2020年1月29日に東京ビッグサイト（東京都江東区）で行われた第19回国際ナノテクノロジー総合展・技術会議（nanotech2020）に於いて、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム令和元年度「技術スタッフ表彰」が行なわれ、微細加工プラットフォームから２名の技術支援者の方が受賞されました。
・北海道大学 大西 広さん，中野 和佳子さん
『文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム令和元年度 技術支援貢献賞』
本賞は、文科省ナノテクノロジープラットフォーム事業を現場で支える技術支援者の中から、特に秀でた技術を有し、本事業に対する多大な貢献が認められる技術支援者を表彰するものです。
大西さん、中野さんは、
原子層堆積装置（ALD）を始めとした成膜装置や電子線リソグラフィ装置を用いた微細加工等、プロセス全般に造詣が深く、ユーザーが期待するデバイスコンセプトの提示を受けて細かい成膜条件やデバイス作製プロセスを構築し、装置利用あるいは技術代行にて目標デバイス実現に至っています。特にALD装置の稼働限界を超える成膜条件の実現や若手研究者への装置スペックを踏まえたプロセスの改善点などの提案により、優れた研究成果の創出に貢献しました。
NanotechJapan 技術スタッフ表彰
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