利用報告書一覧

利用報告書一覧

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[代表機関事務局]　[北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室]　
[東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム]　[物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム]　
[産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設]　 [筑波大学 微細加工プラットフォーム]　
[東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター]　
[早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター]　 [東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所]　
[名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構]　
[豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門]　
[京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点]　[大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点]　
[香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室]　[広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室]　
[山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室]　[北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター]　

利用課題番号/課題名 利用装置名
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0001]電解放射型走査型電子顕微鏡を用いた銀ナノワイヤーの観察 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0002]二ホウ化マグネシウムを用いた超伝導デバイスの開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-015 イオンミリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0003]カルシウム・シリカ法による高性能・低コストな乾式脱硫剤の試作開発 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0004]界面電磁場制御技術の乾燥炉への適用 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0005]新規ブロックコポリマー薄膜の膜厚測定 		F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0006]次世代電子デバイスの開発に向けた機能性材料のナノ構造作製 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0007]Fabrication of electrodes using stainless-steel pins for electrochemical detection 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0008]LDL吸着のためのAu膜基板の作製 		F-HK-033 ナノカーボン成長炉
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0009]シュウ酸の現場分析に用いる超小型装置に組み込む微小電極の作製 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0010]細胞力学診断のための細胞パターニング基板の開発 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-025 スパッタ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0011]ALD酸化膜を用いた高純度グラフェンの成長実験 		F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-024 ALD製膜装置
F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-033 ナノカーボン成長炉
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0012]半導体量子ドットを用いた光スピン機能性素子の作製 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
F-HK-039 電子線三次元粗さ解析装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0013]粒子径の異なる脂肪滴を効率的に吸着させる基盤の開発 		F-HK-018 電子ビーム描画装置
F-HK-022 ICP加工装置
F-HK-027 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0014]酸化物ハーフメタルにおける電流誘起有効磁場の観測 		F-HK-003 マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0015]金ナノ構造をもちいた新規光反応の実現 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0016]白色光全反射照明による高次プラズモンモード干渉効果の観測 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0017]レーザー誘起水熱合成法による酸化亜鉛ナノロッドアレイ構造の作製と制御 		F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0018]YBa2Cu3O7-を用いた超伝導体マイクロデバイスの作製と電気特性評価 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0019]高耐熱レジストの剥離プロセス 		F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0020]円偏光プラズモン場を用いたキラル結晶化 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0021]金属ナノトライマー構造を用いたナノ粒子回転運動操作 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0022]SrTiO3基板へのAl2O3絶縁膜のALD成長 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0023]Ｘ線レーザーイメージングのための試料セル作製 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0024]合成石英ガラスへの微細加工 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0025]準結晶パターンを利用した超高分解能計算機ホログラムの開発 		F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0026]マイクロパターン基板の作成 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-022 ICP加工装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0027]細胞折り畳み技術を用いた3次元立体組織の構築 		F-HK-020 両面マスクアライナ
F-HK-026 EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0028]Al被覆Mg合金薄板の引張変形メカニズムの調査 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0029]機能性金属酸化膜の形成 		F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0030]機能性金属酸化膜の結晶化熱処理 		(登録なし)
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0031]一方向巻きらせん構造を持つ剛直棒状高分子が示すスメクチックC相の研究 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0032]残膜処理 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0033]リフトオフによるCrマスクの作製 		F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0034]ハイドロゲルを利用した金ナノパターンのギャップ制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0035]医用画像診断装置のための放射線半導体検出器の作製 		F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0036]EUVリソグラフィに向けた化学増幅型レジストの高感度化 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0037]金属ドープカーボン酸素還元電極触媒のin situ XAFS測定 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0038]Al2O3/TiO2積層膜の作製 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0039]KNN薄膜のAl2O3パッシベーション膜に関する検討 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0040]光電磁界センサに用いる誘電体多層膜高反射ミラーの作製 		F-HK-006 プラズマCVD装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0041]生体分子モーターの動的挙動を制御するためのフォトマスク作成 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0042]微細構造超撥水加流ゴム用シリコン鋳型の作製 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0043]Reveling charge transfer plasmon on bridged dimer nanostructures 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0044]Exploring the Near-Field of Strongly Coupled Waveguide-Plasmon Modes by Plasmon-Induced Photocurrent Generation Using a Gold Nanogratings-Loaded Titanium Dioxide Photoelectrode 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0045]酸化チタンフィルム上に配置した金ナノ微粒子の過渡吸収分光 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0046]Emitting efficiency enhancement of organic lighting emitting diode by utilizing the local surface plasmons resonance effect of aluminum nanodisk structure 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0047]Plasmon-induced solar energy conversion using coupling between cavity mode and localized surface plasmon resonance 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0048]The near field image of Archimedes spiral by using the photoemission electron microscopy. 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0049]Broadband terahertz filter based on chirped metamaterial structure 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0050]Near field enhancement effects on stacked nanogap metallic structures pursued by photoemission electron microscopy 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0051]Spatial evolution of the near-field distribution on planar gold nanoparticles with the excitation wavelength across dipole and quadrupole modes 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0052]金ナノスプリットワイヤの近接場顕微分光 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0053]結合プラズモニックナノ構造の近接場分光特性 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0054]Optimization of a Compact Layer of TiO2 via Atomic-layer Deposition for High-performance Perovskite Solar Cells 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-016 真空紫外露光装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0055]プラズモン光アノードを備えたアンモニア合成デバイスの構築 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0056]ポーラス酸化チタン電極を用いたプラズモン光電変換系の構築 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0057]プラズモン誘起電荷分離における半導体／金界面の影響の評価 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-016 真空紫外露光装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0058]拡散電位を制御したプラズモン太陽電池の構築 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0059]Construction of microenvironment on microfluidic devices for uncultivated microorganisms 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0060]赤外領域における分子振動モードと光共振器の強結合 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0061]半導体量子ドットによるファイバー結合型単一光子発生源の開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-035 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0062]光学フィルター用透明電極薄膜の形成 		F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0063]Plasmonic photoelectric conversion using gold nanoparticles loaded TiO2 photoelectrode with 3D photonic lattices 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-012 ICP高密度プラズマエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0064]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-HK-032 エリプソメータ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0065]ハーフメタルCo2MnSi 薄膜とAg 中間層を用いたGMR デバイスの製作 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0066]ショットキー接合型トップゲート構造を用いたスピン信号のゲート制御に関する研究 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0067]平坦な金属電極細線の形成 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0068]アキラル構造における近接場キラリティーに関する研究 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0069]局在表面プラズモン共鳴を用いた水の酸化反応の光強度依存性 		F-HK-010 原子層堆積装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0070]プラズモン光電変換デバイスの応答波長依存性 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-017 高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡
F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0071]Interplay of hot electrons from localized and propagating plasmons 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-010 原子層堆積装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0072]ナノ構造体を用いた無標識検出デバイスの開発 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0073]電子スピン注入を用いた核スピンのスピンエコー信号の電気的検出 		F-HK-002 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0074]マイクロ流路基板の開発 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0075]温熱刺激下における腱細胞間ギャップ結合コミュニケーションの経時変化 		F-HK-020 両面マスクアライナ
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0076]酸化物および炭素系新材料・デバイス構造評価のための微細加工 		F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0077]珪藻模倣表面構造による放熱特性の検討 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-013 反応性イオンエッチング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0078]フレキシブル材料への凸型電極形成 		F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0079]弾性材料へのマイクロメートルサイズ構造転写 		F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-011 ICPドライエッチング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0080]電気化学測定と光学測定を組み合わせた金ナノ間隙制御 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0081]単分子補足に向けた光場の創出 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0082]水中でのセルフアライメント基板開発 		F-HK-003 マスクアライナ
F-HK-004 レーザー直接描画装置
F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
F-HK-034 コンパクトスパッタ装置
F-HK-037 超高速スキャン電子線描画装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0083]ALD成膜による保護膜検討 		F-HK-024 ALD製膜装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0084]リフトオフ方式によるメタルマスク作製 		F-HK-008 ヘリコンスパッタリング装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0085]チタン窒化物ナノ構造による表面増強ラマン散乱特性の検討 		F-HK-001 超高精度電子ビーム描画装置
F-HK-009 イオンビームスパッタ装置
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
[F-16-HK-0086]IGZO用スパッタリングターゲット材の開発と評価 		F-HK-038 半導体薄膜堆積装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0001]応力センサの特性評価に関する研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-085 Al-RIE装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-060 シンター炉
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0002]紫外領域オプトデバイスの研究開発 		F-TU-111 大口径AFM
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-087 ECRエッチング装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0003]金属薄膜の高精度ドライエッチング検討 		F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0004]MEMSグレーティングの試作 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0005]高温超伝導線材機械的ラップジョイント接合部の構造分析 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0006]ICP processing 		F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0007]基板上への微細Al電極作成と基板の評価 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-062 スプレー現像装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-086 アルバック アッシング装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-114 直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0008]ITO塗布膜のエッチングおよびパターンニング形成技術の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0009]HAL弾性波デバイスの開発 		F-TU-048 膜厚計
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0010]Micron pattern devices for THz image system 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-053 EB描画装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-058 ダイサ
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0011]Si ウェーハの欠陥解析 		F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0012]低温動作のための容量型変位センサを集積化した静電駆動XYZマイクロステージ 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-043 サンドブラスト
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0013]Auバンプ切削平坦化を用いた触覚センサの開発 		F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0014]触覚デバイスの開発と材料技術の検討 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-058 ダイサ
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0015]次世代のエレクトロニクスデバイスの試作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0016]プラズモニックカラーフィルタの製作 		F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-100 エキシマ洗浄装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0017]集積型マイクロバイオセンサシステムの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0018]MEMSデバイスの開発 		F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0019]金属ガラスインプリンティングによる高アスペクト比Ｘ線回折格子の開発 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0020]シリコン異方性ウエットエッチングのグリーンプロセス研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0021]半導体プロセス基礎実験 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0022]シリコン基板上への高性能圧電トランスデューサ薄膜の開発 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0023]次世代センサの開発 		F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0024]先端融合領域イノベーション創出拠点形成プログラム「マイクロシステム融合研究　開発「光マイクロシステムの研究」 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0025]Cr2O3薄膜の微細加工 		F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0026]三次元LSIの試作研究開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0027]Arスパッタリングを用いた有機物(粘着剤やその他高分子材料)の測定 		F-TU-109 TOF-SIMS
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0028]極微細パターン形成のためのEB描画条件（bss値）の最適化 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0029]貫通穴形状を持ったＭＥＭＳ構造物の製造方法と、高段差ウエハのダイシング方法開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0030]電子デバイスの微細加工 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-098 UVインプリント装置
F-TU-099 熱インプリント装置
F-TU-100 エキシマ洗浄装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
F-TU-109 TOF-SIMS
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0031]コンデンサマイクロホンの作製 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0032]音響光学素子フィルタの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-095 4インチウェハ研磨装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0033]MEME/NEMSによる高感度物理量センシング 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-058 ダイサ
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0034]超並列電子線直接描画 (MPEBDW) 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0035]ナノインプリントリソグラフィによる金属ナノ構造体作製 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-058 ダイサ
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0036]ダイアフラム構造の作成 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0037]微細構造電極・誘電体薄膜の作成法に関する研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0040]ワイヤーアレイ構造のシリコン太陽電池に関する研究 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0041]円筒状センサのDRIE形状の確認 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0044]磁歪センサ用カンチレバー構造の試作 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0046]微細周期構造の作成 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0047]量子ビーム格子の開発と作製 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0049]遷移金属の新しいエッチング方法の検討 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0050]プラズマCVDを用いた絶縁膜形成 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0051]ウェハレベル真空パッケージに関する研究 		F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-091 イオンミリング装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0052]貫通電極構造太陽電池における不純物ドープと窒化膜形成 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0053]マイクロ流路構造の作製検討 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0054]シリコン細線導波路の開発 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-073 W-CVD装置
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0055]多層膜貫通穴加工方法の開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-081 DeepRIE装置#3
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0056]3-D IC作製のための高アスペクト比ビアへのバリア/シード層形成に関する研究 		F-TU-105 マイクロX線CT
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0057]微細構造体の作製技術開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-081 DeepRIE装置#3
F-TU-103 熱電子SEM
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0058]非珪素系次世代MEMSプラットフォームの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0060]グラフェンナノリボン応用ひずみ計測技術の開発 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0061]フォトダイオードアレイとプラズモニックナノ周期構造の一体化 		F-TU-053 EB描画装置
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-066 ランプアニール装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0062]全方位スキャナ 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0063]高塗着効率塗装を実現する超臨界液滴吐出ヘッドの開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0064]小型電子部品の電極の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0065]多孔質体を用いたガスセンサの開発 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0066]MEMS構造体の試作・検討 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-068 LPCVD
F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0067]ウェハレベルパッケージング 		F-TU-113 サーフェースプレーナー
