第３６回国際フォトポリマーコンファレンス
アドバンスドリソグラフィー、ナノテクノロジー、フォトテクノロジー
－材料とプロセスの最前線－　(2019/6/24-27)

第３６回国際フォトポリマーコンファレンス(2019年6月24日~ 27日@幕張メッセ国際会議場3F）にて、期間中会議室前スペースにて展示を行います。
文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業での共用施設利用の概要について紹介をします。
機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。

概要

開催日 6月24日（月）～6月27日（木）
場所 幕張メッセ国際会議場（JR海浜幕張駅下車徒歩５分）
主催 フォトポリマー学会（SPST）
協賛 フォトポリマー懇話会 日本化学会 高分子学会 千葉大学
後援 応用物理学会
プログラム概要 フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告
・Plenary Lecture (6/25):
　“AI, Quantum, and the Future of Computing: Challenges and Opportunities for Materials Research”, Daniel P. Sanders, IBM
・Panel Symposium(6/25) :
　”Nanoimprint Lithography for Next Generation”
参考URL https://www.spst-photopolymer.org/conference/