Machine
| 拠点 | 産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 |
|---|---|
| 機器ID | F-AT-075 |
| 中分類ID |
F0201 |
| 装置名 | 電子ビーム真空蒸着装置 |
| Product | エイコーエンジニアリング社製 |
| 詳細 |
エイコーエンジニアリング社製電子ビーム加熱型蒸着装置 高真空中で金属や化合物などの成膜材料へ電子ビームを照射し、 発生した蒸発物を基板上に付着堆積させることにより成膜します。 20種類以上の蒸着源をそろえており、電子ビーム加熱方式のため高融点材料の蒸着も可能です。 操作が自動化されており、成膜シークェンスを組むことで 最大8種までの材料の多層膜を作製する事ができます。 フォトリソグラフィと合わせ、2層レジストを用いたリフトオフも可能です。 ●蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発、180°配向型、5 kW電子銃 ●蒸発源:8連装 ●クルーシブル容量:10 ml ●基板ホルダ:最大基板サイズ100 mm×100 mm×20 mm、傾斜ホルダ、冷却機構付 (通常：水冷 ＊液体窒素使用時最低温度130 K) ●蒸発源―基板間:300 mm ●試料導入:ロードロック自動搬送 ●真空排気システム:到達圧力3×10^-6 Pa以下、オイルフリー、自動排気 ●成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御 ●膜厚分布:10 ％以内@Φ75mm |
| 詳細2 |
エイコーエンジニアリング社製電子ビーム加熱型蒸着装置 高真空中で金属や化合物などの成膜材料へ電子ビームを照射し、発生した蒸発物を基板上に付着堆積させることにより成膜します。20種類以上の蒸着源をそろえており、電子ビーム加熱方式のため高融点材料の蒸着も可能です。操作が自動化されており、成膜シークェンスを組むことで最大8種までの材料の多層膜を作製する事ができます。フォトリソグラフィと合わせ、2層レジストを用いたリフトオフも可能です。 蒸着方式:電子ビーム加熱蒸発、180°配向型、5 kW電子銃 蒸発源:8連装 クルーシブル容量:10 ml 基板ホルダ:最大基板サイズ100 mm×100 mm×20 mm、傾斜ホルダ、冷却機構付 （通常：水冷 ＊液体窒素使用時最低温度130 K） 蒸発源―基板間:300 mm 試料導入:ロードロック自動搬送 真空排気システム:到達圧力3×10^-6 Pa以下、オイルフリー、自動排気 成膜:水晶振動子膜厚モニタによる自動制御 膜厚分布:10 %以内@Φ75mm |
| 更新日時 | 2021-04-20 12:28:09 |