Machine
拠点 | 産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 |
---|---|
機器ID | F-AT-070 |
中分類ID |
F0301 |
装置名 | 反応性イオンエッチング装置(RIE) |
Product | SAMCO社製 / CCP-RIE |
詳細 |
平行平板型カソードカップル方式のプラズマエッチング装置です。 エッチングガスとしてSF6,CF4,O2を使用することができます。 サンプルサイズは最大Φ8インチまで投入可能となっており、 投入サンプルは搬送ロボットによりロードロック室からプロセス室へ自動搬送されます。 シリコン、二酸化シリコン、チタン等の材料に対しての標準エッチングレシピを完備しており、 装置トレーニング後すぐに御利用頂くことが出来ます。 |
詳細2 |
平行平板型カソードカップル方式のプラズマエッチング装置です。 エッチングガスとしてSF6,CF4,O2を使用することができます。 サンプルサイズは最大Φ8インチまで投入可能となっており、投入サンプルは搬送ロボットによりロードロック室からプロセス室へ自動搬送されます。 シリコン、二酸化シリコン、チタン等の材料に対しての標準エッチングレシピを完備しており、装置トレーニング後すぐに御利用頂くことが出来ます。 |
更新日時 | 2021-04-20 12:53:44 |