノチューブによる三次元カーボン配線の作成
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0161]ミニマルファブ技術の研究開発における分析及び評価
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0162]インプラント法によるカーボンナノチューブプラグの作製
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0163]AFMによる相変化膜の電気特性測定用試料作成プロセスの検討（3）
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-076 小型真空蒸着装置
F-AT-078 ワイヤーボンダー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0164]Hf窒化膜の研究
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0165]有機半導体の応用技術開発
|
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0166]CNT/グラフェンの排熱応用のためのArミリングによるCNT先端部の開口実験
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0167]CNT/グラフェンの排熱応用のためのIn溶融状態評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0168]多結晶ゲルマニウムチャネル技術
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0169]RF MEMSスイッチ試作
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0170]インターカレーション前後のCVD多層グラフェン配線の分析（2）
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0171]グラフェン試料加工・評価
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0172]逆層交換型アルミニウム誘起シリコン結晶化プロセスにおける結晶方位形成の研究
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0173]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0174]III-V MOS技術
|
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0175]バブル型ナノロボットを利用したバイオセンシングシステムの開発
|
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-076 小型真空蒸着装置
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0176]Fe/Si 2層膜の作成と評価
|
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0177]EBリソによるSi基板上ライン＆スペースパターン作製
|
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0178]ナノプローバ用新型カンチレバーの開発
|
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-069 リソグラフィー装置群(コンタクトマスクアライナー, マスクレス露光装置, スクライバー, プラズマアッシャー, UVクリーナー)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
|
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-13-AT-0179]高移動度チャネル材料の研究
|
F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0006]導電性プローブ顕微鏡によるグラフェンの局所電圧電流計測
|
F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0007]電子ビーム蒸着によるグラフェンへの電極作成
|
F-BA-096 電子線蒸着装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0009]集束イオンビームを用いたグラフェンの局所加工
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0010]スパッタ薄膜の成膜と評価
|
F-BA-092 スパッタリング装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0012]酸化物半導体を用いたソーラーセルの検討
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0013]2次元アンペロメトリックセンサ用マスクの作製
|
F-BA-093 レーザー描画装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0014]酸化薄膜成長制御のための基板裏面被覆
|
F-BA-092 スパッタリング装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0015]電気化学分析用電極の形成
|
F-BA-092 スパッタリング装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0016]酸化物デバイスの動作特性に与えるプロセス雰囲気の影響に関する評価
|
F-BA-092 スパッタリング装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0017]ナノ構造金属表面におけるフェムト秒表面プラズモン波束の導波
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0018]レーザープラズマ軟X線を用いたポリジメチルシロキサンの微細加工
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0019]長距離伝搬型表面プラズモンの導波構造の製作
|
F-BA-092 スパッタリング装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0020]浸炭鉄の浸炭過程及び内部構造の解析
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0021]超格子材料を用いた多層膜構造に対する表面プラズモンの励起と導波
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0023]エミッター開発
|
F-BA-092 スパッタリング装置
F-TU-047 電子顕微鏡群
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0024]次世代ワイドギャップ材料を用いた電荷補償型パワーデバイス構造の検討
|
F-BA-091 デバイスシミュレータ
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0025]MOSFETのスナップバック挙動解析
|
F-BA-091 デバイスシミュレータ
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0027]デンプン顆粒の構造解析
|
F-BA-094 FIB-SEM
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0028]バルク水の異常ポッケルス効果のメカニズムの解明
|
F-BA-092 スパッタリング装置
|
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-13-BA-0029]好中球の殺菌活性を指標としたストレス測定デバイスの構築
|
F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-093 レーザー描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0001]モード多重光ファイバ伝送におけるモード変換用位相板の試作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0002]MEMS技術で作製する高機能プローブ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0003]集積化MEMSによる細胞電位計測システム
|
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0004]コンクリート表面へのテクスチャ加工に関する研究
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0005]MEMSマイクロロボット用人工神経回路網LSIチップの微細加工
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0006]テラヘルツ波リアルタイムバイオメディカルイメージング研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0007]テラヘルツ波プラズモン計測用のマイクロ流路チップ研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0008]DNA自律ジョイントを用いたマイクロ部品の自動位置決めに関する研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0009]天体観測のためのテラヘルツ帯ホットエレクトロンボロメータ・ミクサの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0010]放射光を用いたXANESスペクトル測定時のチャージアップ効果に関する研究
|
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0011]ＮＥＭＳ可変カラーフィルタの製作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0012]シリコンナノピンセット上でのDNA恒温増幅とDNAの機械・電気検出
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0013]単結晶シリコンの精密異方性エッチング法
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0014]透過電子顕微鏡用液体セル
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0015]MEMS-in-TEM によるナノ物性その場観測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0016]ナノ接合を通じた熱伝達測定
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0017]振動型バイオセンサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0018]MEMS構造を利用したナノリソグラフィー
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0019]超低電力・多波長同時制御マイクロリング・マッハツェンダー光スイッチ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0020]半導体マイクロリングレーザを用いた全光フリップフロップおよびインバータの実現
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0021]医療ＯＣＴ用ＭＥＭＳ型高速波長可変光源
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0022]ＭＥＭＳ可変静電容量による無線用ＶＣＯ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0023]静電容量検出回路とアクチュエータの集積化
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0024]MEMS光スキャナによるインタラクティブ画像ディスプレイ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0025]ＭＥＭＳマイクロミラーアレイの画像ディスプレィ応用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0026]３次元集積回路の撮像素子応用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0027]プログラマブルＭＥＭＳ共振子アレイ
|
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0028]ＭＥＭＳ型スプリットリング共振子のテラヘルツ空間フィルタ応用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0029]ＭＥＭＳマイクロシャッタアレイの天文分光器応用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0030]ＭＥＭＳ耐摩耗性プローブ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0031]NEDO 省エネルギー革新技術開発事業「極低消費電力III-V族化合物半導体CMOS の研究開発」
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0032]総務省SCOPE「100Gbit/s超級歪SiGe光変調器の研究開発」
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0033]フッ化グラフェンメカニカル振動子の作製
|
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0034]波長選択近接場光輸送を促進するナノサイズピラーアレイ構造の創成
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0035]プラズモニックメタサーフェスを用いたマイクロ光学位相子の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0036]近接場光エッチングを用いたシリコン側壁低温平坦化プロセスの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0037]波長選択性熱輻射光源の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0038]可視アクティブメタマテリアルの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0039]プラズモン共鳴を援用した熱電子放出素子の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0040]酸化物ナノシートを用いた電界効果トランジスタの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0041]酸化物エピタキシャル薄膜の電気測定用電極の作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0042]NEDO革新的太陽光発電システムの技術開発
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0043]ナノキャビティ構造による熱ふく射スペクトルの制御
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0044]単一光子LEDの作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0045]マイクロ燃焼における化学的消炎効果の解明
|
F-UT-108 精密研磨装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0046]無線モジュールの開発研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0047]高性能触媒層の開発
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0048]MEMS圧電ポリマー構造の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0049]液滴高速駆動のためのMEMS ピラー構造を用いた超撥液表面の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0050]寄生容量を低減したMEMSエレクトレット振動発電器の開発
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0051]ワンマスク・プロセスによるMEMS エレクトレット発電器の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0052]粒子数を制御した金属ナノ粒子一次元配列作製のための超微細加工基板の形成
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0053]リフトオフ法による二次元ナノ周期構造の形成
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0054]3次元光学結晶のための立体積層技術に関する研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0055]ラメラ様金属構造による高性能表面増強ラマン分光チップに関する研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0056] ドレスト光子を利用したＳｉ受発光素子の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0057]格子ひずみ制御によるシリコン上ゲルマニウム受発光デバイスの長波長動作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0058]シリコンプラットフォームによるバイオセンサの研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0059]ゲルマニウムのレーザーアニールの研究
|
F-UT-101 光リソグラフィ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0060]微細構造メッシュシートを用いた細胞シート作製及び細胞培養技術の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0061]1対1細胞融合技術を用いた体細胞初期化に必要なES細胞数の検討
