筑波大学、物質・材料研究機構、東京工業大学、産業技術総合研究所は、文部科学省委託事業である「ナ ノテクノロジープラットフォーム」の一環として「電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅣ」を筑波大学東京キャン パスにて開催いたします。電子ビーム露光の基礎から最新のレジストプロセスまで、露光事例とともに微細パ ターン形成技術について紹介いたします。また、各セッションの終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設 けました。普段質問しづらいことを、この機会に是非、講師の先生方に個別にご質問ください。
また、このセミナーへの参加をより充実した機会にするために、実習コースを併設しています。産学官にかか わらず、多くの皆様のご参加をお待ちしています。
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概要
| 開催日時 | 2018年 10月 26日(金) 12:55 ～ 16:00 |
|---|---|
| 場所 | 筑波大学東京キャンパス文京校舎 120号教室 （丸ノ内線茗荷谷駅） |
| 主催 | 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF） 物質材料研究機構微細加工プラットフォーム 筑波大学微細加工プラットフォーム 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 |
| 共催 | ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC) |
| 協賛 | GenISys株式会社 株式会社エリオニクス |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 90 名(先着順、参加登録をお願いします) セミナー案内/申し込みはこちら |
| 講演プログラム |
12:55-13:00 はじめに 産業技術総合研究所 多田哲也 13:00-13:30 『デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光』 東京工業大学 宮本恭幸 13:30-13:50 『電子ビーム露光における近接効果補正』 産業技術総合研究所 有本 宏 13:50-14:20 『電子ビーム描画における露光データの最適化処理』 GenISys株式会社 清水 諭 14:20-14:40 休憩（オーサーズインタビュー） 14:40-15:10 『電子ビーム描画装置の応用的な使い方について』 株式会社エリオニクス 新関 嵩 15:10-15:40 『電子ビーム露光によるレジスト材料評価事例のご紹介』 富士フイルム株式会社エレクトロニクスマテリアルズ研究所 土橋 徹 15:40-16:00 『現像プロセスにおける温度管理の有意性』 物質・材料研究機構 津谷大樹 16:00～17:30 意見交換会（無料） |
| 実習コース |
物質・材料研究機構 NIMS微細加工プラットフォーム ELS-7000改（エリオニクス） １２月５日（水） EB描画（基礎） 定員：３名（無料） １２月１９日（水）EB描画（応用） 定員：３名（無料） 下記URLに記載されている申し込みに従って直接お申し込みください。 http://www.nims.go.jp/rnfs/events/H30/school.html 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 JEOL JBX-6300SJ（日本電子） １１月１日（木）、１１月２日（金） 定員：１日２名（無料） 産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設（ＮＰＦ） ELS-F130AN（エリオニクス） １１月６日（火） 定員：３名（無料） |
| お問合せ先 |
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 TIA推進センター 共用施設運営ユニット 共用施設ステーション ナノプロセシング施設 電子メールアドレス：tia-npf-school2(at)aist.go.jp ※(at)をアットマークに変更してからご使用ください |