大学院生向け(B4も可) 技術研修 -デバイス試作と評価-(2013/3/18~21)

ハブ設備を利用してMEMSデバイスの試作・評価をおこないプロセス全般の流れを修得する。
具体的にはレーザ直接描画装置等を活用し、ガラス基板上にマイクロ流路を作成する。
作成した流路に溶液を流し、層流状態の観測評価をおこなう。

概要

開催日 平成25年3月18日(月)~21日(木) ※20日は休み、日程変更もあり得ます
場所 京都大学 吉田キャンパス
受入人数 最大5名
ホスト研究者 松嶋朝明 特定研究員
参加申込み nanoplat@t.kyoto-u.ac.jp までご連絡ください

プログラム

第1日目 フォトマスク作成(松嶋、大村、高橋)
第2日目 フォトリソ、現像(松嶋、大村、高橋)
第3日目 流路作成、組み立て、評価(松嶋、大村、高橋)