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0068]低電圧駆動RF-MEMSスイッチの研究開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-103 熱電子SEM
F-TU-060 シンター炉
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0070]MEMS基礎技術の研究 		F-TU-057 ゾルゲル自動成膜装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0071]シリコン細線導波路光スイッチの製作 		F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0072]抵抗値出力均一化を図る為の金属配線形成方法 		F-TU-039 ステッパ装置一式（ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機）
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0073]MEMSデバイス加工 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0074]MEMS-LSI集積化技術 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-048 膜厚計
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-058 ダイサ
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-083 アネルバ RIE装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0076]多層エピ成長による新CMOSプロセス 		F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0077]単一量子ドットトランジスタの作製とテラヘルツ素子応用 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0078]胃液保持MEMS電池の高性能化 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-080 DeepRIE装置#2
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0079]永久レジストの剥離プロセスの開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0080]Si Nano Wallの異方性エッチングによる形成 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0082]超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成のためのシリコンデバイスの作製 		F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0084]ワイヤレスMEMSの研究 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-042 ブランソン アッシング装置
F-TU-083 アネルバ RIE装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0085]カリウムイオンエレクトレット技術の開発 		F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-068 LPCVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0087]結晶異方性エッチングを用いた任意形状加工 		F-TU-044 酸化拡散炉
F-TU-090 Si結晶異方性エッチング装置(TMAH)
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0090]学生のMEMS試作実習 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-079 DeepRIE装置#1
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0091]2次元シートデバイス開発 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0092]MEMS胃酸電池 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0093]炭素材料へのホウ素クラスターの担持 		F-TU-069 熱CVD
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0094]耐熱接合技術の開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-107 超音波顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0095]MEMSの試作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-088 アルバック 多用途RIE装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-048 膜厚計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0096]スピン流の検出と制御のためナノメカニカルデバイス 		F-TU-108 赤外線顕微鏡
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0098]超常磁性自由層を有するトンネル磁気抵抗(TMR)センサの作製 		F-TU-053 EB描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0099]IOC(Integrated optical circuit )の研究開発 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0100]レジスト材料の性能評価 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
F-TU-082 DeepRIE装置#4
F-TU-064 中電流イオン注入装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0101]調光デバイスの研究開発 		F-TU-063 レーザ描画装置
東北大学 ナノテク融合技術支援センター 微細加工プラットフォーム
[F-16-TU-0102]導波モード共鳴格子の製作 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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[F-16-TU-0103]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-TU-048 膜厚計
F-TU-106 卓上型エリプソ
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[F-16-TU-0104]医療用マイクロデバイス加工技術開発 		F-TU-070 住友精密 PECVD装置
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[F-16-TU-0107]太陽電池用単結晶Si基板のAl電極Si界面の分析 		F-TU-046 拡がり抵抗測定装置
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[F-16-TU-0108]CZTS系太陽電池材料の金属‐半導体接触の形成とその評価 		F-TU-076 電子ビーム蒸着装置
F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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[F-16-TU-0109]New materials for MEMS application 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
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[F-16-TU-0110]Alが成膜されたSOIウエハに対するSiO2エッチング 		F-TU-108 赤外線顕微鏡
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[F-16-TU-0112]半導体ナノ構造の作製 		F-TU-053 EB描画装置
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[F-16-TU-0113]石英基板の微細加工 		F-TU-063 レーザ描画装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-102 Dektak 段差計
F-TU-112 レーザ／白色光共焦点顕微鏡
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[F-16-TU-0114]冷凍Cycle用MEMS機能部品開発 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
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[F-16-TU-0116]プリント基板表面濡れ性の改質 		F-TU-042 ブランソン アッシング装置
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[F-16-TU-0117]ストレスマイグレーションによる微細材料創製の制御 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-053 EB描画装置
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[F-16-TU-0118]高耐圧静電誘導サイリスタ試作 		F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-044 酸化拡散炉
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[F-16-TU-0119]MEMSデバイスの開発 		F-TU-091 イオンミリング装置
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[F-16-TU-0122]微細構造の形成とその評価 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-049 Tenchor 段差計
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-051 Suss ウェハ接合装置
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
F-TU-091 イオンミリング装置
F-TU-113 サーフェースプレーナー
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[F-16-TU-0123]MEMS多機能カンチレバーデバイスの形成 		F-TU-079 DeepRIE装置#1
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[F-16-TU-0125]圧力センサ試作実習 		F-TU-036 芝浦スパッタ装置
F-TU-038 両面アライナ露光装置一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
F-TU-079 DeepRIE装置#1
F-TU-050 デジタル顕微鏡
F-TU-064 中電流イオン注入装置
F-TU-060 シンター炉
F-TU-071 住友精密 TEOS PECVD装置
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[F-16-TU-0127]充填層内の空隙の観察 		F-TU-105 マイクロX線CT
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[F-16-TU-0128]抵抗変化メモリ(ReRAM)用機能性酸化物とハードマスク材料のArミリングレート比のイオンビーム条件依存性 		F-TU-091 イオンミリング装置
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[F-16-TU-0129]電極成膜 		F-TU-075 自動搬送芝浦スパッタ装置
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[F-16-TU-0130]SiN成膜 		F-TU-068 LPCVD
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[F-16-TU-0132]ナノインプリント法を用いた櫛形電極の作製 		F-TU-098 UVインプリント装置
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[F-16-NM-0001]エッチングプロセス後のパターン形状観察 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0002]ダイヤモンド半導体素子の開発 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-16-NM-0003]低次元物質を用いた単電子トランジスタの開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0004]中赤外光アンテナに関する研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0005]グラフェン電界効果トランジスタの作製と評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0006]単一金ナノプリズムによる3 方向光散乱制御 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-16-NM-0007]グラフェンへのひずみ導入による電気伝導制御 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0008]ナノウェル型光導波路と分子鋳型ポリマーの融合による新規バイオセンサの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0009]シリコンナノワイヤ型熱電発電デバイスにおける短チャネル効果 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0010]プラズモニック周期アレイによる希土類錯体層の発光制御 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0011]感光性樹脂材料のプラズマエッチング耐性評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0012]シリコン深堀エッチング装置を用いたナノピラーアレイつきマイクロ流路の形成 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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[F-16-NM-0013]Pd 合金の応力最適化検討 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0014]SiC 基板加工 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0015]薄膜トランジスタへの放射線照射 		F-NM-072 レーザー露光装置
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[F-16-NM-0016]強磁性Fe4N 細線中の磁壁の電気的検出 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-16-NM-0017]金属ナノ構造体の試作 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
F-NM-100 高圧ジェットリフトオフ装置
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[F-16-NM-0018]6nm パリレン上にALD でHfO2 を積層した二層ゲート絶縁膜FET の作製 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-16-NM-0019]多目的ドライエッチングを利用したSQUID 配列の作製法の改善 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0020]メサ構造Mg2Si フォトダイオードの作製と評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0021]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0022]10nm 級微細幅グラフェン配線の作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0023]相変化材料を微細加工するための電子ビーム描画およびドライエッチング技術 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0024]半導体ドライプロセスによるレーザー素子の作製 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0025]AD 法で作製したイットリア膜のプラズマ環境における腐食挙動 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0026]電子ビーム描画装置を用いた微細幅低抵抗グラフェン配線の作製と電気特性評価 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0027]真空パッケージング後紫外線荷電された高性能MEMS エレクトレット振動発電器の開発 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0028]二次元電子ガスと超伝導電極間の接触抵抗の測定 		F-NM-072 レーザー露光装置
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[F-16-NM-0029]プラズモニック・メタマテリアル用単結晶薄膜の開発 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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[F-16-NM-0030]Si 貫通電極のための貫通穴の作製 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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[F-16-NM-0031]ヘテロ接合型フォトニック結晶導波路と自己組織化InAs 量子ドットによる超小型近赤外多波長光源開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0032]ICP-RIE によるGaAs2 次元フォトニック結晶の形成 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0033]半導体ドライプロセスによる短パルス光発生レーザー素子の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0034]単結晶ダイヤモンド超伝導量子干渉計の特性評価 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-16-NM-0035]FIB-SEM ダブルビーム装置を用いた光-SPP 結合構造の製作 		F-NM-095 FIB-SEMダブルビーム装置
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[F-16-NM-0036]脳型推論アナログ抵抗変化素子用下部電極の作製 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0037]ポリマー材料塗布時の表面性の観察 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0038]微細幅グラフェンへの上層コンタクトによる抵抗評価構造の作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0039]ダイヤモンドショットキーバリアダイオードの電気特性 		F-NM-072 レーザー露光装置
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[F-16-NM-0040]125kV 電子ビーム描画装置による電子線レジスト性能に関する研究 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0041]ALD-Al2O3 膜の選択成長 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-16-NM-0042]EB レジストを用いたパターン反転プロセス 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0043]n+Ge/pGe ダイオード構造試料の作製及び評価 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0044]洗浄プロセスの電気特性に及ぼす影響 		F-NM-078 原子層堆積装置
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[F-16-NM-0045]サラウンディングゲートトランジスタの試作 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0046]先端デバイス開発のためのプロセス検討 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0047]電荷拡散のキャパシタ周長依存性測定用のTEG 作成 		F-NM-079 プラズマCVD装置
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[F-16-NM-0048]シリコン時計部品へのコーティング膜の検討 		F-NM-079 プラズマCVD装置
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[F-16-NM-0049]卓上荷電粒子加速システムの研究開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0050]架橋カーボンナノチューブを用いた超伝導ナノワイヤー共鳴装置の作製 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0051]電子ビームリソグラフィによる強誘電トンネル接合素子の微細化 		F-NM-069 100ｋV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0052]フォトリソグラフィを用いた半導体基板及び金属薄膜へのマイクロパターニング 		F-NM-072 レーザー露光装置
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[F-16-NM-0053]折り畳みによる方向性結合器型バイオセンサの平面集積化 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0054]ドライエッチング装置を用いたセラミックス膜の耐プラズマ性評価 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0055]微細加工による表面弾性波デバイスの作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0056]Co/Ni 多層膜のスパッタ成膜と垂直磁気異方性の解析 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0057]Si の深堀エッチングによる超伝導光デバイスと光ファイバの高効率結合開発 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
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[F-16-NM-0058]SOI を用いたSi 光導波路の劈開 		F-NM-089 ダイシングソー
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[F-16-NM-0059]プラズマアッシャー処理を施したSiO2/Si 上グラフェンの界面水の挙動 		(登録なし)
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[F-16-NM-0060]電子ビームリソグラフィー法によるAu/Al2O3 層上のAu ナノ構造の作製 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0061]微細加工基板上化学気相成長法で生成されたダイヤモンド中窒素空孔中心 		F-NM-079 プラズマCVD装置
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[F-16-NM-0062]酸化膜ドライエッチング装置による光学素子集積用溝形成 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0063]電子ビーム描画装置、エッチング装置を用いたレーザー駆動誘電加速構造の試作と検査 		F-NM-073 マスクアライナー
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[F-16-NM-0064]スピンバルブ構造を利用したスピン流の検出 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0065]CMP 装置を用いたシリコン電子回路チップの薄化に関する研究 		F-NM-091 CMP研磨装置
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[F-16-NM-0066]近接場効果を用いたMEMS ラジエータの開発 		F-NM-079 プラズマCVD装置
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[F-16-NM-0067]SOI を用いたSi 光導波路の作製 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0068]遷移金属ダイカルコゲナイドを用いた生体物質センシングデバイス作製プロセスの開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0069]As2 分子線を用いてMBE 成長したInAs 量子ドットの構造評価 		(登録なし)
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[F-16-NM-0070]FIB で製作するナノ光陰極型電子光源の開発 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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[F-16-NM-0071]反応性イオンエッチングを用いたダイヤモンド基板上任意位置への微細加工 		F-NM-079 プラズマCVD装置
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[F-16-NM-0072]ポリマー材料の検討 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0073]ナノスケール磁性体中のスピン波制御 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0074]Multifunctional superlattice materials 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0075]Ir/IrOx 及びAg 集積化薄膜電極の製作 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0076]マスクレス露光装置及び超高真空蒸着装置を用いた超伝導検出器の開発 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
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[F-16-NM-0077]電子ビーム描画装置を用いたプラズモニック結晶導波路の作製 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-16-NM-0078]超伝導ボロンドープダイヤモンドを用いたマイクロブリッジ構造ジョセフソン接合 		F-NM-094 ワイヤーボンダー
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[F-16-NM-0079]自己発電型バイオセンサのための微細くし形電極の開発 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0080]リソグラフィー技術によるくし形バイオセンサ電極の開発 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0081]マイクロギャップ平行平板電極による免疫センサの開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0082]非コンベンショナルなプラズモニック材料の選択的ドライエッチング 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
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[F-16-NM-0083]電子線ビーム描画で製作するDLA 装置 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0084]レーザー駆動誘電加速構造の試作と検査 		F-NM-083 酸化膜ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0085]金属ナノ周期構造を用いた非線形メタマテリアルの作製 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-16-NM-0086]GaAs 系薄膜の反応性イオンエッチング 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0087]電子ビーム描画装置とドライエッチング装置を用いたパターン形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0088]SiN 薄膜のドライエッチング検討 		F-NM-074 全自動スパッタ装置
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[F-16-NM-0089]窒化シリコンウィンドウ上への磁性ドット形成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0090]多層グラフェン配線集積化に向けたグラファイト加工検討 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0091]鉛薄膜センサー素子のダイシング 		F-NM-089 ダイシングソー
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[F-16-NM-0092]Al / MoS2 電気二重層トランジスタ構造 / Al 接合における超伝導電流 		F-NM-092 室温プローバーシステム
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[F-16-NM-0093]電子ビーム描画装置を用いたグラフェン-超伝導体接合光学素子作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0094]二硫化モリブデン/超伝導体接合開発 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-16-NM-0095]微細ゲート作製技術の開発 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
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[F-16-NM-0096]微細構造作製の検討 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0097]メモリキャパシタ作製のためのAl 電極形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
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[F-16-NM-0098]テンプレート法を用いた金ナノ構造体によるSERS 効果の発現 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
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[F-16-NM-0099]ゼオライトテンプレートカーボン電界効果型トランジスタの作製 		F-NM-093 極低温プローバーシステム
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[F-16-NM-0100]Parylene E as a Sensitive Material in Chemicapacitive Gas Sensor 		F-NM-089 ダイシングソー
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[F-16-NM-0101]酸化ガリウム基板の加工変質層評価 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0102]トレンチMOS 構造を設けたGa2O3 ショットキーバリアダイオード 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
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[F-16-NM-0103]プラズマCVD 装置等を利⽤したSiC に対する新規コンタクト技術の開発 		F-NM-079 プラズマCVD装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0104]電子ビームリソグラフィーで作製した細孔中への自己組織化単分子膜の形成 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0105]NV センター応用に向けたボロンドープダイヤモンドSQUID の開発･特性評価 		F-NM-082 シリコン深堀エッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0106]酸化物メモリのための微細加工 		F-NM-076 12連電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0107]MIS（金属/絶縁体/半導体）構造作製によるシリサイド半導体のキャリア密度推定 		F-NM-075 超高真空スパッタ装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0108]半整数磁束渦観測に向けたSQUID とSr2RuO4 から成る磁化測定デバイスの作製 		F-NM-094 ワイヤーボンダー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0109]糸状性藻類の細胞分散化マイクロデバイス 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0110]ウェアラブルデバイスのための回転型エレクトレット発電機の開発 		F-NM-089 ダイシングソー
