微細加工技術 実践セミナー（2020年8月～2021年2月）
～オンライン技術セミナー &実習コースで 微細加工の基礎と共用施設・技術の活用を学ぶ～

　微細加工技術は、半導体エレクトロニクスから生まれた技術ではありますが、現在ではMEMSや光デバイスさらにはバイオにまで活用されており、いわば先端の科学技術分野に必須の技術と言えます。それ故、基礎研究から産業応用まで誰もがアクセス可能な技術でなければなりません。
　私共、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業・微細加工プラットフォーム(PF)は、インフラとしての研究開発を行う場を提供するとともに、高度な加工技術の提供も行っており、公開利用で年度あたり1300件を超える産官学の研究者・開発者に有効活用いただいております。
　しかしながら、研究分野が異分野故に活用を逡巡されていたり、微細加工技術へのアクセス方法が不明であること等により、利用の機会を失っていた方々も多いかと存じます。本セミナーを通じて、微細加工技術の基礎及び概要を知っていただき、微細加工PFの共用施設を有効に活用いただくきっかけとしていただくことを狙いとします。研究・開発の加速、並びに課題解決の一助になることを願っております。

フライヤー(pdf)

■開催予定

　
「微細加工技術　実践セミナー」は、全6回の微細加工プロセス技術セミナーと、実習コース（事前に紹介セミナーを開催）から構成されます。
　セミナー（座学）は全てオンラインで開催します。

　１．微細加工プロセス技術セミナー（オンライン）
　　　以下の内容で1回／月程度の頻度で開催します。
　　　　　・微細加工プロセスの基礎的なチュートリアルセミナー
　　　　　・微細加工プラットフォーム各拠点の特徴的な技術を紹介するセミナー
　　　参加は無料です。

　２．微細加工技術 実習コース（実習内容紹介セミナー　&　実習）
　　　2.1 実習内容紹介セミナー（オンライン）
　　　　　　実習を予定されている方は是非受講下さい。
　　　　　　日時：2020年10月7日（水）14:30～17:00
　　　2.2　実習（全国各拠点にて実施）
　　　　　　（１）基礎的な微細加工プロセス実習（無料）、
　　　　　　（２）アドバンス実習（有料）
　　　　　　日程：11月以降　各実習ごとに設定されます。
　　　（尚、実習の開催は、状況により内容等が変更される場合がありますのでご了承ください）

　

１．微細加工プロセス技術セミナー（オンライン）
第1回　微細加工プロセス技術セミナー（2020年 8月27日　終了）

開催日時 2020年8月27日（木）　16:00～17:00
開催場所 Zoomによるオンラインセミナー
参加費 無料
参加申し込み 下記URLより事前登録してください。
開催前日にZoomセミナーの招待メールをお送りします。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-1-1.html
申込期限：8/25(火)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
プログラム 16:00～16:10
　　１．「ナノテクノロジープラットフォーム事業・微細加工PFのご紹介」
　　　　微細加工PF　代表機関
16:10～16:35　【チュートリアル】
　　２．「ポイントビームによるEBリソグラフィ技術」

東京工業大学　宮本恭幸
多くの研究・開発の現場でナノスケールパターン作製する時にポイントビームEB描画装置を利用します。このEB描画装置によるリソグラフィの基礎レベルの技術を解説いたします。

16:35～17:00　【チュートリアル】
　　３．「可変成形ビームおよびキャラクタープロジェクションを用いた電子線描画の基礎」

東京大学　肥後昭男
近年、大面積・超高速・高精細ナノ描画の要求が高まっております。本セミナーでは、大面積を超高速かつ高精細に描画できる電子線描画リソグラフィ技術について例を示しながらわかりやすく解説をいたします。

　

第2回　微細加工プロセス技術セミナー（2020年 9月30日　終了）

開催日時 2020年9月30日（水）　15:00～17:00
開催場所 Zoomによるオンラインセミナー
参加費 無料
参加申し込み 下記URLより事前登録してください。
開催前日にZoomセミナーの招待メールをお送りします。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-1-2.html
申込期限：9/28(月)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
プログラム 15:00～15:10
　　１．「ナノテクノロジープラットフォーム事業・微細加工PFのご紹介」
　　　　微細加工PF　代表機関
15:10～15:35　【チュートリアル】
　　２．「マスクレス・フォトリソグラフィ」

物質・材料研究機構　渡辺英一郎
近年、研究開発現場ではフォトマスクを使用しないパターン形成プロセスが普及しています。本セミナーでは、DMD(Digital Micromirror Device)を利用した露光技術を中心に、マスクレス・フォトリソグラフィの基礎に関して解説いたします。

