_筑波大学 微細加工プラットフォーム – 装置リスト

デバイスシミュレータ
製造会社 / 型番 SILVACO社製 / TCAD
仕様 DeckBuild, TonyPlot, TonyPlot3D, DevEdit, DevEdit3D, ATLAS,Framework, DEVICE 3D, 3D Quantum, BLAZE, MC Device,Quantum, NOISE
スパッタリング装置
製造会社 / 型番 芝浦メカトロニクス社製 / CFS-4EP-LL
仕様 基板テーブル:Φ 220 mm
ターゲット:Φ 3インチGUN x 4基(強磁性体材料用GUN1基含む)
使用ガス:Ar, O2, N2ガス
レーザー描画装置
製造会社 / 型番 Heidelberg Instruments社製 / DWL66
仕様 ステージ:8インチ
光源:442 nm HeCdレーザー
FIB-SEM
製造会社 / 型番 FEI社製 / Helios600i
仕様 加速電圧:50-30kV(電子ビーム)、500-30kV(イオンビーム)
デポジション用ガス:Wガス
TEM試料作成
ワイヤーボンダー
製造会社 / 型番 West Bond社製 / 7476D
仕様 ワイヤ種:アルミ線・金線
電子線蒸着装置
製造会社 / 型番 エイコー社製 / EB-350T
仕様 到達圧力:1 x 10-7 Pa以下
試料サイズ:MAXΦ 5″
電子線描画装置
製造会社 / 型番 エリオニクス社製 / ELS-7500EX
仕様 加速電圧:5-50 kV
最小線幅:10 nm
試料サイズ:MAX 4″
走査型プローブ顕微鏡群
原子間力顕微鏡
製造会社 / 型番 ブルカー・エイエックスエス社製 / Dimension Icon
仕様  
原子間力顕微鏡
製造会社 / 型番 ブルカー・エイエックスエス社製 / Multimode8
仕様