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0111]ファイバーブラッッググレーティング露光用位相マスクの作成 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0112]表面凹凸構造の加工における反射防止効果の検討 		F-NM-080 多目的ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0113]PMMA 系混合レジストを用いたナノギャップの作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0114]熱刺激電流測定用標準試料の開発 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0115]現像方法改善によるZEP のLS パターン品質の向上 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0116]アナログ抵抗変化素子の電極線幅の評価 		F-NM-086 走査電子顕微鏡
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0117]TiN とタンタル酸化物のエッチングレートの比較 		F-NM-081 化合物ドライエッチング装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0118]ウェットエッチングによるメサ型Mg2Si pn 接合ダイオードの作製 		F-NM-071 高速マスクレス露光装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0119]小口径半導体ウェハへの微細パターン作製 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム
[F-16-NM-0120]ZEP-520A による20nmLs 解像を実現するための現像液の検討 		F-NM-068 125kV電子ビーム描画装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0001]X線、中性子反射率評価用薄膜の作製と評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0002]局在表面プラズモンの応用実験 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0003]電界放出源の高出力化の研究 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0004]スパッタ成膜プロセスの面内膜厚分布評価 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0005]AuのCMP研磨 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0006]電子デバイス用金電極の作製と評価 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0007]追加エッチング加工のためのレジストパターンの作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0008]TMAHウエットエッチングによるシリコン窒化膜メンブレンの作製 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0009]微細配線の露光・現像 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0010]グラフェン薄片の導電率測定 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0011]高アスペクトCu配線形成 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0012]光学多層膜の物性解析 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-079 ダイシングソー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0013]シリコン微細構造光学素子 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0014]グラフェン形成評価 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0015]プラズマCVDを用いたグラフェン合成におけるガス残渣の影響 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0016]ルテニウム薄膜のFE-SEM観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0017]微粒子の顕微ラマン分光分析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0018]微細グラフェン配線の研究開発 (微細構造試作) 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0019]中性粒子ビームエッチング技術を用いた量子ドット太陽電池の開発 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0020]AlOx薄膜の表面粗さの評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-081 微小部蛍光X線分析装置(XRF)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0021]シリコン酸化膜の AFM による評価 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0022]マイクロチャンネルの作製とメンブレンの取り付け 		F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0023]電子線描画を用いた微細電極の作製 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0024]プラズモニックデバイスの作製プロセスの検討 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-072 アルゴンミリング装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0025]金属ナノ構造体の試作 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0026]ゲルマニウム基板へのPイオン注入 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0027]次世代LSI向け成膜プロセス評価用MOSキャパシタ試作 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-090 薄膜エックス線回折装置〔ATX-G RIGAKU〕
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0028]シリコンフォトニクスデバイスの開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0029]液晶シリコンフォトニクスに関する研究 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0030]量子回路の開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0031]ポリマー光導波路実装基板の加工技術に関する検討 		F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0032]光導波路基板上ミラー構造用の金属薄膜の作製と評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0033]光エレクトロニクス実装技術開発 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-105 スクライバー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0034]微細パターンの作製 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0035]ダイヤモンド半導体デバイスの研究開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0036]超伝導光検出器の開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0037]真空蒸着を用いた電極の作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0038]デバイスの欠陥解析 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0039]二次元材料の合成とデバイス応用 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0040]中性粒子ビームエッチング技術を用いた熱電変換素子開発 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0041]超低抵抗ナノカーボン配線の開発 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0042]薄膜の分析 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0043]カーボンナノチューブのSEM観察およびEDX分析 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0044]ナノパーティクルの観察 		F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0045]ペンタセンを用いたFET素子の作製と評価 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0046]新規有機エレクトロニクス材料の開発 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0047]赤外線検出器の感度向上のためのGaAs基板上のパターニング 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0048]金属ナノ構造体の試作 		F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0049]ITOスパッタ成膜による透明電極構造の研究 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-068 電子ビーム描画装置(CRESTEC)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0050]有機超薄膜を用いたバイオ・分子素子基板の開発 		F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0051]CNT複合材料の評価 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0052]Si基板上へのPCVDによるSiO2膜の成膜 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-092 プラズマアッシャー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0053]ナノカーボン・二次元材料のデバイス応用 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-082 ナノサーチ顕微鏡SPM3〔SFT-3500〕
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0054]GaN基板を用いたデバイス作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0055]GaN基板を用いたデバイス作製 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0056]シリコン酸化膜のミリングレートの検討 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0057]ミリングしたシリコン酸化膜の非接触計測の検討 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0058]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0059]ミニマルファブ技術の研究開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0060]ハーフインチウェハ端部の形状観察 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0061]ミニマルファブ装置の開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0062]カーボンナノチューブのAFM観察 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0063]多層薄膜評価用デバイス作製 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0064]ハーフインチウエハ対応深堀エッチングの評価 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0065]ポリマーゲート絶縁層の開発 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0066]3 μm厚レジストのサブミクロンパターニング 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0067]近赤外表面プラズモン波の高性能化 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0068]ポリマー光導波路の断面加工 		F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0069]ダイヤモンド半導体素子の開発 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0070]高容量キャパシターの開発 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0072]樹脂複合材料の組成分析 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0073]ip5700のステップ露光確認 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0075]原子層堆積装置を用いた半導体表面への薄膜形成 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0076]ポリマー光導波路コアの観察 		F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0077]トランジスタ試作 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0078]潤滑性試験前後の試験片の表面粗さの測定 		F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0079]耐疲労試験前後の金属試験片の表面形状測定 		F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0080]FIB加工微小試験片によるセラミックス材料の機械的特性評価 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0081]多結晶III-V族化合物半導体デバイスの開発 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0082]イオンミリングによるMoxFe3-xO4薄膜のホールバー加工 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0083]マイクロ・ナノ加工の高度化に関する研究開発 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0084]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-079 ダイシングソー
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0085]カカオマスのファットブルームの微小構造の観察 		F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0086]微細パターニング 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0087]炭素材料薄膜の微細構造観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0088]減圧環境下における微小液滴の加熱面衝突時局所熱伝達特性に関する研究 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0089]新規高速蛍光イメージング開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0090]高感度バイオセンサーの実用化に向けた簡易操作型光センシング技術の開発 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0091]半導体材料の表面状態変化の測定及び評価 		F-AT-086 分光エリプソメータ
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0092]メタル薄膜の微細パターンへの埋込みプロセス 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0093]カーボンペースト表面の観察 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0094]シリコン基板の表面粗さ測定 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0095]シリコン貫通ビアの湿式エッチング加工 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0096]4,6インチ基板のi線露光 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0097]酸化マグネシウムを触媒担持層としたカーボンナノチューブフォレスト成長 		F-AT-080 X線回折装置(XRD)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0098]Ptオーミック接合の形成 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0099]MEMSセンサーのウエハープロセスの改善 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0100]高精度微小電流測定に向けた単一電子素子の開発 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0101]バイオテンプレート作製のためのフェリチン粒子塗布条件の確立 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0102]レーザーパターン集光型回折光学素子の試作と評価 		F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0103]絶縁体上金属膜の熱処理挙動の研究 		F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0104]疎水化ゼラチンとシリコンナノワイヤーを利用した生体組織接着性表面の設計 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0105]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-AT-086 分光エリプソメータ
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0106]スパッタナノカーボン薄膜電極の表面修飾によるによる機能化 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0107]磁性体および絶縁体の薄膜試料作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0108]透過型マスクの作製 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-089 多目的エッチング装置(ICP-RIE)
F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0109]酸化物半導体を用いた電子デバイスの開発 		F-AT-072 アルゴンミリング装置
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0110]薄膜状のマイクロナノスケール構造体による動作検証 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-094 抵抗加熱型真空蒸着装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-103 スピンコ―タ―
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0111]SiC上ナノカーボンの電気伝導 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
F-AT-093 UVオゾンクリーナー
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0112]ポリマー光導波路作製方法の検討 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0113]有機ポラリトン用キャビティの製作 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0114]超低抵抗ナノカーボン配線の開発 		F-AT-077 多目的高速加熱ランプ炉（RTA)
F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0115]液相堆積法による誘電体薄膜の生成 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0116]SiC-MOSFET中の単一光子源の観察 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-103 スピンコ―タ―
F-AT-104 コンタクトマスクアライナー(MJB4)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0117]細胞培養用ナノファイバーの開発 		F-AT-101 エックス線光電子分光分析(XPS)装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0118]デンドリマー挙動解析DMEM溶液中SPM観察 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0120]透明酸化物表面にフェムト秒レーザーアブレーションにより形成されたナノホールの観察 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0122]GaN基板表面付近の成分分析 		F-AT-100 二次イオン質量分析装置(D-SIMS)
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0124]保護膜生成プロセス 		F-AT-095 プラズマCVD薄膜堆積装置(TEOS/SiO2)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0125]半導体材料の評価 		F-AT-083 走査プローブ顕微鏡SPM2〔SPM-9600/9700〕
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0126]亜鉛系はんだの表層構造解明 		F-AT-071 集束イオンビーム加工観察装置（FIB） 及び イオンコーター（FIB付帯装置）
F-AT-088 集束イオン/電子ビーム観察加工装置（FIB-SEM）
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0127]亜鉛系はんだ表面のフラットミリング 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0128]サブミクロン構造形成 		F-AT-067 i線露光装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0129]シリコン基板への回折光学素子の試作と評価 		F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0130]MacEtch法による貫通孔形成の検討 		F-AT-067 i線露光装置
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0131]血液から血球と血漿とを分離するマイクロ流路チップの開発 		F-AT-091 マスクレス露光装置
F-AT-092 プラズマアッシャー
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0132]蒸着プロセス 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0133]Development of thermoelectric device based on hybrid material 		F-AT-096 ナノプローバー(N-6000SS)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0134]ALD法による成膜実験 		F-AT-097 原子層堆積装置(FlexAL)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0135]インプリントモールドの作製 		F-AT-070 反応性イオンエッチング装置(RIE)
F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0137]カーボンナノチューブ成長における触媒担持層の微細構造評価 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0138]ジルコニアセラミックスのレーザープロセス 		F-AT-084 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0139]Alバンプ状への金属コーティング 		F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0140]超短パルスレーザーにより微細加工したセラミック表面の観察 		F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-121 短波長レーザー顕微鏡(VK-9700)
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0141]薄膜実践セミナー実習、スパッタリング成膜技術及び薄膜評価技術の習得 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設
[F-16-AT-0142]薄膜実践セミナー STO成膜実験 		F-AT-073 スパッタ成膜装置(芝浦)
F-AT-074 RF・DCスパッタ成膜装置(ULVAC)
F-AT-075 電子ビーム真空蒸着装置
F-AT-080 X線回折装置(XRD)
F-AT-085 電界放出形走査電子顕微鏡〔S4800/FE-SEM HITACHI〕
F-AT-087 デバイスパラメータ評価装置
F-AT-098 短波長レーザー顕微鏡(OLS-4100)
F-AT-102 触針式段差計
F-AT-122 低真空走査電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0002]電界放出源の高出力化の研究 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0003]カーボン材料の分析 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0010]三次元細胞組織の再生医療実現に向けた血管構造作製技術の確立 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0011]低次元物質を用いたナノデバイスの開発 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0013]電子機能ナノ材料の微細加工と特性評価 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0014]バブル駆動する積層型マイクロモーターの燃料濃度勾配による駆動制御 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-105 触針式表面形状測定器
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0015]金属ナノ粒子の基材への選択吸着性の評価 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0016]デバイスシミュレーターの操作法の習得及びその有用性の確認 		F-BA-091 デバイスシミュレータ
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0020]GOS型電子放出デバイスの作製 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0021]金属蒸気触媒を用いたグラフェンの化学気相成長 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0024]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-BA-106 微細パターン形成装置群 (スピンコーター、マスクアライナー)
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0030]FIBで製作するナノ光陰極型電子光源の開発 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0039]パターン投影リソグラフィシステムで制作されたクロスパターンの形状測定 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0047]As2分子線を用いてMBE成長したInAs量子ドットの構造評価 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0049]金属半球面へのレーザーリソグラフィー 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0051]透明磁性誘電体の収束イオンビーム装置(FIB)による周期的微細穴加工 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0053]MEMS技術を用いたFin-lineの製作 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0055]ナノ相分離触媒材料のAPT（アトムプローブトモグラフィ）観察試料作製 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0056]Gaイオンビームエッチングによる微細光導波路型ミラーの作製検討 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0058]FIB操作実習 (CUPAL NIP： FIB実践技術コース) 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0060]二硫化モリブデンを用いた超伝導接合試料の作製 		(登録なし)
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0063]ワイドギャップ半導体MOS型電界効果トランジスタの特殊な分光評価のための試料作製 		F-BA-099 ウェーハーダイシングマシーン
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0064]レーザーパターン集光型回折光学素子の試作と評価 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0069]透過型マスクの作製 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0070]パターン投影リソグラフィシステムの操作トレーニング 		F-BA-102 パターン投影リソグラフィシステム
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0071]金属ペースト硬化膜中のフィラー分散状態の観察 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0072]ゾウムシが持つフォトニック結晶構造の観察 		F-BA-094 FIB-SEM
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0074]紙に塗布されたセルロースナノクリスタル層の微細構造 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0077]走査型プローブ顕微鏡を利用した表面改質フィルムの観察 		F-BA-098 走査型プローブ顕微鏡群
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0079]デジタル画像相関法によるひずみ測定のための微小パターン形成 		F-BA-103 インクジェットパターン生成装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0080]TiO2の成膜、評価 		F-BA-092 スパッタリング装置
F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
F-BA-105 触針式表面形状測定器
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0081]電気化学センサを用いた潜在性乳房炎の検査システムの開発 		F-BA-092 スパッタリング装置
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0083]微細な土壌団粒内部顕微分析のための試料加工 		F-BA-100 電界放出形走査型電子顕微鏡
筑波大学 微細加工プラットフォーム
[F-16-BA-0084]原子薄膜材料の電気特性評価試料の作製 		(登録なし)