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0062]MEMS共振器の製作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0063]シリコン微小ディスク共振器における双共振による単一カーボンナノチューブの発光制御
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0064]単一架橋カーボンナノチューブにおける巨大円二色性
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0065]カーボンナノチューブにおける励起子の自発的解離
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0066]架橋カーボンナノチューブの発光に対するオゾン暴露の影響
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0067]エタノール化学気相成長法によるシリコン基板上におけるカーボンナノチューブ合成の最適化
|
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0068]カーボンナノチューブの化学気相成長における触媒のアニール及び還元プロセスの最適化
|
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0069]埋め込みゲート式架橋カーボンナノチューブ素子
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0070]強磁性体・カーボンナノチューブによるハイブリッド素子
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0071]走査プローブ顕微鏡観察用ナノチューブ電界効果トランジスタ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0072]単一カーボンナノチューブとシリコンナノビーム共振器の光結合
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0073]架橋カーボンナノチューブのフォトルミネッセンスにおける交流ゲート電圧の影響
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0074]超高速イメージングによるがん診断技術の開発
|
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0075]フレキシブル電極の微細形成
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0076]金属性単層カーボンナノチューブの広範囲除去
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0077]単層カーボンナノチューブの合成制御
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0078]高分解能ＭＲＩ画像計測のための高感度マイクロコイルの研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0079]小型３軸力センサを用いたトノメトリ法による血圧計測デバイス
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0080]温度画像と色画像の同時取得のためのシリコン‐ガラスハイブリッドレンズ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0081]金属ナノ構造を用いた赤外域の電場増強と新規光学現象の発現
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0082]スパイラルメタマテリアルによる光学活性の動的制御
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0083]マイクロピラーアレイ上で成長したフィブロブラスト細胞の大きさと形状
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0084]イオン液体をゲートとするグラフェンFETガスセンサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0085]超音波領域をカバー出来る三軸力センサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0086]エミッター開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0087]Few-layer Grapheneを用いた片持ち梁構造の機械特性計測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0088]MEMSピエゾ抵抗型カンチレバーを用いた細胞のトラクション力計測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0089]弦楽器演奏中に指先にかかる3軸力
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0090]サブミクロンギャップの制御を用いたTHz可変メタマテリアル
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0091]高消光比2層型ワイヤーグリッド偏光子
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0092]積層型メタマテリアルの透過特性評価方法
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0093]可変焦点液体レンズを用いた多軸距離計測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0094]イオン性液体を用いたフレキシブル三軸力センサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0095]ピエゾ抵抗カンチレバーを用いた筋音計測用圧力センサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0096]キャビティ構造を用いた高感度な3軸触覚センサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0097]微小凹凸構造の表面上の水滴の滑りにおける力
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0098]液体中での超音波発信を実現する熱誘起超音波発信器の研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0099]表面ドープとサイドドープを用いた6軸応力センサの設計
|
(登録なし)
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0100]翅脈の弾性が異なる羽ばたき機を用いた翼面圧力差計測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0101]MEMSせん断力センサを用いたスティック型粘度計
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0102]液体嚥下時の喉を通過する液体の流速測定
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0103]PZT カンチレバーを用いた高感度低消費電力の差圧センサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0104]イオンゲルを用いたCO2ガスセンサ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0105]位相遅れを用いた熱拡散率の非破壊計測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0106]弾性体中片持ち梁構造を用いた触覚センサの動的応答
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0107]ピエゾ抵抗型カンチレバーのギャップを液体で封止した構造を利用したハイドロフォン
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0108]表面プラズモン共鳴を用いた波長選択型シリコン近赤外検出器
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0109]非透明なマイクロ構造のリリース状況を可視化するためのテスト構造の開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0110]高性能波長変換デバイスの研究開発
|
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0111]ｎ型ゲルマニウムレーザ発振用ファブリ・ペロー共振器
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0112]極薄太陽電池における光散乱層としてのSiナノ粒子の研究
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0113]光デバイス作製に向けたサブミクロン領域でのゲルマニウム選択エピ成長の研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0114]フランツケルディシュ効果を利用した1550nm での導波路型ゲルマニウム電界吸収型光変調器
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0115]シリコンの応力誘起バンドギャップ、屈折率変化
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0116]中性ビーム酸化によるシリコン光導波路のトリミング
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0117]n 型不純物添加によるゲルマニウムの物性評価
|
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0118]フォトリソグラフィー・電子線リソグラフィのトレーニング
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0119]沸騰伝熱面の熱伝達率向上のための金属表面へのナノインプリント
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0120]高性能イオン伝導ポーラス膜のためのアルミナナノホールの生成
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0121]大面積ナノ構造のためのロール成形
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0122]光取出しフィルムのためのマイクロレンズアレイの成形技術
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0123]バイオテンプレートの射出成形のための高アスペクト比金型の試作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0124]超音波支持ギャップ内圧力計測用センサの開発
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0125]Smart BlocksII向けMEMS電子制御回路の試作と評価
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0126]体内発電を目指した集積化発電素子(1)加工技術
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0127]集積化MEMS向けシングルエンドキャパシタンス読み出し回路
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0128]スマートボロメータセンサ向け電子回路と微細構造の集積化試験
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0129]多層グラフェンを用いたＭＥＭＳ共振器による質量センサの製作
|
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0130]窒素ドープ単層カーボンナノチューブによる電界効果トランジスタ作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0131]単一カーボンナノチューブにおけるゲート電圧誘起ピークの観測
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0132]フォトニック結晶ナノ共振器によるカーボンナノチューブの発光増強
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0133]単一架橋カーボンナノチューブの光伝導度分光
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0134] 微細内壁構造の非破壊計測のためのMEMS素子研究
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0135]CMOS-MEMS集積型新規センサに向けたCMOSポストプロセスの実施及び評価
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0136]半導体デバイス向けのリソグラフィ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0137]ステルスダイサーを利用したシリコン光学素子の作製
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0138]マイクロ・ナノスケールトレンチパターンへの三次元DLCコーティング
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0139]MEMSデバイス作製技術習得のためのプラットフォーム試行的利用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0140]遠赤外線用ゲルマニウム検出器のためのプラットフォーム試行的利用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0141]接触力センサ開発のためのプラットフォーム試行的利用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0142]単一細胞の機械的特性評価を目指した両短針駆動シリコンナノピンセット
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0143]MEMS デバイス試作のためのプラットフォーム試行的利用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0144]金属ナノパターンの作製
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0145]電力再利用機構を備えたマイクロ波帯無線送信器のためのプラットフォーム試行的利用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-103 シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0146]新規半導体材料開発のための評価用トランジスタ素子の開発Ⅱ
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 反応性プラズマエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0147] 電子線直接描画の高スループット化実現のための多軸・多ビーム化技術
|
F-UT-107 ステルスダイサー
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0148] 多自由度MEMSスキャナの試作
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気・機械特性評価装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0149]疑似スピン電界効果型トランジスタのマルチプロジェクトウェハ上への作製と特性評価
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-13-UT-0150]折り畳み可能なマイクロプレートを用いた細胞の立体的な形状変化における細胞の機能測定と再生医療への応用
|
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0001]SiC上のグラフェン薄膜の評価
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0002]集束イオン/電子ビーム加工観察装置による圧痕下部組織の３次元トモグラフィ
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0003]めっき膜後処理
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0004]GaAs上の金膜パターン形成
|
F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0005]炭素ハイブリッド膜のラマンによる微小領域測定
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0006]ソフトリソグラフィーによる高分子ナノディスクの作製
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0007]石英ガラスの変形制御
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0008]サブミクロン微粒子上への金ナノシェルの作製
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0009]強誘電体セラミックス薄膜への電極形成と微細加工
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0010]FIBによるピンホールの形成
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0011]表面の滑らかなXeF2ドライエッチング
|
F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0012]XeF2を用いたSiエッチング過程における温度上昇
