産業技術総合研究所、物質・材料研究機構、東京工業大学、北海道大学は、令和３年度からスタートした文部科学省委託事業である「マテリアル先端リサーチインフラ事業」の一環として、『原子層堆積技術（ALD）による成膜技術』というテーマで、オンラインによる技術セミナーを2021年12月22日（水）に開催します。ALDによる成膜アプリケーションと、サーマル／プラズマによる各ALD装置、及び様々なプリカーサー材料について紹介いたします。
フライヤー(pdf)
| 開催日時 | 2021年 12月 22日(水) 12:55～17:30 |
|---|---|
| 開催方式 | Teamsによるオンライン開催 会議招待メールを後日参加者にお送りします。 |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 100 名 (先着順、参加登録をお願いします) |
| セミナー案内/申し込み | https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2021-1/ |
| 講演プログラム |
12:55-13:00 はじめに 産業技術総合研究所 多田哲也 13:00-13:30 『ALDで絶縁膜を形成したMOSFETについて -III-V族系を中心として-』 東京工業大学 後藤高寛 13:30-13:50 『Super high-dielectric constant Al2O3/TiO2 nanolaminates deposited by the atomic layer deposition technique』 物質・材料研究機構 劉 江偉（Jiangwei LIU） 13:50-14:00 『NIMS微細加工共用施設とALD装置のご紹介』 物質・材料研究機構微細加工ＰＦ 津谷大樹 14:00-14:30『ALD-酸化チタンを正極材料に用いた結晶シリコン太陽電池の開発』 産業技術総合研究所 松井卓矢 14:30-15:00『Atomic Layer Deposition (ALD) overview and Introduction of Process Variety』 （株）オックスフォードインスツルメント 伊藤昌平 15:00-15:10『NPFのALD成膜事例と関連する分析技術の紹介』 産業技術総合研究所 ＮＰＦ施設 有本宏 15:10-15:20 休憩 15:20-15:50『サーマルALDプロセスの最適化』 PICOSUN JAPAN（株） 佐藤博 15:50-16:00『北海道大学の成膜設備（ALD, PLD, スパッタ）紹介』 北海道大学電子科学研究所ナノテク連携推進室 松尾保孝 16:00-16:30『独自のALD材料を用いた成膜プロセスのご紹介』 株式会社ADEKA 西田章浩 16:30-17:00『半導体製造用ALD原料に関する研究開発』 （株）トリケミカル研究所 徐永華 17:00-17:30『高純度オゾンを用いた低温ALDバッチプロセスの開発』 明電ナノプロセス・イノベーション（株） 亀田直人 |
| 主催・協賛 | 【主催】 産業技術総合研究所TIA推進センター ナノプロセシング施設（NPF） 【主催】 物質材料研究機構微細加工プラットフォーム 【主催】 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 【主催】 北海道大学電子科学研究所ナノテク連携推進室 【協賛】 ナノエレクトロニクス計測分析技術 研究会（TSC） |
| お問合せ先 |
産業技術総合研究所 TIA推進センター ナノプロセシング施設 tia-npf-school1(at)aist.go.jp ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください |