ワークショップNGL2021（オンライン開催）(2021/7/8~9)

NGLワークショップ(ワークショップNGL2021)(2021年7月8日、9日 ONLINE)ポスターセッションにて、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業での共用施設利用の概要について紹介します。
(ポスター発表は 8日 15:50-17:50, P27)

概要

開催日 2021年7月8日（木）～9日（金）
場所 Zoomによるオンライン開催（リアルタイム発表）
主催 応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）
協賛 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
基調講演（7/8） “5G Evolution and 6G”
　　中村武宏氏（株式会社NTTドコモ）
“積層型CMOSイメージセンサを進化させるプロセス技術”
　　岩元勇人氏（ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社）
“EUV Lithography at IMEC”
　　Kurt Ronse氏（imec）
技術セッション 7/8光リソグラフィ＆アドバンストパターニング、レジスト材料、ポスターセッション
7/9ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUV
参考URL https://annex.jsap.or.jp/NGL/