NGL(次世代リソグラフィ)研究会ワークショップ(2019/7/4~5)

NGLワークショップ2019(2019年7月4日、5日　@東京工業大学 蔵前会館）にてポスター展示を行います。
(展示説明は4日 17:20-19:20, 蔵前ホール ポスター展示 P31）
文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業での共用施設利用の概要について紹介をします。
機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。

概要

開催日 7月4日（木）～5日（金）
場所 東工大蔵前会館（東急目黒線、大井町線大岡山駅前）
主催 応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）
協賛 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
応用物理学会極限ナノ造形・構造物性研究会
日本学術振興会「荷電粒子ビームの工業への応用」第132委員会
プログラム概要 ・基調講演（7/4）：
　　“中国製造2025の行方” 金堅敏氏（株式会社富士通総研）
　　“半導体ストレージの未来を拓くプロセス技術” 橋本耕治氏（東芝メモリ株式会社）
　　“AI/IoT時代における脳型デバイスのパッケージング技術”折井靖光氏（長瀬産業株式会社）

・FritzZernike賞受賞記念講演（7/5）
　　“EUVはいかにしてリソグラフィになった？か。露光装置の歴史より”鈴木章義氏（ASLC）

・技術セッション：
　　7/4　光リソグラフィ＆アドバンストパターニング、DSA&レジスト、ポスターセッション※
　　7/5　ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL
　　※ポスターセッションでは軽食を提供いたします。
参考URL https://annex.jsap.or.jp/NGL/NGL2019.pdf