ハブ設備を利用してMEMSデバイスの試作・評価をおこないプロセス全般の流れを修得する。
具体的にはレーザ直接描画装置等を活用し、ガラス基板上にマイクロ流路を作成する。
作成した流路に溶液を流し、層流状態の観測評価をおこなう。
概要
| 開催日 | 平成25年3月18日（月）～21日（木） ※20日は休み、日程変更もあり得ます |
|---|---|
| 場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| 受入人数 | 最大5名 |
| ホスト研究者 | 松嶋朝明 特定研究員 |
| 参加申込み | nanoplat@t.kyoto-u.ac.jp までご連絡ください |
プログラム
| 第1日目 | フォトマスク作成(松嶋、大村、高橋） |
|---|---|
| 第2日目 | フォトリソ、現像(松嶋、大村、高橋） |
| 第3日目 | 流路作成、組み立て、評価(松嶋、大村、高橋） |