|
F-WS-116 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0013]NiFeめっき膜形成
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0014]CYTOPによるウエハレベルガラス接合
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0015]血漿・血球分離のための樹脂流路チップの作製に関する研究
|
F-WS-116 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0017]Fe40Ni60合金薄膜の作製と磁歪特性評価
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0019]表面弾性波を用いたナノ物質位置制御技術に関する研究
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0020]強磁性Mn-Biの合成とその評価
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0021]カーボンナノチューブ/SiC界面の不純物濃度の測定
|
F-WS-118 グロー放電分光分析装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0022]長波長対応反射型プラズモンセンサの開発
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0023]ナノめっき技術を用いた硬質貴金属電気接点の実用化研究
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0024]糖鎖層へのSERS用Ag蒸着
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0026]2次元アンペロメトリックセンサのプロセス開発
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0027]狭ピッチプローブの膜応力及び磁歪材料の変形制御
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0028]高温高濃度オゾン被曝法によるダイヤモンドの酸化処理
|
F-WS-123 ダイヤモンド基板専用 特殊成膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0029]微細接合用ナノポーラスシートの特性評価
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0030]プラズマリアクターを利用したレジスト剥離
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0031]PDMSを用いた単一細胞分泌測定デバイスの開発
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0032]温度応答性表面へのナノインプリント微細構造導入による親疎水性動的変化の増幅
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0033]ポリ乳酸ナノシートの微細構造解析
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0034]３次元LSIのハイブリッド接合に関する研究
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0035]CoPtパターンド・メディアにおける初期析出挙動解析
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0036]ALD-Al2O3膜の耐熱性検討
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0037]Mn層状化合物の薄膜作成と特性評価
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0038]Fe基超磁歪合金の開発とエネルギーハーベスト素子への応用研究
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0039]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0040]プラズモンセンサのバイオ応用
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0041]めっき膜のナノ構造と表面エネルギー制御に関する検討
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0042]CNT上へのめっき電極膜形成の検討
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0043]Fe基超磁歪合金のヤング率測定
|
F-WS-120 デバイス電気特性 測定装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0044]FeCo磁歪合金薄膜の作製と機能化に関する研究
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0045]めっき法による3次元ナノ構造形成に関する研究
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0046]高周波ＦＥＴの特性評価
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0047]多自由度MEMSスキャナの試作
|
F-WS-116 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0048]表面微細加工パターンの試作
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0050]金属ナノ粒子作製用添加剤の挙動解析
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0051]軟らかいポリマー両面への電極薄膜の形成
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0052]駆動可能な金属櫛歯電極の試作
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0053]MEMS マイクロフォンの臨床用圧力センサへの応用
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0054]磁歪材料を用いたMEMS発電デバイスの試作
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0055]SiC-FETダイの銀ナノペーストを用いたダイボンディング条件の最適化
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0056]太陽電池用パッケジの石英加工
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0057]水溶液中におけるベンゾトリアゾールの銅表面への吸着の直接観察
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0059]基板の貼合せ封止・実装技術
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0060]電析法による透明電極上へのSiナノ構造体の作製
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0062]サファイヤの直接接合
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0063]樹脂複層フィルムの直接接合技術開発
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0064]Roll to Rollナノインプリント法を用いた微細パターンの作製
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0066]IGZO-FETのFIB-SEMとEDAXによる分析
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0067]IGZO薄膜のGDOESによる分析
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0068]長焦点深度アライナーの有用性について
|
F-WS-117 顕微ラマン分光装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0069]車載向け電力素子用パッケージの検討
|
F-WS-120 デバイス電気特性 測定装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0070]SSC付きCNT含有スロット導波路の作製
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0071]異種材料の接合
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0072]石英基板のハイアスペクト加工検討
|
F-WS-116 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0073]MEMSデバイスの基板接合技術に関する基礎実験
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0074]UVインプリントによる高アスペクト比樹脂構造体の作製
|
F-WS-116 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0075]液体発光材料の評価方法
|
F-WS-114 電子顕微鏡群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0076]ITO電極のエキシマーUVによる基板表面処理
|
F-WS-116 ICP-RIE装置
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0077]超高感度免疫測定システム検討のためのPDMSマイクロ流路の試作
|
F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0078]マイクロ流路の製作の検討
|
F-WS-115 微細パターン露光描画装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0079]サブミクロンAu粒子パターンを用いたウエハレベル接合
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0080]パッシベーション用アルミナ膜の成膜
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0081]高磁場中でのNiFeめっき膜形成における変形
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0084]Si基板終端の反応性の違いを利用した有機ホスホン酸の選択的表面修飾
|
F-WS-119 表面処理・接合装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0086]多糖類基材へのADLによるアルミナ製膜
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0087]銅版の酸化膜厚の測定
|
F-WS-121 精密めっき装置（特注品）×3台
|
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-13-WS-0088]ALD法で形成したAl2O3膜絶縁耐圧の向上
|
F-WS-113 高品質製膜装置群
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0001]ピンホールアレイの作製
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-136 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0002]一次元プラズモニック結晶の表面プラズモンポラリトン
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0003]電子ビーム描画法の研究(III)
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0004]フェノール多付加フラーレン誘導体を用いたポジ型化学増幅型レジストの EB 露光での感度評価
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0005]表面弾性波共振器中の二重量子ドットの輸送特性
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0006]量子井戸 MOSFETs の DC/RF 特性に対するエピタキシャル構造の効果
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0007]Si基板上磁性体デバイス
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0008]メタ平面による平面フォトニクス
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0009]半導体レーザーに関する研究
|
F-IT-144 有機金属気相成長装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0010]光変調器に関する研究
|
F-IT-144 有機金属気相成長装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0011]磁性ガーネット上に成膜された a-Si 導波層を有する光非相反素子の研究
|
F-IT-133 プラズマCVD 装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0012]1THz帯高検出能常温検出器技術の研究
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0013]結晶構造変化Quantum dotのバンド制御
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0014]金属ナノ構造近傍に作用する表面プラズモン光誘起力の定量測定
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0015]InAs 量子井戸 MOSFETs のヒステリシスのバイアス依存性
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0016]フッ化グラフェンの非対称なキャリア輸送特性
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0017]グラフェンチャネルの形成
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0018]テラヘルツ表面波伝搬のためのダイポールアレーの作製
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0019]プラズモニックナノアンテナにおける局在表面プラズモン
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0020]電波望遠鏡応用に向けた低雑音HEMTs
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0021]Si基板上Ta2O5光導波路
|
F-IT-133 プラズマCVD 装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0022]Si基板上SiN光導波路
|
F-IT-133 プラズマCVD 装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0023]ダイアモンド JFET の微細加工
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0024]金属マークの作製
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0025]シリコンフォトエレクトロニクスに関する研究
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0026]光導波路型マイクロフォン
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0027]ZnO LED の結晶性向上
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0028]W バンド MMIC 応用に向けた InxGa1-xAs メタモルフィック HEMTs の研究
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0029]パワーアンプ応用の為の In0.4Ga0.6As メタモルフィック HEMT の研究
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-136 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0030]薄膜デバイスの金属電極形成
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0031]フッ化グラフェンの磁気抵抗効果
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0032]プラズモニックキャビティからの光放射
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0033]ダイヤモンドMISFETの絶縁体に向けたアルミナ堆積
|
F-IT-133 プラズマCVD 装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0034]トップゲート型グラフェンMISFETの絶縁膜堆積
|
F-IT-133 プラズマCVD 装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0035]ダイヤモンドPN接合の断面構造の解析
|
F-IT-137 集束イオンビーム装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0036]BCBコーティング
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0037]フォトミキシング応用テラヘルツ帯アンテナ
|
(登録なし)