15:35～16:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　３．「高周波誘導加熱CVD装置によるpoly-Siとepipoly-Siの成膜」

東北大学　渡邉拓
高周波誘導加熱方式によるポリシリコンCVDのモノシランガスをソース材料とした成膜で、成膜温度やドーピング条件により膜応力や抵抗率を変化させ、様々な形のデバイス構築条件に対応する技術について紹介します。

16:00～16:10
　　　　休憩
16:10～16:35　【プラットフォーム技術紹介】
　　４．「微細加工と異種材料接合技術を利用したバイオデバイスへの応用」

早稲田大学　田中大器
フォトリソを中心とした微細加工技術と樹脂、Si、ガラスなどを組み合わせた異種材料接合技術を駆使したバイオデバイスの作製に関する支援技術について紹介します。また、2020年4月に竣工した早稲田大学新研究開発センターについても紹介します。

16:35～17:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　５．「微細加工（CMOS & MEMS）プロセスで新たな可能性を提供」

北九州産業学術推進機構　上野孝裕
小片から4インチウェハに対応し、基礎研究から試作品作製まで利用可能な、CMOS ICプロセスで、MEMSに増幅器や制御回路を付加することができる支援技術について紹介します。

　

第3回　微細加工プロセス技術セミナー（2020年 10月29日　終了）

開催日時 2020年10月29日（木）　15:00～17:00
開催場所 Zoomによるオンラインセミナー
参加費 無料
参加申し込み 下記URLより事前登録してください。
開催前日にZoomセミナーの招待メールをお送りします。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-1-3.html
申込期限：10/27(火)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
プログラム 15:00～15:10
　　１．「ナノテクノロジープラットフォーム事業・微細加工PFのご紹介」
　　　　微細加工PF　代表機関
15:10～15:35　【チュートリアル】
　　２．「レーザーリソグラフィによるグレースケール露光」

東北大学　戸津健太郎
マイクロレンズなどの微小構造体作製のため、フォトレジストを3次元形状に加工するグレイスケール露光へのニーズが高まっています。特にマスクレスでグレイスケール露光が可能なレーザリソグラフィ技術について、基礎を中心に解説します。

15:35～16:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　３．「原子層堆積装置による多種多様な材料・デバイスへの薄膜形成技術」

北海道大学　松尾保孝
原子層レベルで薄膜形成可能である原子層堆積（ALD)装置がが注目されています。成膜可能な膜材料および成膜できるデバイスに関する情報と共に、北海道大学が所有する様々な薄膜形成技術・装置を含む加工装置群について紹介を行います。

16:00～16:10
　　　　休憩
16:10～16:35　【プラットフォーム技術紹介】
　　４．「ナノテクPFとファウンドリLSIで開く高信頼MEMSデバイスへの招待」

東京大学　三田吉郎
電子回路と融合するとMEMSは更に強力になります。信頼性が高い(が、プロセスは改変不可)LSIと、自由度が高い(が、部品の信頼性は腕次第)MEMSの両方の長所を組みあわせた「21世紀的集積MEMS」の成功例を紹介します。

16:35～17:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　５．「曲面・立体への３次元フォトリソグラフィ微細加工」

豊田工業大学　佐々木実
レンズ面をはじめ、曲面や立体に微細パターン（幅2μmなど）を転写する技術があります。その原理と加工例を説明します。

　

第4回　微細加工プロセス技術セミナー（2020年 11月25日　終了）
開催日時 2020年11月25日（水）　15:00～17:00
開催場所 Zoomによるオンラインセミナー
参加費 無料
参加申し込み 下記URLより事前登録してください。
開催前日にZoomセミナーの招待メールをお送りします。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-1-4.html
申込期限：11/23(月)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
プログラム 15:00～15:10
　　１．「ナノテクノロジープラットフォーム事業・微細加工PFのご紹介」
　　　　微細加工PF　代表機関
15:10～15:35　【チュートリアル】
　　２．「めっき法を用いた膜作製とナノレベルの微細加工」

早稲田大学　齋藤美紀子
複雑な微細形状の構造体にも均一な膜形成が可能なめっき法は、研究開発から様々な産業分野まで広く活用されています。本セミナーでは、めっきプロセスの基礎、およびナノレベルの高精細めっきについて解説いたします。

15:35～16:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　３．「FIB-SEMによる多様な材料の加工観察技術」

筑波大学　俵妙
FIB-SEMは、SEM観察をしながら集束イオンビーム(FIB)によるナノ構造の微細加工を実施できる装置です。セミナーでは、試料にイオンビーム(Gaイオン)および電子線が照射されたときの物質との相互作用を含めて、柔らかい材料から硬い材料の加工例を紹介します。

