NGL(次世代リソグラフィ)研究会ワークショップ(2018/7/5~6)

NGLワークショップ2018(2018年7月5日、6日　@東京工業大学 蔵前会館）にてポスター展示を行います。
(展示説明は５日 17:00-19:00, 蔵前ホール ポスター展示 P28）
文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業での共用施設利用の概要について紹介をします。
機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。

概要

開催日 7月5日（木）～7月6日（金）
場所 東京工業大学　蔵前会館（東急目黒線、大井町線大岡山駅前）
http://www.somuka.titech.ac.jp/ttf/access/index.html
プログラム概要 基調講演（7/5）：
　　“産業技術のプラットフォームの役割を担う産総研”　
　　　　　　　　　　　　　　　　岡田武氏（産業技術総合研究所理事）
　　“CMOS/MTJ Hybrid NV-Logicと3DVertical Memoryが切り拓く革新的IoT／AIシステム”
　　　　　　　　　　　　　　　　遠藤哲郎氏（東北大学国際集積エレクトロニクスセンター長）
技術セッション：
　　7/5　光リソグラフィ＆アドバンストパターニング、DSA&レジスト、ポスターセッション（軽食を提供）
　　7/6　ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL
主催 応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）
協賛 応用物理学会　シリコンテクノロジー分科会
応用物理学会　極限ナノ造形・構造物性研究会
日本学術振興会　「荷電粒子ビームの工業への応用」第132委員会
参考URL https://annex.jsap.or.jp/NGL/