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0038]横型フッ化グラフェン―グラフェンヘテロ構造の作製
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0039]低温・高周波応用の為のInAs HEMTsの研究
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0040]集積化エッジチャネルの熱輸送現象
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0041]高速・低電力論理応用の為のエンハンスメントモードInAs HEMTｓの研究
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0042]金属細線の形成 (t_ox=30 nm)
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0043]金属細線の形成 (t_ox=10/20 nm)
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0044]表面プラズモン光誘起力の金属ナノ構造ギャップ長依存性
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-136 触針式段差計
|
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-13-IT-0045]2次元プラズモニック結晶のバンド端定在波の可視化
|
F-IT-124 電子ビーム露光装置 (スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0001]エミッター開発
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0002]磁気記録用ビットパターンド媒体の研究
|
F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-152 急速加熱処理装置
F-NU-153 薄膜X線回折装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0003]有機ラジカル薄膜の分析
|
F-NU-170 段差計
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0004]医用複合材料の微細形態と組成の分析（体液模倣環境におけるリン酸カルシウムの生成）
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0005]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究
|
F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-150 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0006]神経細胞ネットワークの形成デバイス装置の微細加工 －光神経電子集積回路開発と機能解析・応用－
|
F-NU-170 段差計
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0007]Pt系合金ナノドットの高密度形成
|
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0008]マイクロセンサの開発
|
F-NU-159 露光プロセス装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0009]繰返し圧縮応力によるシリコン単結晶中の欠陥形成と残存引張強度に関する研究
|
F-NU-159 露光プロセス装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0010]GaAsを用いたマイクロ波AFMプローブの開発
|
F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0011]機能性ナノワイヤの創製と性能評価に関する研究
|
F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0012]MEMSデバイスの研究開発
|
F-NU-159 露光プロセス装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0013]がん細胞分離・濃縮バイオデバイスの技術開発
|
F-NU-162 レーザー描画装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0015]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発
|
F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-147 反応性イオンエッチング装置
F-NU-148 イオン注入装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0016]オンチップロボティクスを基盤とする光合成細胞の機能計測
|
F-NU-162 レーザー描画装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0017]フロー式細胞力学パラメータ計測システムの構築
|
F-NU-162 レーザー描画装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0018]自己集積化による半導体ナノロッドの配列制御と光エネルギー変換への応用
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0019]プラズマ照射試料の表面損傷観察
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0020]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長と接合作製
|
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0021]金属酸化物ナノロッドの構造解析とその電気的特性（鉄酸化物ナノロッドの成長条件と構造解析）
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0022]マイクロリアクタの作製
|
F-NU-145 マスクアライナ
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0023]超臨界流体噴霧による天然有価物の微粒子化
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0024]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射
|
F-NU-148 イオン注入装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0025]王水処理によるグラファイトシート表面の化学状態変化に関する研究
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0026]電子部品用機能性薄膜の開発
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0027]有機低次元電子系材料における新しい光・電子応答現象の探索
|
F-NU-170 段差計
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0028]量子ナノ構造デバイスの研究
|
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0029]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－分子エレクトロニクスのための電子ビーム蒸着による電極形成－
|
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0030]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0031]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0032]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用
|
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0033]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究
|
F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0034]マイクロロボットの開発
|
F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-159 露光プロセス装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0035]ガラス基板のドライエッチング性調査
|
F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-170 段差計
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0036]Ｔｉ上のＣｕ微小構造物への細胞接着特性評価
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0037]スピン注入磁気メモリの研究
|
F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0038]ブロック共重合体薄膜のミクロ相分離構造の配向制御に関する研究
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0039]超微粒子原子核乾板における方向感度を持った暗黒物質検出器としての検出器性能評価
|
F-NU-148 イオン注入装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0040]ラジカル注入型プラズマ源によるシリコン薄膜
|
F-NU-177 60 MHz 励起プラズマCVD装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0042]プラズマエッチング中のポリマー表面反応解析
|
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0043]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析
|
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0044]プラズマ医療科学にかかわる生体材料表面ラジカル解析
|
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0045]食品衛生の大気圧プラズマ利用のラジカル解析
|
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0046]太陽電池用カーボン薄膜の膜中欠陥密度に対するＲＦバイアス印加効果の解明
|
F-NU-175 In-situ 電子スピン共鳴(ESR)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0053]非接触ウェハ温度計測に関する研究
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0058]太陽電池用カーボン薄膜の膜構造に対するＮ２ガス添加効果の解明
|
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0060]マイクロ放電装置による真空紫外発光量の計測
|
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0061]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカル生成
|
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0062]大口径ラジカルソースの開発および窒素ラジカルの絶対密度計測
|
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0064]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール依存性
|
F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0072]Fabrication and Characterization of Iron Oxides-based Magnetic Nanostructures; Fabrication of GMR thin films
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-180 磁気特性評価システム群
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0074]セラミック薄膜のX線回折測定
|
F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-162 レーザー描画装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0075]Ｆｅ薄膜の真空中加熱における凝集状態の把握
|
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-156 8元MBE装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0076]Ｘ線・中性子回折格子干渉計のための光学素子の作製
|
F-NU-167 ICPエッチング装置
F-NU-181 マスクアライナ群
F-NU-192 ECRスパッタリング装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0077]生体高分子解析のためのナノ構造体作製（マイクロ流体バイオセンサーによるDNAおよびタンパク質検出）
|
F-NU-170 段差計
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0078]高速細胞特性計測
|
F-NU-181 マスクアライナ群
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-193 電鋳装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0079]EB蒸着膜の形成および密着性検討
|
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0080]金属ナノ細線パターンの形成方法の探求
|
F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0081]光造形法によるステントモデルの作製
|
F-NU-186 光三次元造形装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0082]高次機能ナノプロセスに関する研究 －SiC溶液法による低密度ステップ構造の形成－
|
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0083]機能性光学材料の開発 [(3)表面ＡＦＭ観察]
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0084]有機非線形光学結晶のX線回折による構造評価
|
F-NU-153 薄膜X線回折装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0085]大気圧プラズマを用いたバイオセンサに向けた表面処理の研究
|
F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0086]VHF-DC重畳マグネトロンプラズマ中の高エネルギー負イオン計測
|
F-NU-154 原子間力顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0087]癌細胞におけるHUVECネットワークへの浸潤評価
|
F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0088]強磁性/反強磁性パターン媒体の研究および磁性細線の研究
|
F-NU-146 電子線描画装置
F-NU-148 イオン注入装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0089]平面基板タイプの超小型MIセンサ素子開発
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0090]ハイパボリック・メタマテリアルの作製
|
F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0091]工具用ダイヤモンド材料の高効率加工
|
F-NU-147 反応性イオンエッチング装置
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0092]トライアック故障の原因解析
|
F-NU-150 走査型電子顕微鏡
|
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-13-NU-0093]モーター蛋白質で駆動するマイクロデバイスのためのマイクロ構造体の作製
|
F-NU-181 マスクアライナ群
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0001]ラマン装置内部LED 白色光源を使用した反射光による短時間評価技術開発
|
F-TT-221 ラマン分光装置 一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0002]シリコン深堀エッチング
|
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0003]金属ナノ細線パターンの作製
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0004]カーボンナノウォールの物性と応用
|
F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0005]ナノデバイスのパターン化のための微細加工プロセス開発
|
F-TT-221 ラマン分光装置 一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0006]グラファイト-カーボンナノチューブ複合体の成長
|
F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0007]数10nm～数100nm 微細パターンの形成
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0008]金属微粒子の構造解析およびＣＮＴ局所成長に関する研究