16:00～16:10
　　　　休憩
16:10～16:35　【プラットフォーム技術紹介】
　　４．「ヘリウムイオン顕微鏡によるサブナノ加工と超高分解能観察」

大阪大学　法澤公寛
ヘリウムイオン顕微鏡は最小ビーム径が0.5nmと小さく、SEMと比べて被写界深度が深いのが特徴です。また試料のエッチングが可能であり、10nm以下の微細加工が可能です。本セミナーではヘリウムイオン顕微鏡の原理から応用例について紹介します。

16:35～17:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　５．「バイオサンプル操作のためのマイクロ流体デバイス作製技術」

香川大学　寺尾京平
細胞や生体分子を微小流体環境下で操作するためのマイクロ流体デバイスについて、作製技術と１細胞解析やDNA１分子解析への応用例を紹介します。

　

第5回　微細加工プロセス技術セミナー（2021年 1月13日　終了）

開催日時 2021年1月13日（水）　14:30～16:55
開催場所 Zoomによるオンラインセミナー
参加費 無料
参加申し込み 下記URLより事前登録してください。
開催前日にZoomセミナーの招待メールをお送りします。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-1-5.html
申込期限：1/11(月)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
プログラム 14:30～14:40
　　１．「ナノテクノロジープラットフォーム事業・微細加工PFのご紹介」
　　　　微細加工PF　代表機関
14:40～15:05　【チュートリアル】
　　２．「原子層堆積（ALD)技術による薄膜形成」

北海道大学　松尾保孝
原子層堆積（Atomic Layer Deposition：ALD）による薄膜作製技術は絶縁酸化薄膜形成のみならず、ガスバリア等にも応用展開が期待されています。本セミナーでは、その原理およびメカニズムからナノメートルレベルでの膜厚均一制御などのALD薄膜作製技術の解説をいたします。

15:05～15:30　【プラットフォーム技術紹介】
　　３．「電子ビームリソグラフィを用いた微細加工プロセス」

産業技術総合研究所　有本宏
ネガ型電子ビームレジスト ma-N2400を用いた微細露光パターン形成と3層レジストプロセス（ma-N/SOG/SOC３層構造）によるSi加工及び、ECRスパッタ成膜による高融点メタルのリフトオフ・プロセスについて紹介します。

15:30～15:40
　　　　休憩
15:40～16:05　【プラットフォーム技術紹介】
　　４．「電子ビーム露光とマスクレス露光の連携によるリソグラフィ」

東京工業大学　宮本恭幸
ポイントビームによる電子ビーム露光は微細構造形成には有力なツールですが、電極部などの大面積部形成にも用いると非常に長い露光時間がかかります。その問題を解決するために、ミックスアンドマッチ露光の例として、東京工業大学で行っている電子ビーム露光とマスクレス露光装置との組み合わせを、マスクレス露光装置の能力と併せて紹介します。

16:05～16:30　【プラットフォーム技術紹介】
　　５．「メタマテリアル研究のためのナノ構造薄膜作製技術」

名古屋大学　加藤剛志
メタマテリアルは微細構造により自然界の物質では実現できない光学特性を示す人工物質です。本セミナーでは磁性薄膜のスパッタ成膜と電子線露光を組み合わせて実現した磁気メタマテリアルについて紹介いたします。

16:30～16:55　【プラットフォーム技術紹介】
　　６．「短納期研究用CMOSデバイス・回路の設計ルールと作製プロセス」

広島大学　黒木伸一郎
広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所では、CMOSデバイス・回路作製の実践教育として、1週間で設計・試作・測定を行うプログラムを毎年実施しています。この実践教育プログラムで用いている設計ルールと作製プロセスの詳細を紹介します。

　

第6回　微細加工プロセス技術セミナー（2021年 2月17日　終了）

開催日時 2021年2月17日（水）　15:00～17:00
開催場所 Zoomによるオンラインセミナー
参加費 無料
参加申し込み 下記URLより事前登録してください。
開催前日にZoomセミナーの招待メールをお送りします。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-1-6.html
申込期限：2/15(月)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
プログラム 15:00～15:10
　　１．「ナノテクノロジープラットフォーム事業・微細加工PFのご紹介」
　　　　微細加工PF　代表機関
15:10～15:35　【チュートリアル】
　　２．「CMOS回路作製の基礎技術」

北九州産業学術推進機構　安藤秀幸
集積回路の作製や評価に必要な基本的な技術を、CMOS技術を例に、回路シミュレーション・プロセス技術・デバイス評価技術の一連の流れを分かりやすく解説します。