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0001]ナノピンホール研究開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0002]薄膜太陽電池のための、銀スロット電極の作製 		F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0003]マイクロパターン化培養系を利用した神経可塑性の研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0004]電子線リソグラフィを用いた高感度バイオセンサ用ナノワイヤの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0005]電子線リソグラフィにより作製した微細表面パターンによる細胞分化制御技術の検討　 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0006]振動発電素子の動作挙動解析 		F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0007]レジスト材料の性能評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0008]イオン注入法によるグラフェンの合成 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0009]DRIEを用いた貫通孔作製プロセスの検討 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0010]UWB-IR Pulse Generator by CMOS Flipped on Glass 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0011]Plasmonic nanochannel photodetector with spectral-selectivity 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0012]ICPエッチングによる石英ガラス上の微細構造作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0013]III-V/Siハイブリッド光変調器 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0014]Ge-on-Insulator基板を用いた集積フォトニクス 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0015]AZO周期的微細構造による近接場光輸送の波長制御と促進に関する研究 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0016]Thermal conductivity measurement of single-walled carbon nanotubes 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0017]半導体単層カーボンナノチューブアレイの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0018]単層カーボンナノチューブの熱伝導率測定のためのデバイス作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0019]グラフェン電界効果トランジスタの作製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0020]単層カーボンナノチューブのクローニング合成 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0021]スリット基板上架橋単層カーボンナノチューブの作製と光学評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0022]ナノカーボン材料の電気特性評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0023]微細加工技術を利用したマイクロ/ナノスケールの熱伝導・流体現象の研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0024]燃焼場計測のためのMEMS無線温度センサの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0025]近接場効果を用いたMEMSラジエータの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0026]Study on the Cassie-to-Wenzel Transition over MEMS-Based Pillared Surface 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0027]Parylene-based MEMS Gas Sensor for High-Sensitivity VOC Detection 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0028]紫外線荷電を用いたMEMSエレクトレット振動発電器の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-119 機械特性評価装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0029]Development of Piezoelectret Energy Harvester 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0030]Development of Electret-based Unsteady Thermal Energy Harvester 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0031]Development of Liquid-Crystal-Enhacned Electret Generator 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0032]MEMS技術を用いた回転型エレクトレット発電器の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0033]大面積ナノ構造のレーザアシストロール成形 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0034]アルミ表面へのインプリントによる沸騰伝熱面 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0035]MEMS振動発電素子 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0036]光MEMSデバイスのOCT応用 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0037]ナノパターン転写装置 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0038]ナノ微細構造からの熱輻射に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0039]バルク光学材料の塩素系ドライエッチング特性評価 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0040]MEMS金属ナノピラーを用いたSi赤外線ディテクタの研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0041]DRIEを用いたマイクロデバイス加工 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0042]架橋カーボンナノチューブにおけるトリオン生成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0043]単一架橋カーボンナノチューブにおける光子相関 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0044]カーボンナノチューブにおける暗い励起子の電界活性化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-126 マニュアルウエッジボンダ―
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0045]カーボンナノチューブにおける光双安定性 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0046]カーボンナノチューブ分割ゲート素子における電界発光 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0047]マイクロ流体デバイスを用いた動物細胞クロマチンの操作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0048]マイクロ流体デバイスを用いた染色体単離 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0049]空気モードシリコンナノビーム共振器とカーボンナノチューブの光結合制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0050]マイクロ流体デバイスを用いた1対1電解集中型細胞融合とその応用 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0051]シリコンフォトニック結晶共振器によるグラフェンのラマン散乱増強 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0052]カーボンナノチューブ分割ゲート素子におけるフォトルミネッセンス特性 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0053]昆虫嗅覚受容体発現細胞とISFETを融合したバイオハイブリッドセンサの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0054]微小振動子振動特性の測定 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0055]厚いSiウエハのステルスダイシング 		F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0056]Development of mid-infrared air-cladding suspended membrane devices 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0057]Development of suspended membrane silicon nanowires for on-chip nonlinear optical signal processing 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0058]プラズモニックナノモーター駆動マイクロマシンの作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0059]ミリ波を用いた無線電力伝送に向けた整流回路開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0060]ポリイミド上の金属膜形成条件の検討 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0061]半導体プロセス基礎実験 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0062]HSQレジストを用いた自己組織化用テンプレートの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0063]Si基板の実装 		F-UT-129 精密フリップチップボンダー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0064]太陽熱光発電のための自立膜型Ni-Wアブソーバ・エミッタに関する研究 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0065]熱駆動Auナノグレーティングを用いた光位相変調素子の製作 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0066]Ni-W合金を用いた狭ギャップ熱電子発電素子に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0067]有機系浮遊粒子状物質を検出するMEMS形センサの開発 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0068]微細加工技術を用いた高精度放射線センサーの研究 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0069]金ナノアンテナの電場増強効果を利用した赤外非線形分光計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0070]小型自励振動ヒートパイプの試作および熱流動解析 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0071]マイクロロボットの機械部品加工に関する試行利用 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0072]金ナノ短冊周期配列構造のリフトオフ法による作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0073]メタルグリッドを用いた透明バイオ信号センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0074]大面積極薄有機光デバイスの作製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0075]電子顕微鏡の内部で駆動するマイクロマシンの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0076]シリコンナノピンセットを用いた単一細胞の機械特性計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0077]MEMSデバイスによるDNAと金属イオンのリアルタイム反応計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0078]混成半導体集積回路HySIC整流回路のためのシリコンRF受動集積回路部の試作 		F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0079]化合物半導体マイクロリング共振器素子の作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0080]ナノテクノロジー・プラットフォームを利用した純スピン注入プローブの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0081]3次元UVリソグラフィ法を用いたマイクロデバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0082]ナノディスク構造による熱ふく射スペクトルの制御 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0083]CVD皮膜の成膜機構の検証 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0084]圧電カンチレバーの微細加工 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0085]高強度モードロックレーザーのための要素技術開発 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0086]スパッタリングにより形成した極薄Co(W)薄膜の特性評価 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0087]超高アスペクト比トレンチを利用したSiC気相化学含浸法(CVI)の反応解析 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0088]Si上に集積するSAWフィルタの開発に関する研究 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0089]Si基板上発光素子に向けた横方向成長Ge薄膜の作製と評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
F-UT-108 精密研磨装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0090]Si上n型Geエピタキシャル層の研究 		F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0091]ひずみSiGeを用いたSi上Ge層のバンドエンジニアリング 		F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0092]ゲルマニウム受光器の研究 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-125 絶縁膜スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0093]バルクSi上SiNx光導波路の下部クラッド層の薄膜化 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0094]n型シリコン上への低リーク電流ゲルマニウムpin受光器の作製と評価 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0095]Ge/SiGeヘテロ接合を用いたアバランシェフォトダイオードの作製 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0096]ナノインプリントによって形成された微細構造による反射特性の制御 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0097]エクソソームナノアレイのためのナノスケールパターン形成 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0098]表面弾性波を用いたオプトメカニクスの構築 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0099]MEMSセンサ開発プロジェクト 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0100]シリコンの深掘加工 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0101]UVナノインプリントによるAlの微細加工 		F-UT-123 汎用高品位ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0102]ガスセンサの開発 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0103]近接場光の原理に基づく高出力Siレーザの研究開発 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
F-UT-108 精密研磨装置
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0104]近接場光援用シリコン受光素子の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0105]天体観測のためのテラヘルツ帯ホットエレクトロンボロメータの開発 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0106]SOI基板上でのカーボンナノメカニカル構造体の作製 		F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0107]Au/ITO/SiO2/Auからなる光学多層膜の形成に関する研究 		F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0108]Alを利用したナノ構造作製に関する研究 		F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0109]X線コヒーレント光発生用薄膜試料の作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0110]非線形メタマテリアル応用に向けた微細金属ナノ構造作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0111]熱処理によるIC特性変動調査 		F-UT-132 イナートガスオーブン
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0112]e-beam nanopattern fabrication for optical applications 		F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0113]切り紙構造を用いた微細構造とそのアプリケーション 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0114]MEMS加速度センサの製作と評価 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-124 気相フッ酸エッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0115]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0116]2THz帯ホーン導波路型超伝導HEBミクサ素子の微細加工 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0117]放射線が引き起こすSiO2中のキャリアダイナミクス 		F-UT-137 汎用平行平板RIE装置
F-UT-107 ステルスダイサー
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0118]電子ビーム微細加工によるTDS-THzバイオセンシング用メタマテリアル作製2017/02/17 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0119]圧電薄膜応用デバイスの裏面加工 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0120]多周波共振構造による広帯域Piezoelectric MUT Arrayの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-116 高速シリコン深掘りエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0121]誘電体極薄バルク結晶の作製 		F-UT-108 精密研磨装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0122]ドレスト光子フォノンを用いたSi LEDの研究開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-101 光リソグラフィ装置PEM800
F-UT-107 ステルスダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0123]FIBによる半導体回路修正技術習得 		F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0124]動脈圧直接測定用光導波型圧力センサに関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0125]反応性スパッタリング法によるTiNマイクロヒータの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0126]無線通信向けインダクタの評価用パターンの形成 		F-UT-133 集積回路パターン微細加工（FIB）装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0127]超流動ヘリウム研究用シリコンマイクロスリット構造の開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0128]非侵襲血圧計測のためのMEMS超音波センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0129]液体のインパクト時の力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0130]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-UT-105 形状・膜厚・電気評価装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0131]マイクロピラーアレイを用いた高感度MEMS気流せん断応力センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0132]生体分子１分子デジタル計数デバイスの開発 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0133]MEMSフォースプレートを用いたショウジョウバエの跳躍力計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0134]音響放射現象のためのMEMS多軸ピエゾ抵抗効果センサ 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0135]マイクロビーズのばね定数計測のためのMEMS力変位センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0136]MEMS滑り覚センサを利用した二足歩行ロボットの歩行中における路面滑り状態の推定 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0137]微小孔を持つ液面の振動に関する研究 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0138]超撥水面で合体する液滴のジャンピング力 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0139]エピタキシャル NiFe2O4 薄膜のSi(111) 基板上への作製 		F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0140]MEMSアコースティックエミッションセンサによる弾性波計測 		F-UT-119 機械特性評価装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0141]集束イオンビームを用いたグラフェンの片持ち梁構造への加工 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0142]有機ナノ構造体を利用した近赤外光検出器 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0143]ピエゾ抵抗を形成した両持ち梁を用いた静止摩擦係数を検出するための触覚センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0144]細胞の牽引力計測のためのMEMS高感度三軸力センサ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0145]細胞のけん引力を計測するための高剛性MEMSフォースプレート 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0146]微細構造を有した表面を滑り落ちる液滴の振動の計測 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0147]露光量の違いを利用したマイクロニードルの作製 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0148]NIR spectrometer using a Schottky photodetector enhanced by grating-based SPR 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0149]電子線描画装置F5112を利用したサブミクロン加工の検討３ ～OEBR-CAPl12～ 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0150]EB描画による微細パターン基板作製 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0151]光変調器に向けたSi格子の作製 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0152]微細パターンの連続転写における残膜制御 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0153]GaMnAsの価電子帯のスピン分裂に起因するトンネル磁気抵抗効果 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0154]カーボンナノチューブ分割ゲート発光素子の性能向上 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-102 4インチ高真空EB蒸着装置
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0155]Fe/Mg/SiOxNy/Si接合を用いたSiへのスピン注入 		F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
F-UT-121 ブレードダイサー
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0156]Fe/Mg/MgO/Si構造におけるスピン注入シグナルとデッドレイヤーの関係 		F-UT-121 ブレードダイサー
F-UT-099 高速大面積電子線描画装置
F-UT-100 マスク・ウエーハ自動現像装置群
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0157]電界放出源の高出力化の研究 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-106 クリーンドラフト潤沢超純水付
F-UT-104 汎用ICPエッチング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0158]SiO2上に成膜された金属パターンの応力剥離 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
F-UT-122 高密度汎用スパッタリング装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0159]面内伝導型スピンバルブトランジスタにおけるスピン依存伝導と電流変調 		F-UT-115 8インチ汎用スパッタ装置
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0160]Bias-dependent magneto-conductance in n-type ferromagnetic semiconductor (In,Fe)As-based Esaki diodes 		F-UT-114 光リソグラフィ装置MA-6
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0161]光学材料ドライエッチング用レジストパターンのEB描画特性評価 		F-UT-113 超高速大面積電子線描画装置
F-UT-130 電子顕微鏡
東京大学 超微細リソグラフィー/大規模集積システム設計教育研究センター
[F-16-UT-0162]各種エラストマーにおけるハロゲンプラズマ耐性の評価 		F-UT-117 塩素系ICPエッチング装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0001]ナノスケーラーの開発 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0002]強誘電体セラミックス薄膜の微細加工および微構造評価 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0003]ガラス基板への金属膜形成 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0004]ガラス上への無電解めっき製膜プロセスの開発 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0005]微小流路を活用したバクテリアの培養システムの構築 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0006]ISFET の面取り検討 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0007]256ch アンペロメトリックセンサのプロセス開発 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-200 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0008]300 GHz 帯導波管型平面アンテナにおけるシリコンウエハーの金めっきと積層ウエハー ダイシング 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0009]サブミリ波帯アンテナのためのシリコンウエハーの金めっき電極下地の比較に関する研究 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0010]フォトリソグラフィによるレジストモールドの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0011]生体計測デバイスとしての応用に向けた導電性ナノシートと薄膜配線の作製 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0013]ALD装置でのZrO2レシピ開発 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0014]表面弾性波発生のための櫛形電極の作製 		F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0015]圧電基板上の櫛形電極の周波数特性の測定 		F-WS-127 簡易SEM
F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0016]高感度プラズモンセンサの開発 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0017]微小流路を活用したバクテリアの培養システムの構築 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0018]圧力式ホモジナイザおよび液中プラズマ法を用いた銀ナノ粒子担持グラフェンによる透明 導電膜の作製および特性評価 		F-WS-144 真空光学系赤外分光計