|
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0009]プローブ顕微鏡による表面科学計測、ナノカーボン創製と応用の支援
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0010]フォトニックナノ構造・量子ドット結合体を利用した太陽電池開発
|
F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0011]MBE によるInAs 量子構造の作製
|
F-TT-199 分子線エピタキシー装置
F-TT-219 多目的X線回折装置 一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0012]シリコンマイクロ構造体の破壊と疲労に関する研究
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0013]化合物太陽電池の微細構造観察
|
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0014]ランダム位相板の作製とレーザー照射強度均一性の評価
|
F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0015]半導体選択成長用マスク付きSi 基板の作製
|
F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0016]結晶基板材料のナノレベル構造解析
|
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0017]深い溝の回折格子の試作
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0018]シリコンナノ粒子を活性層とした薄膜型太陽電池の開発
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-214 エリプソメーター
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0019]電流誘起磁壁移動を利用したフェリ磁性体ナノワイヤメモリの高性能化
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-211 ダイシング装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0020]in vivoイメージング用プローブの合成
|
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0021]強磁性微小細線を用いた論理回路の作製
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0022]結晶シリコンの電気特性の面方位依存性の評価に関する技術支援
|
F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0023]曲面に対する三次元リソグラフィの展開に関する研究
|
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0024]シリコン単結晶のナノ変形特性評価と環境脆化機構の解明
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0025]結晶シリコン太陽電池用受光面銀ペーストの焼成挙動
|
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0026]AFM Raman によるSi の高空間分解能歪測定
|
F-TT-221 ラマン分光装置 一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0027]MBE 成長III-VI 族化合物の構造評価
|
F-TT-221 ラマン分光装置 一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0028]全固体型Liイオン電池における固体・固体界面の解析
|
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0029]希土類ドープされた酸化物の蛍光計測
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0030]スピン偏極キャリヤを利用する排他的論理和ゲート動作の作製
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0031]AFM によるグラフェンの弾性率測定
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0032]ポリフッ化ビニリデンの結晶化挙動
|
F-TT-219 多目的X線回折装置 一式
F-TT-220 フーリエ変換型赤外分光光度計 一式
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0033]MEMS 静電プローブを援用した薄膜強度評価システムの開発
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理装置（UVキュア，アッシング）
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0034]Use of the apparatus for evalution of new semiconductor material
|
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-210 気相フッ酸エッチング装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0035]ガス計測応用マイクロデバイスに関する研究
|
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0036]走査型プローブ顕微鏡による酸化物ナノ構造体の電気的特性
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0037]ラマン分光法を用いたナノカーボン成長過程の観察
|
F-TT-221 ラマン分光装置 一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0038]ＣＮＴナノプローブの用途開発
|
F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0039]単結晶Si 及びSiC を用いた自己冷却デバイスの開発
|
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0040]微傾斜SiC 表面のステップテラス構造の観察
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0041]GaN デバイスプロセスの研究開発
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0042]MEMS ノズルを利用した大気圧プラズマ照射の微細化
|
F-TT-203 レジスト処理装置（UVキュア，アッシング）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0043]プラズマを利用しないMEMS 犠牲層 Si エッチング
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0044]平面基板タイプの超小型MI センサ素子開発
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0045]結晶表面ナノ構造の作製と観察
|
(登録なし)
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0046]シリコン基板に対する不純物イオン注入および活性化アニール
|
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0047]ナノファイバー状芳香族ポリアミド構造体の構造解析
|
F-TT-219 多目的X線回折装置 一式
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0048]振動型薄膜MEMS デバイスの試作
|
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0049]PZT 薄膜のサブミクロンパターン形成
|
F-TT-201 電子ビーム描画装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0050]電極形成材料の評価
|
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0051]シリコン単結晶のドライエッチング速度に関する基礎検討
|
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-214 エリプソメーター
|
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-13-TT-0052]PET ボトルにおける分子鎖凝集状態の検討
|
F-TT-220 フーリエ変換型赤外分光光度計 一式
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0001]圧電膜を利用した音響センサ製作
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0002]ナノ構造薄膜を用いた発熱の空間的時間的制御
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0003]多段ICP-RIEプロセスによるSiナノワイヤのMEMS集積化
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-299 ICP-RIE装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0004]液相法による機能性ナノ・マイクロ構造の構築
|
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0005]高分子系複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明
|
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0006]マイクロ機械構造体の信頼性向上のための単結晶シリコンの破壊特性評価
|
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0007]フォトリソグラフィーを使ったメタマテリアルの作製（１）
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0008]微細回折格子の作製
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0009]無機材料物性の光学特性と構造の解析による評価
|
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0010]ポリマ光変調器の低消費電力化
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0011]シリコン単結晶のマイクロ疲労試験
|
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0012]金属塩含有疎水性イオン液体中の水分
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0013]ナノポーラス金属薄膜の創製と特性評価
|
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0014]Zr合金酸化膜中の重水素拡散に及ぼすイオン照射の影響
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0015]ブロックコポリマーの配向自己組織化を用いたナノリソグラフィー
|
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0016]シリコン単結晶の脆性延性遷移に及ぼす寸法効果の評価
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0017]ナノポーラス金属薄膜上の細菌・細胞観察
|
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0018]中枢神経軸索の再生
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0019]シリコン加工技術を用いた300GHz帯導波管型平面アンテナの研究
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0020]微細構造プラズモニックチップの射出成形金型加工
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0021]細胞培養用ハイドロゲル基盤のAFM顕微鏡システムによる弾性測定
|
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0022]一本鎖DNAを修飾したSWCNTの電気、機械特性評価
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0023]カーボンナノチューブの機械特性評価のためのMEMS引張試験デバイスの製作
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0024]抵抗変化薄膜の光学特性の評価
|
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0025]高分子系複合材料の機能性発現に関する微視的材料メカニクスの解明（２）
|
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0026]ナノギャップ熱伝達測定デバイスの作製
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0027]ドライエッチングによるフォトマスクの作製
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0028]シリコン単結晶の脆性延性遷移に及ぼす寸法効果の評価（その２）
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0029]延性脆性遷移温度における単結晶シリコン薄膜のマイクロ引張試験
|
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0030]3DプリンタによるSOFC 電極微構造の拡大再構築および形状再現性の評価
|
F-KT-298 パリレン成膜装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0031]細胞親和性付与のための高分子表面改質
|
F-KT-239 真空蒸着装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0032]両側静電駆動MEMS光チョッパによる時間分解顕微ラマン分光
|
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0033]フォトリソグラフィーを使ったメタマテリアルの作製 (2)
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-301 ウエハ接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0034]多原子分子イオンを用いた表面改質および新規マテリアル創生に関する研究
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0035]光学波面補償のための静電型可変形状ミラーの作製
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0036]ナノ・マイクロ加工技術による細胞機能制御
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0037]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0038]ジブロック共重合体の自己組織化を用いたフェリチンの配列制御に関する研究
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0039]GRENE先進環境材料・デバイス創製スクール「フォトニックコース」実習編
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0040]エキシマレーザアニールによるシリコンマイクロ構造の表面改質
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0041]非鉛圧電膜の加工技術
|
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0042]インプリント用ガラスモールドの量産課題検討
|
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0043]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製
|
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0044]MEMSデバイスの小型化
|
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0045]Van Der Pauw法による半導体膜（炭素系）の抵抗測定
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0046]SAWデバイスの評価
|
F-KT-289 マニュアルプローバ
F-KT-290 RFプローブキット
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0047]固体電解質の研究開発
|
F-KT-263 ダイボンダ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0048]MEMSデバイスの小型化
|
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0049]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製(2)
|
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0050]MEMSウエハSD加工
|
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0051]数10nm～数100nm径Hole Array，Pillar ArrayおよびGratingの形成
