ナノテク製造中核人材の養成プログラム 成膜プロセス技術の最前線(2013/12/2~3)

我が国が優位性を有する情報家電、燃料電池、ロボット、医療機器、バイオ等の応用分野において、その産業の基盤と創出を支える中小・中堅企業を対象に、 「基礎加工技能・技術特殊な要素技能・技術に習熟し、製造技術の高度化を図る人材」及び「豊富なナノ加工プロセスの知識や先端機器を使いこなすノウハウ等 を習熟し、製造現場の技能・技術を統括できる人材」の育成を行います。

中核人材育成事業では、製造現場で必要とされる知識や技能をもつ人材を継続的に育成してゆくことを目的に、カリキュラムが設定されております。
ナノテクノロジー分野における目ざましい技術革新の波の中、先端機器に直接触れることを通じて高度な知識や技能を得て、将来の研究活動に活かしていただけるよう、ナノテクノロジー関連の要素技術と関連技能を習得するカリキュラムを準備しました。
その内容には、これまでのカリキュラムとその仕組みについての反省と受講者のご意見を反映させました。

本カリキュラムでは、講義⇒実習⇒製造現場実習からなる一連のコースを受講していただきます。実習では、受講の方々がお持ちの課題を解決するため、実践的なケーススタディを考慮した柔軟なテーマ設定を、可能な限り取り入れるようにしています。
全てのカリキュラムを受講された方には、産総研より修了証が発行されます。

概要

お問合わせ(独)産業技術総合研究所
ナノエレクトロニクス研究部門 ナノプロセシング施設
Tel: 029-861-3210
E-mail: seed-info-ml@aist.go.jp
http://www.seed-nt.jp/h25/index.php

開催日時 2013年 12月 2日(月)~3日(火)
主催 (独)産業技術総合研究所 ナノエレクトロニクス研究部門
ナノテク製造中核人材の養成プログラム
場所 産総研つくば中央第2事業所2-12棟2階第6会議室
詳細 プログラムの詳細をダウンロードできます(pdf)
講義内容
【成膜技術】

  • デバイスプロセスを支える真空技術:栗巣 普揮 氏(山口大学)
  • 超臨界プロセス技術:近藤 英一 氏(山梨大学)
  • ウェットプロセスのナノ化学:本間 敬之 氏(早稲田大学)
  • CVD/ALDプロセス概論:霜垣 幸浩 氏(東京大学)

【プラズマプロセス技術】

  • プラズマALD技術:Larry Leung 氏(Oxford Instruments plc)
  • 最先端プラズマプロセス:堀 勝 氏(名古屋大学)

【応用技術】

  • 機能性酸化物のスパッタ技術:木村 勲 氏(株式会社アルバック)
  • ALDゲート絶縁膜技術:生田目 俊秀 氏(物質・材料研究機構)

実習内容
【スパッタ】

  • 基本操作と構造の習得
  • ユーザーメンテナンス
  • スパッタ膜の観察

【蒸着】

  • 基本操作と構造の習得
  • ユーザーメンテナンス
  • 蒸着膜の観察

【CVD】

  • 基本操作と構造の習得
  • ユーザーメンテナンス
  • CVD膜の観察

【製造現場】

  • 品質管理,装置メンテナンス等