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0019]ナノコンポジット薄膜の断面観察 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0020]狭ピッチプローブアレイにおけるプローブ先端アルミ蒸着 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0021]サファイア基板のダイシング 		F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0022]自己修復性シリカ材料の作製 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0023]ナノインプリント用 UV 硬化樹脂のAl エッチング耐性の評価 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-134 表面極微細構造測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0024]Al2O3膜を用いたダイヤモンドMISFETの高温特性 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0025]３次元Au ナノポーラス構造作製検討 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0026]ガラス基板への表面処理に関する相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0027]インピーダンス測定方法の相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0028]カーボンナノチューブフォレストの構造制御と次世代微小電極アレイへの応用 		F-WS-128 電子ビーム描画装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0029]大気圧プラズマを用いたハードコート処理樹脂の表面改質 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0030]白金担持グラフェンの創成に与える液中プラズマ法の影響調査および電気化学特性評価 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0031]アッシングを用いたレジストパターン形成精度の向上 		F-WS-130 ICP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0032]画像取り込み技術の開発 		F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0033]低温度域触媒反応の開発 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0034]トレンチMOS 構造を設けた Ga2O3ショットキーバリアダイオード 		F-WS-139 高耐圧プローバ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0035]CFRP試験片に塗布した両性イオンコーティングの海水中劣化挙動調査 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0036]CNTs/SiC 上各種めっき電極膜形成の検討及び評価 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0037]水分解用光触媒薄膜電極に関する検討 		F-WS-148 ダイシングソー
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0038]3元系 Bi-Sb-Te 電析膜の形態制御およびマイクロ熱電変換素子作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0039]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0040]FeCo 系材料を用いた小型発電デバイスの発電メカニズムの検討 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0041]高機能ワイドバンドギャップ半導体素子における電気伝導特性と熱処理温度の関係 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0042]Mn 基強磁性薄膜/強誘電体へテロ構造の作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0043]MnAlGe 層状化合物の薄膜作製 		F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0044]有機官能基によるメソポーラスシリカ薄膜の細孔表面修飾 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0045]ISFET の不良解析 1：構造解析と電気特性測定 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0046]ISFET の不良解析２：TEG(Test Element Group)の電気特性測定 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0047]ISFET の不良解析 3：ISFETの再度の電気特性測定と断面観察 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0048]傾斜露光によるレジストモールドの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0049]FeCo 系合金を用いた発電デバイスとNdFeB 利用のデバイスとの出力の比較 		F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0050]FeCo 系合金を使ったアクチュエータの基礎検討 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0051]VDF/TrFE ポリマーを応用した発電デバイスの性能向上 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-140 高耐圧デバイス測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0052]VDF/TrFE ポリマーを応用した MEMS デバイスの開発 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-132 Deep-RIE装置
F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0053]新 ISFETの電気特性測定 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0054]接合電極形成とその接合界面反応に関する研究 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
F-WS-137 プラズマ処理装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0055]カーボンナノチューブの基板上合成，集合形態制御と電子エミッタ応用 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0057]MEMS構造体への ALD-Al2O3 製膜 		F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0058]Si ダミーチップの製作 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0059]細胞を対象としたラマン分光技術 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0060]半導体素子の電気的特性評価 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0061]金属ナノ粒子形成メカニズムの解析，及び金属ナノ粒子の表面特性評価 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0062]おからを利用したパン・麺の組織構造解析 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0063]MnBi の電析法による合成プロセスの確立と磁気特性 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-142 誘導結合プラズマ 質量分析装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0064]EDAX 分析による重層マイクロファイバーの構造評価 		F-WS-125 集束イオン/電子ビーム加工観察装置(極表面微量元素分析機能つき)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0065]ナノポーラス粉末バンプと真空紫外光を利用した低温金-金接合技術 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0066]ALD装置でのSnO2レシピ開発 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-147 インラインモニター用 超高分解能電界放出型 走査電子顕微鏡
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0067]発光性液体有機トランジスタに向けた櫛歯電極構造の作製 		F-WS-148 ダイシングソー
F-WS-154 電子ビーム蒸着装置
F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0068]高品質 GaNテンプレートに向けた SiO2ナノマスクの作製 		F-WS-126 FE-SEM
F-WS-130 ICP-RIE装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0069]水素終端ダイヤモンド(001)表面伝導層上の金オーミック電極直下シート抵抗値 		F-WS-143 高性能半導体デバイス・ アナライザ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0070]ナノインプリントと異方性ウェットエッチングを用いた極微細金属埋め込み構造の作製 		F-WS-130 ICP-RIE装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0071]金－金低温接合を目指した金表面への真空紫外線照射の効果 		F-WS-126 FE-SEM
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0072]スーパーキャパシタ用三次元電極の電気化学特性評価 		F-WS-121 精密めっき装置×3台
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0073]サブミクロン金粒子の一括埋め込みによる I 型構造 TGV 形成とその気密封止デバイスへ の応用 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-200 スパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0075]パワーデバイス計測のための半導体パラメータアナライザに関する技術相談 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0076]3 次元光インターコネクション用ポリマー縦型マッハツェンダ型光スイッチの作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0077]半導体パラメータアナライザを用いた熱電デバイス計測 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0078]酸化剤を変えて形成した原子層堆積 Al2O3膜の電気特性 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0079]GaN 系デバイスの信頼性評価 		F-WS-145 高性能分光膜厚 測定装置
F-WS-150 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0080]バイオセンサ応用を目指した微細構造作製 		F-WS-129 両面マスクアライナ
F-WS-200 スパッタ装置
F-WS-201 イオンビームスパッタ装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0081]SOI を用いた屈折率センサー 		(登録なし)
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0082]埋め込み型プラズモンセンサの開発 		F-WS-133 顕微ラマン分光装置
早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター
[F-16-WS-0083]O2プラズマアッシング装置を用いた基板表面処理 		F-WS-141 クリーンルーム × 2
F-WS-153 クリーンルーム環境維持装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0001]微細金2層構造非相反光学素子の下層の２次試作 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0002]三角格子プラズモニック結晶のフルバンドギャップ 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0003]Fabrication of silicon photonic waveguides for optical assembly test 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0004]電子顕微鏡用ゾーンプレート作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-140 スパッタ成膜装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0005]光学素子の試作 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0006]II-V CMOS フォトニクスプラットフォームを用いた光電子集積回路に関する研究 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0007]Alを含む半導体層の酸化実験 		F-IT-152 化合物半導体光素子用酸化炉
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0008]プラズモニック線欠陥導波路の分散測定 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0009]Er,O 共添加 GaAs 基板上エピタキシャル構造でのアンダーカットエッチング 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0010]水素化アモルファスシリコン磁気光学導波路 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0011]新構造光素子向けプロセス技術の研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0012]シリコンフォトニクスを用いた方向性結合器と光アイソレータへの応用 		F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0013]集積型光非相反素子に関する研究 		F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0014]量子ホールエッジチャネルにおける電荷ダイナミクス研究 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0015]リフトオフプロセスによる光学素子の試作 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0016]フォトニック結晶作製 		F-IT-141 スパッタ成膜装置
F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0017]抵抗変化メモリのためのナノ電気配線 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0018]金リフトオフ法による電子顕微鏡用ゾーンプレート 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0019]六方配置微細ホールパターンの転写加工プロセスの開発 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0020]RTD 発振器作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0021]ナノスケールスピントランジスタにおけるスピン依存伝特性 		F-IT-151 触針式段差計
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0022]BiSb系トポロジカル絶縁体結晶成長とスピンホール効果評価 		F-IT-127 コンタクト光学露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0023]強磁性半導体p-n接合作製とスピン依存伝導特性評価 		F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-127 コンタクト光学露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0024]トレンチMOS構造を設けたGa2O3ショットキーバリアダイオード 		F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0025]ポリマー型取り用のSU-8パターン作製 		F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-145 マスクレス露光装置
F-IT-151 触針式段差計
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0026]プラズモニック線欠陥導波路のバンドギャップ 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0027]新構造シリコン量子ドットデバイスの開発 		F-IT-135 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0028]溶液プロセスで作製した試料の表面断面構造観察 		F-IT-135 走査型電子顕微鏡
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0029]シリコン基板上光デバイスの研究開発 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0030]アモルファスシリコン膜の形成 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0031]スピン注入に向けた InGaAs/InAlAs 半導体量子井戸の成膜 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0032]共鳴トンネルダイオードを用いるテラヘルツアクティブビームフォーマの基礎研究 		F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0033]InP 基板上の導波路光アイソレータ 		F-IT-150 プラズマCVD 装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0034]a-Si/SiNx層を用いた磁気光学導波路の製作 		F-IT-149 プラズマCVD装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0035]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0036]AlInAs酸化層を用いた小型光アイソレータの製作 		F-IT-144 有機金属気相成長装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0037]微細金2層構造非相反光学素子の上層の２次試作 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0038]局所量子ホール系における分数電荷準粒子のトンネル現象 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0039]電子線リソグラフィーを用いたレジストのナノ加工 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0040]Er,O 共添加 GaAs 基板上への電子線描画 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0041]抵抗変化メモリのための二層レジストを用いたナノ電気配線 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0042]周波数可変 RTD 発振器作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0043]ガラス板への金属薄膜の蒸着 		F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0044]スロット導波路を用いた集積型センサ・光アイソレータ 		F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-132 リアクテブイオンエッチング装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0045]ALD によるアルミナ成膜 		F-IT-148 原子層堆積装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0046]電子顕微鏡用ゾーンプレート作製時のサイズ依存性 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-126 高真空蒸着装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0048]二つのシリコン層の間に挟ませた酸化シリコン層のウェットエッチング作業 		F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0049]RTD 発振器の周波数ばらつき測定 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-126 高真空蒸着装置
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-139 デジタル顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-150 プラズマCVD 装置
F-IT-151 触針式段差計
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0050]有機半導体レーザーの実現を目指した光共振器の作製 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-129 リアクテブイオンエッチング装置
F-IT-145 マスクレス露光装置
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
[F-16-IT-0051]表面弾性波共振器中の二重量子ドットにおけるスピン反転フォオン支援トンネル 		F-IT-124 電子ビーム露光装置　(スピンコータ・現像装置・ホットプレート・オーブン等を含む）
F-IT-125 走査型電子顕微鏡
F-IT-146 電子ビーム露光データ加工ソフトウェア
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0001]赤外線天体観測用フォトニック結晶スーパーレンズの開発 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0002]光誘起非平衡状態の輸送現象の研究 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0003]VHF-DC重畳マグネトロンスパッタにおける膜の平坦性 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0004]蛍光性ナノ粒子を利用した深部高解像イメージング 		F-NU-216 原子間力顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0005]大気エアロゾル粒子中のラジカルの測定 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0006]GaN系半導体光・電子デバイスの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0007]量子ナノ構造デバイスの研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0008]次世代半導体デバイスのための材料およびプロセス開発研究 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0009]アルミニウム誘起成長法を利用したSi薄膜の作製 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0010]SiC基板上グラフェンの構造解析および化学結合状態分析 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0011]高秩序ナノ構造体の創製と評価に関する研究 		F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0012]高時間応答マイクロ壁面せん断応力センサの開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0013]電子線露光装置を用いた金属薄膜の作製 		F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0014]微小粒子分離デバイス作製 		F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0015]マイクロセンシングデバイスの開発 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-219 Deep Si Etcher
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0016]機能性磁性積層膜の開発と評価 		F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-203 電子線露光装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-216 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0017]シリコンナノデバイス及び分子・バイオCMOS融合デバイスの研究－分子・バイオCMOS融合デバイス実現に向けた電子ビームリソグラフィを用いた電極形成－ 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0018]マイクロリアクタの作成 		F-NU-145 マスクアライナ
F-NU-182 スプレーコーター一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0019]神経細胞ネットワークハイスループットスクリーニング装置の開発 		F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0020]ハーフメタルを用いたスピンデバイスの研究 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0021]薄膜金属ガラスを用いた超小型高感度静電容量型圧力センサの研究 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0022]レーザ直接描画法によるマイクロデバイスの研究開発 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-195 SEM用断面試料作製装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0023]光学的観察のための金属フィルタの作製 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0024]非線形光学効果を利用した還元焼結 		F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0025]自己組織化を用いた3次元微細周期構造の作製 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0026]コンビナトリアル評価デバイスの研究開発 		F-NU-159 露光プロセス装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
F-NU-191 ICPエッチング装置一式
F-NU-183 レーザ描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0027]ナノカーボン物質の合成とデバイス作製 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0028]電流センサ用の超高精度・超小型GSRセンサに関する研究 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-209 ダイシングソー装置
F-NU-182 スプレーコーター一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0029]Si基板上BaSi2太陽電池のバックサーフェイスフィールドの検討 		F-NU-209 ダイシングソー装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0030]有機単分子膜トランジスタにおける単分子膜内部構造の解明 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0031]スピネル酸化物強磁性体のイオン照射による磁性制御とパターン形成 		F-NU-148 イオン注入装置
F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0032]金属材料表面評価について 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0033]プラズマ照射試料の表面観察 		F-NU-150 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0034]高クヌッセン数流れの総合的理解へ向けた計測手法の開発 		F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-170 段差計
F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0035]超臨界流体噴霧による天然有価物の貧溶媒晶析 		F-NU-150 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0036]有機ラジカル薄膜の分析 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0037]酸化物薄膜へのイオン挿入脱離による熱伝導率の変化を利用した熱スイッチ材料の提案 		F-NU-150 走査型電子顕微鏡
F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0038]スパッタリングによる布帛へのAZO膜の成膜に関する研究 		F-NU-189 小型微細形状測定機一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0039]XPSによる燃料電池電極触媒の金属価数評価 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0040]能動鉗子の直感的操作可能な操作インタフェースの設計・試作 		F-NU-186 光三次元造形装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0041]分子薄膜の膜厚測定 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0042]白金薄膜抵抗温度計の作製と評価 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0043]高品位鉄系超伝導薄膜のMBE成長およびデバイス作製 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0044]オンチップ細胞計測を基盤とする光合成細胞の外部刺激応答特性の解明 		F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-184 スパッタリング装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0045]水晶振動式MEMSプローブを用いた卵細胞の非侵襲活性評価への挑戦 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0046]オープンチップを用いた超高速細胞分取システムの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0047]生体模倣眼球モデルの作製 		F-NU-170 段差計
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0048]バイオニックヒューマノイドモデリングのための解剖構造モデリングと物性計測技術の開発 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-184 スパッタリング装置一式
F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0049]トップダウン・ボトムアップ統合オンチップ細胞計測システム 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0050]立体造形による機能的な生体組織造形技術の開発 		F-NU-190 蛍光バイオイメージング装置一式
F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0051]蓄電池代替、埋め込み超伝導蓄電コイル積層体の研究開発 		F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0052]蓄電池代替、埋め込み超伝導蓄電コイル積層体の研究開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0053]細胞培養マイクロデバイスの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-188 パリレンコーティング装置一式