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0052]血管内皮細胞HUVECの培養デバイスの製作
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0053]蛋白質1分子動態計測に用いるナノインプリント法でサイズ制御した金ナノ結晶の作製
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0054]微細パターン形成用金属系ナノ粒子及びその分散液の開発
|
F-KT-228 液滴吐出描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0055]３次元リソグラフィ用プロセス最適化シミュレータの開発（２）
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0056]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0057]X線1分子動態計測法で用いる低ノイズ観測チャンバーの開発
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0058]Siウエハ（Alパッド）への表面処理について
|
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0059]小型原子磁気センサ用アルカリ金属蒸気セルの開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0060]小型原子磁気センサ用アルカリ金属蒸気セルの開発②
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0061]ナノインプリントによる３次元フォトニック結晶の作製
|
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0062]ダイヤモンド成長とデバイス応用
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0063]CVD法を用いて合成した単層MoS2の発光測定
|
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0064]圧電薄膜を用いたMEMS素子の作製
|
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0065]ナノファイバーの物性研究
|
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0066]メソポーラスシリカのフォトニクス応用
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0067]有機強誘電体の面内分極反転
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0068]細胞内物質導入の基礎研究
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0069]MEMSセンサ
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-247 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0070]Deep-RIEのエッチング高速化と加工壁面の平滑化
|
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0071]感光性樹脂を用いた微細加工
|
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0072]強誘電体材料を用いた高効率燃料電池の実証
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0073]マイクロ流路中でキネシンにより駆動される微小管フィラメントの構造情報に基づく運動方向制御
|
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0074]誘電体膜のナノパターニング加工1
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0075]誘電体膜のナノパターニング加工2
|
F-KT-241 プラズマCVD装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0076]サブミクロンAu粒子による気密封止接合
|
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0077]超低電圧駆動ポリマ光変調器
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0078]ナノインプリントによる３次元フォトニック結晶の作製（２）
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0079]「プラズマインジケータ」の研究開発
|
F-KT-299 ICP-RIE装置
F-KT-300 簡易RIE装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0080]サブミクロン周期構造に関するプロセス課題抽出
|
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0081]MEMSデバイスの温度特性改善
|
F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0082]MEMSデバイスの温度特性改善（２）
|
F-KT-285 真空プローバ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0083]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発
|
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0084]CNT複合体の膜形成技術の開発
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0085]新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証
|
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0086]新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証（２）
|
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-251 レーザアニール装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0087]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0088]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発（２）
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0089]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0090]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（２）
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0091]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御（３）
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0092]接点変調によるチェッカーボード型メタ表面の転移現象
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0093]ナノインプリントを利用した三次元周期構造形成
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0094]ナノインプリントを利用した三次元周期構造形成（２）
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0095]医療診断用銀微粒子プラズモン電場増強素子とその応用装置の開発
|
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0096]接点変調によるチェッカーボード型メタ表面の転移現象
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0097]CVD法により形成した絶縁膜の評価解析
|
F-KT-284 プローバ
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0098]ナノインプリント用モールド開発
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0099]表面増強ラマン分光におけるナノ粒子配列の方向依存性評価
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0100]多点微小流体を用いたマイクロバイオマニピュレーションに関する研究
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0101]フィルム基材上の薄膜構造解析
|
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0102]マイクロ流路の作製（MEMS実践セミナー）
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0103]高感度光導波路型センサの開発
|
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0104]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製
|
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0105]マイクロ流路を有する水素供給セルの作製と燃料電池への応用
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0106]排熱利用熱電発電モジュールの研究開発
|
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0107]poly-Si擬2次元周期微細構造の作製
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0108]金ナノ粒子配列を用いた4,4’-ビピリジンの高感度ラマン分光分析
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0109]マイクロ流路の試作
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0110]多点同時レーザー照射によるガラス組成の空間分布の制御
|
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0111]溶液中における微細粒子の会合状態検討
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-278 ダイナミック光散乱光度計
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0112]カルコパイライト型リン化物を用いた新規太陽電池の創製（２）
|
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0113]細胞コロニーの大きさを制御するためのマイクロポア膜の開発
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0114]AFM用シリコン先鋭化探針の作製
|
F-KT-251 レーザアニール装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0115]ナノ粒子配列マイクロナノ流体デバイスを用いた表面増強ラマン分析
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0116]Si基板への金属ナノ構造形成
|
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0117]ナノ粒子直鎖配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0118]溶液中における微細粒子の会合状態検討（２）
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0119]MEMS加工を用いた中空構造の形成
|
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-253 基板接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0120]圧電膜を利用した音響センサ製作（２）
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0121]有機ポリマー微細加工
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0122]薄膜ピエゾの圧電特性
|
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0123]GRENE Project新規鉛フリー圧電体材料開発と高周波振動発電デバイスの実証
|
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-251 レーザアニール装置
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0124]半導体基板加工
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-257 ダイシングソー
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0125]微小管運動アッセイ用マイクロ流体デバイスの製作
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-301 ウエハ接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0126]多点櫛形電極の作成
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-267 卓上顕微鏡(SEM)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0127]医療用マイクロ濃縮機における構造の最適化に関する研究
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0128]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発
|
F-KT-276 三次元粒子トラッキングシステム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0129]炭化物ナノシートの評価
|
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0130]圧延再結晶集合組織金属テープを用いた高温超伝導線材の開発研究
|
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0131]薄膜ピエゾの圧電特性（２）
|
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0132]貫通穴形状を持ったMEMS構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発
|
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0133]ポリマーMEMS製作技術の開発
|
F-KT-298 パリレン成膜装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0134]高効率電力変換用パワーデバイス材料開発とデバイスの実証
|
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0135]多点櫛形電極の作成（２）
|
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0136]GRENE Project 創エネデバイス（圧電）コース実習
|
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0137]赤血球変形能計測用マイクロデバイスの開発（２）
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0138]マスクレス露光装置を用いた立体構造ＰＣ基板露光
|
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0139]有機機能性微小単結晶を用いた薄膜電子デバイス作成
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0140]微細加工技術を用いた水晶センサの製作
|
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0141]GRENE Project 高効率照明用窒化物蛍光体材料開発と省ｴﾈ照明ﾃﾞﾊﾞｲｽの実証
|
F-KT-262 ボールワイヤボンダ
F-KT-263 ダイボンダ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0142]ダイヤモンド上への反転フォトリソグラフィー手法の確立
|
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-240 真空蒸着装置2
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-258 真空マウンター
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0143]配向性を有する細胞シートの作製と評価
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0144]テラヘルツ波用パッチアンテナに関する研究
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0145]磁石薄膜とSiウェハとの密着性検討
|
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0146]イオン液体潤滑膜のマイクロトライボロジー
|