15:35～16:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　３．「多様な材料・プロセス開発を叶えるドライエッチング技術」

物質・材料研究機構　渡辺英一郎
物質・材料研究機構は、その名前の通り、様々な材料を使ったデバイスやプロセスの研究開発が行われているため、種々材料に対応可能な装置やプロセス技術を提供しています。本セミナーでは、2020年度から共用開始した原子層エッチング（ALE）装置を用いた微細加工技術について、加工例を交えて紹介します。

16:00～16:10
　　　　休憩
16:10～16:35　【プラットフォーム技術紹介】
　　４．「水蒸気プラズマ接合を用いたCOP製マイクロ流路作製技術」

京都大学　土屋智由
シクロオレフィンポリマー（COP）樹脂は耐薬品性，低吸湿性，高光透過性を有し、自家蛍光性の低さからマイクロ流路デバイスのバイオ応用への展開が期待されています。本セミナーではこのCOP製流路を低温接合で作製する技術について紹介します。

16:35～17:00　【プラットフォーム技術紹介】
　　５．「超高真空スパッタ装置を用いたスピントロニクス素子用薄膜の作製」

山口大学　浅田裕法
スピントロニクスがもたらした新たな知見としてスピンの流れであるスピン流があります。これに用いられる低ダンピング磁性薄膜・多層膜やスピンホール効果用電極薄膜の超高真空スパッタ装置による作製技術について紹介します。

　

　

２．微細加工技術 実習コース（実習内容紹介セミナー　&　実習）
2.1 実習内容紹介セミナー（オンライン）（2020年 10月7日　終了）

実習への参加を検討、予定されている方はぜひ受講ください。

開催日時 2020年10月7日（水）14:30～17:00
場所 ZoomによるWEBセミナー
参加費 無料
参加申し込み 下記URLより事前登録してください。
開催前日にZoomセミナーの招待メールをお送りします。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-2-1.html
申込期限：10/5(月)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
内容 14:30　微細加工PFの紹介 及び 実習コースの概要説明

(１)基礎的な微細加工プロセス実習コース
　14:40　①レーザー描画装置によるフォトリソグラフィー基礎実習（北海道大学）
　14:50　②電子線露光プロセス実習（東京工業大学）
　15:00　③マスクレスリソグラフィによるマイクロパターンの作製（物質・材料研究機構）
　15:10　④電子ビーム露光による微細パターン形成（産業技術総合研究所）
　15:20　⑤三次元レーザ・リソグラフィシステムによる三次元加工（名古屋大学）
　15:30　⑥マイクロ流路の作製（京都大学）

　＜休憩・質問など＞

(２)（希望者にカスタマイズした）アドバンス実習コース
　15:50　⑦原子層堆積装置による薄膜形成技術実習（北海道大学）
　16:00　⑧微細加工、マイクロデバイス全般（東北大学）
　16:10　⑨ナノスケール加工に向けた電子線露光実習（筑波大学）
　16:20　⑩SEMの遠隔オペレーション（早稲田大学）
　16:30　⑪フレキシブル基板に作るサーモパイルデバイス（豊田工業大学）
　16:40　⑫SiC SBDの試作とパワー半導体デバイスの測定（広島大学）

16:50　全体質疑

　

2.2 実習 プログラム（参加申し込みの受付を終了いたしました）

参加申し込み 下記URLよりお申込みください。
参加される実習コースが決定しましたら、ご連絡を差し上げます。
URL：https://nsn.kyoto-u.ac.jp/p/seminar2020-2-2.html
申込期限：10/22(木)
※参加申し込みの受付を終了いたしました。
基礎的な微細加工プロセス実習（無料） ①レーザー描画装置によるフォトリソグラフィー基礎実習
レーザー直接描画装置を用いたパターン形成技術を通して、フォトリソグラフィーの基礎を学びます。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（1日間コース）
　定員：2名
　実施場所：北海道大学　創成研究棟（北海道札幌市）

②電子線露光プロセス実習 ※定員に達したため受付を終了しました
電子線露光装置（JEOL JBX-6300SJ）を用いた微細パターンの露光プロセスの実習を行います。
露光基板へのレジスト塗布、電子線によるパターン露光、及びパターンのSEM観察、等　基本的な露光プロセス全体を実習していただきます。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。(11月中：1日間コース)
　定員：2名
　実施場所：東京工業大学　大岡山キャンパス（東京都目黒区）