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0054]医用材料の微細形態と組成の分析 		F-NU-216 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0055]GaN系半導体微細構造の作製と評価に関する研究 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0056]超低摩擦現象解明のための摩擦誘起表界面ナノ構造の分析 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0057]セラミックス材料のEBIC測定 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0058]感光性樹脂の研究 		F-NU-162 レーザー描画装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0059]強く捻れた光場中でのキラル核形成による結晶キラリティ制御 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0060]SiC上グラフェンナノリボンの観察 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0061]方向感度を持つ暗黒物質探索用検出器としての超高分解能原子核乾板における低速イオン検出性能の評価 		F-NU-148 イオン注入装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0062]Si-Ge系スーパーアトム構造のセルフアライン集積による光・電子物性制御 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-205 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0063]フォトカソード用半導体の技術開発と透過型電子顕微鏡観察への応用 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0064]人工衛星搭載磁性材料の形状磁気異方性トルクの計測 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0065]カーボンナノ物質の成長制御と電子源応用 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0066]微細加工表面での動的接触角決定機構の解明 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-168 RIEエッチング装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0067]Ge系材料へのドーピング品質改善と評価に関する研究 		F-NU-152 急速加熱処理装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0068]フェムト秒レーザー加工によるテラヘルツ・メタサーフェスの作製 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0069]ハイパボリック・メタマテリアルによる高効率有機発光デバイスの開発 		F-NU-158 3元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0070]エピタキシャル磁気ヘテロ接合系における垂直磁気異方性の研究 		F-NU-164 分子線エピタキシー装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0071]Fabrication and Characterization of Magnetic Nanostructures 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0072]モデル生物を応用したマイクロ・ナノ操作技術に関する研究 		F-NU-170 段差計
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-202 マスクアライナ(ナノテック)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0073]繰返しレーザーアブレーションによる力積特性 		F-NU-217 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0074]マイクロロボットの開発 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0075]医療用マイクロデバイスとマイクロ流体デバイスの研究 		F-NU-183 レーザ描画装置一式
F-NU-201 両面露光用マスクアライナ(Suss MJB-3)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0076]シリカの炭素還元により生じるSiOガスを介したSiCナノ材料含有薄膜の合成 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0077]フェムト秒レーザー反応場において生成された微粒子の構造評価 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0078]液中プラズマを用いた燃料電池触媒電極ナノカーボン合成におけるアルコール種依存性 		F-NU-172 超高密度液中プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0079]先進プラズマを活用した高機能窒化ガリウムデバイスの製造プロセスの開発 		F-NU-212 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0080]ナノインプリント工法の検討 		F-NU-187 ナノインプリント装置一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0081]プラズマエッチング装置構成材料の開発 		F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0082]大気圧プラズマの医療応用技術の開発に関する研究 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0083]プラズマ支援原子層堆積および改質に関する研究 		F-NU-211 プラズマ支援原子層堆積装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0084]高精度ガラスエッチングの開発 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-176 二周波励起プラズマエッチング装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0085]反応性プラズマによるエッチングプロセスの反応過程の解析 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0086]次世代材料のプラズマエッチングの開発 		F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0087]次世代ドライエッチング技術の開発 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0088]高密度ラジカル源の製品サイズに対するシリーズ化のための要素技術開発および評価 		F-NU-174 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0089]プラズマ医療科学にかかわるラジカル解析 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0090]プラズマプロセスを用いた加工形状および気相・表面の評価 		F-NU-214 in-situプラズマ照射表面分析装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0091]大気圧プラズマのバイオ応用に関する研究 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0092]プラズマによる材料プロセスにおける反応生成物の解析 		F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0093]カーボンナノ薄膜の膜構造の解明 		F-NU-171 超高密度大気圧プラズマ装置
F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0094]3次元レーザー・リソグラフィシステムを用いた超高アスペクト構造体の形成 		(登録なし)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0095]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト 		F-NU-185 3次元レーザ・リソグラフィシステム一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0096]次世代ナノデバイスのための高度機能プロセスの研究 		F-NU-178 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0097]IV族クラスレート膜の電子物性評価 		F-NU-162 レーザー描画装置
F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
F-NU-199 フォトリソグラフィ装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0098]超薄型フリースタンディングテラヘルツ半波長板の実現 		F-NU-165 電子ビーム蒸着装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0099]有機ペロブスカイト太陽電池の薄膜構造解析 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0100]電子線位相微分法による燃料電池界面の観察 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0101]大気圧プラズマを用いたナノファイバー不織布膜の濾過性能の向上 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0102]NOxガス低減に向けた炭素材料の検討 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0103]出力光ファイバーと接続した導光板に密着させる太陽電池に関する研究 		F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0104]半導体のプロセス技術検討 		F-NU-167 ICPエッチング装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0105]有機電子材料・ナノカーボン物質における新しい光・電子応答現象の探索 		F-NU-170 段差計
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0106]磁気光学効果を利用したデバイスの研究開発 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0107]FeSiBNbアモルファス薄膜の軟磁気特性の評価 		F-NU-180 磁気特性評価システム群
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0108]反応性スパッタ膜の結晶構造解析 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0109]電子ビーム露光を利用したNi微細凹凸パターンの作製 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0110]ニュートラル窒化処理によるオーステナイト系ステンレス鋼の表面改質 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0111]スパッタリングによるSi基板の反りに関する研究 		F-NU-170 段差計
F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0112]ダイヤモンドのレーザ内部変質加工 		F-NU-204 フェムト秒レーザー加工分析システム
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0113]Er,O共添加GaAsを用いた2次元フォトニック結晶点欠陥共振器の作製 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0114]グラフェンデバイス開発 		F-NU-213 表面解析プラズマビーム装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0115]熱間圧延サーマルクラウン蛇行の予測 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0116]パワーデバイス用GaN基板の結晶性評価 		F-NU-154 原子間力顕微鏡
F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0117]シリコン単結晶の方位確認 		F-NU-153 薄膜X線回折装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0118]ESRによるヒト毛髪とラジカルに関する研究 		F-NU-175 In-situ　電子スピン共鳴(ESR)
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0119]ナノ粒子による基板上パタン形成の検討 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0120]JST先端計測分析技術・機器開発プログラム「高速1ショット観測を実現するフォトカソード電子源の開発」 		F-NU-169 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0121]高効率磁化反転技術の開発と評価 		F-NU-155 8元マグネトロンスパッタ装置
F-NU-157 ECR-SIMSエッチング装置
F-NU-180 磁気特性評価システム群
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0122]複合金属酸化物触媒及び固定化触媒のXPSによる金属価数評価 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0123]XPSによる酸化物表面固定化金属錯体の固定化量・金属価数評価 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0124]ステンレス多孔体の表面改質 		F-NU-221 X線光電子分光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0125]高分子材料へのDFB型回折格子の導入によるレーザー発振 		F-NU-200 両面露光用マスクアライナ(Suss MA-6)
F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0126]マイクロ多孔体内相変化素過程の解明とループヒートパイプ高熱流束化への応用 		F-NU-196 デジタルマイクロスコープ一式
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0127]酸化物蛍光体の組成分析 		F-NU-220 走査型電子顕微鏡
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0128] ミリ波帯用GaN on Siトランジスタに関する研究 		F-NU-203 電子線露光装置
名古屋大学 施設・機器共用推進部/ナノテクノロジープラットフォーム機構
[F-16-NU-0129]皮膚傷害の発症過程における皮膚接触力学の特性 		F-NU-194 高精度電子線描画装置一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0001]Siナノコンタクト作製プロセスの検討 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-212 電界放出形走査電子顕微鏡（FESEM）（電子線後方散乱回折(EBSD)付属）
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0002]プローブ顕微鏡を用いた表面科学計測およびナノ構造作製 		F-TT-227 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0003]ポリマー材料のドライエッチング 		F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0004]錠剤成分のラマンイメージング 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0005]水溶性ポリマーの微細加工応用 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0006]マイクロプラズマ源の開発 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0007]マイクロねじり振動子の開発 		F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0008]走査型プローブ顕微鏡によるナノ構造観察 		F-TT-218 走査型プローブ顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0009]MOSFETの作製 		F-TT-207 イオン打ち込み装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0010]シリコン単結晶の疲労に関する研究 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0011]単色光用光電変換素子の作製 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0012]強磁性微小細線中のバブル磁区に対する電流印加実験 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
F-TT-225 電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)(電子ビーム描画機能付属）
F-TT-229 青色レーザー偏光顕微鏡
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0013]セラミックスの熱膨張率測定 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0014]MEMSインターフェイスを介したバイオサンプルへの大気圧プラズマ処理(II) 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0015]ガス封止型真空紫外プラズマ光源 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0016]超高精度・超小型磁気センサ素子の研究開発 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0017]高アスペクト比のVolume binary回折格子用シリコンの鋳型の開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-214 エリプソメーター
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0018]材料評価用ナノギャップ電極形成 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0019]カーボンナノチューブ成長における技術相談 		(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0020]微細加工によるハイブリッド回路基板の試作 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-211 ダイシング装置
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0021]加熱雰囲気制御下での赤外分光 		(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0022]シリカ膜のドライエッチング処理 		F-TT-208 Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0023]酸化シリコン基板を用いた新材料開発 		F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-200 カーボン用プラズマ成膜装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0024]ALD法による金属酸化物薄膜の被覆 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0025]GaNなど化合物半導体デバイスの研究開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0026]二次元物質をチャネルとした強誘電体ゲート電界効果トランジスタの創出 		F-TT-202 マスクアライナ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0027]外場を用いたフェリ磁性体の磁気的性質の制御 		F-TT-223 スパッタ（磁性材料）蒸着および分子線エピタキシー複合装置
F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0028]生物埋込センサのための最小スペース配線技術 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0029]Poly(butylene adipate)のβ-α結晶相転移の再検討 		F-TT-219 多目的X線回折装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0030]ポリイミドヒータの製作 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0031]界面特性評価用テストデバイスのための不純物導入方法・条件の検討 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0032]界面特性評価用テストデバイスの作製プロセスの検討 		F-TT-198 電子ビーム(金属)蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0033]薄膜へテロ構造における磁気光学効果とスピン軌道相互作用の相関に関する研究 		F-TT-231 磁気光学効果測定装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0034]ナノカーボンの構造評価 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0035]マイクロヒータを利用する赤外光源のための波長選択格子 		F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0036]磁性細線用基板の絶縁膜の成膜 		F-TT-228 原子層堆積装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0037]原子間力顕微鏡によるt-aC上深紫外光照射損傷部の雰囲気依存観察 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0038]電流駆動磁壁移動を利用した全固体メモリに関する研究 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0039]第30回 半導体プロセス実習･講習会の受講 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
F-TT-207 イオン打ち込み装置
F-TT-214 エリプソメーター
F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
F-TT-226 シート抵抗測定器
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0040]GaNショットキーダイオードの作製 		F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0041]マイクロ流路デバイスとレーザー捕捉による微量分析 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0042]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-TT-214 エリプソメーター
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0043]グラフェン上への電極作製 		F-TT-224 マスクレス露光装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0044]Siライン&スペース上へのSi量子ドットの高密度形成 		F-TT-201 電子ビーム描画装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0045]ステンレス板への耐熱微細マスク形成 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-203 レジスト処理(アッシング)装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
F-TT-213 デジタルマイクロスコープ一式
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0046]セラミックス材への微小電極形成 		(登録なし)
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0047]電子ビーム励起プラズマ法を用いた新規の炭素系触媒材料の作製 		F-TT-221 ラマン分光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0048]レンチキュラーレンズの試作加工の低コスト化検証 		F-TT-215 表面形状測定器（段差計）
F-TT-224 マスクレス露光装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0049]分子レベルでの構造制御に基づく再生可能資源としての高タフネスシルク素材の創成 		F-TT-219 多目的X線回折装置
F-TT-220 高速フーリエ変換型赤外分光光度計
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0050]MEMSデバイスに向けたCuSn薄膜によるウエハレベル真空封止接合評価 		F-TT-216 非接触3次元表面形状・粗さ測定機
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0051]フォトリソグラフィ・微細加工の実習 		F-TT-202 マスクアライナ装置
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0052]センサ・MEMS実践セミナー 実習コースの受講 		F-TT-197 スパッタ（金属，絶縁体）蒸着装置
F-TT-230 抵抗加熱蒸着装置
F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-204 洗浄ドラフト一式
豊田工業大学 研究設備共同活用センター/ナノテクノロジープラットフォーム部門
[F-16-TT-0053]Boschプロセスおよびシリコン酸化による新しい回折格子の製作法の開発 		F-TT-202 マスクアライナ装置
F-TT-209 Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
F-TT-206 シリコン専用の各種熱処理（酸化，拡散）装置一式
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0001]ポリマ光変調器の低消費電力化 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0002]半導体及び絶縁体のナノ構造評価 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0003]固体中におけるスピン流輸送現象の解明1 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0004]固体中におけるスピン流輸送現象の解明2 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0005]ガラス部材の先端的加工技術開発 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0006]電子線描画装置入門コース（CUPAL） 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0007]マイクロ蛍光偏光法による粘性計測 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0008]積層フィルムの断面観察 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0009]ブロックコポリマーの配向自己組織化を用いたナノリソグラフィー 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0010]π－π相互作用を介した共役ポリマー間のキラリティ転写 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0011]MEMSガスセンサの開発 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0012]MEMSガスセンサの開発 2 		F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0013]シリコン薄膜の機械特性に及ぼす温度の効果 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-230 レジスト塗布装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0014]半導体異種材料接合の研究 		F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0015]位相変調透過板に関する研究 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0016]SiO2膜の成膜実験、およびSiO2とSiの加工実験 		F-KT-242 熱酸化炉
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0017]かご型シルセスキオキサン誘導体の薄膜構造解析 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0018]VUV還元酸化グラフェンFETの作製とその電気特性評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0019]Sb2Se3を用いた無機-有機ハイブリッド太陽電池の作製と評価 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0020]マイクロ流路内でのレーザー応力波干渉の応用 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0021]熱ナノインプリントによる両面パターニングの研究 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0022]AFMによりRNAとタンパク質の結合様式を可視化する 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0023]原子間力顕微鏡を用いたナノスケール表面物性評価 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0024]ナノテクノロジーによる地球天然物を基にした新多機能性材料の開発 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0025]応力センサの特性評価に関する研究 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0026]自己補対メタマテリアルを用いたテラヘルツ波デバイス 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0027]高感度ガスセンサの開発 		F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0028]プラズマインジケータTMの研究開発 		F-KT-300 簡易RIE装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0029]プラズマインジケータTMの研究開発 2 		F-KT-300 簡易RIE装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0030]ナノ構造による光制御技術 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0031]ナノ構造による光制御技術　２ 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0032]ナノプラ技術スタッフ交流プログラム・鉛フリー圧電薄膜の作製 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0033]振動デバイスの評価 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0034]MEMSプロセス技術の開発 		F-KT-231 スプレーコータ
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0035]高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用 		F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0036]MEMS加速度センサの開発 		F-KT-242 熱酸化炉
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0037]サブミクロンAu粒子による気密封止接合 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-252 紫外線ナノインプリントボンドアライメント装置
F-KT-253 基板接合装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0038]AFM用バルクPZTセンサの開発 		F-KT-257 ダイシングソー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0039]窒化物ナノ粒子アレイの作製とプラズモニック特性 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0040]メソポーラスシリカを基板とするAuメソグレーティングのSERS特性 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0041]Alナノ粒子アレイの作製と発光増強 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0042]階層的プラズモニック構造作製と光学特性 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0043]各種配水管材質に対する細菌、微粒子の付着特性 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0044]各種配水管材質に対する細菌、微粒子の付着特性 ２ 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0045]標準シリコン酸化膜の膜厚測定 (2) 		F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0046]圧電駆動方式MEMS光スキャナの開発 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0047]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-242 熱酸化炉
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0048]石英ガラスモールドの作製　１ 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0049]石英ガラスモールドの作製　２ 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-297 ナノインプリント装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0050]新規高性能半導体ウェハ接合技術の開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-255 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機
F-KT-286 パワーデバイスアナライザ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0051]熱ナノインプリントにおける温度と残膜厚の関係 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0052]MEMSとDNA融合プロセスによりナノポアセンサデバイスの構築 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-242 熱酸化炉
