文部科学省委託事業「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、「電子ビームリソグラフィ実践セミナー」を産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。電子ビーム露光技術の基礎を初心者にも分かり易く解説するとともに、電子ビーム露光装置メーカー各社から最新の露光装置の性能と事例を紹介いたします。また、各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました。 普段質問しづらいことを、この機会に是非、講師の先生方に個別にご質問ください。 また、このセミナーへの参加をより充実した機会にするために、無料実習コースを併設しています。産学官にかかわらず、多くの皆様のご参加をお待ちしています。
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概要
| 開催日時 | 2017年 2月 21日(火) 12:55 ～ 17:00 |
|---|---|
| 場所 | 産業技術総合研究所つくば中央2-12棟第6会議室 |
| 主催 | 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF） 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 |
| 共催 | ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC) |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 90名（先着順、参加登録をお願いします） セミナー案内/申し込みはこちら |
| プログラム |
【講演プログラム】 12:55－13:00 開会 産業技術総合研究所 共用施設ステーション 多田 哲也 13:00－14:00 『電子線露光の基礎』 東京工業大学 宮本 恭幸 14:00－14:20 『グラフェン評価のための電極形成プロセス』 産業技術総合研究所 佐藤 平道 14:20－14:40 休憩（オーサーズインタビュー） 14:40－15:10 『電子ビーム描画装置の高度な使い方』 日本電子株式会社 會田 征徳 15:10－15:40 『電子線描画装置の課題と開発計画について ～高精度と高スループット達成の為の新技術～』 株式会社エリオニクス 新関 嵩 15:40－16:10『F7000Sの最新露光事例紹介』 株式会社アドバンテスト 瀧澤 昌弘 16:10－16:40 『クレステックの電子ビーム描画装置』 株式会社クレステック 柴田 政宏 16:40－17:00 オーサーズインタビュー 17:00 閉会 【実習プログラム１】 定員： 1日に付2名、2回実施 日時： 2017年3月8日、9日 場所： 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 実習内容： 日本電子株式会社製JBX-6300SJを用いて近接効果補正に関する実習を行う。 【実習プログラム２】 定員： 2名 日時： 後日決定（2月-3月末の2日間） 場所： 国立研究開発法人産業技術総合研究所 実習内容： クレステック社製CABL-9410TFNAを用いて電子ビーム露光に関する実習を行う 。 ※実習コースを受講される方は、講義を受講している必要があります。 |
| お問合せ先 |
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション ナノプロセシング施設 電子メールアドレス：tia-npf-school4(at)aist.go.jp ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください |