産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF) は、「薄膜技術実践セミナー 」を、2020年 1 月 22 日（水）産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。スパッタ成膜、プラズマ CVD 成膜、原子層堆積法（ ALD ）等、様々な成膜技術について、トピックスを交えて紹介いたします。
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概要
| 開催日時 | 2020年 1月 22日(水) 12:55 ～ 17:30 |
|---|---|
| 場所 | 産業技術総合研究所つくば中央2-12棟第6会議室 |
| 主催 | 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF) |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 90名（先着順、参加登録をお願いします） セミナー案内/申し込みはこちら |
| 講演プログラム |
12:55-13:00 『はじめに』 産総研 TIA 共用施設ステーション 多田哲也 13:00-13:30 『酸化膜積層構造を用いた新しいメモリ技術』 産業技術総合研究所 宮田典幸 13:30-14:00 『新型不揮発性メモリ用多元化合物材料の成膜技術』 株式会社アルバック半導体電子技術研究所 増田健 14:00-14:30 『ECR スパッタ成膜による酸化物・窒化物 薄膜形成技術』 JSWアフティ株式会社 神好人 14:30-15:00 『ECR イオンシャワー装置を用いたリフトオフ成膜について』 株式会社エリオニクス 杉原達記 15:00-15:20 休憩 （オーサーズインタビュー) 15:20-15:50 『SPP テクノロジーズ社製プラズマ CVD 装置による SiN 膜などの成膜技術のご紹介』 SPPテクノロジーズ株式会社 金尾寛人 15:50-16:20 『高純度オゾンガスとエチレンガスを使った低温 CVD ・ ALD プロセス』 株式会社明電舎 亀田直人 16:20-16:50 『ALD 用原料とその原料を用いた ALD プロセスの開発』 株式会社高純度化学研究所 水谷文一 16:50-17:10 『NPF の原子層堆積（ ALD ）装置による成膜紹介』 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設 山崎将嗣 17:10-17:30 オーサーズインタビュー |
| お問合せ先 |
tia-npf-school3(at)aist.go.jp ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください |