_早稲田大学 ナノ理工学研究機構/ナノテクノロジーリサーチセンター – 装置リスト

高品質製膜装置群
スパッタ装置
製造会社 / 型番 アネルバ社製 / SPC350
仕様 試料サイズ小片～4インチ
電子ビーム蒸着装置
製造会社 / 型番 – / EBX-6D
仕様 試料サイズ4”, 6”ウエハ
電子顕微鏡群
製造会社 / 型番 日立ハイテク社製 / NB-5000
仕様 FIB加工中の同時SEM観察可能
～80万倍, 試料サイズ最大30mmΦ
製造会社 / 型番 日立ハイテク社製 / S-4800
仕様 試料サイズ最大20mm角
製造会社 / 型番 キーエンス社製 / VE-7800
仕様 試料サイズ最大20mm角位
微細パターン露光描画装置群
製造会社 / 型番 エリオニクス社製 / 7700
仕様 電子ビーム径2nm
基板サイズ小片～4インチ
製造会社 / 型番 ズースマイクロテック社製 / MA6
仕様 小片～4インチまで露光可能
最小線幅1μｍ, 両面マスクアライナー
製造会社 / 型番 日立ハイテク社製 / S-4300改造品
仕様  
ドライエッチング装置群
ICP-RIE装置
製造会社 / 型番 SAMCO社製 / RIE-101iPH
仕様 SiO2基板のみ
CCP-RIE装置
製造会社 / 型番 SAMCO社製 / RIE-10NR
仕様 多種類の材料基板OK
高速シリコンディープエッチング装置
製造会社 / 型番 – / RIE-400iPB
仕様 Siの深堀り可能
基板サイズ小片～4インチ, Si基板のみ
表面観察・分析装置群
顕微ラマン分光装置
製造会社 / 型番 東京インスツルメンツ社製 / nanofinder 30
仕様 面分解能：200nm, 高さ解能0.5nm,
時間分解能2msの3次元イメージング可能, 10 cm□位, 1回の測定範囲は10μm位
X線回折装置
製造会社 / 型番 Bruker社製 / D8
仕様 結晶欠陥観察可能,
サンプルサイズ10mm□位
表面極微細構造測定装置プロファイラー
製造会社 / 型番 テンコール社製 / P-15
仕様 試料サイズ150mm
製造会社 / 型番 島津製作所製 / SPM-9600
仕様 試料サイズ24mm×8mm
ラマン分光装置
製造会社 / 型番 RENISHAW製 / –
仕様  
元素分析装置
グロー放電分光分析装置
製造会社 / 型番 日立ハイテク社製 / GDOES
仕様 軽元素（N. O, H等）の分析可能
分析範囲10mmΦ以上10mm□以上4″までのSi、
ガラス基板
表面処理・接合装置群
製造会社 / 型番 ズースマイクロテック社製 / SB6E
仕様 小片から6インチまでの各種基板の接合可能
製造会社 / 型番 ズースマイクロテック社製 / PL8
仕様  
アライナ
製造会社 / 型番 ズースマイクロテック社製 / MA6
仕様  
製造会社 / 型番 EVG社製 / 520
仕様  
デバイス電気特性測定装置群
高耐圧プローバ（特注品）
製造会社 / 型番 長瀬産業社製 / –
仕様 10K～600Kの真空環境下での高耐圧デバイス
（3000V又は20A　MAX）測定可能
25mm×25mm□以下（測定範囲）
半導体パラメータアナライザ
製造会社 / 型番 ケースレー社製 / 4200
仕様  
高周波デバイス測定装置
製造会社 / 型番 アジレント社製 / 1501B
仕様  
めっき装置群
精密めっき装置（特注品）×3台
製造会社 / 型番 – / –
仕様 各種無電解、電解めっきに対応
Auめっき、合金めっきに対応
基板サイズ4インチまで
環境維持装置群
東横化学社製環境維持・制御装置（特注品）
製造会社 / 型番 – / –
仕様  
クリーンルーム×2（特注品）
製造会社 / 型番 日立プラント建設製 / –
仕様  
ダイヤモンド基板専用特殊成膜装置群
ダイヤモンド製膜装置（特注品）
製造会社 / 型番 アリオス社製 / –
仕様 極小基板（3mm角以下）へのダイヤモンド成膜可能, 5mm□基板対応
表面安定化成膜装置（特注品）
製造会社 / 型番 アリオス社製 / –
仕様 極小ダイヤモンド基板
（3mm角以下） へのAlN成膜可能
In lineでRHEED観察可能
アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
製造会社 / 型番 Picosun社製 / –
仕様 Al2O3膜を原子一層レベルで成膜可能
H2O及びO3使用可
基板サイズ小片～4インチ
4”, 6”ウエハ, 及び20x20mm試料対応
基板材料は原則としてダイヤモンド