Machine
拠点 | 産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設 |
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機器ID | F-AT-068 |
中分類ID |
F0104 |
装置名 | 電子ビーム描画装置(CRESTEC) |
Product | クレステック社製 / CABLE_9410TFNA |
詳細 |
ZrO/W熱電界放射型電子銃 加速電圧50kV ビーム電流0.1nA(デフォルト値) 描画可能な最小線幅10nm(レジスト膜厚100nmのとき) 試料寸法150mm×150mm(最大) ビーム走査範囲1mm□(最大) ステップ&リピート方式のつなぎ合わせで走査範囲を広げる 手動操作による重ね合わせ精度50nm以下 XY方向ステージ制御レーザー干渉測長精度0.6nm Z方向はハイトセンサーによる帰還制御 環境制御あり |
詳細2 |
クレステック社製 CABLE_9410TFNA型 ZrO/W熱電界放射型電子銃 加速電圧50kV ビーム電流0.1nA(デフォルト値) 描画可能な最小線幅10nm(レジスト膜厚100nmのとき) 試料寸法150mm×150mm(最大) ビーム走査範囲1mm□(最大) ステップ&リピート方式のつなぎ合わせで走査範囲を広げる 手動操作による重ね合わせ精度50nm以下 XY方向ステージ制御レーザー干渉測長精度0.6nm Z方向はハイトセンサーによる帰還制御 環境制御あり |
更新日時 | 2021-04-20 12:16:49 |