③マスクレスリソグラフィによるマイクロパターンの作製
ナノシステムソリューションズ製のマスクレス露光装置（DL-1000/NC2P）を用いて、ユーザーが設計した任意のパターンを露光してレジストパターンを形成します。バイオデバイスやマイクロ流路など、マイクロ・ミリスケールの素子作製に有用なマスクレス露光装置の操作を体験することを目的としています。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（１日間コース）
　定員：2名
　実施場所：物質・材料研究機構（NIMS）千現地区　材料信頼性実験棟（茨城県つくば市）

④電子ビーム露光による微細パターン形成 ※定員に達したため受付を終了しました
初めての方を対象に、微細パターン形成プロセスに必要なデータ作成、近接効果補正、電子ビーム描画・現像、ＳＥＭ観察という一連のプロセス技術が習得できる実習コースになっています。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（2日間コース）
　定員：2名
　実施場所：産業技術総合研究所（茨城県つくば市）

⑤三次元レーザ・リソグラフィシステムによる三次元加工 ※定員に達したため受付を終了しました
三次元レーザ・リソグラフィシステムを用いて基板上にSU-8レジストの3次元パターンを形成する。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（1日間コース）
　定員：2名
　実施場所：名古屋大学　東山キャンパス　IB電子情報館西棟（愛知県名古屋市）

⑥マイクロ流路の作製
各自がデザインしたマイクロ流路をレーザー直接描画装置等を用いて作製（PDMS/ガラス基板）し、２種類の流体を流して混合状態を観察・評価する。
　日程：2021年2月3日～5日（3日間コース）
　定員：3名
　実施場所：京都大学　吉田キャンパス　ナノテクノロジーハブ拠点（京都府京都市）
アドバンス実習（有料） ⑦原子層堆積装置による薄膜形成技術実習（リモート実習）
アルミナあるいはチタニアを用いて、ユーザーが希望する材料への薄膜形成プロセスについての実習を行います。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（1日間コース）
　定員：2名
　参加費：44,000円
　実施場所：北海道大学　創成研究棟（リモート実習）

⑧微細加工、マイクロデバイス全般
ご希望に応じた形で、シリコン、ガラス、PDMSなどを材料としたデバイスの試作を行います。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（2～5日間で相談の上決定）
　定員：3人程度まで
　参加費：有料（金額はデバイスによります）
　実施場所：東北大学　西澤潤一記念研究センター（宮城県仙台市）

⑨ナノスケール加工に向けた電子線露光実習
電子ビーム描画装置(ELIONIX ELS7500EX)を用いて最小線幅100 nm以下のレジストパターン作製を行います。
オプトジェネティクス用の光導波路やグラフェン生体／化学センサの作製など様々な応用が可能です。
電子ビーム描画の基本的な手法の体験機会を提供します。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（1日間コース；希望により2日間も相談可）
　定員：若干名
　参加費：3～4万円程度
　実施場所：筑波大学 共同研究棟C（茨城県つくば市）

⑩SEMの遠隔オペレーション（リモート実習）
支援機関（早稲田大）とユーザーをバーチャルにつなぎ、実際にユーザーの希望サンプルを事前送付していただき早稲田大でセッティングの上でユーザーにSEMを操作して観察していただきます。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（1月以降： 1日間コース）
　定員：2名（調整可）
　参加費：5万円
　実施場所：早稲田大学　新研究開発センター（リモート実習）

⑪フレキシブル基板に作るサーモパイルデバイス
フレキシブル基板に、熱電対を積み上げたサーモパイルを試作します。温度測定だけでなく、熱源からの赤外線検出、細胞の代謝熱測定、ガスフロー検出に応用できる基本構造となります。
（なお、新型コロナウイルス感染拡大防止のため、車で来校できる東海地区の方を優先した開催にすること、試作が済んだデバイス（最終的に提供）と評価実験キット（後で返送頂く）をお送りして、オンラインで説明しながら評価実験の実習とすることがあります。）
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（2日間コース）　
　定員：3名
　参加費：3万円
　実施場所：豊田工業大学（愛知県名古屋市）

⑫SiC SBDの試作とパワー半導体デバイスの測定（リモート実習）
SiCショットキーバリアダイオード(SBD)の試作を行い、1kVまでの耐圧測定等を行います。SiC SBD試作と測定の実際を学べます。遠隔講義・実習を予定しています。
　日程：日程は後日受講希望者と調整します。（11月～12月： 2日間コース）　
　定員：3名
　参加費：5万円
　実施場所：広島大学（リモート実習）

　

お問合せ先
　微細加工プラットフォーム・コーディネーター
　　TEL: 075-753-5656
　　Email: nanofab-coordinators(at)t.kyoto-u.ac.jp
　　※(at)をアットマークに変更してからご使用ください