電子ビームリソグラフィ実践セミナーⅢ(2018/2/15)

北海道大学、東京工業大学、産業技術総合研究所は、
文部科学省委託事業である「ナノテクノロジープラッ トフォーム」の一環として
「電子ビームリソグラフィ実践セミナー」を
東京ファッションタウン9F(研修室907)にて開催いたします。
電子ビーム露光装置メーカー各社からの最新の露光装置性能と露光事例とともに、
光導波路やフォトニック結晶作製のための電子ビームリソグラフィー技術について紹介いたします。
また、各セッション の終わりにオーサーズ・インタビューの時間を設けました。
普段質問しづらいことを、この機会に是非、講師の先生方に個別にご質問ください。
また、このセミナーへの参加をより充実した機会にするために、
無料実習コースを併設しています。
産学官にかかわらず、多くの皆様のご参加をお待ちしています。
尚、当日は、隣接する東京ビックサイトにて、
ナノテクジャパン2018(http://www.nanotechexpo.jp/main/)
が開催されております。

日時 平成30年2月15日(木)12:30-17:00
場所 東京ファッションタウン9F(研修室907)

http://www.bigsight.jp/access/transportation/
参加費 無料
定員 90 名(先着順、参加登録をお願いします)
セミナー・実習案内/申し込み https://ssl.open-innovation.jp/npf/training/h29-5/profile/index.html
講演プログラム
12:30-12:35
はじめに
産業技術総合研究所 多田哲也
12:35-13:00
『EB描画データ処理システム BEAMER、TRACER、LABと、SEM像解析ソフト ProSEMの紹介」
GenISys株式会社 竹村 等
13:00-13:25
『最新の電子ビーム描画のアプリケーションのご紹介 -スループットと高精細なパターンを両立するには-
株式会社エリオニクス 新関 嵩
13:25-13:50
『電子ビーム描画装置の位置精度』
日本電子株式会社 會田征徳
13:50-14:15
『クレステックのEB描画装置』
株式会社クレステック 柴田政宏
14:15-14:40
『アドバンテストの露光装置紹介』
株式会社アドバンテスト 工藤靖明
14:40-15:00
休憩(オーサーズインタビュー)
15:00-15:40
『高加速電圧電子線描画装置によるフォトニック結晶光集積回路の作製』
日本電信電話株式会社 倉持 栄一
15:40-16:15
『プラズモニックデバイス作製のための電子線描画装置活用』
北海道大学 松尾保孝
16:15-16:55
『 低損失シリコンフォトニクス素子実現のための微細加工技術』
東京工業大学 西山伸彦
17:00~
意見交換会 (東京ファッションタウン2F PRONTOにて)
実習コース 日時:2018年2月21日、22日(1日コースを2回開催)
場所:東京工業大学 大岡山キャンパス 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
実習内容:日本電子株式会社製JBX-6300SJによる露光実習を行う。
     その中で、近接効果の評価及び補正に関する議論を行う。
定員:各日2名
主催 産業技術総合研究所ナノプロセシング施設(NPF)
東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
北海道大学 創成研究機構/ナノテクノロジー連携研究推進室
ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会(TSC)
協賛 GenISys株式会社
株式会社エリオニクス
日本電子株式会社
株式会社クレステック
株式会社アドバンテスト
電子メール tia-npf-school5@aist.go.jp