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0053]層状金属水酸化物結晶の構造研究 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0054]静電容量型加速度センサーの設計から試作・評価まで 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0055]VAPOR HF DRY ETCH装置導入検討 		F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0056]Preparation of porous graphene-based composites 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0057]Porous metal oxide/graphene composites for energy storage applications 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0058]MEMSデバイスの温度特性改善 		F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0059]高解像度LEDプリントヘッド用LEDアレイチップの開発 		F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0060]超薄型フリースタンディングテラヘルツ半波長板の開発 		F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0061]プリンタブルエレクトロニクス 		F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0062]共振子デバイスの開発 ２ 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0063]フェムト秒レーザーによる極薄ガラスシートの加工検討 		F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0064]熱トンネル現象を用いた冷却素子 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0065]バクテリア培養のためのマイクロ流路デバイスの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0066]モルフォ発色体構造のアスペクト比変更に関する研究 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0067]SiGe薄膜の機械物性計測 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-256 レーザダイシング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0068]4H-SiCウェハ上の微細表面構造創製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0069]臨床検査デバイスの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0070]応力センサの特性評価に関する研究　② 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-287 インピーダンスアナライザ
F-KT-298 パリレン成膜装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0071]強誘電体PZTカンチレバーの性能確認 		F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-260 エキスパンド装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-258 真空マウンター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0072]微細穴構造の製造技術 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0073]半導体プロセス基礎実験 		F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0074]３次元パワーSoC用の基板構成法の研究 		F-KT-238 電子線蒸着装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0075]薄型メンブレン構造を持つMEMSデバイスの作製 		F-KT-287 インピーダンスアナライザ
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0076]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究 		F-KT-235 ICP質量分析装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0077]水処理膜の表面構造とろ過性能の明確化－１ 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0078]ナローバンド吸収特性を有するプラズモニック金ナノグレーティング構造 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0079]金ナノ粒子二量体配列を用いた高感度表面増強ラマン分光分析技術 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0080]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0081]食品ナノ粒子の構造・物性測定 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
F-KT-270 共焦点レーザー走査型顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0082]リン脂質含有リポソームの生理機能と物性の相間研究 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
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[F-16-KT-0083]コヒーレントX線回折イメージング用試料基板の開発 		F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-16-KT-0084]Ｘ線１分子計測法で利用可能なサイズ制御されたナノ粒子の作製 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-16-KT-0085]MEMS創成技術によって形成したテクスチャ面でのスクイーズ弾性流体潤滑挙動の把握 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
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[F-16-KT-0086]MEMSメンブレン構造を用いた環境センサの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-234 有機現像液型レジスト現像装置
F-KT-253 基板接合装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
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[F-16-KT-0087]せん断型ひずみゲージ集積化単結晶シリコンマイクロ構造並列引張試験デバイス 		F-KT-250 赤外フェムト秒レーザ加工装置
F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
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[F-16-KT-0088]フォトニックコース （CUPAL） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-16-KT-0089]MEMSデバイス試作に関して 		(登録なし)
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[F-16-KT-0090]静電ピストンアレイ駆動のMEMS可変形状ミラーの開発 		F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-16-KT-0091]MEMS可変形状ミラーに用いる静電ピストン構造の試作 		F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-249 シリコン犠牲層ドライエッチングシステム
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[F-16-KT-0092]DLC薄膜でコーティングしたシリコンマイクロ構造の引張試験 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
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[F-16-KT-0093]シリコンナノワイヤを用いたねじり梁型共振ミラー 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
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[F-16-KT-0094]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-257 ダイシングソー
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-16-KT-0095]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発① 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
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[F-16-KT-0096]細胞内物質導入の基礎研究 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
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[F-16-KT-0097]FPDフォトマスク向け高精細ペリクルの開発 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
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[F-16-KT-0098]ＭＥＭＳ加工技術を用いた音響センサデバイスの開発 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
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[F-16-KT-0099]GaN系半導体光・電子デバイスの開発のためのEB、レーザーによるフォトマスクの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
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[F-16-KT-0100]自動車用エンジンの超高効率化のための給気ガス改質技術の開発 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-16-KT-0101]CSAC用MEMS型Csガスセルの開発（１） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-301 ウエハ接合装置
F-KT-302 ダイシング装置
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[F-16-KT-0102]ポーラスシリコン電極への金属コバルトおよび酸化テルビウムの共析 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-16-KT-0103]配線パターンの作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0104]ミストデポジション法による有機半導体薄膜の作製 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-238 電子線蒸着装置
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[F-16-KT-0105]ナノテクノロジープラットフォーム学生研修プログラム 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
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[F-16-KT-0106]電気的に制御した新規半導体量子デバイスの実現 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
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[F-16-KT-0107]電気化学反応による高精度ポーラスシリコン電極の作製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
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[F-16-KT-0108]PDMS埋め込み型電極アレイの開発 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-298 パリレン成膜装置
F-KT-288 セルテストシステム
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[F-16-KT-0109]スプレーコート法による高段差基板上レジスト膜形成 		F-KT-231 スプレーコータ
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[F-16-KT-0110]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-275 分光エリプソメーター
F-KT-279 触針式段差計(CR)
F-KT-232 レジスト現像装置
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[F-16-KT-0111]スプレーコート法による超高段差基板上レジスト膜形成 ２ 		F-KT-231 スプレーコータ
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[F-16-KT-0112]フォトリソグラフィー工程を用いた回折格子素子の開発　２ 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
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[F-16-KT-0113]グレースケール露光を用いた三次元光学構造の形成 ２ 		F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-248 シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
F-KT-242 熱酸化炉
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[F-16-KT-0114]新規デバイス向けウェハ微細パターニング 		F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0115]ＭＥＭＳ加工技術を用いた音響センサデバイスの開発　② 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-245 磁気中性線放電ドライエッチング装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0116]3D-MEMS加工技術を利用したマイクロ宇宙推進機の抜本的な推進効率の向上 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0117]薄膜ピエゾの圧電特性 		F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0118]薄膜ピエゾの圧電特性　２ 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-236 多元スパッタ装置(仕様A)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-256 レーザダイシング装置
F-KT-259 紫外線照射装置
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0119]漿液性子宮内膜腺癌においてシスプラチン感受性に対する研究 		F-KT-235 ICP質量分析装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0120]超硬合金WC炭化タングステンのカーボン添加による強度向上とメカニズム解明 		F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0121]帯電微粒子の自己組織配列を利用したプラズモン構造色の色域拡大および大面積印刷 		F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0122]鋳型を用いた微細構造転写に基づく機能性ポリマー薄膜の創製 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0123]酸化アルミナを鋳型とした微細構造を有するポリマー薄膜の作製 		F-KT-254 ナノインプリントシステム
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0124]圧電デバイスコース（CUPAL） 		F-KT-237 多元スパッタ装置(仕様B)
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-274 X線回折装置
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0125]深紫外発光素子の開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0126]マイクロ・スケールの熱流体現象の解明 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0127]放射性核種の環境動態に関するナチュラルアナログを用いた研究 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0128]Al2O3コーティングを施したステンレス表面における高温熱処理の影響 		F-KT-274 X線回折装置
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0129]結晶方位データを用いた材料設計へのアプローチ 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0130]電極材料の構造特性評価 		F-KT-264 集束イオンビーム / 走査電子顕微鏡
F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0131]多孔性高分子の構造と物性 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0132]共振子デバイスの開発 		F-KT-241 プラズマCVD装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0133]CNT電気特性評価のための微小電極並列チップ作製 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0134]DNAオリガミのサイズ分離用ANA(Anisotropic Nanofluidic Array)デバイス 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0135]等速電気泳動を用いた一細胞スケールRNA 抽出における効率の評価 		F-KT-226 両面マスクアライナー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0136]創薬スクリーニングを目的としたマイクロ流体デバイスの開発⑤ 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0137]CSAC用MEMS型Csガスセルの開発（２） 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
F-KT-301 ウエハ接合装置
F-KT-302 ダイシング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0138]単結晶シリコンのへき開によるナノギャップ形成とギャップ間の熱・電子移動計測 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-296 両面マスクアライナ露光装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0139]抗原抗体反応の検出を目的とした横波型薄膜共振子MEMSセンサの創製 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-261 ウェッジワイヤボンダ
F-KT-289 高周波伝送特性測定装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0140]ミストCVD法を用いて形成した金属酸化物の新規応用展開 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0141]多層膜による波長選択赤外線源の開発 		F-KT-274 X線回折装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0142]臨床検査デバイスの開発 2 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-246 ドライエッチング装置
F-KT-279 触針式段差計(CR)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0143]自動車用エンジンの超高効率化のための給気ガス改質技術の開発 ２ 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0144]遷移金属ダイカルゴゲナイドとフラーレンの複合体 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0145]マイクロ空間を利用した小型分離分析デバイスの開発 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-226 両面マスクアライナー
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0146]半導体プロセス基礎実験 2 		F-KT-227 紫外線露光装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0147]薄膜形成及びドライエッチングによる試料加工技術の開発2 		F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-241 プラズマCVD装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0148]ハサミアジサシ類のくちばしに見られる微細構造の機能解明 		F-KT-271 3D測定ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0149]固体高分子形燃料電池の電極触媒に関する研究 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
F-KT-275 分光エリプソメーター
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0150]高効率ペロブスカイト太陽電池の開発 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0151]ブロックポリマーのミクロ相分離に関する研究　その２ 		F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-235 ICP質量分析装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0152]希土類添加酸化物薄膜を用いた無機ELの開発 		F-KT-280 触針式段差計(分析・評価)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0153]高強度テラヘルツを用いた物質探索および制御 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0154]微量化学物質除去に及ぼす有機膜表面のゼータポテンシャルの影響の検討 		F-KT-277 ゼータ電位・粒径測定システム
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0155]金属メタマテリアルによるテラヘルツ電場制御 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0156]プラズモニック金ナノ粒子凝集体構造を有するMEMS共振器 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-238 電子線蒸着装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0157]単独金ナノ粒子二量体の表面増強ラマン分光特性 		F-KT-224 レーザー直接描画装置
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0158]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 ２ 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0159]色素増感太陽電池用対極基板のＦＴＯガラスのパターニングの検討 		F-KT-225 高速マスクレス露光装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0160]水晶振動子の不良再現試験 		F-KT-287 インピーダンスアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0161]セルロースナノファイバー開発に関する相談 		(登録なし)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0162]3次元加工性を有するセルロースナノファイバー強化樹脂材料の開発 		F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-244 深堀りドライエッチング装置2
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0163]高分解能電流経路映像化システムの開発 		F-KT-222 高速高精度電子ビーム描画装置
F-KT-246 ドライエッチング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0164]バイオMEMSデバイス試作に関して 		(登録なし)
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0165]サブミクロンパターンの試作 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-230 レジスト塗布装置
F-KT-223 露光装置(ステッパー)
F-KT-232 レジスト現像装置
F-KT-243 深堀りドライエッチング装置1
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0166]電子線描画装置アドバンストコース（CUPAL） 		F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0167]プラズマ曝露による絶縁薄膜の粘弾性特性変化の研究　２ 		F-KT-283 超微小材料機械変形評価装置
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-266 分析走査電子顕微鏡
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0168]シリコンフォトニック結晶の作製と構造評価 		F-KT-269 走査型プローブ顕微鏡システム
F-KT-281 マイクロシステムアナライザ
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0169]ナノ開口を使った生体分子間相互作用の解析 ３ 		F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
F-KT-233 ウェハスピン洗浄装置
F-KT-239 真空蒸着装置1
F-KT-265 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
F-KT-303 大面積超高速電子線描画装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0170]ダイヤモンド薄膜合成技術の開発と評価　２ 		F-KT-226 両面マスクアライナー
F-KT-229 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
京都大学 学際融合教育研究推進センター/ナノテクノロジーハブ拠点
[F-16-KT-0171]プラズマ曝露されたSi基板表面の反応層の解析 		F-KT-257 ダイシングソー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0001]高感度レジスト開発とそれを用いたデバイス作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0002]X線位相イメージング用の埋め込みターゲットと回折格子の作製 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0003]超低損失ダイヤモンドパワーデバイス創製に向けたプロセス開発 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0005]原子オーダー制御した3次元ナノ立体構造の創製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0006]細胞力学的特徴計測のためのマイクロ流体チップの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0007]光バイオセンサの研究 		F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0008]ポリマー微細加工技術の構築 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0009]高結晶性ナノカーボン薄膜トランジスタによるバイオセンサー開発 		F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0010]ポリマー配線を用いたニューラルネットワーク型情報回路の創成 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0011]高感度ウイルスナノセンサの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0012]バイオマイクロデバイスの開発 		F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0013]高集積化可能な強誘電体メモリー素子の作成と長期安定性評価 		F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0014]１分子解析技術に基づく生物試料デバイスの作成 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0015]高Q値ナノ光ファイバ共振器の作製 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0016]機能性酸化物を用いたナノ構造体作製と評価 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-316 ナノインプリント装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0017]電子ビームリソグラフィを用いたナノロッドアレイターゲットの作製 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0018]Si基板の平滑エッチング技術検討 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0019]メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用 		F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0020]半導体量子ナノ構造における量子輸送現象の研究 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0021]プラズモニックマルチナノポアデバイスの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0022]ウエハ上におけるナノ・マイクロスケール3次元加工技術開発 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0023]微細加工応用による固体高分子形燃料電池単一層電極の形成過程と反応場の微視的解析技術開発 		F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0024]ナノメカニクスによるメタ表面の動的制御 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0025]ナノ細孔とナノピラーを用いたアDNAセンシングデバイスの開発 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0026]新規ナノモールドの開発 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0027]表面増強ラマン散乱計測に用いるナノ構造基板の形成 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0028]MEMS技術を用いた高機能マイクロハンドエンドエフェクタの開発 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0029]ポリマー製フォトニック結晶ナノ共振器用鋳型の作製とバイオセンサへの応用 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0030]ナノインプリント工法の検討 		F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0031]半導体プロセス用有機膜材料の二次電子像特性、ダメージ、および加工特性の検討 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0032]ヘリウム/ネオンイオン顕微鏡（GIS機能含む）を用いた染色体の構造解析 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0033]単結晶ダイヤモンドの微細加工 		F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0034]金属ナノ構造と光との相互作用によるプラズモン共鳴現象を利用した光ナノ計測 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0035]細胞培養制御のためのプラズマによる培養皿表面の改良 		F-OS-316 ナノインプリント装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0036]ナノハイブリッド細線パターンの形成と評価 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0037]極微細加工材料中の放射線化学の研究 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0038]高精細集束イオンビーム装置によるInP系ナノ粒子観察 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0039]ナノ材料の熱電性能評価システムの作製 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0040]ワイヤーグリッド型偏光板の作製 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
