Machine

拠点 産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設  
機器ID F-AT-070  
中分類ID F0301
装置名 反応性イオンエッチング装置(RIE)  
Product SAMCO社製 / CCP-RIE  
詳細 平行平板型カソードカップル方式のプラズマエッチング装置です。
エッチングガスとしてSF6,CF4,O2を使用することができます。
サンプルサイズは最大Φ8インチまで投入可能となっており、
投入サンプルは搬送ロボットによりロードロック室からプロセス室へ自動搬送されます。
シリコン、二酸化シリコン、チタン等の材料に対しての標準エッチングレシピを完備しており、
装置トレーニング後すぐに御利用頂くことが出来ます。  
詳細2 平行平板型カソードカップル方式のプラズマエッチング装置です。
エッチングガスとしてSF6,CF4,O2を使用することができます。
サンプルサイズは最大Φ8インチまで投入可能となっており、投入サンプルは搬送ロボットによりロードロック室からプロセス室へ自動搬送されます。
シリコン、二酸化シリコン、チタン等の材料に対しての標準エッチングレシピを完備しており、装置トレーニング後すぐに御利用頂くことが出来ます。  
更新日時 2021-04-20 12:53:44