| タイトル | 極端紫外線露光機の為の赤外線遮断フィルター |
|---|---|
| 概要 | Siウェハに作製された光学グリット。幅350nm,高さ5μm,直径90mm. EUV光(λ=13.5nm)を78%透過し，赤外線(λ=10.6μm)を99.7%遮断することが可能な波長選択フィルター。 世界で初めて，EUVリソグラフィー光源のためのグリット型赤外線遮断フィルターの作製に成功。 |
| 支援機関 | 東北大学 |
| 技術分野・応用分野 | ナノエレクトロニクス、フォトニクス、N&MEMS |
| プロセス分類 | リソグラフィ・露光・描画装置、成膜・膜堆積、膜加工・エッチング |
| 材料 | モリブデン（Mo）、シリコン（Si） |
| 利用課題番号 |
F-13-TU-0074、F-14-TU-0082 |