EB描画実践セミナー(2016/2/19)

　文部科学省委託事業「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、『EB描画実践セミナー』を2016年2月19日（金）産業技術総合研究所にて開催いたします。電子ビーム露光技術の基礎から描画のためのデータ処理技術について、初心者にも分かり易く解説します。また、最新の露光装置を使った事例を紹介しますので、より具体的なイメージを持つことができると思います。
　このセミナーに併設して“データ処理ソフトの使い方”についての無料実習コースを準備いたしました。露光実験を検討されている皆様に、是非一度使っていただきたく思います。また、実際の露光装置を使った実習プログラムも用意しています。産学官いずれのご所属の方にも、広くご参加をお待ちしております。

※無料実習のみの参加はできません。

EB描画実践セミナー フライヤー(pdf)

概要

開催日時 講義：2016年　2月　19日(金)　9:55　～　12:30
主催 産業技術総合研究所　ナノプロセシング施設（NPF)
東京工業大学　量子ナノエレクトロニクス研究センター
共催 東京大学微　細加工プラットフォーム
北海道大学　微細加工プラットフォーム
ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)
講義 　場所：産業技術総合研究所 中央第２事業所 OSL棟（2-12棟）第6会議室

　参加費：無料

　定員：60名(先着順、1/8より申し込み受付開始)
　https://nanoworld.jp/npf/training/h27-5/book/index.html

　プログラム：

　9:55 開会

　9:55-10:00 『はじめに』 産総研 多田 哲也

　10:00-11:00 『電子ビーム露光の基礎』 東京工業大学 宮本 恭幸

　11:00-11:30 『電子ビーム露光における近接効果』 産総研 有本 宏

　11:30-12:00 『電子ビーム描画のための様々なデータ処理技術』 GenISys 竹村 等

　12:00-12:30 『微細加工プラットフォームの紹介と実施機関からの最新露光装置を使った事例』 東京大学 島本 直伸
実習コース 【データ処理ソフトの使い方】
「GenISys社のBeamer：露光データ処理ソフトウエアを使って、近接効果補正、パターン分割最適処理、輪郭分離処理などのEB露光特有のデータ処理ソフトについて、初心者にもわかり易く教えます。また、持参されたデータを使って実際に変換を行うことも可能です。また、下記の描画実習コースに応募して比較露光を実施することもできます。」
　場所：東京工業大学大岡山キャンパス
　応募人数：８名（４名づつ２回実施）
　実習期間：３時間／各実習（２月２３日（火）午前４名、午後４名）
　受講料：無料

【EB描画実習プログラム】
産総研（クレステックCABL-9410TFNA）
　「データのボリュームによりますが、持ち込みデータの露光も可能です。」
　応募人数：２名
　実習期間：２日間（日程は受講者と協議 ３月中に実施）
　受講料：無料

東京工業大学（日本電子JBX-6300SJ）
　「近接効果補正露光。持ち込みデータの露光も可能です。」
　応募人数：4名（2名/日）
　実習期間：1日（2回実施）（日程は受講者と協議 3月16日、17日）
　受講料：無料

北海道大学（エリオニクスELS-F125）
　「データのボリュームによりますが、持ち込みデータの露光も可能です。」
　応募人数：２名
　実習期間：２日間（日程は受講者と協議 ３月中に実施）
　受講料：無料

東京大学（アドバンテスト F7000S）
　「描画ソフトを用いたCP露光データ変換から、当方提供のパターンによるお試し露光」　　　
　応募人数：４名
　実習期間：２日間（日程は受講者と協議 ３月中に実施）
　受講料：無料
お問合せ先 国立研究開発法人　産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進センター
共用施設運営ユニット・共用施設ステーション
ナノプロセシング施設
電子メール：tia-npf-school4(at)aist.go.jp
(at)をアットマークに変更してご使用ください。