文部科学省委託事業「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、”ビームテクノロジー＆ナノ加工実践セミナー ～ナノマテリアル研究にむけて”を開催します。
微細加工技術を活用してナノマテリアルやナノデバイスなどの研究をしてみたいと考える研究者・技術者に向けて、微細加工プラットフォームの保有する最新の高度な加工技術（EB描画、マスクレス・リソ、FIBなど）のチュートリアル的なセミナー講演と実習を行います。
これにより、プラットフォームの積極的利用を促し、研究開発の進展に寄与することを目的とします。
多くの皆様のご参加をお待ちしております。
フライヤー(pdf)
概要
| 開催日時 |
＜座学コース＞ 2017年10月11日 13:00～17:00 ＜実習コース＞ 各実施機関の都合にあわせて実施される予定です。 |
|---|---|
| 場所 |
＜座学コース＞ 東京大学武田先端知ビル 1F セミナー室 ※実習コースを開催する機関のうち、以下の拠点ではＷＥＢによるＴＶ聴講が可能です。 北海道大学、東北大学、豊田工業大学、京都大学、大阪大学、広島大学、山口大学 ＜実習コース＞ 各実施機関 |
| 主催 | 微細加工プラットフォーム |
| 募集人数 |
＜座学コース＞ 30～40人程度＋Web配信 ＜実習コース＞ 数人/各プログラム（実施機関によって異なります） |
| 参加申し込み |
https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/beam_nano.html ※東大拠点以外でのTV聴講による参加ご希望の方は、参加申込みの「その他」欄に参加希望の機関名をご記入ください。 |
座学コースプログラム |
13:00～13:05 開会挨拶 微細加工プラットフォーム代表機関 13:05～13:55 基調講演 物質・材料研究機構 理事 小出康夫 「材料インフォマティクスとデータプラットフォーム構築」 ＜休憩10分＞ 14:05～14:30 物質・材料研究機構 津谷大樹 「マスクレス露光装置の特徴と応用」 14:30～14:55 東北大学 戸津健太郎 「レーザー描画装置の特徴と活用例」 14:55～15:20 東京工業大学 宮本恭幸 「電子ビーム露光の基礎（ポイントビームを中心として）」 ＜休憩10分＞ 15:30～15:55 東京大学 三田吉郎 「厚膜レジストへの可変成型電子ビーム描画による高精度短TATなMEMS試作」 15:55～16:20 筑波大学 中島清美 「集束イオンビーム装置(FIB/FIB-SEM)の原理と加工事例」 16:20～16:45 大阪大学 法澤公寛 「ヘリウムイオン顕微鏡を用いたナノ加工と観察」 16:45～17:00 文科省ナノプラ事業・微細加工PFの紹介/実習コースのご案内 微細加工PFコーディネーター |
| 実習コース |
基礎的な微細加工プロセス実習＜無料＞ ①レーザー描画装置を用いたフォトリソグラフ基礎実習 概要：比較的容易にできるレーザー描画装置を用いたフォトリソグラフ実習を行うことで、 フォトマスク作製や微小電極作製への基礎実技の取得を目指す。 日程：ユーザーと調整 定員：最大３名 場所：北海道大学（札幌市） ②電子線リソグラフィ実習コース 概要：電子線描画に関する基本技術の体験－細線描画と近接効果の影響確認、 日程：2017年10月17日（火）13:00～16:30 2017年10月18日（水）9:30～16:30 定員：2名 場所：産業技術総合研究所（茨城県つくば市） ③EB露光及び近接効果評価 概要：EB露光における近接効果を露光パターンにて評価し、その補正方法について議論する。 日程：2017年10月12日（木）10:00～17:00 2017年10月13日（金）10:00～17:00 のうちどちらか 定員：２名/日 計４名まで 場所：東京工業大学（東京都目黒区） ④ヘリウムイオン顕微鏡による観察とエッチング加工 概要：新しい技術であるヘリウムイオン顕微鏡を用いて、FIB加工と２次電子像観察の実習を行う。 日程：11月中旬頃の２日間（日程は応相談） 定員：３名 場所：大阪大学（大阪府茨木市） ⑤ELS-7500EXを用いた基本的な電子線描画および現像プロセス実習 概要：ELS-7500EXを用いて、CADによる図形の設計と描画・様々な条件（液種・温度）で現像を行い、 SEMによるパターン観察をすることで、電子線描画および現像プロセスに関する基礎技術を身に付ける。 日程：11月上旬を予定（日程は応相談） 定員：３名 場所：山口大学（山口県宇部市） ⑩電子ビーム露光装置による微細パターンリソグラフィー 概要：パターン設計、電子ビーム露光、現像、SEMによるパターン観察を実施 日程：2017年11月または12月（1～2日間。有料コースと同時に行います。） 定員：2名程度 場所：広島大学（広島県東広島市） アドバンスド実習＜有料＞ ⑥グレイスケールリソグラフィ 概要：マイクロレンズなどの３次元形状をCADで設計する。膜厚10μ程度の厚膜レジストを基板に塗布した後、 レーザ描画装置でグレイスケール露光を行う。 現像後の３次元形状を共焦点白色顕微鏡で観察する。２日間のコースで、日程は参加者の都合にあわせる。 日程：２日間（日程は相談） 定員：３名程度 料金：３万円 場所：東北大学（宮城県仙台市） ⑦プロセスTEGによるフォトリソグラフィとドライエッチング 概要：レジスト材料・プロセス、露光技術、ドライエッチング（特にBoschプロセス）の講義を行い、 プロセスTEG(Test Element Group)を使って、レジストパターンの形成、Si加工の実習を行う。 日程：2018年3月初旬頃（３日間） 定員：講義 １０名程度 実習 ４名程度 料金：２～５万円（講義のみは無料、講義は本セミナーとは別に京大で開催） 場所：京都大学(京都府京都市) ⑧ハスの葉に似せた微細パターンと撥水効果 概要：マスクレス露光装置を中心に、微細パターンの転写によってリソグラフィの基礎を習得する。 ハスの葉の凹凸構造に似せた微細パターンを自身でデザインして形成し、撥水効果の評価を行う。 講義１：「フォトリソグラフィによるマイクロ・ナノ加工と関連装置」 講義２：「微細構造による撥水効果（ロータス効果）」 実習Ａ：「CADによるパターン設計」 実習Ｂ：「マスクレス露光装置によるパターン形成」 日程：２日間（２、３月頃を予定） 料金：企業４万円、アカデミック１万円 場所：豊田工業大学（愛知県名古屋市） ⑨技術相談によってカスタマイズする短TATなMEMS試作体験実習 概要：講演で紹介した「厚膜レジストの可変成型電子線ビーム描画」と「深掘りエッチング」を組み合わせて マイクロ構造を作製する。構造のデザインは技術相談によって決定しますので研究にもお役立て可能です。 日程：応相談（相談に１日、実施に１日） 定員：５名 料金：82,870円 場所：東京大学（東京都文京区） ⑪ナノワイヤトランジスタの作製と、それを用いたバイオセンシング 概要：SOI基板上に電子ビーム露光、ドライエッチングによりSiナノワイヤを有する イオン感応性FETを作製し、バイオ物質のセンシングを実施する。 日程：2017年11月または12月（3～4日間） 定員：2名程度 料金：3～4万円 場所：広島大学（広島県東広島市） |
| お問合せ先 |
微細加工プラットフォーム・コーディネーター TEL: 075-753-5656 Email: nanofab-coordinators(at)t.kyoto-u.ac.jp ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください |