Machine

拠点 産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設  
機器ID F-AT-086  
中分類ID F0707
S1009
装置名 分光エリプソメータ  
Product 堀場Jovin-Yvon社製 / UVISEL-M200-FUV-FGMS  
詳細 この分光エリプソメーター装置は、
190～826nm(1.5～6.5eV)の波長範囲における入射光と反射光の偏光状態の変化を測定し、
解析作業を行うことで、薄膜の膜厚や屈折率、消衰係数を求めることが出来ます。
5μｍまでの比較的厚い膜厚(但し金属膜は除く)や薄膜の多層構造測定も可能です。
堀場ジョバンイボン社から提供される多数の分散式を保有しおり、様々な物質の解析作業が可能です。
サンプルステージの径は150mm、上下調整可能幅は20mmとなっており、
幅広いサンプル形状に対応できるようになっております。
また、ユーザーフレンドリーな操作マニュアルや解析事例集を完備しており、
エリプソメーターを初めて使う方でも比較的簡単に本装置を使用することが出来ます。  
詳細2 この分光エリプソメーター装置は、190～826nm（1.5～6.5eV）の波長範囲における入射光と反射光の偏光状態の変化を測定し、解析作業を行うことで、薄膜の膜厚や屈折率、消衰係数を求めることが出来ます。5μｍまでの比較的厚い膜厚（但し金属膜は除く）や薄膜の多層構造測定も可能です。堀場ジョバンイボン社から提供される多数の分散式を保有しおり、様々な物質の解析作業が可能です。サンプルステージの径は150mm、上下調整可能幅は20mmとなっており、幅広いサンプル形状に対応できるようになっております。また、ユーザーフレンドリーな操作マニュアルや解析事例集を完備しており、エリプソメーターを初めて使う方でも比較的簡単に本装置を使用することが出来ます。  
更新日時 2021-04-20 15:03:50