概要
開催日 | 2019年 5月 30日(木) セミナー/ 31日(金) ワークショップ |
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場所 | 京都大学 国際科学イノベーション棟 5F会議室,ナノハブクリーンルーム・加工評価室 京都大学吉田キャンパス 本部・西部構内 69:国際科学イノベーション棟 |
主催 |
京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点 ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 |
共催 | GenISys株式会社 |
定員 |
セミナーのみ 40名 セミナー及びワークショップ 10名 以下のURLからお申し込みください。 URL: https://www.himt-jp.com/events/gureisukerurisogurafiandowakushoppu ※参加登録時にシステムの都合上”お支払へ進む”と表示されますが費用は発生しません。 |
概要 |
グレイスケールリソグラフィセミナー 2019年5月30日 13:30~18:00 ・ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 ・GenISys株式会社 ・ナガセケムテックス株式会社 ・京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点 ・交流会 ハンズオンワークショップ 2019年5月31日 9:00~18:30 ステップ&スロープ・フレネルレンズといった3次元構造体を実際のレジストにグレイスケール描画を行います。 *5月30日セミナーのセッション終了後交流会を予定しています。 **5月31日ワークショップに参加の場合はクリーンルームウェア・クリーンシューズをご持参ください。お持ちでない方は事前にご相談ください。 |