加工事例集

タイトル 極端紫外線露光機の為の赤外線遮断フィルター
説明 Siウェハに作製された光学グリット。幅350nm,高さ5μm,直径90mm.
備考 EUV光(λ=13.5nm)を78%透過し,赤外線(λ=10.6μm)を99.7%遮断することが可能な波長選択フィルター。
世界で初めて,EUVリソグラフィー光源のためのグリット型赤外線遮断フィルターの作製に成功。
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支援機関 東北大学
機能またはアプリケーション フォトニクス
加工方法 深堀RIE、スパッタ、CVD
材料 モリブデン(Mo)、シリコン(Si)

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