電子ビーム露光とレーザービーム描画によるグレースケール露光(2021/2/24)

筑波大学、物質・材料研究機構、東京工業大学、東京大学、東北大学、産業技術総合研究所は、文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラットフォーム事業」の一環として、「電子ビーム露光とレーザービーム描画によるグレースケール露光」というテーマで2021年2月24日(水)Teamsオンラインセミナーを開催します。
前半は電子ビーム露光技術とそのアプリケーション事例について、後半はレーザービーム描画によるグレースケール3D露光技術について紹介いたします。
産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。

開催日時 2021年 2月 24日(水) 12:55~16:10
開催方式 Teamsによるオンライン開催
参加費 無料
定員 90 名 (先着順、参加登録をお願いします)
セミナー案内/申し込み https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2020-1/index.html
講演プログラム 12:55-13:00 はじめに
      産業技術総合研究所 多田哲也

13:00-13:40 『フルEB露光で作製するInGaAs ナノシートMOSFET』
      東京工業大学 宮本恭幸           

13:40-14:10 『電子ビーム露光における近接効果』  
      産業技術総合研究所 有本宏 

14:10-14:40 『加速電圧によるコントラストカーブに基づいた描画結果と
        三次元形状の高スループットプロセスについて』
      株式会社エリオニクス 三浦大三朗

14:40-14:50 休憩

14:50-15:20 『レーザー露光装置による3D・2Dグレースケール露光のための
        データ補正とシミュレーション』
      GenISys 株式会社 清水諭     

15:20-15:50 『レーザー露光装置とEB露光装置を使った3次元パターニング技術』
      Bush Clover 株式会社 新関嵩

15:50-15:55 『東京大学の微細加工プラットフォーム施設の紹介』
      東京大学 藤原誠

15:55-16:00 『東北大学マイクロシステム融合研究開発センター試作コインランドリの紹介』
      東北大学 辺見政浩

16:00-16:05 『物質・材料研究機構 微細加工プラットフォームの紹介』
      物質・材料研究機構 津谷大樹

16:05-16:10 『筑波大学 微細加工プラットフォームの紹介』
      筑波大学 末益崇
主催・協賛 【主催】 産業技術総合研究所TIA推進センター ナノプロセシング施設(NPF)
【主催】 物質材料研究機構微細加工プラットフォーム
【主催】 筑波大学微細加工プラットフォーム
【主催】 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【主催】 東京大学大学院システム・デザイン研究センター(d.lab)
【主催】 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター
【協賛】 ナノエレクトロニクス計測分析技術 研究会(TSC)