グレイスケールリソグラフィセミナー&ワークショプ(2019/5/30~31)

お知らせ(PDF)

概要

開催日 2019年 5月 30日(木) セミナー/ 31日(金) ワークショップ
場所 京都大学 国際科学イノベーション棟 5F会議室,ナノハブクリーンルーム・加工評価室
京都大学吉田キャンパス
本部・西部構内 69:国際科学イノベーション棟
主催 京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
共催 GenISys株式会社
定員 セミナーのみ 40名
セミナー及びワークショップ 10名
以下のURLからお申し込みください。
URL: https://www.himt-jp.com/events/gureisukerurisogurafiandowakushoppu
※参加登録時にシステムの都合上”お支払へ進む”と表示されますが費用は発生しません。
概要 グレイスケールリソグラフィセミナー 2019年5月30日 13:30~18:00
 ・ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
 ・GenISys株式会社
 ・ナガセケムテックス株式会社
 ・京都大学 学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
 ・交流会

ハンズオンワークショップ      2019年5月31日 9:00~18:30
 ステップ&スロープ・フレネルレンズといった3次元構造体を実際のレジストにグレイスケール描画を行います。

*5月30日セミナーのセッション終了後交流会を予定しています。
**5月31日ワークショップに参加の場合はクリーンルームウェア・クリーンシューズをご持参ください。お持ちでない方は事前にご相談ください。