F-OS-315 イオンシャワーエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0041]Evaluation of surface modification for biosensor application 		F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0042]フォトニック結晶レーザの開発 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0044]金蒸着不良解析 		F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0045]被覆型分子を用いたナノサイズの化学物質センサーの開発 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0046]ナノ材料を用いたガスセンサーの作製と微視的アプローチによる応答メカニズムの解明 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0047]集束イオンビームによる有機オリゴマー結晶のレーザー素子に向けた微細加工 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0048]電子線リソグラフィー加工による周期的ナノ構造を利用した有機発光デバイスの高効率化 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0049]He+ irradiation for Anderson localization on single layer graphene 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0050]周期的構造のレジスト形成 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0051]B,P同時ドープSiナノ結晶薄膜の電気伝導特性評価 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0052]プラズモンによるEu添加GaN赤色発光ダイオードの発光強度増大 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-310 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0053]FIBによる電子線用フレネルゾーンプレートの作製 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
F-OS-306 集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0054]マイクロ流路中のひも状ミセルの流動誘起構造解析 		F-OS-313 マスクアライナー
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0055]フレキシブルエレクトロニクス実現に向けた薄膜トランジスタの基礎評価 		F-OS-309 リアクティブイオンエッチング装置
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-321 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0056]垂直配向カーボンナノチューブを電極に用いた微細気泡生成に関する研究 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-314 LED描画システム
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0057]電子線リソグラフィー加工による周期的ナノ構造を利用した高効率有機発光デバイスの開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-308 深掘りエッチング装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0058]縮退高濃度ホウ素ドープダイヤモンド多重積層構造におけるnmスケールの分散化プロセス 		F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0059]高精細集束イオンビーム装置による量子効果素子の開発 		F-OS-318 高精細集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0060]触媒膜および低濃度水素利用にもとづく希土類三水素化物の作製 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0061]窒化物半導体の電気的磁気的特性評価用電極の作製 		F-OS-313 マスクアライナー
F-OS-317 多元DC/RFスパッタ装置
F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0062]分子処理による二次元層状半導体の非破壊キャリア制御 		F-OS-305 電子ビームリソグラフィー装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0063]EUVリソグラフィ用水塗布・水現像ポジ型レジスト材料の開発 		F-OS-303 超高精細電子ビームリソグラフィー装置
F-OS-304 高精細電子線リソグラフィー装置
F-OS-307 SEM付集束イオンビーム装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0064]マイカ基板での金薄膜清浄表面の作製 		F-OS-312 EB蒸着装置
大阪大学 ナノテクノロジー設備供用拠点
[F-16-OS-0065]スパッタ法によるサファイア基板上へのAl成膜 		F-OS-320 RFスパッタ成膜装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0002]NEMSを用いたプラズモン変調器の作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0003]液晶性半導体を用いたフレキシブルデバイスの作製と評価 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0004]液晶性混合伝導体の薄膜化 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0005]超小型赤外分光イメージング装置鮮明化の為の回折格子作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0006]2物体の接触面の表面性状の変化 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0007]GaN系半導体光・電子デバイスの開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0008]大面積の磁気ライン・メモリーの作製と電流駆動磁壁移動の検証 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0009]電子線露光装置により光導波路型回折格子作製 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0011]マイクロ流路を用いた細胞計測 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0012]環状DNA計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0013]マイクロ電極による生体分子操作 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0014]余剰受容体計測に向けたマイクロ流体デバイス開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0015]植物生体情報計測に向けたマイクロ流路構造の製作（２） 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0016]マイクロ流体撹拌素子の製作・改良 		F-GA-319 マスクアライナ
F-GA-324 触針式表面形状測定器
F-GA-334 走査電子顕微鏡(EDS付き)
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0017]THz帯メタマテリアルの作製 		F-GA-330 マスクレス露光装置
F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0018]強結合および超強結合を実現するための微小共振器の作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0019]医療用センサの製作 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-321 真空蒸着装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0020]微細加工による治療用センサの製作 		F-GA-317 電子線描画装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0022]GaN系半導体の電気特性の評価に関する研究 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0023]金属材料との安定した接合抵抗を持つMEMSデバイスの作製 		F-GA-336 レーザー式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0024]MBE法によるシリコンウエハ上のGaN薄膜成長 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0025]3次元UVリソグラフィを用いたマイクロデバイス開発 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0026]標準シリコン酸化膜の膜厚測定(2) 		F-GA-339 膜厚測定器群
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0027]表面形状の測定 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0028]エレクトレットデバイスの研究 		F-GA-319 マスクアライナ
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0029]エレクトレット膜の研究 		F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0031]FT-IR用ミラーの内作 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0032]発光性薄膜材料の開発 		F-GA-324 触針式表面形状測定器
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0033]回折格子の作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0036]銅（I）錯体の薄膜化検討 		F-GA-321 真空蒸着装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0037]マイクロヒ－タの作製 		F-GA-332 デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
F-GA-330 マスクレス露光装置
香川大学 産学連携・知的財産センター/ナノテクノロジー支援室
[F-16-GA-0038]テラヘルツデジタルホログラフィー用サンプルの形状解析 		F-GA-335 白色干渉式非接触三次元形状測定器
F-GA-324 触針式表面形状測定器
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0001]ガラス基板上の4 端子低温poly-Si TFT CMOS インバータの開発 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0002]生体反射板ガイダンス溝の作成 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0004]電子ビーム描画装置による先端露光プロセスの検討 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0005]３次元パワーSoC(Supply on Chip)用積層基板構成技術の研究 		F-RO-343 リン拡散炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0006]金属上での有機フレームワーク接触形成と小分子活性化還元電極への展開 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0008]イオンビーム誘起ナノ・ミクロン複合パターン形成による超撥水性ガラスの創製 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0009]2 インチ シリコンウエハ上へのシリコン窒化膜の形成 		F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0010]CVD酸化膜のエッチング評価 		F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0013]低温成長InxGa1-xAsの成長とその電気的特性の評価 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0014]鉱物形成能を有する細菌のスクリーニング 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0015]細菌が生成する鉱物の構造評価 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0016]凝集鉱物の熱処理前後の構造評価 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0017]SOIチップ上へのSiNの成膜 		F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0018]プラズモン共鳴を利用した光伝導型テラヘルツ波検出素子の高効率化 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0019]円形溝への反磁性微小物の導入 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0020]イオンビーム照射によるSi, SiC 結晶の欠陥生成の研究 		F-RO-332 ラザフォード後方散乱(RBS)測定装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0021]標準シリコン酸化膜の厚測定 (2) 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0022]イオン注入法による窒化ガリウムのドーピング技術の開発 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0023]SiN光方向性結合器と分子鋳型ポリマーの融合による新規バイオセンサの開発 		F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
F-RO-333 酸化炉
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0024]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製と評価（くし形Siウォールの形成） 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-342 深堀エッチャー
F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0025]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製と評価（ドーピングによる太陽電池の作製） 		F-RO-333 酸化炉
F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0026]電界効果型マイクロウォール太陽電池の作製と評価（Alスパッタによるアノード・ゲート電極の形成） 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0027]メニスカス力を用いたSOI膜の転写における転写率向上の研究 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0028]PH3プラズマ処理および大気圧熱プラズマジェット熱処理によるシリコン薄膜の不純物ドーピング 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0029]SiC-MOSFETの作製 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0030]ワイドバンギャップ半導体基板への高温イオン注入と短時間高温活性化アニールの研究 		F-RO-344 イオン注入装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0031]PECVD装置によるSiO膜のドライエッチング処理方法の検討 		F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0032]窒化物薄膜LEDの開発 		F-RO-331 マスクレス露光装置
F-RO-340 エッチャー（RIEコンタクト用）
F-RO-339 スパッタ装置(Al用)
F-RO-336 LPCVD装置(SiO2用)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0033]CDE装置によるSiO膜のドライエッチング処理方法の検討 		F-RO-338 プラズマCVD装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0034]低温成長InxGa1-xAsのショットキー接合の形成とその容量電圧特性の評価 		F-RO-345 走査電子顕微鏡(SEM)
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0035]超微細DNAメモリートランジスタの研究 		F-RO-347 電子ビーム露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0036]リング共振器バイオセンサのための流路形成 		F-RO-331 マスクレス露光装置
広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所/微細加工支援室
[F-16-RO-0037]学習機能をもつ光ニューラルネットワークの基礎研究 		F-RO-335 LPCVD装置(SiN用)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0001]新規半導体材料の開発 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0002]各種金属の真空用表面処理の開発 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0003]MEMS技術を用いた機能性表面の創製 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0004]GaN系半導体光・電子デバイスの開発 		F-YA-348 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0005]金属含有DLCの研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0006]電気化学法を用いた鉄酸化物薄膜の合成 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0007]ビスフェノール類を用いた柔軟性をもつフォトレジスト用樹脂の開発 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0008]アモルファスカーボンで生成するOHラジカルを利用した生体成分分析システムの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0009]高解像電子線レジストのプロセス開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0010]感光性樹脂の研究 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0011]粘土鉱物-導電性高分子ハイブリッド膜の電気伝導率の評価 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0012]昇温脱離ガス分析装置（ダイナミック型）によるチップコンデンサの発生ガス調査 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0013]省合金型二相ステンレス鋼の真空容器向け使用特性評価 		F-YA-354 ガス放出速度測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0014]真空プロセス装置開発のための基礎実験 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0015]ナノインプリントにおける大面積・超微細加工の研究開発プロジェクト 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0016]液体による微量漏れ検出技術の開発 		F-YA-355 超高真空分圧測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0017]複合材料を用いたマイクロヒータの開発 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0018]液滴室温ナノインプリントによるダイヤモンドライクカーボンエミッタの作製 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0019]酸化物オーミック電極を用いた酸化ガリウムデバイス作製 		F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0021]カルコゲナイド系磁性半導体に関する研究 		F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0022]マグネシウム電池用3Dポリマー電解質の開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-359 深掘りエッチング装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0023]高感度非化学増幅型電子線レジストの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0024]新規構造を有するスチレン系共重合ポリマーの合成と電子線レジス トへの応用 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0026]表面処理したアルミニウム合金のガス放出特性 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-356 昇温脱離ガス分析装置 【高感度型】
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0027]ガーネット材を用いたスピン流デバイスの開発 		F-YA-347 電子線描画装置(50 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
F-YA-349 マスクアライナー（スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式（ドラフト、現像用冶具）を含む）
F-YA-350 UHV10元スパッタ装置
F-YA-351 触針式表面形状測定装置
F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-360 ECRエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0028]水素吸蔵金属を用いたセラミックス－金属間の接合 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0029]有機半導体薄膜太陽電池の作製と半導体層の物性評価 		F-YA-352 走査型電子顕微鏡(簡易スパッタ装置を含む)
F-YA-361 3元RFマグネトロンスパッタ装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0030]分散系のレオロジーと成膜挙動に関する研究 		F-YA-351 触針式表面形状測定装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0031]電子線露光による非化学増幅系レジストパターン作製プロセスに関する技術相談 		(登録なし)
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0032] 標準シリコン酸化膜の膜厚測定 (2) 		F-YA-357 エリプソメータ【分光型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0033]酸素分圧を変えて製膜した非晶質酸化ニオブ薄膜中に存在する水素原子の比率 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0034]新規機能性樹脂の開発 		F-YA-360 ECRエッチング装置
F-YA-359 深掘りエッチング装置
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0035]鉄鋼材料に含有するガス成分分析 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
山口大学 大学研究推進機構/微細加工支援室
[F-16-YA-0036]SiN薄膜からの脱水素アニールの条件評価 		F-YA-358 昇温脱離ガス分析装置 【ダイナミック型】
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0001]循環腫瘍細胞検出のためのマイクロウェルアレイの作製 		F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0002]細胞解析用微小孔アレイデバイスの製作 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0004]3次元積層パワーSoC用オンチップキャパシタの検討 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0005]マイクロはんだバンプの形成 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0006]陽極酸化法による粗面化処理 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0008]デバイス試作および試作品解析 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0009]光エネルギー変換デバイスの開発 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0011]電気ニッケルめっきを用いる電気自動車用SiCパワーモジュールの開発 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0013]炭化ケイ素コーティングのＣＶＤ合成 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0014]Fabrication of single layer graphene nanoribbon field effect transistor and controlling its property 		F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0015]シリコン太陽電池の裏面パッシベーションのためのSiN膜の最適化 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0016]MEMS技術を用いた機能性表面の創製 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0018]OHラジカル水のレジスト剥離 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0019]Ag/Ag2S Core-Shell微粒子配列を用いた回路作製 		F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0020]水素センサの最適形状検討 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-378 リソグラフィ装置群(18.両面マスクアライナ)
F-FA-373 ケミカルプロセス装置群(10.レーザーマイクロスコープ)
F-FA-380 リソグラフィ装置群(21.ドラフトチャンバー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0021]細胞解析用微小孔・微小電極アレイデバイスの開発 		F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-369 組立測定装置群(26.比抵抗測定器)
F-FA-371 組立測定装置群(25.ボンディング装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0022]超親水性マイクロ･ナノ階層構造によるプール沸騰限界熱流束促進 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0023]酸化シリコンの面方向熱伝導率測定 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0024]ミニチャネル内流動沸騰実験用MEMSセンサの製作 		F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0026]血管誘導機能を有する透明人工殻の開発 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0028]ガンマ線検出用位置検出型TES(超伝導転移端温度計)型マイクロカロリメータの開発 		F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0029]ポリイミド塗れ性確認 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0030]シリコンエッチング 		F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0034]シリコン半導体ウェーハへのめっき電極形成プロセスの開発 		F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0035]パワー半導体素子のボンディングワイヤ密着性の評価 		F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0036]レーザー干渉法による沸騰気泡底部のミクロ液膜厚さの計測 		F-FA-370 組立測定装置群(24.ダイシングソー)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0038]オペアンプのレイアウト依存製造性評価 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0039]金銀パラジウム合金に対するアルミナブラスト処理の作用機序 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0041]γ‐(AlxGa1‐x)2O3混晶系薄膜の解析 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0042]ポリマー複合材を用いた熱スイッチの研究 		F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0043]抵抗変化型メモリ素子を用いたニューラル学習回路の開発 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-357 ケミカルプロセス装置群(7.スパッタ装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-360 ケミカルプロセス装置群(5.減圧CVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-364 リソグラフィ装置群(14.コータ/ディベロッパ)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-366 リソグラフィ装置群(16.ステッパ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
F-FA-368 組立測定装置群(23.走査型電子顕微鏡)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0044]構造的アプローチによる平面測定用5点法MEMS変位計デバイスの高精度化 		F-FA-354 ケミカルプロセス装置群(1.イオン注入装置)
F-FA-356 ケミカルプロセス装置群(3.拡散炉)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0045]濡れ性こう配の製作 		F-FA-355 ケミカルプロセス装置群(2.酸化炉)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-358 ケミカルプロセス装置群(6.リアクティブイオンエッチャー)
F-FA-359 ケミカルプロセス装置群(4.プラズマCVD)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-365 リソグラフィ装置群(17.マスクアライナ)
F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0047]細胞マイクロパターン技術の開発 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)
北九州産業学術推進機構 共同研究開発センター
[F-16-FA-0048]マイクロギャップ電極用マスクの作成 		F-FA-361 ケミカルプロセス装置群(11.超純水製造装置)
F-FA-362 リソグラフィ装置群(レーザービーム描画装置)
F-FA-363 リソグラフィ装置群(15.スピンコーター)
F-FA-367 リソグラフィ装置群(19.膜厚測定器)