NGL2014次世代リソグラフィシンポジウムに出展予定です。
概要
| 開催日 | 7月17日（木）～7月18日（金） |
|---|---|
| 場所 | 東工大蔵前会館(東急目黒線、大井町線大岡山駅前) |
| プログラム概要 |
基調講演（7/17） 江刺 正喜氏（東北大）、原 史朗氏（産総研） 技術セッション 7/17 光リソグラフィ＆MPT、DSA、ポスターセッション（軽食の提供あり） 7/18 EB・計測技術、マスク技術、EUVL、NIL、パネルディスカッション※ ※テーマ「次世代リソグラフィ技術を支える材料、 装置技術と課題― Sub-10nmへの準備は整ったか ―」 プログラム詳細はこちら |
| 主催 | 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会 |
| 共催 |
応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 応用物理学会 シングルナノパターニング研究グループ 日本学術振興会 「荷電粒子ビームの工業への応用」 第１３２委員会 |
| 事務局 |
相良好美 〒335-0021埼玉県戸田市新曽45 TEL：090(5493)1147 FAX：048(443)4204 E-mail：ZXF10453(at)nifty.com (at)をアットマークに変えてください。 |
| 参加費 |
主催研究会、共催団体会員、および学生；3,000円(６月３０日付申込みまで※) 4,000円 (上記以降) ※上記は応用物理学会の会員のみでは対象になりません。 一般；12,000円 (６月３０日付申込みまで※) 15,000円 (上記以降) ※申込書の受付け日になります。ご入金は、開催日前日、請求書期日までにお願いします。 ※参加申し込み方法および支払方法に関しましては以下URLをご参照ください http://annex.jsap.or.jp/NGL/ |