超高精細電子ビームリソグラフィー装置
製造会社 / 型番 | エリオニクス製 / ELS-100T |
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仕様 | 加速電圧:125keV 試料サイズ:6inch |
高精細電子線リソグラフィー装置
製造会社 / 型番 | エリオニクス製 / ELS-7700T |
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仕様 | 加速電圧:75keV 試料サイズ:6inch |
電子ビームリソグラフィー装置
製造会社 / 型番 | JEOL社製 / JSM6500F with Beam Draw |
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仕様 | 試料サイズ:2inch 加速電圧:30keV |
集束イオンビーム装置
製造会社 / 型番 | 日立ハイテクサイエンス社製 / SMI2050 |
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仕様 | ステージサイズ:2inch C銃, W銃装備, 電子銃:500eV 加速電圧:30keV 最小ビーム径:4nm |
収束イオンビーム誘起化学蒸着装置
製造会社 / 型番 | ZEISS社製 / Nvision 40D with NPVE |
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仕様 | ステージサイズ:max 8inch Pt銃、SiO2銃装備 FE-SEMユニット, 加速電圧:30keV 検出器:InLens, SE,Esb FIBユニット, 加速電圧:30keV 最小ビーム径:4nm |
深掘りエッチング装置
製造会社 / 型番 | サムコ社製 / RIE-400iPB |
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仕様 | 試料サイズ:max 8inch ガス:CF4,C4F8,CHF3,SF6,He,O2, Ar,N2 |
リアクティブイオンエッチング装置
製造会社 / 型番 | サムコ社製 / RIE-10NA |
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仕様 | 試料サイズ:max 8inch ガス:CF4, CHF3,SF6,O2, Ar, N2 |
製造会社 / 型番 | サムコ社製 / RIE-10NOU |
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仕様 | ガス:CF4, O2, Ar, N2 |
RFスパッタ成膜装置群(RFスパッタ2台)
製造会社 / 型番 | サンユー電子社製 / SVC-700LRF |
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仕様 | 絶縁体成膜用RFスパッタ 金属成膜用RFスパッタ 試料サイズ:max 4inch |
ナノ薄膜形成システム(EB蒸着、アークプラズマ蒸着)
製造会社 / 型番 | アルバック社製 / UEP-2000 OT-H/C |
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仕様 | 試料サイズ:max 4inch EB蒸着ユニット アークプラズマユニット |
マスクアライナー
製造会社 / 型番 | ミカサ社製 / MA-10 |
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仕様 |
レーザー描画システム
製造会社 / 型番 | ピーエムティー社製 / PLS-1010 |
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仕様 |
イオンシャワーエッチング装置
製造会社 / 型番 | ピーエムティー社製 / EIS-200ER |
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仕様 | ガス:CF4,Ar |
ナノインプリント装置
製造会社 / 型番 | Obducat社製 / Eitre 3 |
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仕様 | 熱・UVの両方式に対応 試料サイズ:3inch |