開催趣旨
本ワークショップは、ナノテクノロジープラットフォームに従事している技術スタッフの国際的な視野を広げることと、海外の共用ネットワークとの交流促進を目的として、フランスのマイクロ/ナノテクノロジー研究支援ネットワークであるRENATECHとの間で2015年のリオンでの第1回に続いて開催されます。
今回のワークショップは、マイクロナノ国際会議（MNC2016）のサテライトイベントとしてRENATECHの技術スタッフの方々と、口頭並びにポスター発表を通じて技術支援に関する議論と技術支援者間の交流を図ることとします。
また、当ワークショップは、ナノテクキャリアアップアライアンス事業と京都大学大学院工学研究科桂インテックセンターのナノミクス研究部門が共催する京都大学－ミシガン大学－フライブルク大学の3大学連携マイクロアライアンスワークショップと合同で開催することとして、若手研究者、学生が最新成果を発表するポスターセッションも予定しています。
概要
| 日時 | 2016年11月8日(火) 13:00～19:30 |
|---|---|
| 会場 |
京都大学吉田キャンパス 国際科学イノベーション棟 5階 シンポジウムホール http://www.kyoto-u.ac.jp/ja/access/campus/yoshida/map6r_y/ ([69]の建物) |
| 主催 | 文部科学省ナノテクノロジープラットフォームセンター |
| 共催 |
ナノテクキャリアアップアライアンス事業 京都大学大学院工学研究科桂インテックセンターナノミクス研究部門 マイクロアライアンスワークショップ |
| 協賛 | マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議 (MNC2016) |
| 日時 | 無料（ただし、ポスターセッション＋立食バンケット参加は有料） |
| プログラム |
13:00-13:05 Welcome Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology in Japan (MEXT) Keynote Lecture 13:05-13:35 Keynote 1 – DNA as an Engineering Material to Bridge between MEMS and Nanotechnology Osamu Tabata, Kyoto University 13:35-14:05 Keynote 2 – MEMS/MOEMS components for photonics: two approaches of integration of optical microsystems Christophe Gorecki, Franche-Comté Electronique, Mécanique, Thermique et Optique – Sciences et Technologies (FEMTO-ST) Introduction of User Facility Network in France and Japan 14:05-14:20 RENATECH, France Michel de Labachelerie, RENATECH 14:20-14:35 Nanotechnology Platform, Japan Tetsuji Noda, Center for Nanotechnology Platform, National Institute for Materials Science (NIMS) 14:35-15:00 Coffee Break Technical Session 15:00-15:10 High resolution E-beam bi-layer paterning for photonic and nanoelectronic applications Jean-René Coudevylle, l’instruction en famille (IEF) 15:10-15:20 Grayscale photolithography technique by using Maskless lithography system Eiichiro Watanabe, University of Tsukuba 15:20-15:30 Patterning on various materials based on nanoimprint processes Thierry Chevolleau, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM) 15:30-15:40 Experimental fabrication of the Device for Biomolecules analysis using Zero Mode Waveguides Eiji Omura, Kyoto University 15:40-15:50 NILUV-135, a resist that we formulated for NanoImprintLithography and that we use to make optical filters Jean-Baptiste Doucet, Laboratoire d’Analyse et d’Architecture des Systèmes (LAAS) 15:50-16:00 Tohoku MEMS Integration and Packaging Platform in Tohoku University Yukio Suzuki, Tohoku University 16:00-16:10 Machining of the lithium niobate material (LiNbO3) for Acoustics and Photonics Gwenn Ulliac, Franche-Comté Electronique, Mécanique, Thermique et Optique – Sciences et Technologies (FEMTO-ST) 16:10-16:20 Reliable and short turnaround time SOI MEMS fabrication process for introductory courses Lebrasseur Eric Charles, The University of Tokyo 16:20-16:30 Technological developments for the fabrication of advanced 3D micro-batteries Dmitri Yarekha et Laurence Morgenroth, L’Institut d’électronique, de microélectronique et de nanotechnologie (l’IEMN) 16:30-16:40 In-situ Surface X-ray Diffractometer Equipped with Molecular Beam Epitaxy System Seiji Fujikawa, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology (QST) 16:40-16:50 Introduction to examples of the analysis using the photoelectron spectroscope Tatsuya Murakami, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST) Young Researcher’s Session 16:50-17:30 Short Presentations by Young Researchers 17:30-19:30 Poster Session and Reception |
| 参加登録 |
参加登録期限：2016年10月31日(月) 参加登録はこちら↓ 
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| お問合せ先 |
微細加工プラットフォーム・コーディネーター TEL: 075-753-5656 Email: nanofab-coordinators(at)t.kyoto-u.ac.jp ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください |