_産業技術総合研究所 AISTナノプロセシング施設/ナノプロセシング・パートナリング・プラットフォーム – 装置リスト
i線露光装置
製造会社 / 型番 |
ニコンテック社製 / NSR-2205i12D |
仕様 |
最大8インチまで各種試料サイズの各種ウエーハに対応可能 |
電子ビーム描画装置
製造会社 / 型番 |
クレステック社製 / CABLE_9410TFNA |
仕様 |
4インチまで |
リソグラフィー装置群
コンタクトマスクアライナー
製造会社 / 型番 |
SUSS MicroTec社製 / MJB4 |
仕様 |
インチサイズ不定形
各種基板 |
マスクレス露光装置
製造会社 / 型番 |
ナノシステムソリューション社製 / – |
仕様 |
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スクライバー
製造会社 / 型番 |
協和理研社製 / – |
仕様 |
最大3インチ、シリコン |
プラズマアッシャー
製造会社 / 型番 |
ヤマト社製 / PR500 |
仕様 |
最大4インチ |
UVクリーナー
製造会社 / 型番 |
SAMCO社製 / UV-1 |
仕様 |
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反応性イオンエッチング装置
製造会社 / 型番 |
SAMCO社製 / CCP-RIE |
仕様 |
8インチまで各種 |
集束イオンビーム加工観察装置(FIB) 及び イオンスパッタ(FIB付帯装置)
製造会社 / 型番 |
日立ハイテクノロジーズ社製 / FB-2100 |
仕様 |
Ga液体金属イオン源
加速電圧10~40keV
観察分解能 6nm 及び 付帯装置E_1045_イオンスパッタ/ダイオード放電マグネトロン形/対向平行円板
φ18×10mm以下(FIB)、φ60×20mm以下(イオンスパッタ)
半導体、化合物半導体、金属、有機物、(危険物・毒物以外) |
アルゴンミリング装置
製造会社 / 型番 |
伯東社製 / 3-IBE |
仕様 |
3インチまで |
スパッタ装置
製造会社 / 型番 |
芝浦メカトロニクス社製 / CFS-4EP-LL |
仕様 |
RFマグネトロン・サイドスパッタ
φ200×10mm以下各種基板 |
RF・DCスパッタ装置
製造会社 / 型番 |
アルバック社製 / CS_200 |
仕様 |
4カソード
8インチφまでの各種基板 |
真空蒸着装置
製造会社 / 型番 |
エイコーエンジニアリング社製 / – |
仕様 |
電子ビーム加熱型蒸着装置
100mm角までの各種基板 |
小型真空蒸着装置
製造会社 / 型番 |
ビームトロン社製 / KIS_3 |
仕様 |
抵抗加熱型真空蒸着
φ100×10mm以下の各種基板 |
触針式段差計
製造会社 / 型番 |
ヤマト科学社製 / Alpha-Step IQ |
仕様 |
□150㎜以内の各種試料 |
高速昇降温炉
製造会社 / 型番 |
アルバック理工製 / Pss/85#/7089_1 |
仕様 |
3インチφまで |
ワイヤーボンダー
製造会社 / 型番 |
– / 4700D |
仕様 |
4700D型ワイヤーボンダー/US・TC方式/ワイヤー径:約Φ25 μm, Au, Al
□50×25mm(ヒーターステージを使用しなければφ100×25mm)以下の各種基板 |
ダイシングソー
製造会社 / 型番 |
Disco社製 / DAD522 |
仕様 |
6インチφまでのシリコン、ガラス他 |
X線回折装置
製造会社 / 型番 |
リガク社製 / Ultima_Ⅲ |
仕様 |
試料水平封入X線管型
φ100×9mm以下の各種試料 |
微小部蛍光X線分析装置
製造会社 / 型番 |
エスアイアイ・ナノテクノロジー社製 / SEA_5210A |
仕様 |
微小領域エネルギ分散型XRF
□80×35mm以下の各種試料 |
ナノサーチ顕微鏡
製造会社 / 型番 |
島津製作所社製 / SFT_3500 |
仕様 |
複合型顕微鏡
φ200㎜程度(面範囲)、54.5㎜(高さ範囲)の各種試料 |
走査プローブ顕微鏡
製造会社 / 型番 |
島津製作所社製 / SPM-9700 |
仕様 |
各種試料 |
顕微レーザーラマン分光装置
製造会社 / 型番 |
Thermo Fisher Scientific社製 / DXR-Raman |
仕様 |
顕微レーザーラマン |
電界放出形走査電子顕微鏡
製造会社 / 型番 |
日立ハイテクノロジー社製 / S4800Ⅱ |
仕様 |
4インチ以下の各種試料 |
分光エリプソメータ
製造会社 / 型番 |
堀場Jovin-Yvon社製 / UVISEL-M200-FUV-FGMS |
仕様 |
入射角度75°/波長190nm~830nm
φ150×20mm以下の各種試料 |
デバイスパラメータ評価装置
製造会社 / 型番 |
アジレントテクノロジー社製 / 4156C |
仕様 |
測定分解能: 1fA(±10pAレンジ)
φ150×10mm以下の各種試料 |
FIB-SEM複合装置
製造会社 / 型番 |
セイコーインスツルメンツ社製 / X-Vision |
仕様 |
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多目的エッチング装置
製造会社 / 型番 |
サムコ社製 / – |
仕様 |
誘導結合方式
ロードロック式エッチング装置
トルネード型コイル電極採用
シリコンおよび各種金属薄膜、化合物半導体などの高精度の異方性エッチングが可能
最大試料径4インチ、試料温度制御 -25~200℃、高周波出力:1kW,13.56MHz、オートマッチング方式 |
薄膜エックス線回折装置
製造会社 / 型番 |
Rigaku社製 / ATX_G |
仕様 |
定格出力50kV,300mA
ソーラースリットを用いたインプーレーン測定
ゲルマニウム結晶を用いた高分解能測定 |