本スクールは、文部科学省ナノテクノロジー・プラットフォーム事業の一環として、産学官の研究者に電子線描画リソグラフィ技術を中心とした超微細加工に関する装置やその原理を学習する場と、電子線描画リソグラフィ技術を実地に習得する機会を提供し、ナノテクノロジーにおける人材育成に貢献することを目的としています。多くの方々のご参加をお待ち申し上げます。
EH28年度電子線描画リソグラフィスクール フライヤー
概要
| 開催日時 | 講義：2016年 6月 14日(火) 13:00 ～ 16:10 |
|---|---|
| 場所 | 京都大学（本部構内） 京都市左京区吉田本町 国際科学イノベーション棟 5階 5a-5b会議室 |
| 主催 | 京都大学ナノテクノロジーハブ拠点 東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 40名 |
| 講義 |
13：00-13:05 ご挨拶 京都大学 田畑修 13:05-13:50 高精度電子ビームナノリソグラフィとその応用 東京大学 生津英夫 13:50-14:35 電子線リソグラフィの高解像・高速化 日立中央研究所 山本治朗 14:35-14:50 休憩 14:50-15:35 デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光 東京工業大学 宮本恭幸 15:35-16:10 電子線描画とMEMSの融合によるナノデバイス創製 京都大学 土屋智由 |
| 参加お申込み方法 ならびに お問い合わせ先 |
下記メールまで 京都大学ナノテクノジーハブ拠点 松嶋朝明 TEL:075-753-5231 FAX:075-753-5650 E-mail:matsushima.tomoaki.3s(at)kyoto-u.ac.jp (at)をアットマークに変更してご使用ください。 〒606-8501 京都市左京区吉田本町 京都大学 工学部物理系校舎327号室 注）6月15日開催の実習コースは定員オーバーとなりましたので、受付を終了させていただきました。 |