産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF) は、「薄膜実践セミナーⅢ」を2017年11月 30日（木）産業技術総合研究所つくば中央にて開催いたします。
前半は、スパッタ堆積法による機能性薄膜、後半は原子層堆積法（ALD）の成膜技術について講 演していただく予定です。オーサーズ・インタビューの時間を設けましたので、講師の方々に個別 に質問をすることが可能です。
また、有料実習コースでは、NPFの装置を使用してSrTiO3誘電体薄膜形成とその結晶性・電気 特性評価などを盛り込んだ機能性酸化物開発の基礎的なスキルを獲得していただけるコースを準 備いたしました。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。 （※セミナー講演のみ、実習コースのみの参加申し込みも可能です。）
講演
| 日時 | 2017年11月30日（木）12：55-17：20 |
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| 場所 |
産業技術総合研究所つくば中央 本部・情報棟１Fネットワーク会議室 http://www.aist.go.jp/aist_j/guidemap/tsukuba/center/tsukuba_map_c.html |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 100 名（先着順、参加登録をお願いします） |
| セミナー案内／ 申し込み |
https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h29-4/index.html | 講演プログラム |
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| 実習コース |
日時：平成29年12月～平成30年1月の間の３日間 （参加者と調整します。） 場所：産業技術総合研究所つくば中央2-12棟ナノプロセシング施設（NPF） 参加費：50,000円/人 【定員】3名（同時に実施します） 案内・申し込み：https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h29-4/index.html |
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主催：産業技術総合研究所 ナノプロセッシング施設（NPF) 共催：ナノエレクトロニクス計測分析技術 研究会（TSC) 電子メール：tia-npf-school4@aist.go.jp |