北海道大学、東京工業大学、産業技術総合研究所は、 文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラッ トフォーム」の一環として 「電子ビームリソグラフィ実践セミナー」を東京ファッションタウン9F（研修室907）にて開催いたします。 電子ビーム露光装置メーカー各社からの最新の露光装置性能と露光事例とともに、 光導波路やフォトニック結晶作製のための電子ビームリソグラフィー技術について紹介いたします。 また、各セッション の終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました。 普段質問しづらいことを、この機会に是非、講師の先生方に個別にご質問ください。
また、このセミナーへの参加をより充実した機会にするために、 無料実習コースを併設しています。 産学官にかかわらず、多くの皆様のご参加をお待ちしています。
尚、当日は、隣接する東京ビックサイトにて、 ナノテクジャパン2018(http://www.nanotechexpo.jp/main/) が開催されております。
| 日時 | 平成30年2月15日（木）12：30-17：00 |
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| 場所 |
東京ファッションタウン9F（研修室907） http://www.bigsight.jp/access/transportation/ |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 90 名（先着順、参加登録をお願いします） |
| セミナー・実習案内／申し込み | https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h29-5/profile/index.html | 講演プログラム |
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| 実習コース |
日時：2018年2月21日、22日（1日コースを2回開催） 場所：東京工業大学 大岡山キャンパス 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 実習内容：日本電子株式会社製JBX-6300SJによる露光実習を行う。 その中で、近接効果の評価及び補正に関する議論を行う。 定員：各日2名 |
| 主催 |
産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF） 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所 北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室 ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC) |
| 協賛 |
GenISys株式会社 株式会社エリオニクス 日本電子株式会社 株式会社クレステック 株式会社アドバンテスト |
| 電子メール | tia-npf-school5@aist.go.jp |