『H25電子線描画リソグラフィスクール』参加者募集(2013/7/16~18)

7/16~18の3日間、北海道大学 創成科学研究棟において行われる北海道地区ナノテクノロジー・プラットフォーム『H25 電子線描画リソグラフィスクール』の参加者を募集いたします。

本スクールは、文部科学省ナノテクノロジー・プラットフォーム事業の一環として、産学官の研究者に電子線描画リソグラフィ技術を中心とした超微細加工に関する装置やその原理を学習する場と、電子線描画リソグラフィ技術を実地に習得する機会を提供し、ナノテクノロジーにおける人材育成に貢献することを目的としています。

概要

開催日時 平成25年7月16日(火)13:00 ~ 平成25年7月18日(木)17:00
主催 微細加工プラットフォーム 北海道大学 および 東京工業大学
場所 講義:北海道大学創成科学研究棟 5階大会議室
実習:北海道大学電子科学研究所 クリーンルーム
詳細  本スクールでは、電子線描画リソグラフィ技術およびフォトリソグラフィに関する講義4コマを行います.また希望者に対して,電子線描画リソグラフィに関する実習を実施します.
・実習は関連する講義を受けることか必須となっています.
・講義のみの参加も可能です.

a) 講義:平成25年7月16日(火),北海道大学においてリソグラフィの専門家をお招きし電子線描画リソグラフィ等についてのトピックスを講義頂くと共に,北海道大学・東京工業大学関係者から微細加工に関して実践的な講義を行います.

b) 実習:7月17日から18日にかけて,北海道大学電子科学研究所の共同利用施設であるクリーンルームにおいて,施設の最新装置を用いた1日間の実習を行います.参加者か希望する加工パターンに即した実習も,個別に対応可能です(実習日程表内の「電子線描画応用コース」).ただし,この場合は,東京工業大学の微細加工プラットフォーム支援プログラムに申請していただくことが前提となります.

参加費 無料(但し、会場までの交通費、食事、宿泊代は参加者負担)
応募資格 学部卒業以上、又はそれと同等以上の経験を有する産官学の研究・開発従事者
(大学院生は指導教員の許可を得ること)
応募期間 平成25年6月24日(正午) ~ 7月5日(正午) 原則として先着順
下記詳細案内を確認の上、E-Mailにて応募下さい

参考URL http://www.pe.titech.ac.jp/qnerc/nano_support/index-j.html
http://www.cris.hokudai.ac.jp/cris/nanoplat/news/32
連絡先 北海道大学電子科学研究所ナノテク連携推進室 松尾保孝
Tel:011-706-9340 / Fax:011-706-9376
e-mail:matsuo(at)es.hokudai.ac.jp