F-KT-275 分光エリプソメーター
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0147]細胞接着のマイクロ・ナノスケール解析
|
F-KT-224 レーザー直接描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0148]ナノインプリント用モールド開発
|
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0149]多結晶シリコンMEMS構造共振特性評価
|
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
|
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-13-KT-0150]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開
|
F-KT-257 ダイシングソー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製
|
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0002]単一ＤＮＡ分子検出ナノ構造の作製
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0003]有機化学的手法によるボトムアップ型分子デバイスの作製
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0004]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0005]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発
|
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0006]周期的なナノホール構造を形成した硫化亜鉛膜の作製
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0007]２端子確率共鳴素子の開発
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0008]数10nm～数100nm微細パターンの作製
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0009]金属メタ表面による輻射制御に関する研究
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0010]機能性酸化物ナノ構造体を利用した磁気抵抗デバイスの開発
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0011]極微細加工材料中の放射線化学の研究
|
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0012]トポロジカル絶縁体・超伝導体のデバイス研究
|
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0013]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製
|
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0014]位置制御型単一量子ドット作製に関する研究
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0015]メゾスコピック空間を利用した生体高分子の高精度分離
|
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0016]擬ゼロホール係数材料を用いた電流－スピン流変換機能
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0017]ナノ光ファイバへの光共振器構造の作製
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0018]一分子解析技術を用いた革新的ナノバイオデバイスの開発
|
F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0019]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-316 ナノインプリント装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0020]酸化物ナノワイヤを用いた極微機能性ナノデバイスの創出
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0021]窒化物ベース希薄磁性半導体の電気的特性評価用電極の作製
|
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0022]ナノ加工時の反応に伴う薄膜中の自由体積変化に関する研究
|
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0023]天然高分子材料の微細加工体の創製
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0024]バイオマイクロデバイスの開発
|
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0025]高アスペクトなＳｉエッチングパターンに関する研究
|
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-GA-317 電子線描画装置群
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0026]微細加工技術を用いた超高感度酵素アッセイ系の構築
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0027]マイクロ流路を用いた赤血球変形能評価
|
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0028]DNA自立ジョイントによるマイクロアセンブリ技術の開発
|
F-OS-311 RFスパッタ成膜装置(RFスパッタ2台)
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0029]センサー応用に向けたカーボンナノチューブ薄膜の作製とキャリア輸送特性評価
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0030]マイクロウェルを利用したT細胞分泌物質解析
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0031]Si微細パターンエッチングプロセスの開発
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0032]ポリマー微細加工技術の構築
|
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0033]ダイヤモンド加工（Solid Immersion Lens作製）
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0034]超伝導電極を有する微細酸化物トランジスタの作製
|
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0035]キャリア注入による単原子層半導体の光電物性変調
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0036]フォトニック結晶レーザの開発
|
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0037]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究
|
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0038]TEM試料の加工条件の検討
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0039]水溶性極端紫外光レジスト材料を用いたグリーン微細加工技術の開発
|
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0040]金属ナノロッド配列ナノレンズによる超解像イメージング
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0041]DNA損傷計測用チップの作製
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-314 LED描画システム
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0042]サブナノ粒子偏光検出法のためのナノ周期微細構造シリコンデバイスの作製
|
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0043]マルチビーム生成用回折光学素子の作成
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0044]収束イオンビームを用いた原子間力顕微鏡探針の先鋭化
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0045]ナノ周期構造作製技術開発
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0046]ナノ薄膜の強度に関する研究
|
F-OS-306 集束イオンビーム装置
|
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-13-OS-0047]GaAsとSiの微細パターンエッチングプロセスの開発
|
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0001]MEMSプロセスの加工精度のバラつき評価
|
F-GA-322 LP-CVD群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0002]高強度テラヘルツ光源用異方性メタマテリアルの製作
|
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-322 LP-CVD群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0003]誘導結合プラズマ反応性イオンエッチング装置による回折格子の作製
|
F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0004]単一細胞薬剤刺激デバイスの開発
|
F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0005]ドライエッチングによるフォトマスクの作製(2)
|
F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0006]植物生体情報計測用道管流センサの製作・評価
|
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0007]大変位センサに向けた表面マイクロマシニング構造形成
|
F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0008]単一細胞切断用マイクロデバイスの開発
|
F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-328 ダイシングマシン
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0009]オプトジェネティクス用細胞解析マイクロデバイスの開発
|
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0010]チオフェン系化学吸着単分子膜を用いた透明導電膜の導電性能の向上
|
F-GA-322 LP-CVD群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0011]大変位センサに向けた表面マイクロマシニング構造形成
|
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-323 イオンシャワー
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0012]微細構造を有した表面プラズモン共鳴センサチップの開発
|
F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-326 非接触三次元形状測定器群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0014]磁気ライン埋め込み型メモリーデバイスの作製と評価
|
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-324 触針式表面形状測定器群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0015]細胞内抗体導入法による細胞機能計測の評価
|
F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0016]高感度センサに向けた微小可動構造形成
|
F-GA-317 電子線描画装置群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0017]MEMS技術を用いた超小型師管流モニタリングセンサの研究
|
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-329 電子測定器群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0018]植物細胞固定のためのマイクロオリフィスアレイを有するマイクロ流体デバイスの開発
|
F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0019]重合性シクロテトラシロキサン部位を有する液晶性半導体薄膜の構造評価
|
F-GA-324 触針式表面形状測定器群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0020]プレス加工による剣山形マイクロ微小針金型孔形形状評価
|
F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0021]電子線直接描画法を用いたハイブリッドフォトマスク作製プロセス
|
F-GA-317 電子線描画装置群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0022]バイオMEMS 用低自家蛍光レジストの開発
|
F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0023]人工原子配列を制御するシリコンウエハ表面形状の作製
|
F-GA-324 触針式表面形状測定器群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-318 マスク描画装置群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0024]五感情報通信用香り発生デバイスの製作と評価
|
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-323 イオンシャワー
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0025]グリースの金属新生面による分解挙動に関する潤滑性能評価のための表面形状測定
|
F-GA-326 非接触三次元形状測定器群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0026]学デバイスにむけた回転アクチュエータの形成
|
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0027]イオンシャワー装置を利用したマイクロチップデバイスの表面改質
|
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0028]マイクロ鋳型を用いたマイクロ流体撹拌素子の製作
|
F-GA-318 マスク描画装置群
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0029]板材の複合ひずみ経路による成形限界の測定
|
F-GA-327 ３Dデジタルマイクロスコープ
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0030]顕微鏡用の微小流路の作成
|
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0031]高アスペクトなＳｉエッチングパターンに関する研究
|
F-GA-317 電子線描画装置群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0032]ナノワイヤ引張用Si-MEMSデバイスの作製
|
F-GA-323 イオンシャワー
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0035]高精度ひずみ計測プラズモニックデバイスの開発
|
F-GA-317 電子線描画装置群
F-GA-323 イオンシャワー
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0036]撥水撥油防汚フィルムの基礎開発
|
F-GA-322 LP-CVD群
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0038]片持ち梁構造と回折格子の製作
|
F-GA-319 マスクアライナ群
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-323 イオンシャワー
|
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-13-GA-0039]教育用アライメントレスフォトリソグラフィープロセス
|
F-GA-328 ダイシングマシン
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0001]ガラス上単結晶シリコンTFTの開発
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0002]シリコンのドライエッチング速度に関する基礎検討
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0003]単結晶シリコンの疲労を評価するデバイスの試作
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0004]III-V族半導体薄膜の分子線エピタキシャル成長と新規光学デバイスの製作
