ワークショップNGL2015に出展しました。
概要
| 開催日 | 7月6日（月）～7月7日（火） |
|---|---|
| 場所 | 東工大蔵前館（東急目黒線、大井町線大岡山駅前） |
| プログラム概要 | 基調講演（7/6）技術研究組合 光電子融合基盤技術研究所 最上 徹氏、他 技術セッション 7/6 光リソグラフィ＆MPT、DSA、ポスターセッション(軽食を提供) 7/7 EB・計測・マスク技術・EUVL、NIL、パネルディスカッション「どう使う？MPT、EUVL＆NIL」 |
| 主催 | 応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会 |
| 共催 | 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 応用物理学会 極限ナノ造形・構造物性研究会 日本学術振興会 「荷電粒子ビームの工業への応用」第132委員会 |
| 企画委員 |
委員長 ：石原 直 副委員長：岡崎 信次 幹事 ：藤井 清 委員 ：井谷 俊郎、落合 幸徳、小林 英雄、渋谷 眞人、田川 精一、長谷川 隆行、平柳 徳行、廣島 洋、廣島 雅人、法元 盛久、堀田 尚二、堀内 敏行、宮本 恭幸 |
| 事務局 |
相良好美 〒335-0021 埼玉県戸田市新曽45 Tel：090-5493-1147 Fax：048-443-4204 E-mail：ZXF10453@nifty.com |
| 参加費 |
主催研究会・共催団体会員・学生： 3,000円（6月12日までの申し込み） 4,000円（上記以降の申し込み） 一般： 12,000円（6月12日までの申し込み） 15,000円（上記以降の申し込み） ※申し込み後、7月3日までに銀行振り込みでお支払いください。 |
| 参考URL | http://annex.jsap.or.jp/NGL/ |