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0005]薄膜トランジスタ開発のためのイオン注入条件の最適化
|
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0006]p-i-n接合シリコンナノワイヤの形成と光学特性評価
|
F-RO-334 LPCVD装置（poly-Si用）
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0007]金属ナノ粒子を利用した環境反応材料の開発
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0008]微細なトレンチを有するシリコンウエハへのポリイミド薄膜の作製
|
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0009]ポリイミド微細加工における蒸着温度の影響
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0010]グラフェン量子ドットを基盤とした機能性物質群の創製
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0011]EBによる微細ホール加工
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0012]厚膜酸化膜を有した基板の微細エッチング加工
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0014]真空を利用したＳｉウェハ上への無気泡フィルム接着装置の開発
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0015]マイクロ流路内を流れる赤血球の形状特性の実時間計測
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-346 設計・T-CAD用ワークステーション
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0016]多量子ビーム検出用超伝導トンネル接合素子
|
F-RO-335 LPCVD装置（SiN用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0019]マイクロ波超伝導共振器アレイを用いた放射線検出器の開発
|
F-RO-335 LPCVD装置（SiN用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0020]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（イオン注入）
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0021]Geを活性層とする薄膜トランジスタ（Ge薄膜の形成）
|
F-RO-333 酸化炉
F-RO-338 プラズマCVD装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0022]Geを活性層とする薄膜トランジスタの形成（リソグラフィ）
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0023]Geを活性層とする薄膜トランジスタ（SiN薄膜の形成）
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0024]窒化物薄膜の構造と物性
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0025]空間光変調器用ドライバ分離領域の形成
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-335 LPCVD装置（SiN用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0026]空間光変調器用ドライバ回路閾値電圧制御用イオン注入
|
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0027]空間光変調器用ドライバ回路作製工程（トランジスタ前工程）
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-333 酸化炉
F-RO-334 LPCVD装置（poly-Si用）
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0028]空間光変調器用ドライバ回路配線工程
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-339 Alスパッタ装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0029]ＢＣＮ膜のエッチング評価
|
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0030]NiGe層中へのリン注入によるNiGe/Ge界面ショットキー障壁変調機構の解明
|
F-RO-344 イオン注入装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0031]DNAをチャネルとするSi半導体MOSFET（Siアイランド形成）
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0032]DNAをチャネルとするSi半導体MOSFETの作製（薄膜形成）
|
F-RO-333 酸化炉
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0033]DNAをチャネルとするSi半導体MOSFETの作製（Siのドライエッチング）
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0034]自己組織化形成Ｓｉ系量子ドットの選択成長
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-333 酸化炉
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0035]高移動度グラフェン素子の作製と量子輸送現象の研究
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0036]原子層膜の表面電気伝導の研究
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0037]BNの表面凹凸がグラフェン素子の移動度に及ぼす影響の研究
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0038]BN多層グラフェン素子の作製と電子構造の研究
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0039]BN上の多細孔グラフェン素子の量子伝導の研究
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0040]微細構造シリコンにおける増強ラマン散乱効果の研究
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0041]微細な空間へのポリイミド薄膜作製における蒸着時間の影響
|
F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0042]低温成長GaAs系半導体薄膜の結晶構造評価
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0043]RBS/PIXEを用いた低温成長GaAs系半導体薄膜の結晶構造解析
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0045]光デバイス用スポットサイズコンバータの研究
|
F-RO-330 電子ビーム露光装置
F-RO-338 プラズマCVD装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0046]金属ナノパターンにおけるプラズモン共鳴のデバイス応用
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0047]SiCパワーデバイスのための不純物活性化の研究
|
F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0048]LPCVDを用いた多層トンネル接合型PIN太陽電池基板の特性解析
|
F-RO-334 LPCVD装置（poly-Si用）
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0049]光八木宇田アンテナによる量子ドット発行の指向性制御
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0050]SiC基板へのイオン注入、熱処理、および注入された基板の注入分布および電気的特性評価
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0051]集積回路の検査に用いられるイリジウムメッキしたタングステンプローブの特性評価
|
(登録なし)
|
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-13-RO-0052]GaN基板表面の組成評価
|
(登録なし)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0001]次世代レジスト材料の開発
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0002]チタン材料の光刺激ガス脱離の研究
|
F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0003]金属材料の微細加工
|
F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0004]静電吸着による付着粒子の除去
|
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0005]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発
|
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0006]表面処理したチタンの摺動によるガス放出特性
|
F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0007]顕微鏡用の微小流路の作製
|
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-GA-325 走査電子顕微鏡群
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0008]微小磁性体の高周波ダイナミクスの研究
|
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0009]種々の材料の真空分圧測定
|
F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0010]電気化学法を用いたマンガン酸化物薄膜の作製
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0011]磁性体を使ったホログラフィーによる３D画像表示の研究
|
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0012]有機化合物によるエレクトロニクス素子の開発
|
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0013]不純物ドープ窒化物薄膜の作製と評価に関する研究
|
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0014]高解像・高感度電子線レジストのプロセス開発
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0015]磁性薄膜と電極の成膜実験
|
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0016]表面処理したアルミニウムのガス放出特性
|
F-YA-353 超高・極高真空ガス分析装置群
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0017]電解処理を用いた材料特性改質に関する研究
|
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0018]非対称人工ピンを導入する超伝導素子に関する研究
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0019]微細構造による濡れ性制御
|
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0020]新規機能性樹脂の開発
|
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0021]チタン製真空装置の高性能化に係る相談
|
(登録なし)
|
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-13-YA-0022]真空装置の設計に係る技術相談
|
(登録なし)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0001]光エネルギー変換デバイスの開発
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0002]傾斜角センサ作製プロセスの改善
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0004]MEMS技術を応用した多点法走査形状測定用マルチカンチレバーの開発
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0005]局在表面プラズモン共鳴を利用した血液検査マイクロデバイスの開発
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0006]半導体、太陽光発電パネル開発のための成膜加工
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0007]ブロックコポリマーを用いたミクロ相分離構造とポーラスフィルムの作製
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0009]マイクロはんだバンプの形成
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0011]DNAの金属被覆によるナノワイヤの形成
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0013]評価用LEDの組み立て
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0014]超小型電流センサのコイル部作製
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0018]水晶振動子のための新たな励振電極形状の開発
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0019]KOH溶液によるSiエッチング評価
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0022]ナノ構造Si自立薄膜を用いた熱輸送現象の解明
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0023]細胞解析用微小孔デバイスの開発
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0025]アルミナコーティング粒子の観察・分析
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0027]脳型情報処理回路のためのナノディスクアレイ結合型FinFETの開発
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0028]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0029]酸化亜鉛薄膜へのV族元素のイオン注入
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0030]フォトリソグラフィー用マスクの作製
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0032]3C-SiCを用いたデバイスの開発
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0034]１０トランジスタから構成されたオペアンプの試作
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0036]超伝導渦糸フローチャネルの試作
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0037]シリコンパワーMOSFET作成
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0039]超小型変位センサの特性に関する研究
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0040]ガンマ線検出用TES（超伝導転移端温度計）型マイクロカロリーメーターの製作
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0043]機能性伝熱面の創製
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0045]超高速プラズマエッチング用のテストウエハの試作
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0046]ナノ複合体の高温における反応性
|
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
F-FA-372 組立測定装置群(恒温恒湿槽)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0047]MEMS技術を用いた機能性表面の創製
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0050]Siウエハ上へのSiO2層堆積の検討
|
F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
|
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-13-FA-0052]微細構造による濡れ性制御
|
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
|
